JPS6289229A - 磁気記録媒体製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ビデオテープ、オーディオテープ。

フロッピーディスク等の磁気記録媒体製造方法に関する
ものである。

（従来技術） 近年開発が進められてきている高密度磁気記録媒体にお
いては、磁気ヘッドと磁気テープとの間のいわゆる間隙
損失を軽減するため、磁性層の表面性をより高度なもの
とすることが要求される。

この場合のより高度な表面性とは、より平滑で、しかも
易滑性の保持されたもののこと、すなわち微小で高さの
均一な突起が高密度に形成された表面のことを指す。こ
の高度な磁性層表面を実現するために従来からとられて
いる方法は、磁気記録媒体に用いる支持体の表面性を高
度なものにするというものである。しかし、このような
支持体に磁性層を塗布したときに、該磁性層表面に支持
体の表面形状が残される割合は、支持体の表面性が高度
になるほど小さくなる。また、支持体の表面性を高度に
するということは下記の点から限界がある。つまり製膜
して巻き取る工程において、磁気記録媒体（フィルム）
の表面性が良すぎると、搬送ローラに対する摩擦抵抗が
大となり、しばしば蛇行を起こしたりシワが生じたりす
る。またフィルム間の摩擦抵抗が増大し巻取りロールの
形状にユガミが生じたりもする。

（ｙｌ明が解決しようとする問題点） 上記のように使用する支持体の表面性を高度にすること
によって磁気記録媒体の磁性層の表面性を高度にすると
いう方法には限界があり、今後の磁気記録の高密度化と
いうニーズには対応できないことが予想される。

そこで、支持体の表面性にたよらずども磁性層表面の高
度なものを作成できる技術の確立が重要になってきてい
る。

（発明の目的） 本発明は、このような事情に鑑みなされたものであって
、支持体の表面性如何にかかわらず、該支持体に塗布さ
れた磁性層の表面に、平滑性と易滑性の両立を可能なら
しめる粗さを付与することのできる磁気記録媒体製造方
法を提供することを目的とするものである。

（発明の構成） 本発明による磁気記録媒体製造方法は、磁性層塗布後の
磁気記録媒体の該磁性層表面に、鏡面仕上げではなく所
定の粗さに調整された転写部材表面を密着させることに
より、平滑性と易滑性の両立した表面性を転写形成する
ようにしたものである。

上記「所定の粗さ」とは、深さくｄ）５０乃至１０００
Ａの複数の凹部が１乃至９０％の面積率で形成され該凹
部が形成された状態におけるカットオフ０．２５＃１１
１測定長８０＋＋ｍテの中心線平均粗さくＲａ　）カ０
．００１乃至０．０１０μｍの範囲内にあることをいう
。

上記各凹部の形状は、ミミズしわ状、クレータ状等種々
の形状が考えられるが、該凹部の最大径寸法（ａ）と最
小径寸法（ｂ）との比が１乃至２゜で、かつ該凹部の深
さくｄ　）と前記最小径（ｂ　）との比が１０°３乃至
１０−１とすることが好ましい。

上記転写部材は、転写板等を用いることもできるが、磁
気記録媒体の製造を連続的に行うためには、ロールも１
ノくは帯状物とすることが好ましい。

なお、ロールには、中空のドラム形状をしたものも含ま
れる。

上記転写形成をより効果的なものとするためには、磁性
層塗布工程で用いられる磁性体の結合剤として放射線重
合性化合物を採用し、かつ転写部材が密着した後の磁気
記録媒体に放射線照射を施すようにすることが好ましい
。放射線を照射するタイミングは、転写部材と磁気記録
媒体とが密着状態になったときであってもよいし、転写
部材を磁気記録媒体から離脱させた後であってもよい。

また転写部材が中空のドラム形状をしたロールの場合に
は、該ドラム内部から放射線照射を行うようにすること
もできる。

なお、転写部材を磁気記録媒体に密着させた後、該転写
部材を磁気記録媒体から容易に離脱させることができる
ようにするために、転写部材の表面にシリコンオイル等
の離型剤を塗っておくようにしてもよい。

以下、本発明の実施態様について説明する。

本発明に使用されるロールもしくは帯状物は、金属製、
特に鏡面仕上げに研磨された鉄製のものにクロームメッ
キを施したものが適している。ロールもしくは帯状物表
面の微小凹部は、メッキ中に適度の条件で電気ショック
を与えることにより形成することができ、これにより表
面の粗さを調整することができる。

本発明に用いられる強磁性粉末としては、強磁性酸化鉄
微粉末、ＣＯドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二酸
化クロム微粉末、強磁性゛合金粉末、バリウムフェライ
トなどが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針
状比は、２／１〜２０／１程度、好ましくは５／１以上
平均長は０．２〜２．０μ辺稈度の範囲が有効である。

強磁性合金粉末は金属分が７５ｗｔ％以上であり、金属
分の８０ｗｔ％以上が強磁性金属（即ち、Ｆｅ　、　Ｃ
ｏ　、　Ｎｉ　、　Ｆｅ’　−Ｃｏ　、　Ｆｅ　−Ｎｉ
　、　Ｃｏ　−Ｎｉ、Ｆｅ　−Ｇｏ　−Ｎｉ　）で長径
が約１．０μｍ以下の粒子である。

本発明に用いられる結合剤としては熱可塑性樹脂である
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−マレン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ア
クリル酸共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−
マレイン酸共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル
−ブテン酸共重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル−マ
レイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−
ビニルアルコール共重合体などの塩ビ酢ビ系共重合体、
セルロースナイトレート、セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネ
ートなどの４ＩＭ素系樹脂、ポリビニルフォルマール、
ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のアセ
タール系樹脂、フェノキシ樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロ
ニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニト
リル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重
合体、ブタジェンアクリロニトリル共重合体、ポリエス
テル樹脂、ポリイソシアネート化合物等が適している。

放射線重合性化合物を用いる場合は、ポリエステル型ウ
レタンアクリレート、ポリエーテル型ウレタンアクリレ
ート、ポリエステルエーテル型ウレタンアクリレート、
エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポ
リエーテルアクリレートなどのアクリレートオリゴマー
及びメタクリレートオリゴマーであり、これらの具体例
は、Ａ。

Ｖ　ｒａｎｃｋｅｎ　　’Ｆａｆｉｐｅｃ　　Ｃｏｎｇ
ｒｅｓｓ　”　　１１１９（１９７２）引用されている
。例えば、 である。また他の放射線重合性化合物は、エチレングリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールへ
キサアクリレート、ジペンタエリスリトールへブタアク
リレート、ビス−２−アクリロイロキシエチル−ヒドロ
キシエチルイソシアヌレート、トリス（β−アクリロイ
ロキシエチル）イソシアヌレートその他の多官能アクリ
レート化合物、及びこれらの多官能メタクリレート化合
物であり、更にアクリル酸、アクリル酸メチル及びこれ
らの同族体のアクリル酸アルキルエステル、メタクリル
酸アルキルエステル、スチレン、α−メチルスチレン、
アクリロニトリル、アクリルアミド、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニルなどの炭素炭素不飽和結合を分子中に１
個以上有する化合物である。

上記結合剤は、２種以上混合して用いることができる。

放射線重合性化合物に熱可塑性樹脂を加えることも可能
である。

以上の中で特に好ましい結合剤は、４！！１素系樹脂も
しくは塩ビ酢ご系共重合体とウレタン樹脂及びポリイソ
シアネートの３成分及び繊維素系もしくは、塩ビ酢ビ系
共重合体とウレタンアクリレートと多官能アクリレート
化合物の３成分系である。

更に好ましくは、繊維素系樹脂もしくは塩ビ酢ビ系共重
合体とウレタンアクリレートと多官能アクリレート化合
物の３成分系である。この場合好ましい比率は繊維素樹
脂もしくは塩ビ酢ビ系共重合体とウレタンアクリレート
の比は４７１〜１／２であり、これらの総和と多官能ア
クリレートの比は８／２〜１／１である。

非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル
類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類；セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、セルロースア
セテートプロピオネート等のセルロース誘導体；ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ごニリデン等のビニル系樹脂：ポリ
カーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド等プラス
チックの他に用途に応じてアルミニウム、銅、スズ、亜
鉛またはこれらを含む非磁性合金などの非磁性金属類；
あるいはこれらの非磁性金属を真空蒸着などの方法によ
りプラスチック支持体上にｉ４層で設けた支持体などが
使用できる。これらの支持体は磁性層を塗布する前に下
層層塗布あるいはコロナ処理等の物理的処理をされてい
ることが好ましい。まだこれらの支持体は用いる前に、
バックコート層を設けてあってもよい。また磁性層を塗
設後磁性層と反対側にバックコート層を設けてもよい。

本発明でいう放射線照射とは、紫外線、電子線、γ−線
、β−線、Ｘ−線などであるが、より好ましくは電子線
である。電子線照射装置としてはスキャニング方式、ダ
ブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式ブロ
ードビームカーテン方式などが採用できる。

電子線特性としては、加速電圧が１００〜１０００ｋＶ
、好ましくは１５０〜３００ｋ　Ｖであり、吸収線量と
して　１．０〜２０メガランド、好ましくは２〜１０メ
ガランドである。加速電圧が１００ｋ　Ｖ以下の場合は
、エネルギーの透過量が不足し１０００ｋ　Ｖを超える
と重合に使われるエネルギー効率が低下し経済的でない
。吸収線量として、１，０メガラツド以下では硬化反応
が不充分で磁性層強度が得られず、２０メガランド以上
になると、硬化に使用されるエネルギー効率が低下した
り、被照射体が発熱し、特に非磁性支持体が変形するの
で好ましくない。

結合剤として繊維素系もしくは塩ビ酢ビ系共重合体とウ
レタン樹脂とポリインシアネートの３成分系即ち放射線
重合性化合物を含まない結合剤を用いるときは、該ロー
ルもしくは帯状物から剥離したのち、４０〜１００℃で
熱硬化を施すことが好ましい。また放射線重合性化合物
を含む系を選んだ場合は、金属ロールもしくは帯状物と
磁性層と非磁性支持体とがサンドインチ構造になってい
る状ａ＜過程）であるいは該ロールもしくは帯状物がら
剥離後に放射線照射する。特に好ましくは、上記サンド
インチ構造になっている状態で照射することであり、金
属ロールもしくは帯状物から磁性層を剥離することが最
も容易である。サンドインチ構造で照射するときは非磁
性支持体の側から照射するが、該ロールもしくは帯状物
から剥離後に照射する場合は磁性層側から照射してもよ
い。

用いる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル
、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル系：
エーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコールモ
ノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル
系；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
：メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭
素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロル
ベンゼン等の塩素化炭化水素テトラヒドロフラン等のも
のが選択して使用できる。磁性塗液の強磁性支持体と結
合剤と溶剤の比率は型開で２／１／６〜６／１／１５の
範囲で任意に調整できる。

本発明に於て非磁性支持体への塗布方法とじては、エア
ードクターコート、ブレードコート、エアナイフコート
、スクイズコーｌ〜、含浸コート、リバースロールコー
ト、ｉ〜ランスファーロールコート、グラビアコート、
キスコート、キャストコート、スプレィコート、スピン
コード等が利用でき、その他の方法も可能であり、これ
らの具体的説明は「コーティング工学」２５３頁〜２７
７頁（昭和４６年３月２０日朝倉書店発行〉に詳細に記
載されている。

磁性層の厚みは、乾燥厚みで１〜１０μｍの範囲となる
ように塗布する。

磁性層塗布後の乾燥は、熱風により残留溶剤１が磁性層
の０．０５〜１０ｗｔ％になったときに、好ましくは０
．５〜Ｂｗｔ％更に好ましくは１．５〜５ｗｔ％になっ
たときに鏡面仕上げのロールもしくは帯状物と接触する
。この時の接触圧力は１〜５０に９／ｃｍ好ましくは５
〜３０Ｋｙ／αである。接触後０．１〜５秒程度で磁性
層を該支持体に剥離する。必要によっては、鏡面ロール
もしくは帯状物を４０℃〜１００℃程度に加熱してもよ
い。放射線照射を用いるときは、接触侵未だ剥離しない
間に照射すると剥離が容易であり、磁性層の平滑性を保
持することができる。該ロールもしくは帯状物から剥離
後にも一度乾燥ゾーンを設けることも可能である。また
乾燥後、必要により熱硬化もしくは放射線照射を施して
もよい。

また必要に応じて容易に塗布後磁場配向を施すこともで
きる。この場合、ソレノイド、電磁石、永久磁石を用い
ることができる。

また、本発明の磁性塗液には潤滑性、研磨剤、分散剤、
帯電防止剤、防錆剤などの添加剤を加えてもよい。特に
潤滑剤は、飽和及び不飽和の高級脂肪酸、脂肪酸エステ
ル、高級脂肪酸アミド、高級アルコール、シリコーンオ
イル、鉱油、食物油、フッソ系化合物などがあり、これ
らは塗布液ｖＡ製時に添加してもよく、また該ロールも
しくは帯状物から剥離後に有機溶剤に溶解しであるいは
そのまま磁性層表面に塗布あるいは、噴霧してもよい。

以下に本発明を実施例および比較例により更に具体的に
説明する。以下の実施例および比較例において「部」は
すべてｒｆｆｉ１部」を示す。

［実施例〕 実施例１，２、比較例１〜ア レシチン　　　　　　　　　　　　　　　　４部ステア
リン酸　　　　　　　　　　　　　　４部ブチルステア
レート　　　　　　　　　　　４部カーボンブラック　
　　　　　　　　　　　１０部メチルエチルケトン／ト
ルエン＝　５　／　５　　８００部上記成分をボールミ
ルで５０時間混練して得られた塗料を、添付図に示され
るように、１０μ而のポリエチレンテレフタレートフィ
ルム１上に塗布液２の厚みが２０μ雇となるように塗布
した。ＣＯ電磁石磁場配向したのち、第１乾燥部５で１
００℃で乾燥し金属ロール７にニップしくニップ圧２０
に！ｊ／傭）電子線を照射した。電子線は加速電圧１６
５ｋＶで１００１ｖｌ　ｒａｄ照射した。しかるのち剥
離し第２乾燥を行った。

この除用いる金属ロールとして各実施例、比較例に対し
、別表１に記載のような表面性のものを使っている。

なお、比較例７に使用したロールは、一般の鏡面仕上げ
ロールである。

各実験に対し、以下のことを調べた。

金属ロール表面性 １００００ｘ〜５００００　Ｘの写 真で確認する。

ビデオＳ／Ｎ　：松下電器（株）製Ｎ　Ｖ　８２００ビ
デオテープレコーダーを使用し５０％セ ットアツプの灰色信号を録画しシ バック製９２５Ｃ型Ｓ／Ｎメーター でノイズを測定した。ビデオＳ／ Ｎは比較例７をＯｄＢとしたとき のそれぞれの相対比較値で示した。

Ｃ／Ｎ　：　３ＭＨｚ及び３．５ＭＨ２の搬送液（キャ
リアー）を記録し、再４１シたときのキャリアーとノイ
ズの比を比較例７を基準に（±０ｄＢ）測定した。

走行耐久性：１００回走行の後に、出力低下を測定した
。

（発明の効果） 以上詳述したように、本発明による磁気記録媒体製造方
法は、磁性層塗布後の磁気記録媒体の該磁性層表面に、
所定の粗さに調整された転写部材表面を密着させること
により、平滑性と易滑性の両立した表面性を磁性層に付
与するようにしているので、電磁特性および走行耐久性
に優れた磁気記録媒体を得ることができる。

本発明により製造される磁気記録媒体の磁性層表面の粗
さは、８ミリビデオテープ用のメタルテープ等の用途に
特に適するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の詳細な説明図の側面図である。 １・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム２・・・
塗　　　布　　　液　　　３・・・塗　　　布　　　部
４・・・磁　　性　　層　　５・・・第１乾燥部６・・
・ニ　　ツ　　ブ　　部 ７・・・粗さ転写用金属ロール

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）塗布型磁気記録媒体製造工程における磁性層塗布工
   程の後工程において、 該磁気記録媒体の、少なくとも前記磁性層が塗布された
   側の表面に、 深さ５０乃至１０００Åの複数の凹部が１乃至９０％の
   面積率で形成され、該凹部が形成された状態における、
   カットオフ０．２５ｍｍ、測定長８０ｍｍでの中心線平
   均粗さが０．００１乃至０．０１０μｍとされた表面を
   有する転写部材の該表面を密着させることを特徴とする
   磁気記録媒体製造方法。 ２）前記各凹部における該凹部の最大径寸法と最小径寸
   法との比が１乃至２０であって、該凹部の深さと前記最
   小径寸法との比が１０＾−＾３乃至１０＾−＾１である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録
   媒体製造方法。 ３）前記磁性層塗布工程で用いられる磁性体の結合剤と
   して放射線重合性化合物を採用し、 前記転写部材が密着した後の前記磁気記録媒体に、放射
   線照射を施すことを特徴とする特許請求の範囲第１項ま
   たは第２項記載の磁気記録媒体製造方法。 ４）前記転写部材がロールもしくは帯状物であることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項または第３項
   記載の磁気記録媒体製造方法。