JPS60150227A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体に関し、さらに詳しくは高密度
記録に適した磁気記録媒体に関する。

〔従来技術〕

近年、開発が進められてきている高密度記録用磁気記録
媒体においては磁気ヘッドと磁気テープとの間のいわゆ
る間隙損失を軽減させるため、磁性層の表面性をより高
度なものとすることが要求される。この目的のためには
、磁性層の製造技術、すなわち磁性粒子の分散、塗布、
表面成形技術などの改良により磁性層の表面性を向上さ
せることが必要であると同時Ｋ、支持体の表面性を向上
さ□せるとともまた必要となる。とくＫ、記録密度が高
くなるにともない記録波長が小となることにより、厚＾
損失を逃がれるために磁性層を薄くする試みがなされて
きている。それにより、支持体の表面性が磁性層の表面
性に与える影響はますます大となってきている。

しかしながら磁気記録媒体に使用される支持体の表面性
を向上きせることは下記の理由から限界がある。つまり
、製膜して巻き取る工程において、フィルムの表面性が
良いと搬送ローラーに菊する摩擦抵抗が大となり、しば
しば蛇行を起こしたり、シワが生じたりする。またフィ
ルム間の摩擦抵抗が増大し巻き取りロールの形状にユガ
ミが生じたりもする。

前記の背反する問題点の解決のために、これまでに種々
の試みｂ−なされてきている。たとえば特開開５３−１
０９６０５号公報には、支持体上に熱可塑性樹脂の微粒
子を突出させ、その后溶剤にて溶解除去しその表面に磁
性層を形成する方法が記載されている。が、この方法も
いまだ高密度記録用磁気記録媒体としての満足すべき特
性を賦与しうるにはいたっていない。

更に特願昭５８−１８７５１９号には粗い支持体の磁性
層側に放射線重合可能な層を設けて放射線照射により平
滑な面が得られることが記載されている。本発明者らは
更に鋭意研究した一結果、上記の発明より更に高い特性
を有する磁気記録媒体を見出した。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、第１にビデオ特性のすぐれた磁気記録
媒体を提供するにある。第２にＳ／Ｎ　及びＣ／Ｎのす
ぐれた磁気記録媒体を提供するＫある。

〔発明の構成〕

本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
以下のことを見出した。

表面あらさがｏ、ｏ　ｉ　ｏμｍ以上の支持体と磁性層
の中間に放射線重合可能な化合物を含有する層を塗布し
放射線照射し硬化させることにより平滑な表面が得られ
る。しかしながらその平滑性は硬化前すなわち放射線照
射前の該層の粘度に大きく依存することがわかった。即
ちこれは、重合硬化層を塗設する際に生じる微小な塗布
すじや塗布むらが３００　ｃｐ　（センチポアズ）以下
の低粘度な塗布液の場合には自己レベリング効果が大き
くまたもともと塗布すじや塗布むらが生じに（いためと
推定される。これによって平滑な重合硬化層が得られた
ものと考えられる。ところが、３００　Ｃｐ以上の層の
場合、塗布筋、塗布むらが消滅するのに時間がかかり、
実用的な工程では塗布筋、塗布むらが残ったまま放射゛
線照射を受け硬化される為、平滑性は良くならないこと
を見出した。この結果粘度を３０００７）以下に限定す
ることにより初めて電磁変換特性が向上し、極めて良好
な磁気記録媒体を製造しうろことを見出したのである。

すなわち、本発明は表面あらさがｏ、ｏ　ｉ　ｏμ胤以
上である非磁性支持体と磁性層との中間に放射線照射に
より重合可能な化合物を含有する非磁性層を設け、該層
が放射線により照射されている磁気記録媒体において該
層の放射線照射時の粘度が３０００ｐ以下であることを
特徴とする磁気記録媒体である。

本発明に使用される非磁性支持体の表面あらさば表、裏
で異なるように調製することも可能であるが、そのよう
な支持体の調製には高度の技術を要し、また製造効率も
低い。そこで本発明では表裏両面の表面あらさがはｙ同
一に調製された支持体を主たる適用対象とするが、本発
明の範囲はこれのみにとｙまるものではない。

本発明に使用される支持体は、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−す７タレート等のポリエ
ステル類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン類；セルローストリアセテート、セルロースダイ
アセテート、セルロースアセテートノチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導体；
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂
；ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド等
のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、銅、
スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不銹銅など
の非磁性金属類；紙１，６ライタまたはポリエチレン、
ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体などの炭素
数２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネ
ートした紙などである。

本発明における表面あらさとは、ＪＩＳ−ＢＯ６０１の
５項で定義される中心線平均あらさをさし、カットオフ
値は０．２５　ｍｘである。

本発明に使用される支持体の表面゛あらさば０．０１０
μｍ以上である。

支持体の裏面には走行性などの改良を目的としていわゆ
るノ２ツク層を設けることができる。

本発明の中間層に使用される放射線照射により重合可能
な化合物は炭素−炭素不飽和結合を分子中に１個以上有
する化合物でありアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、
アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、
ヒニル異節環化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類、
クロトンＦａ、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィ
ン類などが例としてあげられる。これらのうち好ましい
ものとしてアクリロイル基またはメタクリロイル基を２
個以上含む下記の化合物があげられる。ジエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレ〜）、
）！Ｊメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、などのアクリレート
類、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチ
レングリコールトリメタクリレート、テトラエチレング
リコールジメタクリレート、トリメチロールプロノセン
トリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタ
クリレート、などのメタクリレート類あるいはその他の
２官能以上のポリオールとアクリル酸メタクリル酸との
エステル類、など。

また、これらの化合物は高分子量体のものであってもよ
い。好ましくは高分子の主鎖末端あるいは側鎖にアクリ
ル酸またはメタクリル酸とのエステル結合を有する化合
物であり、これらはＡ、Ｖｒａｎｃｋｇｒｎ″Ｆａｔｉ
ｐｅｃ　ＣｏｒＬｇｒｅｓ、？−１１１９（１９７２）
に引用されている。たとえば以下に示す化合物 であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレ
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポ
リカポネート骨格であってもあるいはこれらの混合され
た骨格でもよい。分子量は１．０００〜２０，０００が
好ましいが、とくに限定されるものではない。

上記の放射線照射により重合可能な化合物は単独に、ま
た任意の割合で混合して使用することができる。

さらに塩ビ酢ビ系共重合体、繊維素系樹脂、アセタール
系樹脂、塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、ウレタン樹脂、
アクリロニトリルブタジェン樹脂等の熱可塑性樹脂を必
要により前記放射線照射により重合可能な化合物と混合
使用することができる。

本発明において使用される放射線は電子線および紫外線
である。紫外線を使用する場合には前記の化合物に光重
合開始剤を添加することが必要となる。

光重合開始剤としては芳香族ケトンが使用される。

芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源
として通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる
２５４．３１３．３６５　ｎｍの波長において吸光係数
の比較的大なるものが好ましい。

その代表例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン
、インジインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール
、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケト
ン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキ
シシクロへキシルフェニルケトン、２−２ジエトキシア
セトフエノン、Ｍｉｃｈｌ＝ｒ’ｓケトンなどがあり、
種々の芳香族ケトンが使用できる。

芳香族ケトンの混合比率は、化合物（α）１００重量部
に対し０．５〜２．０重量部、好ましくは２〜１５重量
部、さらに好ましくは３〜１０重量部である。　・ 前記放射線照射により重合可能な化合物を含む層は硬化
前の粘度が３０００ｐ以下であるのが好ましく、更に好
ましくはｉ　ｏ　ｏ　ｃｐ以下である。

上記の粘度は硬化前すなわち放射線を照射する前におけ
る粘度である。該層は室温で粘度の高い場合、加熱する
ことにより粘度を前記の範囲まで低下させることも可能
である。

前記塗設層の厚さは放射線照射により重合硬化後の測定
で０．１〜２μ扉であることが好ましい。

該層の表面あらさは０．０１０μ諺以下であることが好
ましい。

電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャ
ニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが
、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテン
ビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が１
０〜１０００　ｋＶ、好ましくは５０〜３００　ｋＶで
あり、吸収線量として０．５〜２０メガラッド好ましく
は１〜１０メガラツドである９加速電圧が１０　ＡＶ以
下の場合は、エネルギーの透過量が不足し１０００１Ｖ
を超えると重合に使われるエネルギー効率が低下し経済
的でない。

吸収線量が０．５メガラツト９以下では硬化反応が不充
分で磁性層強度が得られず、２０メガッツド以上になる
と、硬化に使用されるエネルギー効率が低下したり、被
照射体が発熱し、特にプラスティック支持体が変形する
ので好ましくない。

本発明の重合硬化層の上に設けられる磁性層は強磁性粉
末と結合剤とを主成分とするものであっても、磁性金属
薄膜であってもよい。

本発明に適用される磁性金属薄膜の形成法は真空槽内で
膜を形成する方法あるいはメッキ法によればよく、金属
薄膜の形成速度の速いこと、製造工程が簡単であること
、あるいは排液処理等の必要のないこと等の利点を有す
る真空槽内で膜を形成する方法が好ましい。真空槽内で
膜を形成する方法とは希薄な気体あるいは真空空間中に
おいて析出させようという物質またはその化合物を蒸気
あるいはイオン化した蒸気として基体となる支持体上に
析出させる方法で真空蒸着法、ス、ｅツタリング法、イ
オンブレーティング法、化学気相メッキ法等がこれに相
当する。

さらに゛本発明において磁気記録層となるべき強磁性金
属層としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金
属あるいはＦｅ−（Ｅ（１，Ｆｅ−Ｎｉ。

Ｃｏ−Ｎｉ　Ｆａ−Ｅ３ｉ　Ｆｇ−Ｙｉｈ　Ｇｏ−Ｐ　
Ｇｏ　−ＢＧｏ−８ｉ　Ｇｏ　−Ｖ　Ｇｏ　−Ｙ　Ｇｏ
−Ｌａ　Ｃ１）−ＣｊｇＧｏ−Ｐｒ　Ｇｏ−８７７１Ｃ
ｏ−Ｐｔ　Ｇｏ−Ｍｎ　Ｆｔ−Ｃｏ−ＮｉＣｊｏ−Ｎｉ
−Ｐ、　Ｇｏ−Ｎｉ−Ｂ、　Ｇｏ−Ｎ番−Ａｙ、　Ｃａ
−Ｎ番−Ｎα。

Ｃｏ−Ｎｉ−０ａ、　Ｇｏ−Ｎｉ−Ｚｎ、　ＣＣｏ−Ｎ
１−Ｃ，ｃｏ−Ｎｉ−Ｗ。

（３６−Ｎｉ−Ｒｇ、　Ｇｏ−８ｍ−Ｃｍ等の強磁性合
金を真空槽内で膜を形成する方法あるいはメッキ法によ
って薄膜状に形成せしめたもので、その膜厚は磁気記録
媒体として使用する場合０．０５μｍ〜２μｍの範囲で
あり特Ｋ　Ｏ，１μ扉〜０．４μｍが好ましい。

本発明の磁性層に使用される強磁性粉末、各種添加剤、
有機溶媒、さらに分散・塗布方式などの詳細に関しては
特開昭５２−１０８，８０４号、同５４−２１，８０４
号、同５４−４６，０１１号に記載されており必要に応
じ本発明に適用できる。

〔実施例〕

以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。

なお実施例中１部」は重量部を示す。

実施例１゜ １４．５μ厚のポリエチレンテレフタレート支持体上に
ジエチレングリコールジアクリレートを塗設し、加速電
圧１００　ｋＶ、ヒＡ　電流５　Ｆ＋１Ａ　テｌ＆収線
量５Ｍγαｄの電子線照射を行った。

上記支持体裏面の表面あらさは０．０１０μｍであり、
塗設層厚は０．５μｍである。

ジエチレングリコールジアクリレートの２５℃における
粘度は２３　Ｃｐであった。

・下記組成の磁性塗液なボールミルで１０時間混線分散
した。

分散後、トリイソシアネート化合物のトリメチロールプ
ロ・セン付加体（分子的７６０、ＮＣＯ含有量１３．３
ｕ＋ｔ％、商品名：）ｚイニルＡ、Ｇ０社製１゛デスモ
ジュールＬ−７５Ｊ　）　（７）７５　ｗｔ％酢酸エチ
ル溶液を２２部加え１時間高速剪断分散して磁性塗布液
を調製した。得られた塗布液を前記層の上側に乾燥後の
厚さが４μｍとなるよう塗設した。ついで、直流磁場中
で配向処理して１００℃の熱風を送って乾燥した。乾燥
後、カレンダリング処理を施して、１／２インチ巾にス
リットしてビデオ用の磁気テープサンプル／１６１を得
た。

実施例２゜ 実施例１において、ジエチレングリコールジアクリレー
トに代えて下記組成の塗液を調製し、塗設後８０Ｗ／ｃ
ｗＬの水銀灯で１秒間照射した。

上記塗液の２５℃における粘度は３６ＣＰであった。

重合硬化後の厚さを０．５μとした。

他は実施例１と同様にして磁気テープサンプル／ｉ６２
を得た。

実施例３゜ 実施例１においてジエチレングリコールジアクリレート
なノナエチレングリコールジアクリレート（２５℃での
粘度１００　ｅｐ　）　Ｋかえて他は実施例１と同様に
して磁気テープサンプル／１６３を得た。

実施例４゜ 実施例１においてジエチレングリコールジアクリレート
をヘプタデカエチレングリコールジアクリレート（２５
℃での粘度は２７０　Ｃｐ　）にかえて他は実施例１と
同様にして磁気テープサンプル腐４を得た。

比較例１ 実施例１においてジエチレングリコールジアクリレート
をエイコサエチレングリコールジアクリレート（２５℃
での粘度は３２０　Ｃｐ　）にかえて、他は実施例１と
同様にして磁気テープサンプル鷹５を得た。

比較例２ 実施例１においてジエチレングリコールジアクリレート
をテトラコサグリコールジアクリレート（２５℃での粘
度は４３０　Ｃｐ　）にかえて、他は実施例１と同様に
して磁気テープサンプル巡６を得、　。

た。

比較例３ 実施例１において放射線重合硬化層を塗設せず、且つ放
射線を照射せず他は実施例１と同様に磁気テープサンプ
ル腐７を得た。

実施例５ 実施例１において裏面の表面あらさ０．０３０μｍのポ
リエチレンテレフタレート支持体を使用し、他は実施例
１と同様にして磁気テープサンプル腐８を得た。

比較例４ 比較例３において裏面の表面あらさ０．０３０μｍのポ
リエチレンテレフタレート支持体を使用し、他は比較例
３と同様にして磁気テープサンプル腐９を得た。

実施例６ 実施例１と同様にして放射線１合硬化層を設けた。該層
上に斜め蒸着によりｃｏ−Ｎｉ　（Ｎｉ　；　２０ｗｔ
％）磁性膜を、１００ＯＡ厚となるよう設け、磁気テー
プサンプル應１０を得た。

比較例５ 実施例５において、放射線重合硬化層を塗設せず、放射
線を照射せず他は実施例５と同様に磁気テープサンプル
Ａｌｌを得た。

以上のサンプルについて放射線重合層の表面あらさ、目
視による磁性層ビデオ感度およびＣ／Ｎを測定した。測
定方法の概略を下記に示す。

ビデオ感度：　ＶＨ８方式ＶＴＲ（松下電産製造、商品
名［Ｎｖ−ａｓｏｏＪ　）を使用して４　ＭＨｚでの再
生出力を測定した。

Ｃ／Ｎ：３ＭＨ２および３．５ＭＨｚの搬送波（キャリ
ヤー）を記録し、再生したとき のキャリヤーとノイズの比（Ｓ／Ｈ に相当）を比較例１を基準（±ｏｄＢ）として測定した
。

結果を次表に示す。

〔発明の効果〕

表より明らかなごとく、支持体の表面あらさが０．０１
０μｍ以上で、かつ支持体と磁性層との間の放射線重合
層の放射線照射前の粘度が３０００ｐ以下であることに
より、ビデオ感度およびＧ／Ｎが著しく改良された磁気
記録媒体のえられることがわかる。

手続補正書゛ 昭和５９年６月を日 昭和５９年特許願第　５６７５　列 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係：特許出願人 名称　（５２０）　富士写真フィルム株式会社霞が関ビ
ル内郵便局　私書箱第４９号 栄光特許事務所　電話（５８１）−９６０１（代表）１
）別紙の如く補正する。

２）「発明の詳細な説明」の欄を下記の如く補正する。

０明細書第４頁１行目と下から１行目、「０．０１０Ｊ
を「０．０１Ｊと補正する。

０明細書第６頁１６行目、「０．０１０Ｊを［０，０１
Ｊ　と補正する。

Ｏ明細書第１０頁４行目、「化合物（ａｌｌ　’（ｒ　
ｒ前記化合物」と補正する。

０明細書第１０頁下から４行目、「０．ｏ　１０Ｊを「
０．０１」と補正する。

０明細書第１４頁下から４行目、「分子」を「分子量」
と補正する。

０明細書第１８頁１０行目、「再生出力を」のあとに「
比較例６を基準（±ＯｄＢ）として」を挿入する。。

０明細書第１８頁下から６行目、「比較例１」を「比較
例６」と補正する。

特許請求の範囲 表面ららさが０．０１μｍ以上である非磁性支持体と磁
性層との中間に放射線照射によシ、重合可能な化合物・
を含有する非磁性層を設け、核層が放射線照射されてい
る磁気記録媒体において、放射線照射時に該非磁性層の
粘度が６００センチポアズ（ｃｐ　）以下′１？あるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 表面あらさが０．０１０μｍ以上である非磁性支持体と
   磁性層との中間に放射線照射により、重合可能な化合物
   を含有する非磁性層を設け、該層が放射線照射されてい
   る磁気記録媒体において、放射線照射時に該非磁性層の
   粘度が３００センチポアズ（ＣＰ）以下であることを特
   徴とする磁気記録媒体。