JPS61175927A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPS61175927A
JPS61175927A JP1344985A JP1344985A JPS61175927A JP S61175927 A JPS61175927 A JP S61175927A JP 1344985 A JP1344985 A JP 1344985A JP 1344985 A JP1344985 A JP 1344985A JP S61175927 A JPS61175927 A JP S61175927A
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binder
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Tsutomu Okita
務 沖田
Sugihiko Tada
多田 杉彦
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はビデオテープ、オーディオテープ、コンピュー
ターテープ等の磁気記録媒体に関するものである。
〔従来技術〕
現在一般に広く用いられている磁気記録媒体の製造方法
は非磁性支持体上に磁性塗液を塗布乾燥したのち、鏡面
仕上げの金属ロールと弾性ロールから成るカレンダーに
よって該塗布層を平滑化ししかるのち加熱などの手段に
より結合剤を架橋する方法である。しかしこの製造方法
は、塗布、乾燥工程とは別に平滑化工程が必要であり、
このため製造コストの高い方法であった。また近年磁気
記録媒体の高度な電磁変換特性と歩行耐久性を要求され
ているが、従来の製造方法ではこれらの要求を満たすこ
とができなかった。
上記の欠点を防止するためのひとつの提案として、ポリ
イノシアネート化合物等の熱硬化系に代えて放射線重合
体化合物をバインダーとして用い放射線照射により硬化
することが特開昭56−25231号、同56−122
802号、同56−124119号等に開示されている
が単に放射I!重合性化合物をバインダーに用いても上
記の問題点を解決するには至らなかったものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
塗布層の表面平滑性を向上させる技術としてSympo
sium on MagneltiCMedia Ma
mfacturingMethods (1983年5
月Honolulu ) テTransferCoat
ing o提案がDr、 Na1)10によッテ為され
九(PAPERNOB −4)が、ここで開示された技
術では、強磁性微粉末濃度(いわゆるピグメントとビヒ
クル比)を高くすることが出来ず、磁気記録媒体の製造
方法には使用できぬものであった。即ち、Dr。
Nabloの方法では充分な電磁変換特性を確保するこ
とができないものでメジ、磁気記録媒体の製造方法とし
て採用できないものであった。
本発明の目的は、@1に、高度な電磁変換特性を有する
磁気記録媒体を製造する方法、第2は耐久性の良好な磁
気記録媒体を製造する方法、第3は製造コストの低い磁
気記録媒体を製造する方法、第4に、平滑性の良好な磁
性面を有する磁気記録媒体を製造する方法を提供するこ
とにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題点を解決するため本発明者らは鋭意研究の結
果、上記目的は、強磁性微粉末と結合剤及び有機溶剤と
から成る磁性塗液を鏡面仕上げのロール若しくは帯状物
に塗布して磁性層を設けたのち、乾燥により該磁性層の
溶剤含量が0.05〜10wt%にあるとき非磁性支持
体を該磁性層表面に接着して該磁性層を非磁性支持体に
転写することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法によ
って達成されることを見いだした。本発明の他の態様に
おいては該結合剤が放射線1合性化合物でラシ、かつ転
写したのち放射線照射することができ、更に他の態様に
おいては、結合剤が放射線重合性化合物であり、かつ非
磁性支持体を該磁性層表面に接着してから該磁性層を該
非磁性支持体に転写するまでの過程で放射線照射するこ
とができる。
本発明に用いられる強磁性粉末としては、強磁性酸化鉄
微粉末、Coドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二酸
化クロム微粉末、強磁性合金粉末、バリウムフェライト
などが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針状
比は、2/1〜2071程度、好ましくは571以上平
均長は0.2〜2.0μm程度のの範囲が有効である。
強磁性合金粉末は金属分が75wt%以上でア)、金属
分の80wt%以上が強磁性金属(即ち、Fe、 Go
、 Ni、 Fe−Go、 Fe−Ni。
(3o−Ni jFe−Go−Ni )で長径が約1.
0μn以下の粒子である。
本発明に用いられる結合剤としては熱可塑性樹脂である
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−マレン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ア
クリル酸共重合体、塩化ビニル−フロピオン酸ビニル−
マレイン酸共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル
−ブテン酸共重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル−マ
レイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−
ビニルアルコール共重合体などの塩ビ酢ピ系共重合体、
セルロースナイトレート、セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネ
ートなどの繊維素系樹脂、?リビニルフオルマール、ポ
リビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のアセタ
ール系樹脂、フェノキシ樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニ
トリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリ
ル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、ブタジェンアクリロニトリル共重合体、ポリエステ
ル樹脂、ポリインシアネート化合物、あるいは放射線重
合性化合物であるポリエステル型ウレタンアクリレート
、ポリエーテル屋ウレタンアクリレート、ポリエステル
エーテル型ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレ
ートなどのアクリロニトリ♂マー及びメタクリレートオ
リ−マーでアシ、これらの具体例は、A、 vranc
ken″Fatipec Congress’ 11 
19(1972)に引用されている0例えば、である。
また他の放射線重合性化合物は、エチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロー
ルプロノぞンドリアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート1.シ゛ペンタエリスリトールへキ
サアクリレート、ジペンタエリスリトールへブタアクリ
レート、ビス−2−アクリロイロキシエチル−ヒドロキ
シエチルイソシアヌレート、トリス(β−7クリロイロ
キシエチル)イソシアヌレートその他の多官能アクリレ
ート化合物、及びこれらの多官能メタクリレート化合物
でsb、=にアクリル酸、アクリル酸メチル及びこれら
の同族体のアクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸
アルキルエステル、スチレン、α−メチルスチレン、ア
クリロニトリル、アクリルアミド、酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニルなどの炭素炭素不飽和結合を分子中に1個
以上有する化合物である。
上記結合剤は、2ya以上混合して用いることができる
。放射線重合性化合物に熱可塑性樹脂を加えることも可
能である。
以上の中で特に好ましい結合剤は、繊維素系樹脂もしく
は塩ビ酢ピ系共重合体とウレタン樹脂及びポリインシア
ネートの3成分系及び繊維素系もしくは、塩ビ酢ピ系共
重合体とウレタンアクリレートと多官能アクリレート化
合物の3成分系である。更に好ましくは、繊維素系樹脂
もしくは塩ビ酢ビ系共重合体とウレタンアクリレートと
多官能アクリレート化合物の3成分系である。この場合
好ましい比率は繊維素樹脂もしくは塩ビ酢ピ系共重合体
とウレタンアクリレートの比は4/1〜1/2であり、
これらの総和と多官能アクリレートの比は8/2〜1/
1でらる。
結合剤として繊維素系もしくは塩ビ酢ピ系共重合体とウ
レタン樹脂とポリインシアネートの3成分系即ち放射線
重合性化合物を含まない結合剤を用いるときは、該ロー
ルもしくは帯状物から剥離したのち40〜100℃で熱
硬化を施すことが好ましい。また放射線重合性化合物を
含む系を選んだ場合は鏡面仕上げのロールもしくは帯状
物と磁性層と非磁性支持体とがサンドインチ構造になっ
ている状態(過程)であるいは該ロールもしくは帯状物
から転写後に放射線照射する。特に好ましくは上記サン
ドインチ構造になっている状態で照射することであり鏡
面仕上げのロールもしくは帯状物から磁性層を転写する
ことが最も容易である。
サンドインチ構造で照射するときは非磁性支持体の側か
ら照射するが、該ロールもしくは帯状物から転写後に照
射する場合は磁性層側から照射してもよい。
用いる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル
、酢酸クリコールモノエチルエーテル等のエステル系;
エーテル、/IJコールジメチルエーテル、クリコール
モノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテ
ル系;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素;メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロ
ルベンゼン等の塩素化炭化水素テトラヒドロ72ン等の
ものが選択して使用できる。磁性塗液の強磁性支持体と
結合剤と溶剤の比率は重量で2/1/6〜6/1/15
の範囲で任意に調整できる。
本発明に於て鏡面仕上げのロールもしくは帯状物への塗
布方法としては、エアードクターコート、ブレーPコー
ト、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、
リバースロールコート、トランスファーロールコート、
クラビアコート、キスコート、キャストコート、スプレ
ィコート、スピンコード等が利用でき、その他の方法も
可能であり、これらの具体的説明は「コーティング工学
」253頁〜277頁(昭和46年3月20日朝倉書店
発行)に詳細に記載されている。
磁性層の厚みは、乾燥厚みで1〜10μmの範囲となる
ように塗布する。
非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−2,6−す7タレート等のポリエステル
類;ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類;セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、セルロースア
セテートプロピオネート等のセルロース誘導体;ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂;ポリ
カーゼネート、ポリイミド、ポリアミドイミド等プラス
チックの他に用途に応じてアルミニウム、銅、スズ、亜
鉛またはこれらを含む非磁性合金などの非磁性金属類;
あるいはこれらの非磁性金属を真空蒸着などの方法によ
りプラスチック支持体上に薄層で設けた支持体などが使
用できる。これらの支持体は磁性層と接触する前に上塗
層塗布あるいはコロナ処理等の物理的処理をされている
ことが好ましい。またこれらの支持体は用いる前に、ノ
ζツクコート層を設けてあってもよい。また磁性層を塗
設後磁性層と反対側に79ツクコ一ト層を設けてもよい
本発明でいう放射線照射とは、紫外線、電子線、r−線
、β−線、X−線などであるが、より好ましくは電子線
である。電子線照射装置としては、スキャニング方式、
ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式ブ
ロードビームカーテン方式などが採用できる。
電子線特性としては、加速電圧が100〜1000kV
、好ましくは150〜300kVであり、吸収線量とし
て1.0〜20メガランド、好ましくは2〜10メガラ
ンドである。加速電圧が100kV以下の場合は、エネ
ルギーの透過量が不足し1000kVを超えると重合に
使われるエネルギー効率が低下し経済的でない。吸収線
量として、1.0メガツツr以下では硬化反応が不充分
で磁性層強度が得られず、20メガラツP以上になると
、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したシ、被照
射体が発熱し、特に非磁性支持体が変形するので好まし
くない。
磁性層塗布後の乾燥は、熱風により残留溶剤量が磁性層
の0.05〜1Qwtχになったときに、好ましくは0
.5〜8wt%、更に好ましくは1.5〜5wt%にな
ったときに非磁性支持体と接触する。この時の接触圧力
は1〜50匂/信、好ましくは5〜30匂/眞である。
接触後0,1〜5秒程度で磁性層を該支持体に転写する
。必要によっては、鏡面ロールもしくは帯状物を40℃
〜100℃程度に加熱してもよい。放射線照射を用いる
ときは、接着後未だ転写しない間に照射すると転写が容
易であり、磁性層の平滑性を保′持することができる。
該ロールもしくは帯状物から転写後にも一度乾燥ゾーン
を設けることも可能である。また乾燥後、必要により熱
硬化もしくは放射線照射を施してもよい。
また必要に応じて塗布後磁場配向を施すこともできる。
この場合、ソレノイr1電磁石、永久磁石を用いること
ができる。
また、本発明の磁性塗液には、潤滑剤、研摩剤、分散剤
、帯電防止剤、防錆剤などの添加剤を加えてもよい。特
に潤滑剤は、飽和及び不飽和の高級脂肪酸、脂肪酸エス
テル、高級脂肪酸アミド、高級アルコール、シリコーン
オイル、鉱油、食物油、7ツソ系化合物などが多シ、こ
れらは塗布液調製時に添加してもよく、また該ロールも
しくは帯状物から転写後に有機溶剤に溶解しであるいは
そのまま磁性層表面に塗布おるいは、噴霧してもよい。
以下に本発明を実施例および比較例によ)更に具体的に
説明する。以下の実施例および比較例において「部」は
すべて「X置部」を示す。
〔実施例〕
実施例1〜6、比較例1〜2 レシチン               4部ステアリ
ン酸            4部ブチルステアレート
         4部A−e冨03        
       4部カーメンブラック        
  10部メチルエチルケトン        100
0部上記成分上記−ルミルで50時間混練して得られた
磁性塗液1(以下添付図参照)を鏡面仕上げした帯状物
6上に塗布液で60μmとなるように塗布部2で塗布し
、CO磁石で磁場配向したのち第1乾燥部4で100℃
で乾燥した。帯状物3及び15μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルムの非磁性支持体6のスピードを変え
ることによってニップ部7での残留溶剤量をコントロー
ルし、非磁性支持体6を10々/−のニップ圧で該借上
物上の磁性層5と圧接し、剥離部8で鏡面の帯状物から
該磁性層5を該支持体6に転写後巻取って60℃で48
時間熱処理した。ニップ部7での残留溶剤量を第1表に
示す。
以下余白 第1表 上記残留溶剤量は全てガスクロマトグラフで測定し磁性
層に対する重量%で求めた。
以上のサンプルについて剥離後の様子を目視で観察し、
良好なものは以下の実験を行った。
磁性層の表面粗さ:東京精密製表面粗さ計で磁性層表面
を測定し、JIS−BO601の5項で定義される中心
線平均ららさて示す(カットオフは0.25n)。
ビデオS/N:松下電器(株)製NV8200ビデオテ
ープレコーダーを使用し50%セットアツプの灰色信号
を録画しジノ譬ツク製925C聾S/Nメーターでノイ
ズを測定した。ビデオS/NはサンプルA1〜5の試料
について、サンプルA1を0(iBとしたときのそれぞ
れの相対比較値で示した。
スチル耐久時間:■侶ビデオテープレコーダー(松下電
器足業株式会社製、NV8200凰)を用いてビデオテ
ープ(各サンプル)に一定のビデオ信号を記録し、再生
した静止画像が鮮明さを失なうまでの時間を示す。
以上の評価結果を第2表に示す。
第2表 実施例1 良好  0.013   ±0   60以
上〃 2  良好  0.008   +1.0   
60以上〃 3 良好  0.007    +2.0
   60以上比較例4 良好  0.210  −1
5.0   1以下比較例のサンプルA5は磁性層の一
部が帯状物からうまく剥離せず良好な磁気テープが得ら
れなかった。
〔発明の効果〕
第2表をみれば本発明がいかに磁性層の表面が平滑で電
磁特性良好でしかも耐久性が良好かがわかる。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本製造方法の実施例説明図の側面図である。 1・・・磁性塗布液、2・・・塗布部、6・・・鏡面仕
上げ帯状物、4・・・第1乾燥部、5・・・帯状物上の
磁性層、6・・・非磁性支持体、7・・・ニップ部、8
・・・剥離部、9・・・非磁性支持体に転写された磁性
層、10・・・第2乾燥部 (1)  明細書第2頁15行目の「記録媒体の1を手
続補正書 詔和60年/2月//日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)強磁性微粉末と結合剤及び有機溶剤とから成る磁性
    塗液を鏡面仕上げのロール若しくは帯状物に塗布して磁
    性層を設けたのち、乾燥により該磁性層の溶剤含量が0
    .05〜10wt%にあるとき非磁性支持体を該磁性層
    表面に接着して該磁性層を非磁性支持体に転写すること
    を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 2)結合剤が放射線重合性化合物であり、かつ転写した
    のち放射線照射することを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の磁気記録媒体の製造方法。 3)結合剤が放射線重合性化合物であり、かつ非磁性支
    持体を該磁性層表面に接着してから該磁性層を該非磁性
    支持体に転写するまでの過程で放射線照射することを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製
    造方法。
JP1344985A 1985-01-29 1985-01-29 磁気記録媒体の製造方法 Granted JPS61175927A (ja)

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