JPS62291719A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS62291719A JPS62291719A JP13477086A JP13477086A JPS62291719A JP S62291719 A JPS62291719 A JP S62291719A JP 13477086 A JP13477086 A JP 13477086A JP 13477086 A JP13477086 A JP 13477086A JP S62291719 A JPS62291719 A JP S62291719A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は磁気記録媒体に関する。
(従来の技術)
近年、従来の塗イ5型磁気記録媒体とは異なり、蒸着、
スパッタリング法や湿式めっき法のように非磁性基板上
に直接、強磁性層を形成する方法にJ:す、磁気記5′
1媒体を製造する方法が検討さ゛れでいる。このように
して11ノられた磁気記録媒体は、塗イ1;型のものに
比べて極めて高い記録密層が達成される。
スパッタリング法や湿式めっき法のように非磁性基板上
に直接、強磁性層を形成する方法にJ:す、磁気記5′
1媒体を製造する方法が検討さ゛れでいる。このように
して11ノられた磁気記録媒体は、塗イ1;型のものに
比べて極めて高い記録密層が達成される。
磁気記録媒体に対してなされる要求は磁性層が薄く、し
かも充分な再生出力が1qられることである。このよう
な媒体として最も注目されているのがNiを20〜30
at%含有するco−Ni系合金やあるいはCrを18
〜20at%含有するCo−Cr系合金を磁性層とする
ものである。この種のla磁気記録媒体通常第2図のよ
うに、非磁性の基板(1)上に平滑層(2)を形成した
上に更にCrを主とした下地層(3)を形成し、その上
に磁性層(4)が形成され、最表面に保進・潤滑層(5
)を設りた構造を有している。
かも充分な再生出力が1qられることである。このよう
な媒体として最も注目されているのがNiを20〜30
at%含有するco−Ni系合金やあるいはCrを18
〜20at%含有するCo−Cr系合金を磁性層とする
ものである。この種のla磁気記録媒体通常第2図のよ
うに、非磁性の基板(1)上に平滑層(2)を形成した
上に更にCrを主とした下地層(3)を形成し、その上
に磁性層(4)が形成され、最表面に保進・潤滑層(5
)を設りた構造を有している。
Co−Ni系合金を磁性層とする場合、充分な再生出力
を得るために磁性層の厚みは500乃至2000人で充
分である。しかし、Co−Cr系合金のみでは耐食性に
劣り、それを補うために磁性層上に更にCr等の耐食性
に優れた非磁性層を1000人近くムジリなければなら
ない。しかし再生出力を考えた場合、一般にヘッドのデ
ィスクからの浮上ωが2000乃至3000人でなけれ
ばならないと言われている。このため、1ooo人近い
非tfi 41層の厚みは、ヘッドから磁性層までの距
離がこの分遠ざかる結束、スペーシングロスによる再生
出力の低下につながる。
を得るために磁性層の厚みは500乃至2000人で充
分である。しかし、Co−Cr系合金のみでは耐食性に
劣り、それを補うために磁性層上に更にCr等の耐食性
に優れた非磁性層を1000人近くムジリなければなら
ない。しかし再生出力を考えた場合、一般にヘッドのデ
ィスクからの浮上ωが2000乃至3000人でなけれ
ばならないと言われている。このため、1ooo人近い
非tfi 41層の厚みは、ヘッドから磁性層までの距
離がこの分遠ざかる結束、スペーシングロスによる再生
出力の低下につながる。
一方、Co−Cr系合金を磁性層とする場合、耐食性に
関しては優れているものの、材料固有の問題として飽和
磁化但が小さいために充分な再生出力を得るために磁性
層の厚みを1ooo乃至4000人とらなりればならな
い。
関しては優れているものの、材料固有の問題として飽和
磁化但が小さいために充分な再生出力を得るために磁性
層の厚みを1ooo乃至4000人とらなりればならな
い。
このため、Co−Ni系合金は耐食性の点で、またCo
−r系合金は薄膜化に限度がある点で、高密度記録を実
現する磁気記録媒体の実用化の大きなさまたげとなって
いる。
−r系合金は薄膜化に限度がある点で、高密度記録を実
現する磁気記録媒体の実用化の大きなさまたげとなって
いる。
(発明が解決しようとする問題点)
従来の磁気記録媒体では記録の高密度化と耐食性の確保
の両立が困難であった。本発明は、より一層耐食性に優
れ、なおかつ再生出力を1[1うことのない磁性層を有
する磁気記録媒体を提供することを目′的とする。
の両立が困難であった。本発明は、より一層耐食性に優
れ、なおかつ再生出力を1[1うことのない磁性層を有
する磁気記録媒体を提供することを目′的とする。
[発明の構成コ
(問題点を解決するための手段)
本発明は非磁性基板上にコバルトを成分元素に有する第
1の磁性層の上に窒化鉄を主成分とする第2の磁性層を
v1層することにより上述の問題点を解決した。
1の磁性層の上に窒化鉄を主成分とする第2の磁性層を
v1層することにより上述の問題点を解決した。
(作用)
第1の磁性層は、膜厚が大きくなるのを抑え、なおかつ
良好な再生出力を得るためのものである。
良好な再生出力を得るためのものである。
第2の磁性層は、第1の磁性層の耐食性を向上させると
ともに、磁性を持つことにより膜厚増加によるスペーシ
ングロスを改善するためのものである。
ともに、磁性を持つことにより膜厚増加によるスペーシ
ングロスを改善するためのものである。
第1の磁性層としては、コバルトを成分元素に右じ、C
O及びNiからなるもの、Co及びNiに更にFc、
P、 W、 Pt、 Crのなかから選ばれた少なくと
も1つの元素を添加したもの、更にはCoとPt、Y、
La、Cc、Pr、 Sm、 Nd、 Pmの内から選
ばれた少なくとも1つの元素とからなるもの、等が挙げ
られる。co−nrの場合は、Niを10〜30a t
%金含有、厚さが2000人を越えないものが用いられ
る。Co−Niに電ri1変換特性向上のために第3の
元素を添加したものは、Co −Niのみの磁性層と同
じ厚みの磁性層を形成した場合、飽和磁化あるいは保持
力において優れる。添加元素をFeとした場合には、飽
和磁化及び角形比に優れる。また添加元素をpt、wあ
るいはPとした場合には、保持力及び角形比に優れる。
O及びNiからなるもの、Co及びNiに更にFc、
P、 W、 Pt、 Crのなかから選ばれた少なくと
も1つの元素を添加したもの、更にはCoとPt、Y、
La、Cc、Pr、 Sm、 Nd、 Pmの内から選
ばれた少なくとも1つの元素とからなるもの、等が挙げ
られる。co−nrの場合は、Niを10〜30a t
%金含有、厚さが2000人を越えないものが用いられ
る。Co−Niに電ri1変換特性向上のために第3の
元素を添加したものは、Co −Niのみの磁性層と同
じ厚みの磁性層を形成した場合、飽和磁化あるいは保持
力において優れる。添加元素をFeとした場合には、飽
和磁化及び角形比に優れる。また添加元素をpt、wあ
るいはPとした場合には、保持力及び角形比に優れる。
添加元素をOrとした場合には、保持力を増強させると
ともに耐食性を向上させることができる。またCOとp
t、 Y、 La、 Cc、 Pr、 Sm、 Nd、
Pmの内から選ばれた少なくとも1つの元素とからな
るものは、Pt、 Y、 La、 Cc、 pr。
ともに耐食性を向上させることができる。またCOとp
t、 Y、 La、 Cc、 Pr、 Sm、 Nd、
Pmの内から選ばれた少なくとも1つの元素とからな
るものは、Pt、 Y、 La、 Cc、 pr。
Sm、Nd、Pmが5〜40at%含有され、2000
人を越えない厚さで形成される。
人を越えない厚さで形成される。
第2の磁性層としては、窒化鉄を主成分とする。
窒化鉄は、鉄を原料素材として窒素ガスやアンモニアガ
スを導入しながら形成される、反応性蒸着法や高周波反
応性スパッタ法、高周波反応性イオンブレーティング法
により形成される。通常は、FOxNと表記される組成
を有する種々の結晶状態の集合体が形成される。この膜
は恒温、恒湿試験等の耐食性テストで極めて良い耐食性
が得られ、第1の磁性層よりも耐久性に優れる。更に基
体温度等の伯の成膜条件を選択することにJ:り得られ
るγ−FON、α−FC3Nなどの結晶状態の窒化鉄を
形成したものは、高耐食性は勿論のこと、飽和磁化、保
持力等の磁気特性にも優れていることを確認した。第2
の磁性層は、耐食性を有する限り薄い方が良く、100
〜1000人の範囲で選ぶことができる。
スを導入しながら形成される、反応性蒸着法や高周波反
応性スパッタ法、高周波反応性イオンブレーティング法
により形成される。通常は、FOxNと表記される組成
を有する種々の結晶状態の集合体が形成される。この膜
は恒温、恒湿試験等の耐食性テストで極めて良い耐食性
が得られ、第1の磁性層よりも耐久性に優れる。更に基
体温度等の伯の成膜条件を選択することにJ:り得られ
るγ−FON、α−FC3Nなどの結晶状態の窒化鉄を
形成したものは、高耐食性は勿論のこと、飽和磁化、保
持力等の磁気特性にも優れていることを確認した。第2
の磁性層は、耐食性を有する限り薄い方が良く、100
〜1000人の範囲で選ぶことができる。
(実施例1)
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図は本発明の磁気記録媒体の部分断面図である。
まず、外形95al、内径25Al11、板厚1.27
amのアルミニウム合金基板(11)を準備する。こ
の表面には、あらかじめ、S厚12μmのニック゛ル・
リンのめつぎ層が形成され1、表面を鏡面研磨仕上げを
して硬化・平滑層(12)が形成されている。
amのアルミニウム合金基板(11)を準備する。こ
の表面には、あらかじめ、S厚12μmのニック゛ル・
リンのめつぎ層が形成され1、表面を鏡面研磨仕上げを
して硬化・平滑層(12)が形成されている。
次に、二極式高周波スパッタリング装置により下地層、
磁性層、保護・a滑層を形成した。成膜方法、条件は次
の通りである。膜厚及び磁気特性を均一にするために基
板装着台は自公転運動が可能で、台を6 r、 p、
m、で回転させた。成膜は初期到達真空度8. Ox
10’rorrで、導入アルゴン・ガス圧を4 X 1
O−2TOrrとし、スパッタリング・パワー300W
、室温下に於いて行った。まず、磁性層の結晶性を良く
するための下地層(13)としてCrを3000人形成
した。その上に第1の磁性層(15)としてCo−Ni
を500八、次に第2の磁性層(16)としてγ−F
e 4Nを300人形成し、2層よりなる磁性層(14
)を形成した。ここで第2の磁性層(16)はFcをタ
ーゲットとして、窒素ガスを5 x 10−3丁orr
、導入Arガスと合せT 4 X 1O−2TOrrと
シテスパッタした冑た。また最表面層に200〜300
人のカーボン膜からなる保護・潤滑)Xi(17)を設
けた。
磁性層、保護・a滑層を形成した。成膜方法、条件は次
の通りである。膜厚及び磁気特性を均一にするために基
板装着台は自公転運動が可能で、台を6 r、 p、
m、で回転させた。成膜は初期到達真空度8. Ox
10’rorrで、導入アルゴン・ガス圧を4 X 1
O−2TOrrとし、スパッタリング・パワー300W
、室温下に於いて行った。まず、磁性層の結晶性を良く
するための下地層(13)としてCrを3000人形成
した。その上に第1の磁性層(15)としてCo−Ni
を500八、次に第2の磁性層(16)としてγ−F
e 4Nを300人形成し、2層よりなる磁性層(14
)を形成した。ここで第2の磁性層(16)はFcをタ
ーゲットとして、窒素ガスを5 x 10−3丁orr
、導入Arガスと合せT 4 X 1O−2TOrrと
シテスパッタした冑た。また最表面層に200〜300
人のカーボン膜からなる保護・潤滑)Xi(17)を設
けた。
こうして作成した磁気記録媒体の特性を測定したところ
、面内保磁力850エルステツドを冑、また飽和磁化M
、その他の磁気特性に関しても優れた結果を得た。更に
、電磁変換特性及びヘッドとの摩耗試験及び環境試験を
行った結果、次の特性を得た。電磁変換特性については
20〜40kbpiの高密度記録が可能であった。ヘッ
ドとの摩耗試験では通常行なわれている2万回のコンタ
クト・スタート・ストップ・テストを行ない、ディスク
表面に傷がつかないことを確認した。また、耐IMQ性
についても、温度85℃、相対温度85%で1500
fr、’j間放置したが外観上の変化は全黙認められず
欠陥箇所の増加も皆無であり、十分なFI4食性が確認
された。
、面内保磁力850エルステツドを冑、また飽和磁化M
、その他の磁気特性に関しても優れた結果を得た。更に
、電磁変換特性及びヘッドとの摩耗試験及び環境試験を
行った結果、次の特性を得た。電磁変換特性については
20〜40kbpiの高密度記録が可能であった。ヘッ
ドとの摩耗試験では通常行なわれている2万回のコンタ
クト・スタート・ストップ・テストを行ない、ディスク
表面に傷がつかないことを確認した。また、耐IMQ性
についても、温度85℃、相対温度85%で1500
fr、’j間放置したが外観上の変化は全黙認められず
欠陥箇所の増加も皆無であり、十分なFI4食性が確認
された。
(実施例2)
実施例1と同様にアルミニウム合金基板(11目二に陽
極酸化法によりアルマイト層を形成し、表面を研磨して
、硬化・平滑層(12)を形成した。この後、実施例1
と同様に非磁性金属下地層(13)、第1の磁性層(1
5)、第2の磁性層(16)、保護層・潤滑層(17)
の成膜を行った。この実施例にJ3いても実施例1と同
等以上の諸性性が確認された。
極酸化法によりアルマイト層を形成し、表面を研磨して
、硬化・平滑層(12)を形成した。この後、実施例1
と同様に非磁性金属下地層(13)、第1の磁性層(1
5)、第2の磁性層(16)、保護層・潤滑層(17)
の成膜を行った。この実施例にJ3いても実施例1と同
等以上の諸性性が確認された。
(実施例3)
実施例1の第1の磁性層(15)としてNiを17at
%、FOをaat%他をCoとする組成で、Co−Ni
−reを約700人形成したちのを作成したところ、
面内保持力900エルステッドを得、電磁変換特性は低
域出力LOmVでCo−Niと同程度、線記録密度では
約1割の向上を示し、耐久性、耐環境性は実施例1と同
様良好であった。
%、FOをaat%他をCoとする組成で、Co−Ni
−reを約700人形成したちのを作成したところ、
面内保持力900エルステッドを得、電磁変換特性は低
域出力LOmVでCo−Niと同程度、線記録密度では
約1割の向上を示し、耐久性、耐環境性は実施例1と同
様良好であった。
(実施例4)
実施例1の第1の磁性層(15)としてSmを16at
%○有するCo−3mを約700人形成したものを作成
したところ、面内保持力900エルステッドを冑、電磁
変換特性、耐久f[、耐環境性は実施例1に遜色ないこ
とがわかった。
%○有するCo−3mを約700人形成したものを作成
したところ、面内保持力900エルステッドを冑、電磁
変換特性、耐久f[、耐環境性は実施例1に遜色ないこ
とがわかった。
(実施例5)
実施例1の第2の磁性層(16)としてα−FC3Nを
約300A形成したものを作成した。α−Feして、基
板温度を120 ’Cとしてスパッタして1!7た。
約300A形成したものを作成した。α−Feして、基
板温度を120 ’Cとしてスパッタして1!7た。
作成した磁気記録媒体は、面内保磁力870エルスデッ
ドを15.電磁変換特性、耐久性、耐環境性は実施例1
に遜色ないことがわかった。
ドを15.電磁変換特性、耐久性、耐環境性は実施例1
に遜色ないことがわかった。
以上のにうに、本発明によれば、作用の異なる2つの磁
性層を設りることににす、耐食性に優れ、なおかつ高密
度化へ向ての薄膜化可能な磁気記録媒体を提供すること
ができる。
性層を設りることににす、耐食性に優れ、なおかつ高密
度化へ向ての薄膜化可能な磁気記録媒体を提供すること
ができる。
第1図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の部分断面図
、第2図は従来技術の磁気記録媒体の部分断面図である
。 (1)(11)・・・基板、(2)(12)・・・硬化
・平滑層、(3)(13)・・・下地層、(’I)(1
4)・・・磁性層、(15)・・・第1の磁性層、(1
6)・・・第2の磁性層、(5H17)・・・保護・潤
滑層。 代理人 ブ↑埋十 則 近 憲 佑 同 大胡典人
、第2図は従来技術の磁気記録媒体の部分断面図である
。 (1)(11)・・・基板、(2)(12)・・・硬化
・平滑層、(3)(13)・・・下地層、(’I)(1
4)・・・磁性層、(15)・・・第1の磁性層、(1
6)・・・第2の磁性層、(5H17)・・・保護・潤
滑層。 代理人 ブ↑埋十 則 近 憲 佑 同 大胡典人
Claims (1)
- 非磁性基板上にコバルトを成分元素に有する第1の磁性
層と窒化鉄を主成分とする第2の磁性層とを有する磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13477086A JPS62291719A (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13477086A JPS62291719A (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62291719A true JPS62291719A (ja) | 1987-12-18 |
Family
ID=15136155
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13477086A Pending JPS62291719A (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62291719A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01243225A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH02116010A (ja) * | 1988-10-24 | 1990-04-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-06-12 JP JP13477086A patent/JPS62291719A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01243225A (ja) * | 1988-03-24 | 1989-09-27 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH02116010A (ja) * | 1988-10-24 | 1990-04-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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