JPS60111339A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体及びその製造方法

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JPS60111339A
JPS60111339A JP22001283A JP22001283A JPS60111339A JP S60111339 A JPS60111339 A JP S60111339A JP 22001283 A JP22001283 A JP 22001283A JP 22001283 A JP22001283 A JP 22001283A JP S60111339 A JPS60111339 A JP S60111339A
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/74Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G11B5/78Tape carriers

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  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 1、産業上の利用分野 本発明は、磁気テープ、磁気シート、磁気ディスク等の
磁気記録媒体及びその製造方法に関するものである。
2、従来技術 一般に、磁気記録媒体は、磁性粉とバインダー等を含む
磁性塗料を支持体上に塗布、乾燥して製造される。そし
て、高品質化のために近時、磁性層とは反対側の支持体
面上に非磁性粉末をバインダーで固めてなるバンクコー
ト層(以下、BC層と略す。)が施されるようになった
。即ち、BC層の存在によって、例えば磁気テープをリ
ール上に巻回したときの磁性粉の粉落ちの防止及びテー
プ巻き状態の安定化、テープ走行性の向上環を図ること
ができる。また、BC1i中に非磁性粉末を含有させる
ことによって、BCJWの表面が適度な表面粗さに設定
でき、テープデツキ側のガイドピン等に対するテープ摺
接時に、その擦れ合いからBC層を保護してテープ走行
耐久性を上げることができる。
こうしたBC層は、例えば特開昭57−208636号
、57−208637号公報に示されているように、非
磁性粉をニトロセルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、ポリウレタン等に分散せしめたものがらなって
いる。このBC層の表面粗さについては種々提案されて
おり、例えば特開昭52−102004号公報では、B
C層の塗料中に予め所定粒径のスパイク粒子を混合して
いる。
しかしながら、これまで提案されてきた技術はいずれも
、80層中の粒子の種類及び粒径等によって表面粗さを
制御しているので、その制御は容易ではなく、塗布後の
表面性は塗料組成で一義的に決まってしまう。
3、発明の目的 本発明の目的は、磁性層とは反対側の支持体上の面が所
望のパターンに制御性良く粗され、これによって走行時
のべたイ」き等が減少せしめられ、特性の改良された磁
気記録媒体を提供することにある。
本発明の他の目的は、そうした磁気記録媒体を再現性良
く製造できる方法を提供することにある。
4、発明の構成及びその作用効果 即ち、本発明は、磁性層を支持体上に有する磁気記録媒
体において、前記磁性層とは反対側の前記支持体上及び
/又は前記磁性層上の面に、実質的に不連続な多数の凸
部が加工によって形成されていることを特徴とする磁気
記録媒体に係るものである。
この磁気記録媒体によれば、磁性層とは反対側の支持体
上及び/又は磁性層」二の面に、上記の多数の凸部が設
けられているので、適度な表面粗さにすることによって
、同面が接触するガイド部材、ヘッド等とのYfJ擦を
減らしてべた付き等を減少させこジッターの減少、走行
安定性、走行耐久性等の諸機能の向」−を実現すること
ができる。こうした効果は、上記凸部が実質的に不連続
(特に島状又は小滴状)になっていることによるもので
あるが、これと同時に上記凸部が加工によって形成され
たものであることが極めて重要である。即ち、凸部が加
工で形成されるので、加工手段又はパターンを決めれば
、常に精度良く望むパターンに凸部を形成でき、そのコ
ントロールが容易である。
従って、支持体−トの上記面の粗さ制御は任意に所望の
パターン、サイズで行なうことができるので、上記した
諸性能を確実に得ることができる。
本発明はまた、上記磁気記録媒体を製造する方法として
、次の2つの方法も提供するものである。
第1の方法は、前記磁性層とは反対側の前記支持体上及
び/又は前記磁性層上に噴霧手段によって所定の物質を
粒状に付着せし7めることを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法である。また、第2の方法は、前記磁性層とは
反対側の前記支持体上及び/又は前記磁性層上にバック
コート層及び/又はオーバーコート層を形成し、次いで
実質的に不連続な多数の凹部を押圧面に有する押圧手段
を前記バックコート層及び/又はオーバーコート層に押
圧せしめ、これによって前記凹部に対応した実質的に不
連続な多数の凸部を前記バックコート層及び/又はオー
バーコート層に形成することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法である。
これらの製造方法はいずれも、本発明の磁気記録媒体に
おける上記した実質的に不連続な凸部を再現性良く確実
に得ることができるものである。
特に、第1の方法は、支持体上に従前のBC層又はオー
バーコート層を設けない場合でも、噴N塗布によってB
e層又はオーバーコーjHJWと同等の働きのある多数
の凸部を形成でき、また第2の方法は、従前のBC層又
はオーバーコートNに対し押圧加工によりその表面に上
部凸部を形成できるものである。
5、実施例 以下、本発明を実施例について更に詳細に説明する。
第1図には、磁気記録媒体の一例の断面が示されている
が、この例では、支持体lの表面側に公知の如くに磁性
層2が(場合によってば下びき層を介して)形成され、
支持体1の裏面側には走行安定性及び走行耐久性、巻き
姿安定性等に寄与する微小凸部3が多数形成されている
この凸部3ば、後述する噴霧塗布加工によって支持体1
上に直接形成することができる。この場合、噴霧塗布直
後には、第2A図(al、(b)に示すように噴霧液体
の微小液滴4が支持体1の裏面にほぼ一様に撒布して粒
状に付着せしめられる。この際、第2A図(b)のよう
に、各液滴4は、支持体1側から付着順に乾燥してゆき
、乾燥部分4aとこれを包む液状部分4bとからなって
いる。そして、本来の乾燥工程に入る前に、後述するス
ムーザによって、各液滴4は第2B図(al、(b)に
示す如(に幾分押潰され、平坦化されると同時に面積的
に拡大された状態となる。この状態で乾燥することによ
って、第2B図とほぼ相似形の固化した島状の微小凸部
3(第1図参照)が得られる。
第3図には、凸部3が拡大図示されている。これらの凸
部3は、第2B図(alに示したパターンに分布してい
て、各凸部間は実質的に不連続、即ち島状に配されてい
る。但、実際には、各凸部3間は、第3図のように薄層
部分3aを介して互いに連なり合っていることがあるが
、ごの場合でも各凸部3自体は実質的に不連続であると
いえる。
こうして、支持体1の裏面に、望ましくは従来のBC層
と同一材質からなる多数の微小凸部3が島状に存在した
状態となっているので、この裏面側がテープガイド等の
ガイド部材に摺接する際、両者間の摩)車力を低減させ
、べた(]ぎ現象を可能な限り少なくすることができる
。このためには、第3図中、微小凸部3の高さをh、そ
の頂部から薄層部3aまでの深さをh′とした場合、o
、s<h’/h≦1.0とするのが望ましい。この化が
0.8未満では凸部3としての作用が弱くなる。また、
実用的には、凸部3の高さhは0.005〜0.1 μ
mとしてよ< 、0.01〜0.05μmとするのが望
ましい。
更に、凸部30分布率は、支持体1の裏面に対し25〜
80%(占有率)とするのがよい。
凸部3自体はバインダー樹脂(望ましくはカーボンブラ
ック等の非磁性粉との混合物)からなっているので、支
持体1に対する接着力は充分あり、耐久性が充分である
。従って、凸部3によって従来のBCJ’Wと同等の作
用が得られるが、これに加え、凸部3の厚みは0.1 
μm以下にできるために支持体1の厚みを従来のものよ
り厚くすることが可能であり、これによって支持体の屈
曲時の剛性(ペンディングスティフネス)を大きくし、
耐久性、スギュー等を向上させることができる。これに
反し、従来ではBC層を連続層として形成しているので
、連続層をなし得る程度にBCiを厚く(特に0.5〜
1/1m)塗布形成する必要があるが、この分だけ支持
体1の厚みを薄くせざるを得す、ペンディングステイフ
ネスが低下してしまう。
本例では、上記凸部3のバインダーとしてポリウレタン
が使用可能である。
このポリウレタンは他の物質に対する接着力が強く、反
復して加わる応力又は屈曲に耐えて機械的に強靭であり
、かつ耐摩耗性、耐候性が良好である。
リウレタン、ボロン変性ポリウレタンが望ましい。
シリコン変性ボリウレクンは、活性水素化合物として少
なくとも1つ以上のシロキザン結合を有する活性水素化
合物、例えば、下記一般式N)のポリシロキサンジオー
ルを用い、これをイソシアネートと反応させた重合体が
よい。
すなわち、ポリシロキサンジオールは、一般式: (ただし、Rは炭素原子数1〜20個のアルキレン基、
Yl、Y2はアルキル基又はアリール基であり、Ylと
Y2は同一でも異なっていてもよく、nは一般式(1)
の化合物の平均分子量が150〜to、oooとなるよ
うな実数である。、)で示されるポリジメチルシロキサ
ンジオールである。
Yl、Y2としてはメチル基、フェニル基が好ましく、
特にメチル基が望ましい。
一般式[1)で示される炭素原子数1〜20個のアルキ
レン基(R)としてはメチレン、エチレン、プロピレン
、ブチレン、ヘキシレン、オクチレン、ドデシレン法な
どである。また、一般式(1)で示されるポリシロキサ
ンシカルビノールの分子量の好ましい範囲LJ:’ 5
00〜10,000であって、その中でも特に、1 、
000〜6 、000のものが好ましい。
このYl、Y2として特に好ましいメチル基の一部が炭
素原子数2〜30個のアルキル基、ハロアルキル基、シ
アノアルキル基、アリルアルキル基、ビニル基、アクリ
ル基などのアルケニル基、アリル基、アルキルアリル基
、アルケニルアリル基、ハロアリル基から選ばれた1種
又は2種以上の基で置換されている化合物、あるいは水
素又はハロゲンで置換されている化合物を使用してもよ
い。
イソシアネ−1・を示ずと表−1に示すような化合物が
例示できる。
表−1 (以下、余白次頁へつづく) 上記シリコン変性ポリウレタンの数平均分子量は重要で
あって、5.000〜200,000の範囲のものが好
ましく、平均分子量が5.000未満であると薄膜を形
成後に、滲み出し、粘着1〜ラブルを生じ易い。平均分
子量が200,000より大きいと、塗布液の粘度が高
くなりすぎて均一な塗布が困難になる。
ポリウレタンの中で、イソシアネートと反応する活性水
素化合物(例えばポリオール、ポリオールポリエステル
やグリコール成分等)によって形成されている部分にあ
るシロキザン結合を有する活性水素化合物(例えばシロ
キザン結合を有するグリコール成分等)の含有量が1〜
50重量%の範囲のものが望ましく、特に好ましいのは
5〜25重量%の範囲のものである。シロキザン結合を
有する活性水素化合物の割合が、シリコン変性ポリウレ
タンにおいて1重量%以下であると、記録媒体を形成し
たとぎ滑り性が不足し、50重量%を超えると、強度(
たとえば引っ張りに対する。)を低下させる場合がある
使用できるシリコン変性ポリウレタンの機械的強度は、
日本工業規格J I S −’に6301に規定する試
験測定により、 伸び:2〜1 、000% 引っ張り強度:10〜650% である。また、後述するように磁気記録媒体としたとき
のハックコート層側の摩擦係数は0.19−0.30の
範囲のものが好ましい。ただし、この摩擦係数の測定は
直径4. mmのステンレス製の固定ピンに磁性層側を
接触させて180度巻きつけ、固定ピンに対して入口側
張力を50kgに保ち、テープ速度3.3Cm /秒に
おける出口側の張力を測定し、下記式から摩擦係数μを
めた。
また、シリコン変性ポリウレタンは、通常のポリウレタ
ンにはみられぬ低い摩擦係数を示すので、他のバインダ
ーと併用しないで弔独でも使用できるが、ポリウレタン
は軟らか−いためにリールに巻いて保存するときに、支
持体裏面と磁性層が貼り合わさってしまうトラブルを生
しることがある。
したがって、他のより硬いバインダ・−と併用するのが
好ましい。更に、非磁性粉末を併用すると効果的に粘着
を防止できる。
他のバインダー/シリコン変性ポリウレタンの配合重量
比は75/25〜25/75の範囲で使用することが好
ましい。
他のバインダーの配合比が75/25を超えると、支持
他に対する接着力が劣化し、粉落ち、けずれ等がおこり
−やすく、ドロップアウト増大の原因となることがある
これに反し、シリコン変性ポリウレタンが25/75よ
りも多くなると、「べたつき」を生じ易く、リールに巻
かれた状態で保存するとき、周囲雰囲気の温湿条件によ
り、磁性層と支持体裏面とが貼り合わされることがある
また、上記シリコン変性ポリウレタンに代えて、或いは
これと併用して、下記一般式(n)で表わされる硼素含
有ユニットを有する高分子化合物を使用することも望ま
しい。ただし、一般式(IT)は、 で表わされる1価の基又は2価の基であり、Xl、X2
、X′およびX4のうちの少なくとも1つが酸素原子を
介してポリマー鎖とr−O−R−Jなる結合を有してお
り、Rは2(illiの炭化水素残基である。
この高分子化合物は、前記一般式(r)で表わされる硼
素含有ユニットをポリマーの主鎖若しくは側鎖、主鎖若
しくは側鎖の末端又は主鎖若しくは側鎖にペンダントさ
れたものであってもよい。
前記一般式(1)で表わされる硼素含有ユニットを例示
すると、 (1)グリセロールポレートラウレ−1・から由来する
硼素含有ユニット、 (2)グリセロールボレートパルミテートから由来する
硼素含有ユニット、 (3)グリセロールボレートステアレー1・から由来す
る硼素含有ユニット、 (4)グリセロールボレー1−オレエー1−から由来す
る硼素含有ユニット、 (5)グリセロールボレートイソオクタデカノエートか
ら由来する硼素含有ユニット、 (6)グリセロールボレートヒドロキシステアレートか
ら由来する硼素含有ユニット、 (7)ポリオキシエチレングリセロールボレートラウレ
ートから由来する硼素含有ユニット、(8)ポリオキシ
エチレングリセロールボレートパルミテートから出来す
る硼素含有ユニット、(9)ポリオキシエチレングリセ
ロールボレートステアレートから由来する硼素含有ユニ
ット、(1角ポリオキシエチレングリセロールボレート
オレエートから由来する硼素含有ユニット、cll)ポ
リオキシエチレング〉セロールイソオクタデカノエート
から由来する硼素含有ユニット、(12)グリセロール
ポレートヘンソエートから由来する硼素含有ユニット、 (13)グリセロールボレートシンナモエートから由来
する釧j素含有ユニット、 (14)グリセロールボレートイソステアレートから由
来する硼素含有ユニット、 などが挙げられる。
前記一般式(IT)で表わされる硼素含有ユニットを有
する高分子化合物の製造方法として、ポリウレタンを例
にとって説明する。ただし、以下の説明では簡単のため
、硼素含有ユニットの原料化合物として、一般式(II
I)又は(■)の化合物を用いた場合について説明する
。ただし、一般式() %式%) で表わされ、Rは炭素原子数2〜41[1ilのアルキ
レン基、Xは水素原子または炭素原子数8〜22個のア
シル基、l及びmはそれぞ−れO〜20の実数であり、
一般式(旧においてRで示される炭素原子数2〜4個の
アルキレン基は例えばエチレン、〕。
11ピレン及びブチレン基およびこれらの異性化したも
のであり、Xで示される炭素原子数8〜22(囚のアシ
ル基は例えばオクタノイル、ノナノイル、デカノイル、
ウンデシロイル、ラウロイル、1・1ノデシロイル、ミ
リストイル、ペンタデシロイル、バルミトイル、マーガ
ロイル、ステア0イル、イソステアロイル、ヒドロキシ
ステアロイル、オレオイル、ベヘノイル基などである。
一般式(Ir[)を有する化合物には、ポリオキシエチ
レングリセロールボレート(ポリオキシエチレンとは+
 C21−ko +rで表わされる基でiは前記lマf
、−はmと同じ)、グリセロールボレート・ラウ1/−
ト、グリセロールボレー1〜・ノくルミテート、グリセ
ロールボレート・ステアレート、グリセロールボレー1
・・オレエート、グリセロールボレート・イソステアレ
ート、グリセロールボレート・ヒドロキシステアレート
、ポリオキシエチレングリセロールボレート・ラウレー
ト、ポリオキシエチレングリセロールボレート・パルミ
テート、ポリオキシエチレングリセロールボレート・ス
テアレート、ポリオキシエチレングリセロールボレート
・オレエート、ポリオキシエチレングリセロールボレー
ト・イソステアレート、ポリオキシエチレンオキシプロ
ピレングリセロールボレート・ラウレート、ポリオキシ
エチレンオキシプロピレングリセロールボレート・バル
ミテ−1−、ポリオキシエチレンオキシプロピレングリ
セロールボレート・ステアレート、ポリオキシプロピレ
ングリセロールボレート・ラウレート、ポリオキシプロ
ピレングリセロールボレート・パルミテート、ポリオキ
シプロピレングリセロールボレート・ステアレート、ポ
リオキシプロピレングリセロールボレート・イソステア
レート、ポリオキシプロピレングリセロールボレート・
オレエートなどがある。
一般式(■)を有する化合物において、アルキレンオキ
サイドの付加数(n+m)はO乃至30が一般式(IT
)で表わされるユニットを含有する高分子化合物を本発
明にかかる磁気記録媒体に例えば結合剤71いた場合の
諸性能の点において好ましい。
一般式(Iff)で示されるこれらのグリセリン硼酸エ
ステル類は単独で使用してもよく、2種以上を混合して
使用してもよい。また下記一般式(IV)で示されるジ
アシルエステル との混合物を使用することもできる。ただし、一般式(
TV)において、 Rは、前記一般式(Iff)と同様のアルキレン基、X
は、一般式(m)と同様のアシル基、lおよびmは一般
式(n)と同様の実数を示す。
一般式(IV)の例示化合物としては前記一般式(■)
の例示化合物と同様でジアシル体としたものをあげるこ
とができる。
一般式(lft)又は(IV)で示されるグリセリンの
硼酸エステルはポリウレタンを形成する際に有機イソシ
アネートと反応し、生成したポリウレタン樹脂(単にポ
リウレタン、ウレタンともいう)に化学的に結合する。
したが4で硼酸エステルは滓出、移行などを起さぬため
、その効果を長期間持続することができる。その量は下
記の活性水素含有化合物に由来するユニットに対し5重
量%〜活性水素含有ユニットと同量が適当である。5重
量%以下では上記高分子化合物を使用した効果が不十分
でありまたこの範囲を超えると結合剤としてのポリウレ
タン樹脂の物性が好ましくなく、諸性能が低下し7やす
い。
上記ポリウレタンの製造に使用する活性水素含有化合物
としてはたとえば、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、プロピレングリコール、1.4−ブチレング
リコール、ビスフェノールA1グリセリン、1,3.6
−ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ソルビトール、スクロース、ジプロ
ピレングリコール、メチルジェタノールアミン、エチル
ジイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、エ
チレンジアミン、ヘキザメチレンジアミン、ビス(p−
アミノシクロヘキサン)、トリレンジアミン、ジフェニ
ルメタンジアミン、メチレンビス(2−クロルアニリン
)等の化合物、およびこれらの化合物に、エチレンオキ
ザイド、プロピレンオキザイド、プチレンオキザイド、
テトラヒドロフラン、スチレンオキサイドなどを1種ま
たは2種以上(以下単にアルキレンオキサイドと略記す
る。)イ1加して得られるポリエーテルポリオールがあ
げられる。また前記活性水素化合物としてはポリエステ
ルポリオールも使用でき、前記ポリニステルロピレング
リコール、トリメチレングリコール、1.3または1,
4−ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1
,6−ヘキサンメチレングリコール、デカメチレングリ
コール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、I)−
キシリレングリコール、1,4−シクロヘキサンジオー
ル、1゜4−シクロヘキサンジメタツール、グリセリン
、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、ペン
タエリスリットまたはこれらのアルキレンオキサイド付
加物などの1種または2種以上と、マロン酸、マレイン
酸、コハク酸、アジピン酸、クルタル酸、ピメリン酸、
セバシン酸、シュウ酸、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸など酸の1種または2
種以上とからのポリエステルポリオールや、またはプロ
ピオラクトン、ブチロラクトン、カプロラクトンなどの
環状エステルを開環重合したポリオール、さらに上記ポ
リオールと環状エステルとから、または上記ポリオール
、二塩基酸、環状エステルの3種からのポリエステルポ
リオール例示できるまた、別の活性水素化合物としてポ
リカーボネートポリオレートより、前記ポリカーボネー
トポリオール、例えば一般式 %式%(1) で表わされる化合物で、Rはポリオールまたは多価のフ
ェノールの残基であり、前記ポリオールまたは多価のフ
ェノールとしてはたとえばトリメチレングリコール、ジ
エチレングリコール、1.3−ル、p−キシリレングリ
コール、ビスフェノールA (2,2−ビス(4′−ヒ
ドロキシフェニル)プロパン〕、ビスフェノールF(4
,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン)などがあげら
れる。
上記ポリウレタンの製造で用いる高分子ポリオールとし
て、1.2−ポリブタジェンポリオール、1.4−ポリ
ブタジェンポリオール、ポリクロロプレンポリオール、
ブタジェン−アクリロニトリル共重合体ポリオール、ポ
リジメヂルシロキサンジカルビノールなども用いられる
以上のほか、ヒマシ油、脱水ヒマシ油などの水酸基含有
高級脂肪酸エステル、或いはポリテトラメチレンエーテ
ルグリコールも使用できる。
さらに前記のポリエーテルポリオールないしボリエステ
ルボリオールに、アクリロニトリル、スチレン、メチル
メタアクリレートの如きエチレン性不飽和化合物をグラ
フト重合させて得たポリマーポリオールも使用できる。
これらの活性水素含有化合物は単独または2種以上混合
して使用する。
上記ポリウレタン化合物の製造で用いる有機イソシアネ
ートは既述したものが使用可能である。
また、上記のシリコン変性ポリウレタン、硼素変性ポリ
ウレタンの他に、繊維素系樹脂および/又は塩化ビニル
系共重合体又はポリエステル樹脂を含有せしめれば、磁
性層との粘着を防ぐことができる。ただし、繊維素系樹
脂および/または塩化ビニル系共重合体のみでは層が硬
くなりすぎるが、これは上述の変性ポリウレタンの含有
によって防止できる。
使用可能な繊維素系樹脂には、セルロースエーテル、セ
ルロース無機酸エステル、セルロース有機酸エステル等
が使用できる。セルロースエーテルとしては、メチルセ
ルロール、エチルセルロース、プロピルセルロース、イ
ソプロピルセルロース、ブチルセルロース、メチルエチ
ルセルロース、メチルヒドロキシエチルセルロース、エ
チルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース・ナトリウム塩
、ヒドロキシエチルセルロース、ベンジルセルロース、
シアノエチルセルロース、ビニルセルロース、ニトロカ
ルボキシメチルセルロース、ジエチルアミノエチルセル
ロース、7ミノエチルセルロース等が使用できる。セル
ロース無機酸エステルとしては、ニトロセルロース、硫
酸セルロース、燐酸セルロース等が使用できる。また、
セルロース有機酸エステルとしては、アセチルセルロー
ス、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、メ
タクリロイルセルロース、クロルアセチルセルロース、
β−オキシプロピオニルセルロース、ベンゾイルセルロ
ース、p−1’ルエンスルホン酸セルロース、アセチル
プロピオニルセルロース、アセチルブチリルセルロース
等が使用できる。
これら繊維素系樹脂の中でニトロセルロースが好ましい
。ニトロセルロースの具体例としては、旭化成(株)!
Il!!のセルツバBTH1/2、ニトロセルロースs
 r−−1、ダイセル(株)裂のニトロセルロースR3
I/2が挙げられる。ニトロセルロースノ粘度(J T
 S、 K −6703(1975)ニ規定されている
もの)は2〜1/64秒であるのが好ましく、特に1〜
1/4秒が優れている。この範囲外のものは、磁性層の
膜付及び膜強度が不足する。
また、使用可能な上記の塩化ビニル系共重合体としては
、 一般式: で表わされるものがある。この場合、 におけるlおよびmから導き出されるモル比は、前者の
ユニットについては95〜50モル%であり、後者のユ
ニッ1〜については5〜50%モルである。
また、Xは塩化ビニルと共重合しうる単量体残基を表わ
し、酢酸ビニル、ビニルアルコール、無水マレイン酸、
無水マレイン酸エステル、マレイン酸、マレイン酸エス
テル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、アクリル酸
、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エ
ステル、プロピオン酸ビニル、グリシジルメタクリレ−
1・、グリシジルアクリレートからなる群より選ばれた
少なくとも1種を表わす。(ff+m)として表わされ
る重合度は好ましくは100〜600であり、重合度が
100未満になるとFet性層等が粘着性をおびやすく
、600を超えると分散性が悪くなる。上記の塩化ビニ
ル系共重合体は、部分的に加水分解されていてもよい。
塩化ビニル系共重合体として、好ましくは、塩化ビニル
−酢酸ビニルを含んだ共重合体(以下、「塩化ビニル−
酢酸ビニル系共重合体」という。)が挙げられる。塩化
ビニル−酢酸ビニル系共重合体の例としては、塩化ビニ
ル−酢酸ビニルアルコール、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビ;、ルービニルア
ルコールー無水マレイン酸、塩化ビニル−酢酸ビニル−
ビニルアルコール−無水マレイン酸−71フイン酸の各
共重合体等が挙げられ、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重
合体の中でも、部分加水分解された共重合体が好ましい
。上記の塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体の具体例と
しては、ユニオンカーバイト社製のr V A G H
J、r V Y HT−I J、「7MC11」、漬水
化学(株)製の「エスレックA」、「エスレソクA−5
」、「エスレソクC」、「エスレソクM」、電気化学工
業(株)製の「デンカヒニル1000G」、「テ゛ンカ
ビ−’JIzlOOOw」等が使用できる。
また、上記の塩化ビニル系共重合体と繊維素系樹脂をと
もに併用する場合は任意の配合比で使用されてよいが、
重量比にして塩化ビニル系樹脂:繊維素系樹脂を90/
10〜5/95とするのが望ましく、80/20〜10
/90が更に望ましいことが確認されている。この範囲
を外れて、繊維素系樹脂が多くなると(上記重量比が5
/95未満)、べた付きが発生し易くなって表面性が悪
くなることがあり、ドローツブアウトを起し易くなるこ
とがある。また、塩化ビニル系共重合体が多くなると(
上記重量比が90/10を超えると)、非磁性粉の分散
不良を生じ易くなることがある。
また、バインダー組成全体については、上述のポリウレ
タンと、その他の樹脂(’IJli維素系樹脂および/
または塩化ビニル系共重合体との合計量)との割合は、
重量比で90/10〜50150であるのが望ましく 
、85/15〜60/40が更に望ましいことが確認さ
れている。この範囲を外れて、ポリウレタンが多いと分
散不良が生じ易くなってジッターが大きくなり易く、ま
たその他の樹脂が多(なると表面性不良となり易く、特
に60重量%を超えると塗膜物性が総合的にみてあまり
好ましくなくなる。
また、上述の凸部3に含有させてよい非磁性粒子として
は、窒化ホウ素、カーボンブラック、グラファイト、二
硫化タングステン、二硫化モリブデン、タルク、カオリ
、硫酸カルシウム、ウンモ、T i 01、Ca、 C
05、A #20.等からなるものが使用可能である。
これらのうち、へき(璧)磁性を有するもの、例えば窒
化ホウ素、グラファイト、二硫化タングステン、二硫化
モリブデン、ウンモは、特定の方向又は面に沿ってへき
開面を有しているので、外力(特にテープガイド等によ
る走行方向への摩擦力)が加わったときにへき開面で適
切なずれ力が生じ、これが摩擦係数の低下に効果的に寄
与し、走行時の滑り性を更に向上させることになる。こ
の場合、モース高度2.5未満の非磁性粉を含有せしめ
れば、凸部3の表面を適度に荒らして(マント化して)
表面性を改良でき、またカーボンブランクの場合には導
電性を付与して帯電防止効果が得られる。カーボンブラ
ンクと他の非磁性粉とを併用すると表面性改良(走行性
の安定化)と導電性向上の双方の効果が得られ、有利で
ある。
例えば、凸部3を上述したポリウレタンとカーボンブラ
ンクとで構成する場合、3:1以上(堆積比)で配合し
てよい。上記非磁性粒子のモース硬度を2.5未満とす
れば、非磁性粒子が適度な柔らかさを有し、滑り性が良
くなる。このため、ジッター値や出力変動が少なくなる
上に、キャリアノイズの減少等の出方向上が得られる。
しかも、上記非磁性粒子の含有によって、潤滑剤の添加
が不要となるか或いは少量で済むので、強度が大きくな
って走行耐久性が向上し、かつ粘着性が抑えられて貼付
き、スティックスリップが生じなくなる。
こうした顕著な作用効果を得るには、上記非磁性粒子の
モース硬度は1以上、2.5未満とするのがよく、1〜
2とするのが更によい。
第1図に示した磁性層2に使用される磁性材料、例えば
磁性粉末、特に強磁性粉末としては、γ−Fe2O3、
Co含有r F e205、F J 04、Co含有F
e50十等の酸化鉄磁性粉i F e 、N i % 
Co %’ F e−Ni−co金合金Fe −Mn−
Zn合金、Fe−Ni−Zn合金、Fe −Co −N
i −Cr合金、Fe −Co −Ni−P合金、co
−Ni合金等Fe。
1’J+ % Co等を主成分とするメタル磁性粉等各
種の強磁性粉が挙げられる。又、これらの磁性材料は、
蒸着、スパッタ、イオンブレーティングや各挿デポジシ
ョン法等の飛翔方法によって支持体上に付着せしめ、磁
性N2を形成するごともできる。
このような飛翔方法による磁性層の場合は、下記のよう
なバインダーは特に必要とはしない(下引き層のような
形で磁性層と支持体の間にバインダ一層が存在してもよ
い。又、飛翔方法により形成された磁性層上に、本発明
におジノる実質的に不連続な多数の凸部を加工によって
形成することは有効である。
この磁性層2のバインダーとして、熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬化型樹脂との混合
物が使用されてもよい。熱可塑性樹脂としては、軟化温
度が150 ’C以下、平均分子量が10;000〜2
00,000 、重合度が約200〜2,000程度の
もので、例えばアクリル酸エステル−アクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合
体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メククリ
ル酸エステルーアクリロニトリル共重合体、メタクリル
酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ポ
リ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重
合体、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、ポリア
ミド樹脂、ポリビニルブチラール、スチレン−ブタジェ
ン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル
−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合
成ゴム系の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物等が使用
される。
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、塗布液の状態
では200,000以下の分子量であり、塗布乾燥後に
は縮合、イ」加等の反応により分子量は無限大のものと
なる。また、これらの樹脂のなかで樹脂が熱分解するま
での間に軟化または溶融しないものが好ましい。具体的
には、例えばフェノール樹脂、エボギシ樹脂、ボリウL
・タン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、高分子量
ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシ
アネートの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子
量グリコール/高分子量ジヵール/トリフェニルメタン
トリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、及びこ
れらの混合物等である。電子線照射硬化型樹脂としては
、不飽和プレポリマー、例えば無水マレイン酸タイプ、
ウレタンアクリルタイプ、ポリエステルアクリルタイプ
、ポリエーテルアクリルタイプ、ポリウレタンアクリル
タイプ、ポリアミドアクリルタイプ等、または多官能モ
ノマーとして、エーテルアクリルタイプ、ウレタンアク
リルタイプ、−リン酸エステルアクリルタイプ、アリー
ルタイプ、ハイドロカーボンタイプ等が挙げられる。
本発明にかかる強磁性粉末とバインダーとの混合割合は
、該強磁性粉末100重量部に対してバインダー5〜4
00重量部、好ましくは10〜200重量部の範囲で使
用される。バインダーが多ずぎると磁気記録媒体とした
ときの記録密度が低下し、少なずぎると磁性層の強度が
劣り、耐久性の減少、粉落ち等の好ましくない事態が生
じる。
さらに耐久性を向上させるために、磁性層に各種硬化剤
を含有させることができ、例えば上述したと同様のイソ
シアネートを含有させることができる。
上記磁性層塗料を形成するのに使用される塗料には必要
に応して分散剤、潤滑剤、研摩剤、帯電防止剤等の添加
剤を含有させてもよい。
使用される分散剤としては、レシチン、リン酸エステル
、アミン化合物、アルキルサルフエ−11、脂肪酸アミ
ド、高級アルコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ
コハク酸、スルホコハク酸エステル、公知の界面活性剤
等およびこれらの塩があり、又、陰性有機基(例えば−
〇〇OH,−PO5H)を有する重合体分散剤の塩を使
用することも出来る。これら分散剤は1種類のみで用い
ても、あるいは2種類以上を併用してもよい。これらの
分散剤は磁性粉100重量部に対し1〜20重量部の範
囲で添加される。また、潤滑剤としては、シリコーンオ
イル、グラファイト、カーボンブランク、二硫化モリブ
デン、二硫化タングステン、ラウリン酸、ミIJスチン
酸等の高級脂肪酸、炭素原子数12〜16の一塩基性脂
肪酸と該脂肪酸の炭素原子数と合計して炭素原子数が2
1〜23個の一価のアルコールから成る脂肪酸エステル
等も使用できる。これらの潤滑剤は磁性粉100重量部
に対して0.2〜20重量部の範囲で添加される。使用
してもよい研摩材としては、一般に使用される材料で溶
融アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、コランダム、人
造コランダム、ダイヤモンド、人造ダイヤモンド、ザク
ロ石、エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鋼)等が使
用される。これらの研摩材は平均粒子径0.05〜5μ
の大きさのも゛のが使用され、特に好ましくは、0.1
〜2μである。これらの研摩材は磁性粉100重量部に
対して1〜20重量部の範囲で添加される。使用しても
よい帯電防止剤としては、上述した如きカーボンブラッ
クをはじめ、グラファイト、酸化スズ−酸化アンチモン
系化合物、酸化チタン−酸化スズ−酸化アンチモン系化
合物などの導電性粉末;サポニンなどの天然界面活性剤
;アルキレンオキサイド系1、グリセリン系、グリシド
ール系などのノニオン界面活性剤;高級アルキルアミン
類、第4級アンモニウーム塩類、ピリジン、その他の複
素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類などのカチ
オン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸
エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン
界面活性剤;アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノ
アルコールの硫酸または燐酸エステル類等の両性活性剤
などがあげられる。
なお、上記の分11’l剤、潤滑剤等は、上述した80
層中に含有せしめることができる。
磁性塗料の溶媒または磁性塗料塗布の際に使用する溶媒
としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン頻;メタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール等のアル
コール類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸
エチル、エチレングリコールモノアセテート等のエステ
ル類:エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素;メチレンクロライド、エチ
レンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロル
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のものが使用できる
。これらの溶媒は、上述の凸部3の形成時にも使用可能
である。
また、上述した支持体1の素材とじは、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレ−1・
等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセ
テート等のセルロース誘導体、ポリカーボネートなどの
プラスチック、/l、Znなどの金属、ガラス、窒化珪
素、炭化珪素、磁器、陶器等のセラミックなどが使用さ
れる。これら支持体の厚みはフィルム、シート状の場合
は約3〜100μm程度、好ましくは5〜50μmであ
り、ディスク、カード状の場合は、30μm〜10mm
程度であり、ドラム状の場合は円筒状とし、使用するレ
コーダーに応じてその型は決められる。
支持体上へ前記磁性塗料を塗布し磁性層を形成するため
の塗布方法としては、エアーナイフコート、ブレードコ
ート、エアーナイフコート、スフイスコート、含浸コー
ト、リバースロールコート、トランスファーロールコー
ト、グラビアコート、キスコート、キャストコート、ス
プレィコート等が利用でき、その他の方法も可能である
。このような方法により支持体上に塗布された磁性層は
必要により層中の強磁性粉末を配向させる処理を施した
のち、形成した磁性層を乾燥する。また必要により表面
平滑化加工を施したり所望の形状に裁断したりして、本
発明の磁気記録体を製造する。
なお、上記の塗布方法は、上述したBC層の形成時にも
採用することができる。
次に、上述した磁気記録媒体、例えば磁気テープの製造
方法を第4図について説明する。
まず、供給ロール10から繰出されたフィルム状支持体
1は、公知のロールコータ−11により磁性塗料2を塗
布後、乾燥器12に導入し、ここで上下に配したノズル
13から熱風14を導入して乾燥する。
次に乾燥された磁性層付きフィルム1を公知のカレンゲ
−ロール]5においてカレンダー処理し、次いで噴霧器
(スプレー)16へ導入する。
このスプレー16では、ノズル17からエア18を陽圧
で導入しながら1.エアレススプレーガン19がらフィ
ルム?の裏面に刻し、上述したバインダー(望ましくは
非磁性粉との混合物)溶液4を噴霧させ、第2A図ta
+、(blに示した如き粒状パターンに付着せしめる。
次いで、スムーザ−20にがけ、裏面の液滴を平坦化し
て第2B図(a)、tl))に示した形に押し潰す。
但、このスムーザ−20により平坦化工程は必ずしも必
要ではない。しかる直後に、隣接した乾燥器21に入れ
、ノズル22からの熱風23により上記液滴を乾燥させ
、更に巻取ロール24上に順次巻取る。
このような!!!!造方法によれば、特に支持体裏面の
」二連した微小凸部3をスプレー16におけるスプレー
塗布により容易に形成でき、その分布やサイズもスプレ
ーガン19等のコントロールによって正確に制御するこ
とができる。
第5図は、第4図の変形例を示すものであって、第4図
のカレンダ一工程までは同様に処理するが、この直後に
、ロールコータ−25によって80層形成用の塗布液2
6を支持体裏面に塗布し、この後に乾燥兼押圧加工部2
7へ導入する。
この加工部27では、排気管28からエア29を導入し
てB 0層塗布液を乾燥しながら、押圧ロール30によ
ってBCNを押圧加工する。押圧ロール30は第6図に
示す如く、島状の多数の小凹部31が設けられたパター
ンを周面に有していて、第5図のようにBC層に押圧す
ることによって、上記小凹部31に対応した小凸部(第
1図の3に相当)を第7図の如<BC層32自体に形成
するものである。
こうして得られたBCCaP2表面側に多数の不連続な
凸部3を有したものとなるから、上述したと同様の作用
効果を発揮することができる。
以上に説明した例はいずれも、支持体1の裏面側に小凸
部3を形成する場合であるが、これと同様の小凸部を磁
性層2上に形成し、公知のオーバーコート層(以下、O
CRと称する。)の機能をもたしめてもよい。
即ち、第8図に示す如く、支持体1の裏面に従来と同様
のBCCaP2形成する一方、磁性層2の表面に、第4
図に示した方式(スプレー塗布)によるOCR形成用溶
液のスプレー、乾燥で、微小な不連続小凸部3′を形成
してもよい。この場合の00層用の溶液は上述したバイ
ンダー溶液であってよいし、或いは高級脂肪酸エステル
等の潤滑剤等公知のものが使用できる。
また、磁性層20表面に公知の00層を形成し、これを
第5図、第6図に示した押圧ロールで処理し、OC層自
体に小凸部3′を形成することもできる。
なお、上述の小凸部3又は3′は、支持体裏面側と表面
側との双方に同時に設けることもできる。
なお、上述の凸部3は、第5図、第6図の方式を用いれ
ば、第9図の如きパターンに形成することができる。こ
のパターンによれば、走行方向33に対しガイド部材に
斜めに当たる面34を凸部3が有しているため、その面
34に沿う方向にテープが走行する傾向があるが、面3
4が場所的にみて一様に、かつその方向が規則的に変化
することになる。
従って、テープの走行方向が平均化され、常に一定方向
にして振れのない状態で走行させることが可能である。
なお、上述の例はいずれも塗布型磁性層を有する媒体に
関するものであるが、本発明は、蒸着法による磁性層を
有する媒体にも適用可能である。
この場合にはカレンダー処理は不要である。
以下、本発明を具体的な実施例につき説明する。
以下に示す成分、割合、操作順序等は、本発明の精神か
ら逸脱しない範囲において種々変更しうる。
なお、下記の実施例において「部」はすべて「重量部」
を表わす。
下記組成からなる磁性塗料を調製した。
Co含有T Fe2O3100部 ポリウレタン(グソトリンチ社製ニスタン570L) 
40部 ニトロセルロース(ダイセル社製セルラインR51/2
 20部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(、U、C。
C8社製VAGH) 10部 レシチン 2部 ミリスチン酸 1部 ラウリン酸 1部 メチルエチルケトン 72部 トルエン 50部 シクロへキザノン 80部 カーボンブラック(コンダクテソクス975)2部 この組成物をポル−ミルで充分に攪拌混合し、更に多官
能イソシアネート (日本ポリウレタン社0 製コロネートし)を〆部添加した後1.平均孔径1μm
のフィルターで濾過した。次いで第4図の装置を用い、
磁性塗料を厚さ14μmのポリエチレンテレフタレート
ベースの表面に乾燥厚さ4μmとなるように塗布した。
そして乾燥後にカレンダー処理し、更にスプレーにて次
の組成物をベース裏面に吹付けた。
カーボンブランク(上記)50部 ポリウレタン(上記) 50部 ニトロセルロース(上記)25部 シクロへキザノン 400部 しかる後、乾燥してから巻取り、史に公知のスリッティ
ング方法で所定幅(例−えば12.7mm幅)に切断し
、磁気テープをi8だ。
一方、比較のために、従来例に基いて、連続層からなる
BCIiを形成した磁気テープを作成した。
各テープをV HS方式のVTRを使用してテストを行
なったところ、下記表に示す結果が得られた。但、各J
、lJ定法は次の通りであった。
・\−ス裏面側を磁性層との粘着: テープ巻同時に相当する両層間の粘着性を観察し、○印
は粘着なし、×印は粘着ありを示す。
シック−値: メグ口・エレクトロニクス社製のVTRジッターメータ
ーrMK−612AJを使用し、30℃、80%RHの
高温多湿下で走行回数0回、100回後の各ジッターを
測定した。
エツジ折れ: VTRのローディング時にカセットから引出されるテー
プの端部がガイドビン上で折れ曲る現象を観察した。
100 P ass後の走行キス: テープを100回走行させたときにキズが発生している
か否かを観察した。
□一 この結果から、本発明に基くテープは、比較テープに比
べ、摩擦係数が充分に低く、粘着、エツジ折れ、走行キ
ズがなく、ジッターや出力変動も少ないことが明らかで
ある。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示すものであって、第1図は磁
気記録媒体の断面図、 第2A図(a)は支持体の裏面図、 第2A図fb)は同支持体の一部分の拡大断面図、第2
B図(alは平坦化処理後の支持体の裏面図、第2B図
(blは同支持体の一部分の拡大断面図、第3図は第1
図の要部拡大図、 第4図は磁気記録媒体の製造プロセスフロー図、第5図
は第4図の変形例による製造プロセスの要部、 第6図は抑圧ロールの正面図、 第7図は他の磁気記録媒体の断面図、 第8図は更に他の磁気記録媒体の断面図、第9図は他の
支持体の裏面図 である。 なお、図面に示した符号において、 1−−−一支持体 2−一一一一一磁性層又は磁性塗料 3.3′・−−−一−−小凸部 4−・−液滴 11.25−−−−−コーター 12.22−−−−−−・ドライヤー 13.17.22−−一−−−−ノズル15−−−−−
一カレンダーロール 19−−−−−−−スプレーガン 26−−−−−−− B CN形成用塗布液27−−−
−−−−押圧加工部 30−−−−−一押圧ロール 31−−−−一小凹部 32−−−−−−−B C層 である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏(他1名)第60 (イ)7図 第8図 々′ 第9図 3

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、磁性層を支持体上に有する磁気記録媒体において、
    前記磁性層とは反対側の前記支持体上及び/又は前記磁
    性層上の面に、実質的に不連続な多数の凸部が加工によ
    って形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。 2、磁性層を支持体上に有する磁気記録媒体の製造方法
    において、前記磁性層とは反対側の前記支持体上及び/
    又は前記磁性層上に噴霧手段によって所定の物質を粒状
    に付着せしめることを特徴とする磁気記録媒体の製造方
    遮。 3、磁性層を支持体上に有する磁気記録媒体の製造方法
    において、前記磁性層とは反対側の前記支持体上及び/
    又は前記磁性層上にハックコート層及び/又はオーバー
    コート層を形成し、次いで実質的に不連続な多数の四部
    を押圧面に有する押圧手段を前記バックコート層及び/
    又はオーバーコ−1・層に押圧せしめ、これによって前
    記四部に対応した実質的に不連続な多数の凸部を前記ノ
    \・ツクコート層及び/又はオーバーツー1一層に形成
    することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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