JPS6250701A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPS6250701A JPS6250701A JP60190752A JP19075285A JPS6250701A JP S6250701 A JPS6250701 A JP S6250701A JP 60190752 A JP60190752 A JP 60190752A JP 19075285 A JP19075285 A JP 19075285A JP S6250701 A JPS6250701 A JP S6250701A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、透明基材上忙施される反射防止@に関する。
本発明は、透明基材の表面反射を低減させるための反射
防止膜において、透明基材の少なくとも一部に屈折率の
異なる三層の薄膜からなる反射防止膜を液状組成物の塗
布・硬化により施すにあたリ、透明基材層よりも高屈折
率を有する薄膜を形成するための塗布液に、水または他
の溶媒に分散し定酸化セリウム微粒子のコロイド分散体
を用いることにより、け理性、硬度、耐薬品性、耐擦傷
性、耐水性、染色性などの諸物性を向上させ、大容量、
天童生産が可能な反射防止膜を提供するものである。
防止膜において、透明基材の少なくとも一部に屈折率の
異なる三層の薄膜からなる反射防止膜を液状組成物の塗
布・硬化により施すにあたリ、透明基材層よりも高屈折
率を有する薄膜を形成するための塗布液に、水または他
の溶媒に分散し定酸化セリウム微粒子のコロイド分散体
を用いることにより、け理性、硬度、耐薬品性、耐擦傷
性、耐水性、染色性などの諸物性を向上させ、大容量、
天童生産が可能な反射防止膜を提供するものである。
反射防止膜の理論とその積層法については、多くの方法
が提案されており、真空蒸着法により、金属酸化物や7
q化物等の薄膜を形成する方法やスパッタ蒸着、イオン
ブレーティング等のPVD法や各種のOVD技術が一般
的である。
が提案されており、真空蒸着法により、金属酸化物や7
q化物等の薄膜を形成する方法やスパッタ蒸着、イオン
ブレーティング等のPVD法や各種のOVD技術が一般
的である。
一方、これらの物理蒸着法以外K、液状で塗布し硬化さ
せることによって反射防止膜を得る方法として、特開昭
58−46301号公報には二層からなる反射防止膜、
特開昭59−49501号公報には三層からなる反射防
止膜が提案されている。これらの方法は、チタンアルコ
ラードとコロイダルシリカからなる組成物を高屈折率薄
膜用材料に用いシランカップリング剤とエポキシ化合物
およびコロイダルシリカからなる組成物を低屈折率薄嘆
用材料に用いることにより反射防止効果を発現している
。
せることによって反射防止膜を得る方法として、特開昭
58−46301号公報には二層からなる反射防止膜、
特開昭59−49501号公報には三層からなる反射防
止膜が提案されている。これらの方法は、チタンアルコ
ラードとコロイダルシリカからなる組成物を高屈折率薄
膜用材料に用いシランカップリング剤とエポキシ化合物
およびコロイダルシリカからなる組成物を低屈折率薄嘆
用材料に用いることにより反射防止効果を発現している
。
ま几、特開昭57−37301号公報には1合成樹脂の
層からなる単層または多層の反射防止膜を施した合成樹
脂製レンズht提案されており、この方法では、高屈折
率薄膜用材料として、チタン、タンタル等のアルコラー
ド、メラミン樹晰等力を用いられている。
層からなる単層または多層の反射防止膜を施した合成樹
脂製レンズht提案されており、この方法では、高屈折
率薄膜用材料として、チタン、タンタル等のアルコラー
ド、メラミン樹晰等力を用いられている。
ま九、透明材料以外の茎材上に反射防止膜を設ける例と
して、太陽電池の単結晶シリコンの表面に、テトライソ
プaボキシチタンを含む液状組成物を塗布・加熱し、分
解生成物として酸化チタンの薄膜を形成させ、単層の反
射防止効果を得る方法がある。(ROA 、 Re’v
ie1AVO1,41,42F。
して、太陽電池の単結晶シリコンの表面に、テトライソ
プaボキシチタンを含む液状組成物を塗布・加熱し、分
解生成物として酸化チタンの薄膜を形成させ、単層の反
射防止効果を得る方法がある。(ROA 、 Re’v
ie1AVO1,41,42F。
135〜180 (1980) )
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前
述の従来技術の内、真空蒸着法、スパッタ蒸着、イオン
ブレーティング、CVD法等による反射防止薄膜の形成
法は、 (1) 高度の真空度を要する為、処理すべき基材の
大きさ、材料に制限を生ずる。また製造時間が長くかか
り、生産性、経済性h=低い。
述の従来技術の内、真空蒸着法、スパッタ蒸着、イオン
ブレーティング、CVD法等による反射防止薄膜の形成
法は、 (1) 高度の真空度を要する為、処理すべき基材の
大きさ、材料に制限を生ずる。また製造時間が長くかか
り、生産性、経済性h=低い。
(2) 薄膜材料は、主として無機化合物でLi2、
緻密な硬い嘆を構成する反面、柔軟性に劣り、基材との
線膨張率の違いがあると環境温度の変化によりクラック
を生じたり、成形物品を機械的に曲げ友時にクラックを
生ずる。
緻密な硬い嘆を構成する反面、柔軟性に劣り、基材との
線膨張率の違いがあると環境温度の変化によりクラック
を生じたり、成形物品を機械的に曲げ友時にクラックを
生ずる。
(3)薄膜材料が強固にけ着する基材材料が非常に限定
され、合成樹脂板やフィルムに充分なげ理性を得′6事
は非常に困難である。
され、合成樹脂板やフィルムに充分なげ理性を得′6事
は非常に困難である。
(4)染色1着色等の加工性に乏しい為、可視部に吸収
帯を持つ蒸着材料による着色に限定される。
帯を持つ蒸着材料による着色に限定される。
また、反射防止加工後の染色は不可能である。
等の問題点を有する。
ま之、lR開昭58−46!501号公報による方法で
は1反射防止薄膜が二層より形成される几め用途によっ
て次のような問題点がある。
は1反射防止薄膜が二層より形成される几め用途によっ
て次のような問題点がある。
(1)高い反射防止効果を発現させる定めの膜厚コント
ー−ルを精度良く行わねばならず、製造のパランそが大
きい。
ー−ルを精度良く行わねばならず、製造のパランそが大
きい。
(2)@に眼鏡レンズ用に要望の強い、緑色系の反射干
渉色ht得にくい。
渉色ht得にくい。
さらには、特開昭58−46301号公報、′!#開昭
59−49501号公報による方法では、チタンのアル
コラード化合物、キレート化合物等の有機チタン化合物
が高屈折率薄膜材料として用いられているが、これらの
チタン化合物は通常!150℃もしくけ、それ以上の温
度で完全に縮重合する穴め、実施例中の硬化温度では、
チタン酸化物の薄噂h′−得られ難く、未反応アルコラ
ード等の存在により寸理性、各種耐久性の点でかなりの
問題点を有する。
59−49501号公報による方法では、チタンのアル
コラード化合物、キレート化合物等の有機チタン化合物
が高屈折率薄膜材料として用いられているが、これらの
チタン化合物は通常!150℃もしくけ、それ以上の温
度で完全に縮重合する穴め、実施例中の硬化温度では、
チタン酸化物の薄噂h′−得られ難く、未反応アルコラ
ード等の存在により寸理性、各種耐久性の点でかなりの
問題点を有する。
また、 金属アルコラードを用いて薄膜を形成する方法
では、薄膜の表面側に未反応の一〇H等、−OR基が残
存する几め、特に耐水性の点で問題がある。この次め、
太陽電池に用いられる単結晶シリコンや、無機ガラス等
の熱安定性を有する基材であれば、高温加熱b’−可能
であり、*の耐久性の問題を解決することhtできるが
、プラスチック等の熱可塑性樹脂の場合VCは、j!h
布基材として制限を生じる念め、金属アルコラードの使
用が困難である。
では、薄膜の表面側に未反応の一〇H等、−OR基が残
存する几め、特に耐水性の点で問題がある。この次め、
太陽電池に用いられる単結晶シリコンや、無機ガラス等
の熱安定性を有する基材であれば、高温加熱b’−可能
であり、*の耐久性の問題を解決することhtできるが
、プラスチック等の熱可塑性樹脂の場合VCは、j!h
布基材として制限を生じる念め、金属アルコラードの使
用が困難である。
まl、特開昭57−37301号公報の実施例に開示さ
れた方法では1反射防止効果が充分でなく、また耐水性
も充分ではないという問題点を有する。
れた方法では1反射防止効果が充分でなく、また耐水性
も充分ではないという問題点を有する。
そこで1本発明は、このような問題点を解決するもので
、その目的とするところは、優れ九反射防止特性を有し
、け理性、各種耐久性に富む反射防止膜を提供すること
にある。
、その目的とするところは、優れ九反射防止特性を有し
、け理性、各種耐久性に富む反射防止膜を提供すること
にある。
本発明の反射防止膜は
tOL)透明基材の少なくとも一部に、該基材から大気
側に向かって、■、o、θの三層の薄膜からなる反射防
止膜を施す忙あ几り、 b)■、(ロ)、(ハ)の三層の光学特性は、各々。
側に向かって、■、o、θの三層の薄膜からなる反射防
止膜を施す忙あ几り、 b)■、(ロ)、(ハ)の三層の光学特性は、各々。
■ t s 5<fLcL<t a 。
n、×d、=Lλ1/4 (W?FL )@ 1
.65 < TLb< 2.25nbx d6 =mλ
2/4 (ntn )θ ’L 40 <n6
< 150ncxdc=nλs/4 (n 愼
)(ここで、 ?La、 TLb、 ncは各々、0層
、■層、θ層の屈折率、da −db −daは各々、
■層、O層。
.65 < TLb< 2.25nbx d6 =mλ
2/4 (ntn )θ ’L 40 <n6
< 150ncxdc=nλs/4 (n 愼
)(ここで、 ?La、 TLb、 ncは各々、0層
、■層、θ層の屈折率、da −db −daは各々、
■層、O層。
0層の膜厚(nfrL単位)を表し、mは正の整数、t
。
。
nは奇の正整数、λ1.λ2.λ3 は各々独立に可視
領域の波長(nm単位)を表す。ま几、nz>(基材の
屈折率)である。)の条件を満友し、−c’) ■層
、■層、θ層の各薄膜は、各々、液状で塗布し、加熱・
乾燥或いは活性エネルギー線による硬化で得られ、 d)さらに、■層、■層を形成する几めの液状組成物の
主成分は、水ま几は他の溶媒に分散した酸化セリウム微
粒子のコロイド分散体により提供されることを特徴とす
る。
領域の波長(nm単位)を表す。ま几、nz>(基材の
屈折率)である。)の条件を満友し、−c’) ■層
、■層、θ層の各薄膜は、各々、液状で塗布し、加熱・
乾燥或いは活性エネルギー線による硬化で得られ、 d)さらに、■層、■層を形成する几めの液状組成物の
主成分は、水ま几は他の溶媒に分散した酸化セリウム微
粒子のコロイド分散体により提供されることを特徴とす
る。
ここで、透明基材とは、ガラス成形物をけじめPMMA
やポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、シ
エチレングリコールビスアリルヵーポネート、ポリスチ
レン、核置換フェニル基を分子内に有する高屈折率樹脂
、アリル樹脂等の光学用途に用いられている合成樹脂成
形物品であり、その形状は、フィルム、パネル、レンズ
、シート、その他任意の物品に加工したものを用いるこ
とができる。これらの基材け、そのままで、或いは必W
に応じて表面を変性させて、反射防止薄膜とのけ層性を
向上させることhz可能である。この表面処理の方法と
して、アルカリ性溶液或いは酸化力のある強酸による処
理(特公昭38−13784号公報等)、オゾンによる
処理(U S F 5227605号)電荷を負荷した
火災による処理(特開昭48−84879号公報)、プ
ラズマガスによる処理(特開昭53−157269号公
報)、酸化剤と還元剤による処理(%開昭48〜819
66号公報)、ポリエチレングリコールを含むアルカリ
金属溶液による処理(特瓢昭59−119682号)、
その他、ニア0ナ放電、スパッタリング、紫外線や電子
線、放射線等の活性電磁波照射等の例を挙げることがで
き、基材の材質や表面の状態忙より、公知の表面処理を
施して使用することができる。
やポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、シ
エチレングリコールビスアリルヵーポネート、ポリスチ
レン、核置換フェニル基を分子内に有する高屈折率樹脂
、アリル樹脂等の光学用途に用いられている合成樹脂成
形物品であり、その形状は、フィルム、パネル、レンズ
、シート、その他任意の物品に加工したものを用いるこ
とができる。これらの基材け、そのままで、或いは必W
に応じて表面を変性させて、反射防止薄膜とのけ層性を
向上させることhz可能である。この表面処理の方法と
して、アルカリ性溶液或いは酸化力のある強酸による処
理(特公昭38−13784号公報等)、オゾンによる
処理(U S F 5227605号)電荷を負荷した
火災による処理(特開昭48−84879号公報)、プ
ラズマガスによる処理(特開昭53−157269号公
報)、酸化剤と還元剤による処理(%開昭48〜819
66号公報)、ポリエチレングリコールを含むアルカリ
金属溶液による処理(特瓢昭59−119682号)、
その他、ニア0ナ放電、スパッタリング、紫外線や電子
線、放射線等の活性電磁波照射等の例を挙げることがで
き、基材の材質や表面の状態忙より、公知の表面処理を
施して使用することができる。
ま几、基材b”−合成樹脂のように比較的傷つき易い場
合、耐摩耗性を向上させる為、予め、耐摩耗性の便化被
膜を施し、その上に反射防止薄膜を積層することができ
る。これらの方法としては1例えば、特廚昭58−15
5455号や、特公昭57−2735号分報等に示され
た表面び化被膜を形成する方法h1トる。ま念、着色膜
や調光性能を有する被嗅を有する光学基材(4?開昭5
9−46623号公報)を用いることもできる。
合、耐摩耗性を向上させる為、予め、耐摩耗性の便化被
膜を施し、その上に反射防止薄膜を積層することができ
る。これらの方法としては1例えば、特廚昭58−15
5455号や、特公昭57−2735号分報等に示され
た表面び化被膜を形成する方法h1トる。ま念、着色膜
や調光性能を有する被嗅を有する光学基材(4?開昭5
9−46623号公報)を用いることもできる。
本発明においては1反射防止膜として屈折率の相違なる
三層の薄膜を透明基材上に形成する訳であるが、薄膜の
光学機能は、それぞれの薄膜を形成する次めの波状組成
物およびその塗布法・硬化法により、各薄膜の光学特性
が決定付けられる。
三層の薄膜を透明基材上に形成する訳であるが、薄膜の
光学機能は、それぞれの薄膜を形成する次めの波状組成
物およびその塗布法・硬化法により、各薄膜の光学特性
が決定付けられる。
本発明における0層、0層、0層を形成する為の液状組
成物としては、溶媒にシリカ微粒子を分散させ次コロイ
ダルシリカ、有機残基な有する金属化合物やその加水分
解線金物、天然樹脂、合成樹脂等の高分子、重合性単量
体、熱硬化反応型単量体等の反応性化合物から選ばれる
少くとも一成分からなるもので、さらに透明基材より高
屈折率を有する0層、0層を形成する念めの液状組成物
は、上記化合物から選ばれる少なくとも1種の他に、水
ま几は他の溶媒建分散し次酸化セリウム微粒子のコシイ
ド分散体により構成されるものである。
成物としては、溶媒にシリカ微粒子を分散させ次コロイ
ダルシリカ、有機残基な有する金属化合物やその加水分
解線金物、天然樹脂、合成樹脂等の高分子、重合性単量
体、熱硬化反応型単量体等の反応性化合物から選ばれる
少くとも一成分からなるもので、さらに透明基材より高
屈折率を有する0層、0層を形成する念めの液状組成物
は、上記化合物から選ばれる少なくとも1種の他に、水
ま几は他の溶媒建分散し次酸化セリウム微粒子のコシイ
ド分散体により構成されるものである。
上記のコロイダルシリカとしては1粒径1〜100mμ
のシリカ微粒子を含むものが、所望の硬さを得る上で好
適であるhl、コロイダルシリカの代わり忙、他の金属
酸化物微粒子のコロイド状分散体を用いることも可能で
ある。
のシリカ微粒子を含むものが、所望の硬さを得る上で好
適であるhl、コロイダルシリカの代わり忙、他の金属
酸化物微粒子のコロイド状分散体を用いることも可能で
ある。
ま之、有機残基を有する金属化合物としては、一般式〜
RI Si X4−0−bで宍されるシランカップリン
ク剤や、テトラアルコキシシラン等M’−ある。これら
の加水分解物、部分縮合物等も同等の性貿を有する。こ
こでR1は、アル千ル基、アルケニル基。
RI Si X4−0−bで宍されるシランカップリン
ク剤や、テトラアルコキシシラン等M’−ある。これら
の加水分解物、部分縮合物等も同等の性貿を有する。こ
こでR1は、アル千ル基、アルケニル基。
プエニル基、ハロゲン基等、ffl、R”は、エポ千シ
基、アミノ基、アミド基、メルカプト基、メタクリロイ
ルオキシ基、シアノ基、核ハロゲン化芳香環を有する基
等を含む有機基を示し、Xは、ノ10ゲン基、アルコキ
シル基、アルコ千ジアルコキジル基、アシルオキシ基等
の加水分解可能な基な示す。さた、α、bは、各々0.
1’r&は2で。
基、アミノ基、アミド基、メルカプト基、メタクリロイ
ルオキシ基、シアノ基、核ハロゲン化芳香環を有する基
等を含む有機基を示し、Xは、ノ10ゲン基、アルコキ
シル基、アルコ千ジアルコキジル基、アシルオキシ基等
の加水分解可能な基な示す。さた、α、bは、各々0.
1’r&は2で。
α+b #”−1ないし3である。こからの化合物の例
としては、テトラメトキシシラン等の四官能シラン、メ
チルトリメトキシシラン、r−クロロプロピルトリメト
千ジシラン、ビニルトリメトキシシラン、r−メタクリ
ロイルオ千シブpピルトリメトキシシラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、r−グリシド千シプクビルトリメトキシシラン、r
−メルカプトブーピルトリメト千ジシラン、γ−7ミノ
プロビルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル
)−r−7ミノプロビルトリメトキシシラン。
としては、テトラメトキシシラン等の四官能シラン、メ
チルトリメトキシシラン、r−クロロプロピルトリメト
千ジシラン、ビニルトリメトキシシラン、r−メタクリ
ロイルオ千シブpピルトリメトキシシラン、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、r−グリシド千シプクビルトリメトキシシラン、r
−メルカプトブーピルトリメト千ジシラン、γ−7ミノ
プロビルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル
)−r−7ミノプロビルトリメトキシシラン。
r−ウレイドプロピルトリメト千ジシラン、γ−シアノ
プロピルトリメト千ジシラン、r−モルフすりノフロビ
ルトリメトキシシラン、N−7二二ルアミノプロビルト
リメトそジシラン等の三官能シラン、前記三官能シラン
の一部がメチル基、エチル基、ビニル基に置換し之二官
能シラン等が挙げられる。この他、特に低屈折率層を形
成させる為に、パーフルオロアルキル基を含む官能シラ
ン化合物ht好適である。
プロピルトリメト千ジシラン、r−モルフすりノフロビ
ルトリメトキシシラン、N−7二二ルアミノプロビルト
リメトそジシラン等の三官能シラン、前記三官能シラン
の一部がメチル基、エチル基、ビニル基に置換し之二官
能シラン等が挙げられる。この他、特に低屈折率層を形
成させる為に、パーフルオロアルキル基を含む官能シラ
ン化合物ht好適である。
また、他の有機残基を有する金属化合物としてチタン系
力ダブリング剤、アルミニウム系カブプリング剤−ジル
コニウム系力9プリング剤も使用することh′−できる
。
力ダブリング剤、アルミニウム系カブプリング剤−ジル
コニウム系力9プリング剤も使用することh′−できる
。
次に、天然樹脂、合成樹脂等の高分子材料としては、主
な目的は、金属原子の安宕化剤、或いは柔軟性、被染色
性、靭性を寸与することである。
な目的は、金属原子の安宕化剤、或いは柔軟性、被染色
性、靭性を寸与することである。
材料f>例としては、カルボ千ジアルキル化セルーース
等ノセルロース類、テルペン、ltt哲、グ+Jコース
誘導体、ポリアミノ酸、キチン、キトサン類。
等ノセルロース類、テルペン、ltt哲、グ+Jコース
誘導体、ポリアミノ酸、キチン、キトサン類。
デンプン類の天然高分子やポリビニルアルコール。
ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸、ポリアクリ
ル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル。
ル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル。
ポリビニル7ξン、ポリウレタン、ボリビエルビクリド
ン、ポリビニルピリジン、ポリビニルイミダゾール等の
極性基を有する合成高分子やポリスチレン、ビスフェノ
ールA、ポリカーボネート等の含芳香族高分子やポリサ
ル7オン類の高屈折率高分子、7−1素樹脂のよ5な低
屈折率高分子ht挙げられる。
ン、ポリビニルピリジン、ポリビニルイミダゾール等の
極性基を有する合成高分子やポリスチレン、ビスフェノ
ールA、ポリカーボネート等の含芳香族高分子やポリサ
ル7オン類の高屈折率高分子、7−1素樹脂のよ5な低
屈折率高分子ht挙げられる。
また、粘度調整、特性改質、強詐さ、耐久性を得る為に
加える反応性化合物の例としては、光硬化型の多官能ア
クリレート類をはじめとして、エチレングリコールジグ
リシジルエーテル等のエボ千シ化合物、ラクトン等の開
項重合性モノマー、インシアネート類等の反応性モノマ
ーを単げることができる。
加える反応性化合物の例としては、光硬化型の多官能ア
クリレート類をはじめとして、エチレングリコールジグ
リシジルエーテル等のエボ千シ化合物、ラクトン等の開
項重合性モノマー、インシアネート類等の反応性モノマ
ーを単げることができる。
ま几、更に、これらの反応基の反応を促進する硬化触媒
を加えて、キエアリング時間の短縮や架橋密度の増大を
図ることもできる、 ざらに、■層、■層を形成する之めの液状組成物中には
、上記化合物から選ばれる少なくとも一種の他に、水ま
几は他の溶媒に分散した酸化セリウム微粒子のコロイド
分散体が加えられる。この酸化セリウム微粒子の粒径は
、1〜100mμのものが使用され、好ましくは10〜
50mμの粒径をもつ酸化セリウム微粒子のコロイド分
散体が用いられる。これは粒径b’−、100mμ以上
になると可視領域における光の波長との兼ね合いで、7
化後の薄膜り一白濁を生じ、透明材料の反射防止噂とし
て不適当となるためである。ま之、粒径が1mμ以下で
あると、硬化後の薄膜硬度が不充分であり、嘆の耐久性
だ劣る。
を加えて、キエアリング時間の短縮や架橋密度の増大を
図ることもできる、 ざらに、■層、■層を形成する之めの液状組成物中には
、上記化合物から選ばれる少なくとも一種の他に、水ま
几は他の溶媒に分散した酸化セリウム微粒子のコロイド
分散体が加えられる。この酸化セリウム微粒子の粒径は
、1〜100mμのものが使用され、好ましくは10〜
50mμの粒径をもつ酸化セリウム微粒子のコロイド分
散体が用いられる。これは粒径b’−、100mμ以上
になると可視領域における光の波長との兼ね合いで、7
化後の薄膜り一白濁を生じ、透明材料の反射防止噂とし
て不適当となるためである。ま之、粒径が1mμ以下で
あると、硬化後の薄膜硬度が不充分であり、嘆の耐久性
だ劣る。
ま之、酸化セリウム微粒子の分散媒としては、水の他、
メタノール、エタノール、インプロピルアルコール、メ
チルセロツル7’等ノフルコール系分散媒、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸などのカルボン酸等ht使用される。ま
た、水を分散媒とした場合は、酸化セリウム微粒子を酢
酸、硝酸、硫酸等で安定化させ次ものを用いることもで
きる。
メタノール、エタノール、インプロピルアルコール、メ
チルセロツル7’等ノフルコール系分散媒、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸などのカルボン酸等ht使用される。ま
た、水を分散媒とした場合は、酸化セリウム微粒子を酢
酸、硝酸、硫酸等で安定化させ次ものを用いることもで
きる。
この酸化セリウム微粒子は、形成された薄膜中に、0層
で10重量%以上、0層で30重重量板上含まれること
/l”−必要である。これは、0層、0層における酸化
セリウム微粒子の含有量がこれ以下であると、反射防止
薄膜として要求される所望の屈折率が得られ難いためで
ある。
で10重量%以上、0層で30重重量板上含まれること
/l”−必要である。これは、0層、0層における酸化
セリウム微粒子の含有量がこれ以下であると、反射防止
薄膜として要求される所望の屈折率が得られ難いためで
ある。
また、上記の有機成分け、形成された薄膜中に少なくと
も、20i:1%含まれることh;必要である。すなわ
ち、20重量%以下では1弾力性が充分でなく、耐熱性
、耐衝撃性等の耐久性に劣る。
も、20i:1%含まれることh;必要である。すなわ
ち、20重量%以下では1弾力性が充分でなく、耐熱性
、耐衝撃性等の耐久性に劣る。
また薄膜各層間のけ層性も充分なものが得られ難い。ま
た、上限は限定されないが、有機成分の多いものは、硬
さht劣る傾向にあり、ま次、高屈折率層の屈折率を高
く保つこと/l”−難しい。従って。
た、上限は限定されないが、有機成分の多いものは、硬
さht劣る傾向にあり、ま次、高屈折率層の屈折率を高
く保つこと/l”−難しい。従って。
用途との兼ねおいて該範囲で有機成分の種類と含量を決
めることが望ましい。
めることが望ましい。
本発明における液状組成物は、上記の薄膜形成物の他忙
塗布作業性の問題を考慮して、適当な溶剤が加えられる
。溶剤としては、アルコール類。
塗布作業性の問題を考慮して、適当な溶剤が加えられる
。溶剤としては、アルコール類。
ケトン類、セロソルブ類、ホルムアミド類や水。
フレオン等の溶剤を用いて、1〜20M(1%の固形分
を含む溶液hL好適であるhZ、必ずしも限定される本
のではない。
を含む溶液hL好適であるhZ、必ずしも限定される本
のではない。
ま几、界面活性剤や紫外線吸収剤、酸化防止剤、チキン
トロピー剤、l1lji料、染料、帯電防止剤、導電性
粒子等を加えることもできる。
トロピー剤、l1lji料、染料、帯電防止剤、導電性
粒子等を加えることもできる。
このようにして得られた組成物は、公知の方法で塗布・
硬化させることによって塗膜を形成させる。即ち、7a
−コート、ディップコート、スピンコード、ロールコー
ト、スプレーコートおよび各種の加害された塗布方法を
用いることができる。
硬化させることによって塗膜を形成させる。即ち、7a
−コート、ディップコート、スピンコード、ロールコー
ト、スプレーコートおよび各種の加害された塗布方法を
用いることができる。
ま之乾燥と硬化は、用いる成分によって決められるが、
好ましくけ40℃〜150℃で、10分〜10時間の加
熱による硬化/l”−実用的である。
好ましくけ40℃〜150℃で、10分〜10時間の加
熱による硬化/l”−実用的である。
ま友、用いた成分中の反応基の架橋、重合反応を促進す
る為、赤外線、紫外線や、r線、電子線の照射を行うこ
とによっても硬化を行うことができる。
る為、赤外線、紫外線や、r線、電子線の照射を行うこ
とによっても硬化を行うことができる。
また1本発明の0.090層の塗工前に、そのけ層性を
向上させる目的で、前述の基材の表面処理の方法の一種
以上の処理を行うことhtできる。
向上させる目的で、前述の基材の表面処理の方法の一種
以上の処理を行うことhtできる。
本発明における反射防止薄膜の屈折率は、基材から第1
層、!2層、第3層の屈折率b;それぞれtSS〜1.
80 および1.65〜2.25 および140〜t5
0 であり、且つ屈折率はfJt2層が最も高く。
層、!2層、第3層の屈折率b;それぞれtSS〜1.
80 および1.65〜2.25 および140〜t5
0 であり、且つ屈折率はfJt2層が最も高く。
次に*1層、第3層と低くなるものである。またn、は
基材の屈折率より高いものを選択する必要がある。一方
、lli厚は溶剤或いはコーティング法で調整する事に
より任意の値に設定できる為、屈折率の組合せに応じた
任意の1厚の組合せから選択する/、1.特に各層の光
学膜厚け、可視波長の四分の−の奇の整数倍が好ましい
。これらの光学的条件から外れる場合は、反射防止特性
が劣るため好ましくない。
基材の屈折率より高いものを選択する必要がある。一方
、lli厚は溶剤或いはコーティング法で調整する事に
より任意の値に設定できる為、屈折率の組合せに応じた
任意の1厚の組合せから選択する/、1.特に各層の光
学膜厚け、可視波長の四分の−の奇の整数倍が好ましい
。これらの光学的条件から外れる場合は、反射防止特性
が劣るため好ましくない。
以下、実施例により本発明の詳細な説明するが本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例1
(1) 高屈折率用コーテイング液(A1)の調製反
応用フラスコ内圧、エチルセロツル7’ 160.9゜
r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン143
g、 (LO5N塩酸水Q、!59 IIを加え、室温
下1時間攪拌し、加水分解を行なった。
応用フラスコ内圧、エチルセロツル7’ 160.9゜
r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン143
g、 (LO5N塩酸水Q、!59 IIを加え、室温
下1時間攪拌し、加水分解を行なった。
その後、−上記混合物に、水を分散媒とする酸化セリウ
ム微粒子のコロイド分散体(日産化学@製平均粒子径3
5 士1mx、 Ceo□含有t 20 % ) 55
.OIを加え攪拌下、イノプロピルアルコール分散コロ
イダルシリカ(オスカル1a52. 触媒化成■、固形
分濃度30 % ) 3.33.9、グリセロールジグ
リシジルエーテル1.Og、過塩素酸マグネシウムα0
56I、およびシリコン系界面活性剤cLO2gをこの
順に加え、室温下1時間攪拌を行い、コーテイング液と
し几。このコーテイング液の粘度は、16センチストー
クス(20℃)、固形分濃度は4.9重量%であっ几。
ム微粒子のコロイド分散体(日産化学@製平均粒子径3
5 士1mx、 Ceo□含有t 20 % ) 55
.OIを加え攪拌下、イノプロピルアルコール分散コロ
イダルシリカ(オスカル1a52. 触媒化成■、固形
分濃度30 % ) 3.33.9、グリセロールジグ
リシジルエーテル1.Og、過塩素酸マグネシウムα0
56I、およびシリコン系界面活性剤cLO2gをこの
順に加え、室温下1時間攪拌を行い、コーテイング液と
し几。このコーテイング液の粘度は、16センチストー
クス(20℃)、固形分濃度は4.9重量%であっ几。
(2) 低屈折率用コーテイング液(A2)の調製反
応用フラスコ内に、エタノール88.91.9を入れ、
攪拌下、r−グリシド千ジプロピルトリメト千ジシラン
2.53F、0.05 N塩酸水t32.Fを加え室温
下、1時間攪拌を行つ之。
応用フラスコ内に、エタノール88.91.9を入れ、
攪拌下、r−グリシド千ジプロピルトリメト千ジシラン
2.53F、0.05 N塩酸水t32.Fを加え室温
下、1時間攪拌を行つ之。
この後、イソプロピルアルコール分散コロイダルシリカ
(オスカル1432.触媒化成■、虜形分濃度50 %
)8.33g、メチルトリエト千ジシラン13.3.
9を加え、室温で30分間攪拌を行つ几。その後、メチ
ルセロソルブ135.56I11 グリセロールジグリ
シジルエーテル2.53&、過塩素酸マグネシウム(1
0745を加え溶解させた。このコーチインク液の粘度
は、1.6センチストークス(20℃)。
(オスカル1432.触媒化成■、虜形分濃度50 %
)8.33g、メチルトリエト千ジシラン13.3.
9を加え、室温で30分間攪拌を行つ几。その後、メチ
ルセロソルブ135.56I11 グリセロールジグリ
シジルエーテル2.53&、過塩素酸マグネシウム(1
0745を加え溶解させた。このコーチインク液の粘度
は、1.6センチストークス(20℃)。
固形分濃度は、5.2重1%であつ之。
(3) 中屈折率用コーテイング液(A3)の調製酌
項(1)の添加量をそれぞれ下記に示すとおりに変更す
る他は、すべて同様圧してv4摂し念。
項(1)の添加量をそれぞれ下記に示すとおりに変更す
る他は、すべて同様圧してv4摂し念。
メチルセロソルブ 164g
r−グリシド千ジプロピルトリメト千ジシラン2.14
F 0.05N塩酸水 0.59 !j酸化セリウ
ム微粒子のコロイド分散体 25、OF インプロピルアルコール分散コロイダルシリカ過塩素酸
マグネシウム α106II このコーテイング液の粘度け、t7センチストークス(
20”C)、固形分濃度は、5.0重量%であった。
F 0.05N塩酸水 0.59 !j酸化セリウ
ム微粒子のコロイド分散体 25、OF インプロピルアルコール分散コロイダルシリカ過塩素酸
マグネシウム α106II このコーテイング液の粘度け、t7センチストークス(
20”C)、固形分濃度は、5.0重量%であった。
尚、上記コーテイング液(AI)、(A2)、(A3)
は、液v4製後、各々、メンブランフィルタ−により濾
過を行い巨大粒子や不溶分を除去し念。
は、液v4製後、各々、メンブランフィルタ−により濾
過を行い巨大粒子や不溶分を除去し念。
(4) ハードコート加工
α)ハードコート液の調製
γ−グリシド千ジプロピルトリメトキシシラン15.5
L工タノール分散コロイダルシリカ(オスカル123’
、触媒化成■、固形分濃度30チ)22.51およびメ
チルセロソルブ155.311からなる溶液に、0.0
5N塩酸水3.69 、!i+ を徐々に滴下し加水
分解を行っ之。この溶液な0℃で24時間熟成した後、
グリセロールジグリシジルエーテル9.0.9と過塩素
酸マグネシウム0.1217pとシリコン系界面活性剤
cL04!iを加え室温下3時間攪拌し、ノ・−ドコー
ト液とし九。
L工タノール分散コロイダルシリカ(オスカル123’
、触媒化成■、固形分濃度30チ)22.51およびメ
チルセロソルブ155.311からなる溶液に、0.0
5N塩酸水3.69 、!i+ を徐々に滴下し加水
分解を行っ之。この溶液な0℃で24時間熟成した後、
グリセロールジグリシジルエーテル9.0.9と過塩素
酸マグネシウム0.1217pとシリコン系界面活性剤
cL04!iを加え室温下3時間攪拌し、ノ・−ドコー
ト液とし九。
b)ハードコート液の塗布及び硬化
5チ水酸化ナトリ、ラム水溶液中に5分間浸漬しアルカ
リ処理を施し次ジエチレングリコールビスアリルカーポ
ネート樹脂製プラルンズ(屈折率1.50.全光線透過
率92チ)を前記ノ・−ドコート液に浸した後、引上げ
速度15CM/分の条件で塗布を行った。続いて、熱風
乾燥炉にて80℃で1時間、130℃で1時間加熱乾燥
を行いノ・−ドコート層を得た。
リ処理を施し次ジエチレングリコールビスアリルカーポ
ネート樹脂製プラルンズ(屈折率1.50.全光線透過
率92チ)を前記ノ・−ドコート液に浸した後、引上げ
速度15CM/分の条件で塗布を行った。続いて、熱風
乾燥炉にて80℃で1時間、130℃で1時間加熱乾燥
を行いノ・−ドコート層を得た。
この時のバートコ−)IIの膜厚は2.3μmであっ几
。
。
(5) 反射防止膜の塗布及び硬化
前記(4)で得られたレンズをアルゴンガスプラズマ処
理(400W、20秒)を行っ几後、以下の方法で反射
防止膜を設は次。
理(400W、20秒)を行っ几後、以下の方法で反射
防止膜を設は次。
最初に中屈折率薄膜用のコーテイング液(A3)IC該
レンズを浸し、液温10′C1引上げ速度3α/分の条
件で塗布を行っ几。引上げ後、100”Cで40分硬化
を行い、中屈折率層を得之。
レンズを浸し、液温10′C1引上げ速度3α/分の条
件で塗布を行っ几。引上げ後、100”Cで40分硬化
を行い、中屈折率層を得之。
続いて、該レンズを強酸性水溶液中に3分間浸し処理し
た後、十分水洗を行い乾燥させた。次いで、高屈折率薄
膜用コーテイング液(A1)に没し液温10℃、引上げ
速度3吊傍の条件で塗布を行った。引上げ後、100°
Cで45分硬化を行い、高屈折率層を積層し次。
た後、十分水洗を行い乾燥させた。次いで、高屈折率薄
膜用コーテイング液(A1)に没し液温10℃、引上げ
速度3吊傍の条件で塗布を行った。引上げ後、100°
Cで45分硬化を行い、高屈折率層を積層し次。
最後に、該レンズを強酸性水溶液中に3分間浸し、十分
水洗を行っ九後、低屈折率薄膜用塗布液(A2)に浸し
、液温8℃、引上げ速度2 L:In7′f+の条件で
塗布を行っ九。引上げ後130℃で30分j化させ、三
層からなる反射防止膜を得た。
水洗を行っ九後、低屈折率薄膜用塗布液(A2)に浸し
、液温8℃、引上げ速度2 L:In7′f+の条件で
塗布を行っ九。引上げ後130℃で30分j化させ、三
層からなる反射防止膜を得た。
(6) 試験結果
このようにして得られ九レンズの全光線透過率は97.
14であり、反射干渉色は緑色を呈し友。
14であり、反射干渉色は緑色を呈し友。
また、この反射防止レンズを赤、青、黄の3色を混合し
た市販の分散染料を水に分散溶解させ次染色浴を用い、
90℃、3分間染色し友。このレンズの全光線透過率は
、52.7%で、良好な染色性を示し友。
た市販の分散染料を水に分散溶解させ次染色浴を用い、
90℃、3分間染色し友。このレンズの全光線透過率は
、52.7%で、良好な染色性を示し友。
さらに、クロスカヴトテーブ試験により密着性を評価し
九ところ、膜の剥れけみられなかった。
九ところ、膜の剥れけみられなかった。
ま之、耐水性、耐擦傷性(#0000スチールウール
10回擦傷)、餉温水性(60℃)の結果も良好であっ
次。
10回擦傷)、餉温水性(60℃)の結果も良好であっ
次。
尚、(A3)、(AI)、(A2)の各コーテイング液
を塗布して得られ比薄膜を各々、11,12.13層と
すると屈折率と膜厚は以下のとbりであつ次。
を塗布して得られ比薄膜を各々、11,12.13層と
すると屈折率と膜厚は以下のとbりであつ次。
薄膜 屈折率 膜厚(?I犠)11
164 79.512 1、
75 74.5 13 1、48 137.8実施例2 (1)高屈折率用コーテイング液(B1)の調製反応用
フラスコ内に、メチルセロソルブ156 l。
164 79.512 1、
75 74.5 13 1、48 137.8実施例2 (1)高屈折率用コーテイング液(B1)の調製反応用
フラスコ内に、メチルセロソルブ156 l。
r−グリシドキシプロビル(メチル)ジメト千ジシラン
tasg、α05N塩酸水α40gを加え、室温下1時
間攪拌し、加水分解を行「L その後、上記混合物に、イソプロピルアルコールを分散
媒とする酸化セリウム微粒子のコクイド分散体(平均粒
子径35±1mμ、0g0z含有量201 )szsp
を加え攪拌下、エタノール分散コロイダルシリカ(オス
カル1232.触媒化成■、 固形分濃度3o1)5.
0J、過塩素酸マグネシウムCLOO6J7およびシリ
コン系界面活性剤0.02gをこの順に加え、室温下1
時間攪拌を行いコーテイング液とした。このコーテイン
グ液の粘度は、15センチストークス(20℃)、固形
分濃度は5.0重量%であっ几・。
tasg、α05N塩酸水α40gを加え、室温下1時
間攪拌し、加水分解を行「L その後、上記混合物に、イソプロピルアルコールを分散
媒とする酸化セリウム微粒子のコクイド分散体(平均粒
子径35±1mμ、0g0z含有量201 )szsp
を加え攪拌下、エタノール分散コロイダルシリカ(オス
カル1232.触媒化成■、 固形分濃度3o1)5.
0J、過塩素酸マグネシウムCLOO6J7およびシリ
コン系界面活性剤0.02gをこの順に加え、室温下1
時間攪拌を行いコーテイング液とした。このコーテイン
グ液の粘度は、15センチストークス(20℃)、固形
分濃度は5.0重量%であっ几・。
(2) 低屈折率用コーテイング液(B2)の調製反
応用フラスコ内に、エタノール85.72 fを入tL
、 攪拌下、 r−グリシドキシプロビル(メチル)ジ
メトキシシラン8.57.!i+、105N塩酸1.2
5 、!i+を加え、攪拌下、加水分解を1時間行つ次
。この後。
応用フラスコ内に、エタノール85.72 fを入tL
、 攪拌下、 r−グリシドキシプロビル(メチル)ジ
メトキシシラン8.57.!i+、105N塩酸1.2
5 、!i+を加え、攪拌下、加水分解を1時間行つ次
。この後。
エタノール分散コロイダルシリカ(オスカル1232触
媒化成■、固形分濃度sags>2agを加え、室温で
30分間攪拌を行っ几。その後、メチルセa 7 ルア
’ 85.729、過塩素酸マグネシウム0.128I
、シリコン系界面活性剤(LG 11を加え、コーテイ
ング液とし友。このコーテイング液の粘度は、13セン
チストークス(20’C)、固形分濃度け。
媒化成■、固形分濃度sags>2agを加え、室温で
30分間攪拌を行っ几。その後、メチルセa 7 ルア
’ 85.729、過塩素酸マグネシウム0.128I
、シリコン系界面活性剤(LG 11を加え、コーテイ
ング液とし友。このコーテイング液の粘度は、13セン
チストークス(20’C)、固形分濃度け。
62重を憾であった。
(3) 中屈折率用コーテイング液(B3)の調製前
項(1)の添加層をそれぞれ下記に示すとかりに変更す
る他は、すべて同様にして191111.た。
項(1)の添加層をそれぞれ下記に示すとかりに変更す
る他は、すべて同様にして191111.た。
メチルセロソルブ 25.(1
γ−グリシドキシプロビル(メチル)ジメトキシシラン
2.861Q、05N塩酸水
0.799酸化セリウム微粒子のコロイド分散体 25、 O、P エタノール分散コロイダルシリカ 16、7 g 過塩素酸マグネシウム 0.0459 コノコーテイング液の粘度は、1.4センチストークス
(20℃)、固形分濃度は5.7重量%であう次。
2.861Q、05N塩酸水
0.799酸化セリウム微粒子のコロイド分散体 25、 O、P エタノール分散コロイダルシリカ 16、7 g 過塩素酸マグネシウム 0.0459 コノコーテイング液の粘度は、1.4センチストークス
(20℃)、固形分濃度は5.7重量%であう次。
尚、上記コーティング液、(B1)、(B2)、(B5
)tj、波調製後、各々メンブランフィルタ−知より濾
過を行い、巨大粒子や不溶分を除去し次。
)tj、波調製後、各々メンブランフィルタ−知より濾
過を行い、巨大粒子や不溶分を除去し次。
(4) 反射防止膜の塗布および硬化5俤水酸化ナト
リウム水溶液中に5分間浸漬しアルカリ処理を施したジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂の7−
5ツト板(直径1゜傭、厚さα55I、屈折率t5o、
全光線透過率924)K反射防止膜を以下の方法で設は
比。
リウム水溶液中に5分間浸漬しアルカリ処理を施したジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂の7−
5ツト板(直径1゜傭、厚さα55I、屈折率t5o、
全光線透過率924)K反射防止膜を以下の方法で設は
比。
最初に、中屈折率薄膜用のコーテイング液(B3)k#
樹脂を浸し、液温10’C,引上げ速度3膏うの条件で
塗布を行った。引上げ後、100’Cで30分硬化を行
い、中屈折率層を得た。
樹脂を浸し、液温10’C,引上げ速度3膏うの条件で
塗布を行った。引上げ後、100’Cで30分硬化を行
い、中屈折率層を得た。
続いて、該樹脂を強塩酸水溶液に3分間浸し、高屈折率
薄膜用コーテイング液(B1)に浸し、液温10℃、引
上げ速度3cIIV5+の条件で塗布を行っ友。引上げ
後、100℃で40分便化を行い、高屈折率層を積層し
九。
薄膜用コーテイング液(B1)に浸し、液温10℃、引
上げ速度3cIIV5+の条件で塗布を行っ友。引上げ
後、100℃で40分便化を行い、高屈折率層を積層し
九。
最後に、H樹脂を強塩酸水溶液に2分間浸し、充分水洗
を行い乾燥させた後、低屈折率薄膜用コーテイング液(
B2)に浸し、液温7℃、引上げ速度2clVf+の条
件で塗布を行っ之。引上げ後、120℃で20分硬化さ
せ、三層からなる反射防止膜を得t0 (5) 試験結果 反射防止膜を設は之ジエチレングリコールビスアリルカ
ーポネート樹脂の全光線透過率は97.4 %であり、
反射干渉色は緑色を呈しt。
を行い乾燥させた後、低屈折率薄膜用コーテイング液(
B2)に浸し、液温7℃、引上げ速度2clVf+の条
件で塗布を行っ之。引上げ後、120℃で20分硬化さ
せ、三層からなる反射防止膜を得t0 (5) 試験結果 反射防止膜を設は之ジエチレングリコールビスアリルカ
ーポネート樹脂の全光線透過率は97.4 %であり、
反射干渉色は緑色を呈しt。
さらに、クロスカプトテープ試験により密着性を評価し
友ところ、膿の剥れは入られなかっ九。
友ところ、膿の剥れは入られなかっ九。
ま几、耐水性、耐擦傷性(#OOG Oスチールウール
、10回擦傷)、耐温水性(60℃)の結果も良好であ
り几。
、10回擦傷)、耐温水性(60℃)の結果も良好であ
り几。
尚、(B3)、(B1)、(B2)の各コーテイング液
を塗布して得られ比薄膜を各々、21,22.23層と
すると屈折率と膜厚は以下のとおりであう九。
を塗布して得られ比薄膜を各々、21,22.23層と
すると屈折率と膜厚は以下のとおりであう九。
薄膜 屈折率 膜厚(nm)
21 1、65 78.8
22 178 7五〇
23 1 49 87、
2実施例3 (1) 高屈折率用コーテイング液(C1)の調製反
応用フラスコ内に、エチルセロノルズ180 !qを入
れ、攪拌下、メタノールを分散媒とする酸化セリウム微
粒子のコロイド分散体(平均粒子径35±1ms、 0
g0t含有量20%)18.1を加え充分攪拌した後、
r−グリシド中ジプロピルトリエトキシシラン1711
i%105N塩酸水0.47g、エタノール分散コクイ
ダルシリカ(オスカル1232. 触媒化成■、固形分
濃度30%)2.07,9、およびシリコン系界面活性
剤Q、02,9を加え、コーティング液トシ次。この塗
布液の粘度は、1.5センチストークス(20℃)、固
形分濃度は5.6重量%であった。
2実施例3 (1) 高屈折率用コーテイング液(C1)の調製反
応用フラスコ内に、エチルセロノルズ180 !qを入
れ、攪拌下、メタノールを分散媒とする酸化セリウム微
粒子のコロイド分散体(平均粒子径35±1ms、 0
g0t含有量20%)18.1を加え充分攪拌した後、
r−グリシド中ジプロピルトリエトキシシラン1711
i%105N塩酸水0.47g、エタノール分散コクイ
ダルシリカ(オスカル1232. 触媒化成■、固形分
濃度30%)2.07,9、およびシリコン系界面活性
剤Q、02,9を加え、コーティング液トシ次。この塗
布液の粘度は、1.5センチストークス(20℃)、固
形分濃度は5.6重量%であった。
(2) 低屈折率用コーテイング液(C2)の調製低
屈折率コーテイング液として市販の79素シリコーンコ
ーテイング剤(商品名“KP−801”。
屈折率コーテイング液として市販の79素シリコーンコ
ーテイング剤(商品名“KP−801”。
信越シリコーン■製、固形分3チ)を用いた。
(3) 中屈折率用コニティング液(C3)の調製前
記実施例2における高屈折率用コーテイング液(B1)
75.0.9と低屈折率用コーテイング液(B2)6z
、ogを混合し、中屈折高用コーティング液(、C3)
とし念。このコーテイング液の粘度は14センデストー
クス(20℃)、固形分濃度は5.6重量%であっ之。
記実施例2における高屈折率用コーテイング液(B1)
75.0.9と低屈折率用コーテイング液(B2)6z
、ogを混合し、中屈折高用コーティング液(、C3)
とし念。このコーテイング液の粘度は14センデストー
クス(20℃)、固形分濃度は5.6重量%であっ之。
尚、上記コーテイング液(01)、(02)、(03)
。
。
け、液調裂後、各々メンブランフィルタ−により濾過を
行い、巨大粒子や不溶分を除去した。
行い、巨大粒子や不溶分を除去した。
(4) 反射防止膜の塗布及び硬化
5%水酸化ナトリウム水溶液中に3分間浸漬しアルカリ
処理を施した市販の無機ガラスパネル(直径12α、厚
さ0.2 cm 、屈折率t52.全光線透過率92優
)に以下の方法で反射防止膜を設けた。
処理を施した市販の無機ガラスパネル(直径12α、厚
さ0.2 cm 、屈折率t52.全光線透過率92優
)に以下の方法で反射防止膜を設けた。
最初に中屈折率薄膜用のコーテイング液(03)に該ガ
ラスパネルを浸し、液@9℃、引上げ速度3叫→の条件
で塗布を行った。引上げ後、100℃で25分間硬化を
行い中屈折率層を得几。
ラスパネルを浸し、液@9℃、引上げ速度3叫→の条件
で塗布を行った。引上げ後、100℃で25分間硬化を
行い中屈折率層を得几。
続いて訪ガラスパネルを強酸性水溶液中に3分間浸し、
十分水洗を行った後、高屈折率薄膜用コーテイング液(
C1)に浸し、液温10℃、引上げ速度3〜傍の条件で
塗布を行り友。引上げ後100℃で30分硬化を行い、
高屈折率層を積層した。
十分水洗を行った後、高屈折率薄膜用コーテイング液(
C1)に浸し、液温10℃、引上げ速度3〜傍の条件で
塗布を行り友。引上げ後100℃で30分硬化を行い、
高屈折率層を積層した。
最後に、該ガラスパネルを酸素プラズマガス処理(50
0W、 10秒)を行った後、低屈折率薄膜用コーテ
イング液(C2)に浸し、液温7℃、引上げ速度2ct
v′5+の条件で塗布を行った。引上げ後、100℃で
20分間乾燥硬化させ、三層からなる反射防止膜を得た
。
0W、 10秒)を行った後、低屈折率薄膜用コーテ
イング液(C2)に浸し、液温7℃、引上げ速度2ct
v′5+の条件で塗布を行った。引上げ後、100℃で
20分間乾燥硬化させ、三層からなる反射防止膜を得た
。
(5) 試験結果
このようにして得られたガラスパネルの全光線透過率は
、98.04であり1反射干渉色は黄緑色を呈し比。
、98.04であり1反射干渉色は黄緑色を呈し比。
さらに、クロスカットテープ試験により密着性を評価し
念ところ、膜の剥れは入られなかっ九。ま九、耐水性、
耐擦傷性(#0000スチールウール10回擦傷)、耐
温水性(60℃)の結果も良好であっ几。
念ところ、膜の剥れは入られなかっ九。ま九、耐水性、
耐擦傷性(#0000スチールウール10回擦傷)、耐
温水性(60℃)の結果も良好であっ几。
尚、(03)、(al)、(02)の各コーテイング液
を塗布して得られた薄膜を各々、31.!52.35層
とすると屈折率と膜厚は以下のとおりであった。
を塗布して得られた薄膜を各々、31.!52.35層
とすると屈折率と膜厚は以下のとおりであった。
薄膜 屈折率 膜厚(nm )31 t
65 、 7&8 52 178 7五〇 33 145 89、7 比較例1 (1) 高屈折率用コーテイング液(Dl)の調製反
応用フラスコ内にイソプロピルアルコール12Z4Jl
、フェネチルアルコール3186gを入れffl押下、
エタノール分散コロイダルシリカ(オスカル1252、
触媒化成■、固形分濃度30係)6.67gおよび、テ
トラ−n−ブチルチタネート54.04I、シリコン系
界面活性剤a、aagを入れ、室温下1時間攪拌し、コ
ーテイング液とし几。このコーテイング液の粘度は、1
9センチストークス(20℃)、固形分濃度は5.2重
量%であり念。
65 、 7&8 52 178 7五〇 33 145 89、7 比較例1 (1) 高屈折率用コーテイング液(Dl)の調製反
応用フラスコ内にイソプロピルアルコール12Z4Jl
、フェネチルアルコール3186gを入れffl押下、
エタノール分散コロイダルシリカ(オスカル1252、
触媒化成■、固形分濃度30係)6.67gおよび、テ
トラ−n−ブチルチタネート54.04I、シリコン系
界面活性剤a、aagを入れ、室温下1時間攪拌し、コ
ーテイング液とし几。このコーテイング液の粘度は、1
9センチストークス(20℃)、固形分濃度は5.2重
量%であり念。
(2) 低屈折率用コーテイング液(B2)として。
前記実施例3の(B2)を用いた。
(3) 中屈折率用コーテイング液(B3)の調製前
項(1)の添加量をそれぞれ下記に示すとおりに変更す
る他は、すべて同様にして調製し次。
項(1)の添加量をそれぞれ下記に示すとおりに変更す
る他は、すべて同様にして調製し次。
イソプロピルアルコール 156.97E7エ
ネチルアルコール 24.17.9工タノ
ール分散コロイダルシリカ 13.319テトラ−n
−ブチルチタネート 25.53!jこのコーテイ
ング液の粘fa1.6センチストークス(20℃)、固
形分濃度は5.3重量%であり九(4)反射防止膜の塗
布および硬化 5チ水酸化ナトリウム水溶液中に5分間浸漬しアルカリ
処理を施し次ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート樹脂の7ラヴト板を、中屈折率薄膜用のコーテイン
グ液(B3)に浸し、液温10℃、引上げ速度3叫傍の
条件で塗布を行った。引上げ後、100℃で1時間硬化
を行い、中屈折率層を得几。
ネチルアルコール 24.17.9工タノ
ール分散コロイダルシリカ 13.319テトラ−n
−ブチルチタネート 25.53!jこのコーテイ
ング液の粘fa1.6センチストークス(20℃)、固
形分濃度は5.3重量%であり九(4)反射防止膜の塗
布および硬化 5チ水酸化ナトリウム水溶液中に5分間浸漬しアルカリ
処理を施し次ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート樹脂の7ラヴト板を、中屈折率薄膜用のコーテイン
グ液(B3)に浸し、液温10℃、引上げ速度3叫傍の
条件で塗布を行った。引上げ後、100℃で1時間硬化
を行い、中屈折率層を得几。
しかし、該樹脂を強酸性水溶液中に5分間浸し十分水洗
を行なう念ところ、中屈折率薄膜が部分的に消失してお
り、また手拭きにより傷がけ〈事が確認された。このた
め、高屈折率薄膜の積層が不可能となっ几。
を行なう念ところ、中屈折率薄膜が部分的に消失してお
り、また手拭きにより傷がけ〈事が確認された。このた
め、高屈折率薄膜の積層が不可能となっ几。
以上述べ比ように1本発明によれば、透明基材の少なく
とも一部に屈折率の異なる三層の薄膜からなる反射防止
膜を液状組成物の塗布および硬化により施すにあtす、
透明基材層よりも高い屈折率を有する高屈折率薄膜、中
屈折率薄膜を形成する几めの液状組成物として、水また
は他の溶媒に分散した酸化セリウム微粒子のコロイド分
散体を構成成分とすることにより、所望の屈折率が実現
され、ま几、従来の金属アルコラードを用いた場合に比
べ、け理性、硬度、耐薬品性、耐擦傷性。
とも一部に屈折率の異なる三層の薄膜からなる反射防止
膜を液状組成物の塗布および硬化により施すにあtす、
透明基材層よりも高い屈折率を有する高屈折率薄膜、中
屈折率薄膜を形成する几めの液状組成物として、水また
は他の溶媒に分散した酸化セリウム微粒子のコロイド分
散体を構成成分とすることにより、所望の屈折率が実現
され、ま几、従来の金属アルコラードを用いた場合に比
べ、け理性、硬度、耐薬品性、耐擦傷性。
耐水性、染色性などの諸物性忙優れた。大容量。
大量生産が可能な反射防止膜を得ることが可能となっ几
。
。
第1図は、実施例1の反射防止膜の断面図。
11・・・・・・中屈折率薄膜
12・・・・・・高屈折率薄膜
13・・・・・・低屈折率薄膜
14・・・・・・ハードコート層
15・・・・・・プラスチックレンズ
第2図は、実施例10反射スペクトル図。
以 上
Claims (1)
- (1)a)透明基材の少なくとも一部に、該基材から大
気側に向かって、(イ)、(ロ)、(ハ)の三層の薄膜
からなる反射防止膜を施すにあたり、 b)(イ)、(ロ)、(ハ)の三層の光学特性は、各々
(イ)1.55<n_a<1.80 n_a×d_a=lλ_1/4(nm) (ロ)1.65<n_b<2.25 n_b×d_b=mλ_2/4(nm) n_b>n_a (ハ)1.40<n_c<1.50 n_c×d_c=nλ_3/4(nm) (ここで、n_a、n_b、n_cは各々、(イ)層、
(ロ)層、(ハ)層の屈折率、d_a、d_b、d_c
は各々、(イ)層、(ロ)層、(ハ)層の膜厚(nm単
位)を表し、mは正の整数、l、nは奇の正整数、λ_
1、λ_2、λ_3は各々独立に可視領域の波長(nm
単位)を表す。また、n_a>(基材の屈折率)である
。)の条件を満たし、 c)(イ)層、(ロ)層、(ハ)層の各薄膜は、各々液
状で塗布し、加熱、乾燥或いは活性エネルギー線による
硬化で得られ、 d)さらに、(イ)層、(ロ)層を形成するための液状
組成物の主成分は、水または他の溶媒に分散した酸化セ
リウム微粒子のエロイド分散体により提供されることを
特徴とする反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60190752A JPS6250701A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60190752A JPS6250701A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6250701A true JPS6250701A (ja) | 1987-03-05 |
Family
ID=16263147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60190752A Pending JPS6250701A (ja) | 1985-08-29 | 1985-08-29 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6250701A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01306435A (ja) * | 1988-06-02 | 1989-12-11 | Taki Chem Co Ltd | 紫外線吸収方法 |
JPH03229202A (ja) * | 1990-02-02 | 1991-10-11 | Hoya Corp | プラスチックレンズ用反射防止膜 |
JP2001324604A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-11-22 | Fukuvi Chem Ind Co Ltd | ノングレア機能を有する反射防止膜 |
JP2006507941A (ja) * | 2002-11-13 | 2006-03-09 | デカ プロダックツ リミテッド パートナーシップ | 蒸気圧縮を用いた蒸留法 |
-
1985
- 1985-08-29 JP JP60190752A patent/JPS6250701A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01306435A (ja) * | 1988-06-02 | 1989-12-11 | Taki Chem Co Ltd | 紫外線吸収方法 |
JPH03229202A (ja) * | 1990-02-02 | 1991-10-11 | Hoya Corp | プラスチックレンズ用反射防止膜 |
JP2628589B2 (ja) * | 1990-02-02 | 1997-07-09 | ホーヤ 株式会社 | ポリウレタンレンズ用反射防止膜 |
JP2001324604A (ja) * | 2000-03-07 | 2001-11-22 | Fukuvi Chem Ind Co Ltd | ノングレア機能を有する反射防止膜 |
JP2006507941A (ja) * | 2002-11-13 | 2006-03-09 | デカ プロダックツ リミテッド パートナーシップ | 蒸気圧縮を用いた蒸留法 |
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