JPS6288139A - 磁気記録媒体用支持体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用支持体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ビデオテープ、オーディオテープ、コンピュ
ーターテープフロッピーディスク、電子スチルビデオフ
ロッピー、光磁気ディスク等の磁気記録媒体に使用する
支持体の製造方法に関するものである。
ーターテープフロッピーディスク、電子スチルビデオフ
ロッピー、光磁気ディスク等の磁気記録媒体に使用する
支持体の製造方法に関するものである。
（従来技術）
磁気記録媒体用の支持体は、記録密度の向上に伴い、よ
り平滑で、しかも易滑性を保持した表面を有するものが
要求されてきている。したがって、磁気記録媒体用支持
体の主流であるポリエチレンテレフタレートフィルムの
表面性も、包装材料用や電気絶縁用のフィルムに比べ、
より細かく、均一な高さの突起を高密度に並べた形のも
のでないと、高密度磁気記録の品質を確保できないのが
現状である。
り平滑で、しかも易滑性を保持した表面を有するものが
要求されてきている。したがって、磁気記録媒体用支持
体の主流であるポリエチレンテレフタレートフィルムの
表面性も、包装材料用や電気絶縁用のフィルムに比べ、
より細かく、均一な高さの突起を高密度に並べた形のも
のでないと、高密度磁気記録の品質を確保できないのが
現状である。
更に最近では、メタル磁性体を結合剤とともに支持体上
に塗布し、或いは金属自身を真空蒸着法やスパッタ法に
より支持体上に強磁性ＷＩＩｌ！として形成することに
よって、上り高密Ｔσイ１磁気叩′≧Ｌ、）、騒体を作
成することが予定されているが、これに（曳１・用され
る支持体の表面性は、前述の事情が更１．″１７１′ｉ
：、しくなった形のものになると思わねばならない２゜
すなわち、触針式粗さ計ｒは正確に表わしされイラいは
と微細なオーダの凹凸で、しかも起伏の高さが均一であ
るような表面形状を有するものが要望されるようになっ
てきている。
に塗布し、或いは金属自身を真空蒸着法やスパッタ法に
より支持体上に強磁性ＷＩＩｌ！として形成することに
よって、上り高密Ｔσイ１磁気叩′≧Ｌ、）、騒体を作
成することが予定されているが、これに（曳１・用され
る支持体の表面性は、前述の事情が更１．″１７１′ｉ
：、しくなった形のものになると思わねばならない２゜
すなわち、触針式粗さ計ｒは正確に表わしされイラいは
と微細なオーダの凹凸で、しかも起伏の高さが均一であ
るような表面形状を有するものが要望されるようになっ
てきている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら磁気記録媒イ本に使用される一ノｆルムの
表面性を向上８１！ることは下記の理由から限界がある
。つまり、製膜して巻き取る工程にＪ３いて、フィルム
の表面性が良いと搬送口−ラーに対するｌｅｔ擦抵抗抵
抗となり、しばしば蛇行を起（−１）たり、シワが止じ
た（りする、２まＩζノイルム間の斤量抵抗が層太し巻
き取りロールの形状にニュガミが生じたりもする。
表面性を向上８１！ることは下記の理由から限界がある
。つまり、製膜して巻き取る工程にＪ３いて、フィルム
の表面性が良いと搬送口−ラーに対するｌｅｔ擦抵抗抵
抗となり、しばしば蛇行を起（−１）たり、シワが止じ
た（りする、２まＩζノイルム間の斤量抵抗が層太し巻
き取りロールの形状にニュガミが生じたりもする。
塗布型磁気記録媒体用フィルムにおいては粒径のそろっ
た微小フィラーを高充填度で含有さ１！Ｘテ）ことによ
り、目的に合った表面性庖ｆｊ”、するもの！）葡得ら
れるが、より平滑なものほど上記のようなハンドリング
の難しさで製膜工程における得率ダウンが増すことを避
【ブることはできない。また、金属薄膜型磁気記録媒体
用フィルムでは、更に細かいオーダ（５０〜１００ＯＡ
）の高さを有する突起の高充填度と高さの均一性が要
求される。
た微小フィラーを高充填度で含有さ１！Ｘテ）ことによ
り、目的に合った表面性庖ｆｊ”、するもの！）葡得ら
れるが、より平滑なものほど上記のようなハンドリング
の難しさで製膜工程における得率ダウンが増すことを避
【ブることはできない。また、金属薄膜型磁気記録媒体
用フィルムでは、更に細かいオーダ（５０〜１００ＯＡ
）の高さを有する突起の高充填度と高さの均一性が要
求される。
これに対し、特開昭５９−８４９２７号および５９−１
２１６３１号により、水溶性高分子と微粒子とからなる
不連続皮膜をフィルム表面に形成せしめる方法が開示さ
れ、また、特開昭６０−２７５３９号により、架橋性ポ
リウレタン、シリコーン、微粒子の混合物をフィルム表
面に塗布し、多数の微小突起を有する塗膜を形成せしめ
る方法が開示されている。
２１６３１号により、水溶性高分子と微粒子とからなる
不連続皮膜をフィルム表面に形成せしめる方法が開示さ
れ、また、特開昭６０−２７５３９号により、架橋性ポ
リウレタン、シリコーン、微粒子の混合物をフィルム表
面に塗布し、多数の微小突起を有する塗膜を形成せしめ
る方法が開示されている。
しかし上記３つの方法のいずれによっても十分な易滑性
が保てず、塗布型磁気記録媒体用支持体に比して、製膜
工程における更に大幅な得率ダウンが生じる。それに加
えて、得られるフィルム金属３１１１を形成させて磁気
記録媒体に仕上げても、十分な走行性を保持できるもの
ではない。
が保てず、塗布型磁気記録媒体用支持体に比して、製膜
工程における更に大幅な得率ダウンが生じる。それに加
えて、得られるフィルム金属３１１１を形成させて磁気
記録媒体に仕上げても、十分な走行性を保持できるもの
ではない。
上述のように、現在までのところ、高密度塗布型磁気記
録媒体用支持体および金属薄膜型磁気３己録媒体用支持
体は、その製造コストが非常に高く、特に金属薄膜型磁
気記録媒体用支持体の場合は、十分な走行性を付与する
技術も確立されでいない。
録媒体用支持体および金属薄膜型磁気３己録媒体用支持
体は、その製造コストが非常に高く、特に金属薄膜型磁
気記録媒体用支持体の場合は、十分な走行性を付与する
技術も確立されでいない。
（発明の目的）
本発明は、このような事情＃：、鑑みなされたｂのであ
って、塗布型から蒸着型まで要求される支持体の表面性
をフィルム上に付与し、電磁特性、走行耐久性の十分両
立された高密度の磁気記録媒体を低コストで製作可能に
する磁気記録媒体用支持体の製造方法を提供することを
目的とするもの＜パある。
って、塗布型から蒸着型まで要求される支持体の表面性
をフィルム上に付与し、電磁特性、走行耐久性の十分両
立された高密度の磁気記録媒体を低コストで製作可能に
する磁気記録媒体用支持体の製造方法を提供することを
目的とするもの＜パある。
（発明の構成）
本発明による磁気記録媒体用支持体の製造方法は、基板
（好ましくはポリエステルフィルム）の表面に放ＯＡ線
重合性（可能な）化合物を塗布し７だ後、該塗布層表面
に所定表面粗さの転写部材表面を密着さゼ、この状態で
放射線を照射して該塗／１１層を重合させ、その後該塗
布闇表面から転写部材を離脱させることを特徴どし、こ
れにより所望の表面形状を有する磁気記録媒体用支持体
を製造することができるようにしたものである。
（好ましくはポリエステルフィルム）の表面に放ＯＡ線
重合性（可能な）化合物を塗布し７だ後、該塗布層表面
に所定表面粗さの転写部材表面を密着さゼ、この状態で
放射線を照射して該塗／１１層を重合させ、その後該塗
布闇表面から転写部材を離脱させることを特徴どし、こ
れにより所望の表面形状を有する磁気記録媒体用支持体
を製造することができるようにしたものである。
このとき、電磁特性、走行安定性の十分両立された高密
度磁気記録媒体を製作可能にする表面性を備えた磁気記
録媒体用支持体を得るため、上記転写部材の表面粗さは
、カットオフ０．２５＃ｌｌ測定長８０．での中心線平
均粗さくＲａ）が０．００１乃至０．０５０μｍで、か
つカットオフ０．２５ａ＊ｑ測定長２０ｍでの最大高さ
くＰＶｍａｘ）と前記中心線平均粗さとの比が５乃至２
０とされている。
度磁気記録媒体を製作可能にする表面性を備えた磁気記
録媒体用支持体を得るため、上記転写部材の表面粗さは
、カットオフ０．２５＃ｌｌ測定長８０．での中心線平
均粗さくＲａ）が０．００１乃至０．０５０μｍで、か
つカットオフ０．２５ａ＊ｑ測定長２０ｍでの最大高さ
くＰＶｍａｘ）と前記中心線平均粗さとの比が５乃至２
０とされている。
また、上記塗布層へ放射線を照射するため、基板と転写
部材の少なくともいずれか一方は放射線透過可能とされ
ている。
部材の少なくともいずれか一方は放射線透過可能とされ
ている。
上記支持体が金属薄膜型磁気記録媒体用の支持体の場合
には、上記転写部材の表面に、深さくｄ）５０乃至１０
００Ａ 、該深さと径（Ｄ）との比が１０４乃至１、該
転写部材の表面における面積占有率（Ａｄｉｍ ）が１
乃至６０％の複数の凹部を設け、該凹部が設けられた状
態での前記中心線平均粗さを０゜００１乃至ｏ、ｏ１ｏ
μ乳にまで限定した表面粗さとすることが好ましい。
には、上記転写部材の表面に、深さくｄ）５０乃至１０
００Ａ 、該深さと径（Ｄ）との比が１０４乃至１、該
転写部材の表面における面積占有率（Ａｄｉｍ ）が１
乃至６０％の複数の凹部を設け、該凹部が設けられた状
態での前記中心線平均粗さを０゜００１乃至ｏ、ｏ１ｏ
μ乳にまで限定した表面粗さとすることが好ましい。
上記転写部材は、転写板等を用いることもできるが、磁
気記録媒体用支持体の製造を連続的に行うためには、ロ
ールもしくは帯状物とすることが好ましい。なおロール
には、中空のドラム形状をしたものも含まれる。
気記録媒体用支持体の製造を連続的に行うためには、ロ
ールもしくは帯状物とすることが好ましい。なおロール
には、中空のドラム形状をしたものも含まれる。
上記記録媒体用支持体への表面粗さ付与を、両面同時に
行なうためには、基板の両面に放射線重合性化合物の塗
布を施し、該基板の両側から１対の転写部材を各塗布層
に密着させて放射線を照射するようにすればよい。この
場合、基板および少なくとも一方の転写部材は放射線透
過可能なものとし、該放射線透過可能な転写部材の側か
ら放射線を照射することになる。したがって、両転写部
材が共に放射線透過可能なものであれば、どちら側から
放射線を照射してもよく両側から照射してもよい。転写
部材がロールである場合には、該ロールをドラム形状に
して該ドラム内から放射線を照射するように構成するこ
ともできる。
行なうためには、基板の両面に放射線重合性化合物の塗
布を施し、該基板の両側から１対の転写部材を各塗布層
に密着させて放射線を照射するようにすればよい。この
場合、基板および少なくとも一方の転写部材は放射線透
過可能なものとし、該放射線透過可能な転写部材の側か
ら放射線を照射することになる。したがって、両転写部
材が共に放射線透過可能なものであれば、どちら側から
放射線を照射してもよく両側から照射してもよい。転写
部材がロールである場合には、該ロールをドラム形状に
して該ドラム内から放射線を照射するように構成するこ
ともできる。
要するに、磁気記録媒体の製造コストを下げる、或いは
十分な走行耐久性と電磁特性を有した磁気記録媒体を製
造するという目的に対しては、その磁気記録層（磁性層
）を形成させる直前の工程で、要求される表面形状を要
求されたとおりに基板（フィルム）上に付与する技術を
確立しておけば、磁気記録媒体作成に使用するフィルム
として、製膜段階での得率が良い粗面フィルムを使うこ
とが可能になる。その結果として、フィルム製膜工程お
よび磁性面形成工程全般におけるハンドリングが容易に
なり、最終品である磁気記録媒体の製造コストが大幅に
下がることになる。また、金属薄膜型磁気記録媒体の表
面微細形状を最適のものともしうるのである。
十分な走行耐久性と電磁特性を有した磁気記録媒体を製
造するという目的に対しては、その磁気記録層（磁性層
）を形成させる直前の工程で、要求される表面形状を要
求されたとおりに基板（フィルム）上に付与する技術を
確立しておけば、磁気記録媒体作成に使用するフィルム
として、製膜段階での得率が良い粗面フィルムを使うこ
とが可能になる。その結果として、フィルム製膜工程お
よび磁性面形成工程全般におけるハンドリングが容易に
なり、最終品である磁気記録媒体の製造コストが大幅に
下がることになる。また、金属薄膜型磁気記録媒体の表
面微細形状を最適のものともしうるのである。
以下、本発明の実施態様について説明する。
本発明に使用される放射線照射により重合可能な化合物
は炭素−炭素不飽和結合を分子中に１個以上有する化合
物でありアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メ
タクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル化
合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニル異
面環化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類、クロトン
酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィン類など
が例としてあげられる。これらのうち好ましいものとし
てアクリロイル基またはメタクリロイル基を２個以上含
む下記の化合物があげられる。ジエチレングリコールジ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート
、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、などのアクリレート類、ジエチ
レングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコ
ールトリメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、
などのメタクリレート類あるいはその他の２官能以上の
ポリオールとアクリル酸メタクリル酸とのエステル類、
など。
は炭素−炭素不飽和結合を分子中に１個以上有する化合
物でありアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メ
タクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル化
合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニル異
面環化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類、クロトン
酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィン類など
が例としてあげられる。これらのうち好ましいものとし
てアクリロイル基またはメタクリロイル基を２個以上含
む下記の化合物があげられる。ジエチレングリコールジ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート
、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、などのアクリレート類、ジエチ
レングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコ
ールトリメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、
などのメタクリレート類あるいはその他の２官能以上の
ポリオールとアクリル酸メタクリル酸とのエステル類、
など。
また、これらの化合物は高分子缶体のものであってもよ
い。好ましくは高分子の主鎖末端あるいは側鎖にアクリ
ル酸またはメタクリル酸とのエスチル結合を有する化合
物であり、これらはＡ、Ｖｒａｎｃｋｅｍ ”Ｆａｔｉ
ｐｅｃ Ｃｏｎｇｒｅｓｓ ＩＩ １１１９（１９７
２）に引用されている。たとえば以下に示す化合物であ
り、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレタン
帰洛、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポリカ
ーボネート骨格であってもあるいはこれらの混合された
骨格でもよい。分子伍は１ 、０００〜２０，０００が
好ましいが、どくに限定されるものではない。
い。好ましくは高分子の主鎖末端あるいは側鎖にアクリ
ル酸またはメタクリル酸とのエスチル結合を有する化合
物であり、これらはＡ、Ｖｒａｎｃｋｅｍ ”Ｆａｔｉ
ｐｅｃ Ｃｏｎｇｒｅｓｓ ＩＩ １１１９（１９７
２）に引用されている。たとえば以下に示す化合物であ
り、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレタン
帰洛、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポリカ
ーボネート骨格であってもあるいはこれらの混合された
骨格でもよい。分子伍は１ 、０００〜２０，０００が
好ましいが、どくに限定されるものではない。
上記の放射線照射により重合可能な化合物は単独に、ま
た任意の割合で混合しで使用することができる。
た任意の割合で混合しで使用することができる。
さらに塩ビ酢ビ系共重合体、繊維素系樹脂、アセタール
系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、ウレタン樹脂、
アクリ［１：、トリルブタジェン樹脂等の熱可塑性樹脂
を必要により前記放射線照射により重合可能な化合物と
混合使用することができる。
系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、ウレタン樹脂、
アクリ［１：、トリルブタジェン樹脂等の熱可塑性樹脂
を必要により前記放射線照射により重合可能な化合物と
混合使用することができる。
本発明において使用されるｔｌｌ射線は電子線および紫
外線である。紫外線を使用する場合には前記の化合物に
光重合開始剤を添加することが必要となる。
外線である。紫外線を使用する場合には前記の化合物に
光重合開始剤を添加することが必要となる。
光重合開始剤として芳香族ケトンが使用される。
芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源
として通常使用される水銀灯のＲ線スペクトルを生ずる
２５４． ３１３． ３６５ｎｍの波長において吸光係
数の比較的大なるものが好ましい。その代表例としては
、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチル
エーテル、ベンジルエチルケタール、ベンジルエチルケ
タール、ペンゾイジイソブチルク゛トン、ヒドロキシジ
メチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン、２−２ジエトキシアセトフエノン、Ｍ
ｉｃｈｌｅｒ’ ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケ
トンが使用ぐきる。
として通常使用される水銀灯のＲ線スペクトルを生ずる
２５４． ３１３． ３６５ｎｍの波長において吸光係
数の比較的大なるものが好ましい。その代表例としては
、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチル
エーテル、ベンジルエチルケタール、ベンジルエチルケ
タール、ペンゾイジイソブチルク゛トン、ヒドロキシジ
メチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン、２−２ジエトキシアセトフエノン、Ｍ
ｉｃｈｌｅｒ’ ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケ
トンが使用ぐきる。
芳香族ケトンの混合比率は、化合物（ａ）１００重量部
に対し、 ０．５＝２０重足部、好ましくは２〜１５重
量部、さらに好ましくは３〜１０重間部である。
に対し、 ０．５＝２０重足部、好ましくは２〜１５重
量部、さらに好ましくは３〜１０重間部である。
前記放射線照射により重合可能な化合物を、また芳香族
ケトンとの混合物を支持体上に塗設する場合、種々の有
機溶媒が必要に応じ使用できる。
ケトンとの混合物を支持体上に塗設する場合、種々の有
機溶媒が必要に応じ使用できる。
使用できる有機溶媒としではアセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン系：メタノール、エタノール、プロパツール、ブ
タノール等のアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエ
ーテル等のエステル系：エーテル、グリコールジメチル
エーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン
、テトラヒドロフラン等のエーテル系；ベンゼン、トル
エン、キシレン等のタール系（芳香族炭化水素）：メヂ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等があげられる。
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン系：メタノール、エタノール、プロパツール、ブ
タノール等のアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエ
ーテル等のエステル系：エーテル、グリコールジメチル
エーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン
、テトラヒドロフラン等のエーテル系；ベンゼン、トル
エン、キシレン等のタール系（芳香族炭化水素）：メヂ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等があげられる。
電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャ
ニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが
、好まり、いのは比較的安価で大出力が得られるカーテ
ンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が
１０〜１０００ｋＶ、好ましくは５０〜３００ｋＶであ
り、吸収線量として０゜５〜２０メガラツト、好ましく
は１〜１０メガランドである。加速電圧が１０ｋＶ以下
の場合は、エネルギーの透過量が不足し１０００ｋＶを
超えると重合に使われるエネルギー効率が低下し経済的
でない。
ニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが
、好まり、いのは比較的安価で大出力が得られるカーテ
ンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が
１０〜１０００ｋＶ、好ましくは５０〜３００ｋＶであ
り、吸収線量として０゜５〜２０メガラツト、好ましく
は１〜１０メガランドである。加速電圧が１０ｋＶ以下
の場合は、エネルギーの透過量が不足し１０００ｋＶを
超えると重合に使われるエネルギー効率が低下し経済的
でない。
吸収線量が０．５メガランド以下では硬化反応が不充分
で磁性層強度が得られず、２０メガラッド以上になると
、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照
射体が発熱し、特にプラスティック支持体が変形するの
で好ましくない。
で磁性層強度が得られず、２０メガラッド以上になると
、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したり、被照
射体が発熱し、特にプラスティック支持体が変形するの
で好ましくない。
本発明に使用される支持体はポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエス
テル類；ポリエチレン、ポリプロピレジ等のポリオレフ
ィン類；セルローストリアセテ・−ト、ゼルロースダイ
アセテート、セルロースアセテ−（−ブチレート、セル
ロースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導体
；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ごニリデン等のビニル系樹
脂；ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド
等のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、銅
、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不銹銅な
どの非磁性金屈類；紙、バライタまたはポリエチレン、
ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体などの炭素
数２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネ
ートした紙などである。
ト、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエス
テル類；ポリエチレン、ポリプロピレジ等のポリオレフ
ィン類；セルローストリアセテ・−ト、ゼルロースダイ
アセテート、セルロースアセテ−（−ブチレート、セル
ロースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導体
；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ごニリデン等のビニル系樹
脂；ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド
等のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、銅
、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不銹銅な
どの非磁性金屈類；紙、バライタまたはポリエチレン、
ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体などの炭素
数２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネ
ートした紙などである。
本発明に使用される非磁性支持体表面のＰＶｍａ×は、
前記転写部材表面のＰ Ｖ ＩＩａｘと同等以上である
ことが好ましい。
前記転写部材表面のＰ Ｖ ＩＩａｘと同等以上である
ことが好ましい。
本発明に使用される転写部材の表面形状は、本発明を使
って製造される磁気記録媒体用支持体に要求される表面
形状の逆転したものであると考えればよい。したがって
、オーディオテープ用支持体作成には、０．０１５≦Ｒ
ａ≦０．０５０ （ｍ ）かつ５≦ＰＶｍａｘ／Ｒａ≦
２０の範囲の粗さを表面に有した転写部材を、また塗布
型ビデオテープ用支持体作成には、０．００３≦Ｒａ≦
０，０２０（ｍ）かつ５≦ＰＶＩｌｌａＸ／Ｒａ≦２
０の範囲の粗さを表面に有した転写部材を、更に金属薄
膜型磁気テープ用支持体作成には、５０≦ｄ≦１０００
（Ａ ） 、 １０４≦ｄ／Ｄ≦１かつ１≦Ａ ｄｉ
ｌｌ≦６０（％）の複数の凹部が形成された、０．００
１≦Ｒａ≦０．０１０（ａｍ）かつ５≦ＰＶＩｌｌａｘ
／Ｒａ≦２０の表面を有した転写部材を、それぞれ用い
るというように、如何なる粗さを要求されても、本発明
により、支持体の表面粗さ調整が可能である。
って製造される磁気記録媒体用支持体に要求される表面
形状の逆転したものであると考えればよい。したがって
、オーディオテープ用支持体作成には、０．０１５≦Ｒ
ａ≦０．０５０ （ｍ ）かつ５≦ＰＶｍａｘ／Ｒａ≦
２０の範囲の粗さを表面に有した転写部材を、また塗布
型ビデオテープ用支持体作成には、０．００３≦Ｒａ≦
０，０２０（ｍ）かつ５≦ＰＶＩｌｌａＸ／Ｒａ≦２
０の範囲の粗さを表面に有した転写部材を、更に金属薄
膜型磁気テープ用支持体作成には、５０≦ｄ≦１０００
（Ａ ） 、 １０４≦ｄ／Ｄ≦１かつ１≦Ａ ｄｉ
ｌｌ≦６０（％）の複数の凹部が形成された、０．００
１≦Ｒａ≦０．０１０（ａｍ）かつ５≦ＰＶＩｌｌａｘ
／Ｒａ≦２０の表面を有した転写部材を、それぞれ用い
るというように、如何なる粗さを要求されても、本発明
により、支持体の表面粗さ調整が可能である。
本発明に使用される転写部材は、前述の放射線重合性化
合物との接着性の悪いものであることが好ましい。具体
例としては、鏡面仕上げに研磨された鉄板表面にクロー
ムメッキをほどこしたものが良い。この転写部材表面に
要求されている粗さや微小なくぼみ（凹部）を付けるの
は、メッキの最中に、電気ショック（電流反転）を与え
ることにより可能である。このほかプラスチック成形板
やセラミック板等、上記所定の表面粗さの板、またはロ
ール、帯状物等であればいずれにしても同様に本発明に
使用可能である。また、本発明に使用される基板フィル
ムは、前述の放射線重合可能な化合物との接着性の良い
ものであることが好ましい。この基板フィルムと放射線
重合可能な化合物との接着性をより上げるために、放射
線重合可能な化合物を塗布する前段で該基板に放射線照
射を行ってもよい。また該前段で下塗を行ってもよい。
合物との接着性の悪いものであることが好ましい。具体
例としては、鏡面仕上げに研磨された鉄板表面にクロー
ムメッキをほどこしたものが良い。この転写部材表面に
要求されている粗さや微小なくぼみ（凹部）を付けるの
は、メッキの最中に、電気ショック（電流反転）を与え
ることにより可能である。このほかプラスチック成形板
やセラミック板等、上記所定の表面粗さの板、またはロ
ール、帯状物等であればいずれにしても同様に本発明に
使用可能である。また、本発明に使用される基板フィル
ムは、前述の放射線重合可能な化合物との接着性の良い
ものであることが好ましい。この基板フィルムと放射線
重合可能な化合物との接着性をより上げるために、放射
線重合可能な化合物を塗布する前段で該基板に放射線照
射を行ってもよい。また該前段で下塗を行ってもよい。
上記所望の表面粗さ付与を、基板両面に対し連続的に行
うためには、第１図に示すように、基板１を矢印の方向
に搬送して放射線重合性化合物２を該基板１の両面に塗
布した後、上記所定の表面形状を有し少なくとも一方が
放射線透過可能な２枚の帯状物３ａ、 ３ｂの間に基板
１をはさみこみ、放射線透過可能な帯状物３ａ側から電
子線（紫外線）照射装置４により放射線照射した後、両
帯状物３ａ。
うためには、第１図に示すように、基板１を矢印の方向
に搬送して放射線重合性化合物２を該基板１の両面に塗
布した後、上記所定の表面形状を有し少なくとも一方が
放射線透過可能な２枚の帯状物３ａ、 ３ｂの間に基板
１をはさみこみ、放射線透過可能な帯状物３ａ側から電
子線（紫外線）照射装置４により放射線照射した後、両
帯状物３ａ。
３ｂをはぎとることにより磁気記録媒体用支持体５を製
造するようにすればよい。
造するようにすればよい。
（実 施 例〉
以下別表１および添付図面を参照して本発明の実施例に
つき説明する。
つき説明する。
別表１は実施例およびその比較例の諸特性の評価結果を
示し、実施例ＡＩ 、Ａｚ 、Ａ３および比較例Ａ ｔ
’ ＋ Ａ ｚ ’ は塗布型磁気記録媒体用支持体
に対応し、実施例Ｓ１．Ｂｚ 、８３ 、Ｂ４および比
較例８１′Ｔ Ｂｚ’ ｌ’８３’ ＋ ８４’は蒸着
型磁気記録媒体用支持体に対応するものである。
示し、実施例ＡＩ 、Ａｚ 、Ａ３および比較例Ａ ｔ
’ ＋ Ａ ｚ ’ は塗布型磁気記録媒体用支持体
に対応し、実施例Ｓ１．Ｂｚ 、８３ 、Ｂ４および比
較例８１′Ｔ Ｂｚ’ ｌ’８３’ ＋ ８４’は蒸着
型磁気記録媒体用支持体に対応するものである。
（Ａ＞実施例ＡＩ 、Ａ２ 、Ａ３および比較例Ａｔ′
、Ａ２′についての別表１の説明 各実施例および比較例の評価条件は次のとおりである。
、Ａ２′についての別表１の説明 各実施例および比較例の評価条件は次のとおりである。
１４．５μ厚のポリエチレンテレフタレート支持体上に
、ボールミルで１０時間混線分散した下記組成の塗液を
０．５μ厚で塗設した。
、ボールミルで１０時間混線分散した下記組成の塗液を
０．５μ厚で塗設した。
塗 液
ジエチレングリコールジアクリレート ２５０部トル
エン １００部ア
セトン １００部第２図
に示すように、基板１を矢印の方向に搬送し、該基板１
の上記塗液２塗設側に帯状物３を密着させてから該塗設
面と帯状物３とをはぎとるまでの間に、電子線照射装謬
４による電子線照射を、基板１の該塗設面と反対側の面
側から行った。
エン １００部ア
セトン １００部第２図
に示すように、基板１を矢印の方向に搬送し、該基板１
の上記塗液２塗設側に帯状物３を密着させてから該塗設
面と帯状物３とをはぎとるまでの間に、電子線照射装謬
４による電子線照射を、基板１の該塗設面と反対側の面
側から行った。
上記帯状物３は、表面粗さく表面構造）が各実施例およ
び比較例毎に異なっており、その測定方法はＪＩＳ−８
−０６０１に準拠して、中心線平均粗さくＲａ） （カットオフ０．２５ ｍ、測定長８０ｇ＋）最大高さ
くＰＶｆｆｌａＸ） （カットオフ０．２５ Ｍ、測定長２ＯＮＲ）の多値を
測定することにより行った。なお、成法は鉄板＋クロム
メッキ法である。
び比較例毎に異なっており、その測定方法はＪＩＳ−８
−０６０１に準拠して、中心線平均粗さくＲａ） （カットオフ０．２５ ｍ、測定長８０ｇ＋）最大高さ
くＰＶｆｆｌａＸ） （カットオフ０．２５ Ｍ、測定長２ＯＮＲ）の多値を
測定することにより行った。なお、成法は鉄板＋クロム
メッキ法である。
上記電子線照射装置４による電子線の照射条件は、加速
電圧１６０ｋＶ、ビーム電流５ｍＡで吸収１ｉ１ｆｉ５
Ｍｒａｄテアル。
電圧１６０ｋＶ、ビーム電流５ｍＡで吸収１ｉ１ｆｉ５
Ｍｒａｄテアル。
以上の条件にて作成された磁性記録媒体用支持体５（第
３図参照）の段階で走行性、耐スリキズ性等を下記方法
にて調べた（第４図参照）。
３図参照）の段階で走行性、耐スリキズ性等を下記方法
にて調べた（第４図参照）。
走 行 性
金属（ＳｔＪＳ）固定ガイド棒６に、作成支持体５をテ
ープ状にして放射線重合層２側を内側にして１８０°の
角度で走行させ、その動摩擦係数μを測定した。
ープ状にして放射線重合層２側を内側にして１８０°の
角度で走行させ、その動摩擦係数μを測定した。
○：μ ＝ ｏ、ｉｏ〜０．４９
△：μ −０，５０〜１．０
×：μ 〉１．０
耐スリキズ性
テープ状にした作成支持体５を金属＜ＳＵＳ＞固定ガイ
ド棒６に、放射線重合層２側を内側にして３００回繰り
返し走行させ、支持体５上につくスリキズを観察した。
ド棒６に、放射線重合層２側を内側にして３００回繰り
返し走行させ、支持体５上につくスリキズを観察した。
◎：スリキズ発生なし
Ｏ：スリキズ発生がきわめて小
×：スリキズ発生が大
また、この放射線重合層２の表面粗さを触針式粗さ計で
評価した。別表１中、使用帯状物３と作成支持体５との
表面粗さが必ずしも合っていないのは、微小な凹凸にな
ると、触側式では凹部に鈍感になり、凸部に敏感になる
ためである。
評価した。別表１中、使用帯状物３と作成支持体５との
表面粗さが必ずしも合っていないのは、微小な凹凸にな
ると、触側式では凹部に鈍感になり、凸部に敏感になる
ためである。
上記支持体５の表面にＣｏ含有磁性酸化鉄を含む厚さ５
μｍの磁性層を設けた。磁性層塗布液は下記の組成であ
る。
μｍの磁性層を設けた。磁性層塗布液は下記の組成であ
る。
〈磁性層塗布液〉
Ｃｏ含有磁性酸化鉄（Ｓ８．．３５ＴＩｔ／ｇ＞ １
００部ニトロセルロース １０／
ｌポリウレタン樹脂 ８１１（商
品名［ニラボラン２，３０４Ｊ ）ボリイソシ、アネー
ト ８〃Ｃｒ２Ｏ３２／／ カーボンブラツク（平均粒径２０μｍ） ２ｎステ
アリン酸 １１Ｉステアリン
酸ブチル １〃メチルエチルケトン
３００部このサンプルについてビ
デオ感度、Ｃ／Ｎ、および走行耐久性について調べた。
００部ニトロセルロース １０／
ｌポリウレタン樹脂 ８１１（商
品名［ニラボラン２，３０４Ｊ ）ボリイソシ、アネー
ト ８〃Ｃｒ２Ｏ３２／／ カーボンブラツク（平均粒径２０μｍ） ２ｎステ
アリン酸 １１Ｉステアリン
酸ブチル １〃メチルエチルケトン
３００部このサンプルについてビ
デオ感度、Ｃ／Ｎ、および走行耐久性について調べた。
（使用ＶＴＲ：松下電産製造、商品名ｒＮＶ−８８００
４）ビデオ感度：４ＭＨｚにおける再生出力を比較例Ａ
２′を基準に（±ＯｄＢ＞測 定した。
４）ビデオ感度：４ＭＨｚにおける再生出力を比較例Ａ
２′を基準に（±ＯｄＢ＞測 定した。
Ｃ／Ｎ ： ３ＭＨｚ及び３．５Ｍ ＨＺの搬送波（キ
ャリアー）を記録し、再生したときのキャリアーとノイ
ズの比を比較例Ａｚ’を基準に（±Ｏｄｄ＞測定した。
ャリアー）を記録し、再生したときのキャリアーとノイ
ズの比を比較例Ａｚ’を基準に（±Ｏｄｄ＞測定した。
走行耐久性：１００回走行の後に、出力低下を１１１定
した（−１，０６８以内が許容範 囲）。
した（−１，０６８以内が許容範 囲）。
（Ｂ）実施例Ｂｌ 、Ｂｚ 、８３ 、Ｆ１ａおよび比
較例８１ ’ ＋ ８２ ’ ＋ ８３ ’ ＋ ８４
’についての別表１の説明 各実施例および比較例の実験条件は、上記（Ａ）の場合
とほぼ同様であるが、上記＜Ａ）においては帯状物３の
表面粗さを各実施例および比較個毎変化させたのに対し
て、（Ｂ）においては帯状物３に微小くぼみ（四部）を
形成し、該微小くぼみの最大径、深さＪ３よび表面積占
有率を各実施例および比較例毎に変化させて評価したも
のである。
較例８１ ’ ＋ ８２ ’ ＋ ８３ ’ ＋ ８４
’についての別表１の説明 各実施例および比較例の実験条件は、上記（Ａ）の場合
とほぼ同様であるが、上記＜Ａ）においては帯状物３の
表面粗さを各実施例および比較個毎変化させたのに対し
て、（Ｂ）においては帯状物３に微小くぼみ（四部）を
形成し、該微小くぼみの最大径、深さＪ３よび表面積占
有率を各実施例および比較例毎に変化させて評価したも
のである。
ビデオ感度およびＣ／Ｎは比較例８４″を基準（±０ｄ
Ｂ）としたく蒸着型では高画質製品を志向しているため
、塗布型より５〜６ｄＢ優れたものが目標となる）。
Ｂ）としたく蒸着型では高画質製品を志向しているため
、塗布型より５〜６ｄＢ優れたものが目標となる）。
上記帯状物３の転写によって得られた支持体フィルム５
の放射線重合層２側にコバル１−ニツケルにッケル：
２０ｗｔ％）を連続蒸着機により斜方蒸着し、強磁性源
Ｇ（膜厚２０００Ａ ＞を形成せしめ、１／２インチ巾
にスリットしてビデオ用の磁気テープサンプルを得た（
別表１比較例８１′）。
の放射線重合層２側にコバル１−ニツケルにッケル：
２０ｗｔ％）を連続蒸着機により斜方蒸着し、強磁性源
Ｇ（膜厚２０００Ａ ＞を形成せしめ、１／２インチ巾
にスリットしてビデオ用の磁気テープサンプルを得た（
別表１比較例８１′）。
（発明の効果）
以上詳述したように、本発明による磁気記録媒体用支持
体の製造方法は、基板の表面に放射線重合性化合物を塗
布した後、該塗布層表面に所定表面粗さの転写部材表面
を密着させ、この状態で放射線を照射して該塗布層を重
合させ、その後肢塗布層表面から転写部材を離脱させる
ことにより所望の支持体表面形状を得るようにしている
ので、十分な電磁特性および走行耐久性を有する磁気記
録媒体を製造することが可能となり、また磁気記録媒体
作成に使用する支持体の基板として製膜段階における得
率が良い粗面フィルムを使用することが可能になり、し
た瑯って、フィルム製膜工程および磁性面形成工程全般
におけるハンドリングが容易になり、最終品である磁気
記録媒体の製造コストを大幅に下げることができる。ま
た金罵薄膜型磁気記録媒体にあっても、その表面微細形
状を最適のものとすることができる。
体の製造方法は、基板の表面に放射線重合性化合物を塗
布した後、該塗布層表面に所定表面粗さの転写部材表面
を密着させ、この状態で放射線を照射して該塗布層を重
合させ、その後肢塗布層表面から転写部材を離脱させる
ことにより所望の支持体表面形状を得るようにしている
ので、十分な電磁特性および走行耐久性を有する磁気記
録媒体を製造することが可能となり、また磁気記録媒体
作成に使用する支持体の基板として製膜段階における得
率が良い粗面フィルムを使用することが可能になり、し
た瑯って、フィルム製膜工程および磁性面形成工程全般
におけるハンドリングが容易になり、最終品である磁気
記録媒体の製造コストを大幅に下げることができる。ま
た金罵薄膜型磁気記録媒体にあっても、その表面微細形
状を最適のものとすることができる。
第１図は本発明による磁気記録媒体用支持体の製造方法
に使用する装置の一例を示す側面図、第２図は第１図の
装置の他の例を示す側面図、第３および４図は第２図の
装置により製造された磁気記録媒体用支持体を評価した
別表１の説明図である。 １・・・基 板 ２・・・放射線重合性化合物３
・・・帯 状 物 ４・・・電子線照射装置５・・・
磁気記録媒体用支持体 第１図 第２図 第３図 第４図
に使用する装置の一例を示す側面図、第２図は第１図の
装置の他の例を示す側面図、第３および４図は第２図の
装置により製造された磁気記録媒体用支持体を評価した
別表１の説明図である。 １・・・基 板 ２・・・放射線重合性化合物３
・・・帯 状 物 ４・・・電子線照射装置５・・・
磁気記録媒体用支持体 第１図 第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）基板の少なくとも片面に、放射線重合性化合物を塗
布し、 該塗布層の表面に、 カットオフ０．２５ｍｍ、測定長８０ｍｍでの中心線平
均粗さが０．００１乃至０．０５０μｍ、 カットオフ０．２５ｍｍ、測定長２０ｍｍでの最大高さ
と、前記中心線平均粗さとの比が５乃至２０、とされた
表面を有する転写部材の該表面を密着させ、少なくとも
いずれか一方が放射線透過可能とされた前記基板と前記
転写部材のうち、該放射線透過可能な基板側もしくは転
写部材側から、前記塗布層に放射線を照射し、 その後、該塗布層の表面から前記転写部材を離脱させる
ことを特徴とする磁気記録媒体用支持体の製造方法。 ２）前記転写部材の表面が、 深さ５０乃至１０００Ａ、 該深さと径との比が１０＾−＾２乃至１、 該転写部材の表面における面積占有率が１乃至６０％、
の複数の凹部を有し、 前記中心線平均粗さが０．００１乃至０．０１０μｍ、
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
気記録媒体用支持体の製造方法。 ３）前記転写部材が、ロールもしくは帯状物であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項記載の
磁気記録媒体用支持体の製造方法。 ４）前記基板が放射線透過可能であり、該基板への放射
線重合性化合物の塗布が該基板の両面に施され、 前記転写部材の前記塗布層への密着が、少なくとも１方
が放射線透過可能な１対の前記転写部材で前記基板を両
側から挾み込んで行われ、 前記塗布層への放射線照射が、前記放射線透過可能な転
写部材の側から施されることを特徴とする特許請求の範
囲第１項、第２項または第３項記載の磁気記録媒体用支
持体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60228061A JPH0682460B2 (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 磁気記録媒体用支持体の製造方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60228061A JPH0682460B2 (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 磁気記録媒体用支持体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6288139A true JPS6288139A (ja) | 1987-04-22 |
| JPH0682460B2 JPH0682460B2 (ja) | 1994-10-19 |
Family
ID=16870579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60228061A Expired - Lifetime JPH0682460B2 (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | 磁気記録媒体用支持体の製造方法 |
Country Status (2)
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1986
- 1986-10-14 US US06/918,076 patent/US4810435A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0682460B2 (ja) | 1994-10-19 |
| US4810435A (en) | 1989-03-07 |
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