JPS6247601A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPS6247601A JPS6247601A JP60187723A JP18772385A JPS6247601A JP S6247601 A JPS6247601 A JP S6247601A JP 60187723 A JP60187723 A JP 60187723A JP 18772385 A JP18772385 A JP 18772385A JP S6247601 A JPS6247601 A JP S6247601A
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- refractive index
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、透明基材上に施される反射防止膜VC関する
。
。
本発明は、透明基材の表面反射を低減させるための反射
防止膜において、透明基材の少なくとも一部に屈折率の
異なる三層の薄膜からなる反射防止l11!を液状組成
物の塗布・硬化により施すにあたり、透明基材層よりも
高屈折率全盲する薄膜全形我するための塗布族に、水ま
たは他の浴媒に分散した酸化アンチモン微粒子のコロイ
ド分散体を用いることにより、付も一性、硬度、面]薬
品1生、而づ擦傷性、耐水性、染色性などの諸物性を向
上させ、大容M1犬級生産が可能な反射防止膜を提供す
るものである。
防止膜において、透明基材の少なくとも一部に屈折率の
異なる三層の薄膜からなる反射防止l11!を液状組成
物の塗布・硬化により施すにあたり、透明基材層よりも
高屈折率全盲する薄膜全形我するための塗布族に、水ま
たは他の浴媒に分散した酸化アンチモン微粒子のコロイ
ド分散体を用いることにより、付も一性、硬度、面]薬
品1生、而づ擦傷性、耐水性、染色性などの諸物性を向
上させ、大容M1犬級生産が可能な反射防止膜を提供す
るものである。
反射防止に■理論とそO積層状については、多くの方法
が提案されており、真空蒸着法により、金極醒化物やフ
ッ化物再0薄膜?形成する方法やスパッタ蒸着、イオン
ブレーティング等のPVD法や各種のCVD技術が一般
的でおる。
が提案されており、真空蒸着法により、金極醒化物やフ
ッ化物再0薄膜?形成する方法やスパッタ蒸着、イオン
ブレーティング等のPVD法や各種のCVD技術が一般
的でおる。
一方、これらの物理蒸着法以外に、液状で塗布し硬化さ
せることによって反射防止膜を得る方法として、特開昭
58−46301号公報には二層からなる反射防止膜、
特開昭59−49501号公報には三層からなる反射防
止膜が提案づれている。これらの方法は、チタンアルコ
ラードとコロイダルシリカからなる組成物全高Mjll
折率薄折率薄材用材料、シランカップリング剤とエポキ
シ化合物オよびコロイダルシリカからなる組成物を吐油
折率薄膜用材料に用いることにより反射防止効果を発現
している。
せることによって反射防止膜を得る方法として、特開昭
58−46301号公報には二層からなる反射防止膜、
特開昭59−49501号公報には三層からなる反射防
止膜が提案づれている。これらの方法は、チタンアルコ
ラードとコロイダルシリカからなる組成物全高Mjll
折率薄折率薄材用材料、シランカップリング剤とエポキ
シ化合物オよびコロイダルシリカからなる組成物を吐油
折率薄膜用材料に用いることにより反射防止効果を発現
している。
また、特開昭57−37301号公報には、合成樹脂の
層からなる単層または多層の反射防止膜を施した合成樹
H゛ぼ製レンズが提案されており、この方法では、高屈
折率薄膜用材料として、チタン、タンタル等■アルコラ
ード、メラミン樹脂等が用いられてhる。
層からなる単層または多層の反射防止膜を施した合成樹
H゛ぼ製レンズが提案されており、この方法では、高屈
折率薄膜用材料として、チタン、タンタル等■アルコラ
ード、メラミン樹脂等が用いられてhる。
また、透明材料以外の基材上に反射防止8!ij、を設
けるψ(1として、太陽電池の嗅結晶シリコン0衣面に
、テトライソプロポキシチタンを含む液状組成物を塗布
・加熱し、分解生成物として酸化チタンの薄膜を形成さ
せ、単層の反射防止効果を得る方法がある。(RCA、
Review、Vo1m41、No、2.I’133〜
180(1980))〔発明が解決しようとする間@点
及び目的〕しかし、前述の従来技術の内、真空蒸着法、
スパッタ蒸着、イオンブレーティング、CVD法等によ
る反射防止kmの形成法は、 (1)高度の真空度を侠する為、処理すべき基材O大き
さ、材料に制限を生ずる。また製造時間が長くかかり、
生産性、経済性が低い。
けるψ(1として、太陽電池の嗅結晶シリコン0衣面に
、テトライソプロポキシチタンを含む液状組成物を塗布
・加熱し、分解生成物として酸化チタンの薄膜を形成さ
せ、単層の反射防止効果を得る方法がある。(RCA、
Review、Vo1m41、No、2.I’133〜
180(1980))〔発明が解決しようとする間@点
及び目的〕しかし、前述の従来技術の内、真空蒸着法、
スパッタ蒸着、イオンブレーティング、CVD法等によ
る反射防止kmの形成法は、 (1)高度の真空度を侠する為、処理すべき基材O大き
さ、材料に制限を生ずる。また製造時間が長くかかり、
生産性、経済性が低い。
(2)薄膜材料は、主として無機化合物であり、緻密な
硬い膜を構成する反面、柔軟性に劣り、基材とO線膨張
率■違いがあると環境温度の変化によりクラックを生じ
たり、成形物品Th1G械的に曲げた時にクラックを生
ずる。
硬い膜を構成する反面、柔軟性に劣り、基材とO線膨張
率■違いがあると環境温度の変化によりクラックを生じ
たり、成形物品Th1G械的に曲げた時にクラックを生
ずる。
(3) 薄膜材料が強固に付着する基材材料が非常に
限定され、合1M、樹脂根やフィルムに充分な付着性を
得る事は非常に困難である。
限定され、合1M、樹脂根やフィルムに充分な付着性を
得る事は非常に困難である。
(4)染色、有色等の加工性に乏しい為、可視部に吸収
帯を持つ蒸着材料による有色に限定される。
帯を持つ蒸着材料による有色に限定される。
また、反射防止加工後の朱色は不可能である。
等の問題点を有する。
また、特開昭58−46301号公報による方法では、
反射防止薄膜が二層より形成されるため用途によって次
のような問題点がある。
反射防止薄膜が二層より形成されるため用途によって次
のような問題点がある。
(1)高い反射防止効果を発現させるための収厚コント
ロール’fc Vk度良く行わねばならず、製造のバラ
ツキが大きい。
ロール’fc Vk度良く行わねばならず、製造のバラ
ツキが大きい。
(2)特に眼鏡レンズ用に要望の強い、緑色系の反射干
渉色が得にくい。
渉色が得にくい。
さらには、特開昭58−46301号公報、特開昭59
−49501号公報による方法では、チタンのアルコラ
ード化合物、キレート化合物等O有機チタン化合物が高
屈折率薄膜材料として用^られているが、これらのチタ
ン化合(吻は通常350℃もしくはそれ以上の温度で完
全に縮重合するため、実施例中の硬化温度では、チタン
酸化物の薄膜が得られ難く、未反応アルコラード等O存
在により付着性、各種耐久性の点でかなりの問題点を有
する。
−49501号公報による方法では、チタンのアルコラ
ード化合物、キレート化合物等O有機チタン化合物が高
屈折率薄膜材料として用^られているが、これらのチタ
ン化合(吻は通常350℃もしくはそれ以上の温度で完
全に縮重合するため、実施例中の硬化温度では、チタン
酸化物の薄膜が得られ難く、未反応アルコラード等O存
在により付着性、各種耐久性の点でかなりの問題点を有
する。
また、金属アルコラードを用いて薄膜を形成する方法で
は、薄膜O表面側に未反応17)−OR基、−OR基が
残存するため、特に耐水性の点で問題がある。こOため
、太陽電池に用いられる単結晶シリコンや、無限ガラス
等の熱安定性を有する基材であれば、高温加熱が可能で
あり、膜り耐久性O開祖を解決することができるが、プ
ラスチック等■熱可塑性樹脂の場合には、塗布基材とし
て制限を生じるため、金属アルコラードの使用が困難で
ある。
は、薄膜O表面側に未反応17)−OR基、−OR基が
残存するため、特に耐水性の点で問題がある。こOため
、太陽電池に用いられる単結晶シリコンや、無限ガラス
等の熱安定性を有する基材であれば、高温加熱が可能で
あり、膜り耐久性O開祖を解決することができるが、プ
ラスチック等■熱可塑性樹脂の場合には、塗布基材とし
て制限を生じるため、金属アルコラードの使用が困難で
ある。
また、特開昭57−37301号公報の天紬例に開示さ
れた方法では、反射防止効果が充分でなく、また耐水性
も充分ではないという問題点を有する。
れた方法では、反射防止効果が充分でなく、また耐水性
も充分ではないという問題点を有する。
そこで、本発明は、このような問題点を解決するもので
、その目的とするところは、優れた反射防止特性を有し
、付着性、各種耐久性に富む反射防止膜を提供すること
にある。
、その目的とするところは、優れた反射防止特性を有し
、付着性、各種耐久性に富む反射防止膜を提供すること
にある。
本発明の反射防止膜は、
α)透明基材■少なくとも一部に、該基材から大気側に
向かって、■、@、θ■三層Q薄暎からなる反射防止膜
を施すにあたり、 b)■、@、○の三層の光学特性は、各々■ 1.55
<71α< 1.80 na X da = Aλ1/4 Cnm>@1.6
5 < nb < 2.25 nb X db = mλ2/4 (?L77L)
nb >na 61.40 < nc < 1.50 nc X dc = nλ3/4 (nm)(ここ
で、na 、 nb jnc は各々、[イ]層、[
ロ]へン。
向かって、■、@、θ■三層Q薄暎からなる反射防止膜
を施すにあたり、 b)■、@、○の三層の光学特性は、各々■ 1.55
<71α< 1.80 na X da = Aλ1/4 Cnm>@1.6
5 < nb < 2.25 nb X db = mλ2/4 (?L77L)
nb >na 61.40 < nc < 1.50 nc X dc = nλ3/4 (nm)(ここ
で、na 、 nb jnc は各々、[イ]層、[
ロ]へン。
0層の屈折率、da 、 clb 、 dcは各々、■
Ii @ (g) I、h、θ層Di厚(nm) kN
L、m’a正O正数整数、nは奇り正整数、λl 、
λ2 、λ3は各々独立に可視領駿■波長(nm単位)
を表す、また、na〉(基材■屈折率)である、)の条
件をイ補たし1、、=)eD層、@層、θ層O各薄膜は
、各々、液状で塗布し、加熱、乾燥或いは活性エネルギ
ー線による硬化で得られ、 d)さらに、■I’:i a @/W k形成するため
の液状組成物は成分として水または他7)浴媒に分散し
た酸化アンチモン微粒子Oフロイド分散体により提供さ
れる仁と全特徴とする。
Ii @ (g) I、h、θ層Di厚(nm) kN
L、m’a正O正数整数、nは奇り正整数、λl 、
λ2 、λ3は各々独立に可視領駿■波長(nm単位)
を表す、また、na〉(基材■屈折率)である、)の条
件をイ補たし1、、=)eD層、@層、θ層O各薄膜は
、各々、液状で塗布し、加熱、乾燥或いは活性エネルギ
ー線による硬化で得られ、 d)さらに、■I’:i a @/W k形成するため
の液状組成物は成分として水または他7)浴媒に分散し
た酸化アンチモン微粒子Oフロイド分散体により提供さ
れる仁と全特徴とする。
ここで、透明基材とは、ガラス成形物をはじめPMMA
やポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリスチ
レン、核置換フェニル&Th分子内に有する高屈折率樹
脂、アリル樹脂等の光学用途に用いられている合成樹脂
成形物品であり、その形状ハ、フィルム、パネル、レン
ズ、シート、そO他任意の物品に加工したものを用いる
ことができる。これらの基材は、そ7)t−1で、或い
は8焚に応じて艮面を変性させて、反射防止薄膜との付
着性を向上させることがol’能である。この衣面処理
の方法として、アルカリ性耐液或いは酸化力のある強敵
による処理(特公昭38−13784号公報等)、オゾ
ンによる処tl(、T]5P3227605号)、電荷
を負荷した火炎による処理(特開昭48−84879号
公報)、プラズマガスによる処理(特開昭53−137
269号公報)。
やポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリスチ
レン、核置換フェニル&Th分子内に有する高屈折率樹
脂、アリル樹脂等の光学用途に用いられている合成樹脂
成形物品であり、その形状ハ、フィルム、パネル、レン
ズ、シート、そO他任意の物品に加工したものを用いる
ことができる。これらの基材は、そ7)t−1で、或い
は8焚に応じて艮面を変性させて、反射防止薄膜との付
着性を向上させることがol’能である。この衣面処理
の方法として、アルカリ性耐液或いは酸化力のある強敵
による処理(特公昭38−13784号公報等)、オゾ
ンによる処tl(、T]5P3227605号)、電荷
を負荷した火炎による処理(特開昭48−84879号
公報)、プラズマガスによる処理(特開昭53−137
269号公報)。
酸化剤と還元剤による処理(特開昭48−81966
Jy公報)−ポリエチレングリコールを含むアルカリ金
属溶液による処理(特願昭59−119682号)その
他、コロナ放電、スパッタリン“グ、紫外線や電子線、
放射線等の活性軍田波照射等の例を挙けることができ、
基材■材質や表面■状態により、公知の表面処理¥−施
して使用することができる。
Jy公報)−ポリエチレングリコールを含むアルカリ金
属溶液による処理(特願昭59−119682号)その
他、コロナ放電、スパッタリン“グ、紫外線や電子線、
放射線等の活性軍田波照射等の例を挙けることができ、
基材■材質や表面■状態により、公知の表面処理¥−施
して使用することができる。
また、基材が合成樹脂■ように比較的傷つき易い場合、
耐摩耗性を向上させる為、予め、耐摩耗性Q硬化被膜を
施し、その上に反射防止薄膜を積層することができる。
耐摩耗性を向上させる為、予め、耐摩耗性Q硬化被膜を
施し、その上に反射防止薄膜を積層することができる。
これらの方法としては、例えば、特願昭58−1554
55号や、特公昭57−2735号公報等に示された表
面硬化被膜全形成する方法がある。また、N色原や調光
性能を有する被膜を有する光学基材(特開昭59−46
623号公報)を用いることもできる。
55号や、特公昭57−2735号公報等に示された表
面硬化被膜全形成する方法がある。また、N色原や調光
性能を有する被膜を有する光学基材(特開昭59−46
623号公報)を用いることもできる。
本発明において、反射防止膜として屈折率の相異なる三
層の薄膜を透明基材上に形成する訳であるが、薄膜の光
学機能は、それぞれの薄膜?形成するための液Amg物
およびその塗布法・硬化法により、各薄膜の光学特性が
決定付けられる。
層の薄膜を透明基材上に形成する訳であるが、薄膜の光
学機能は、それぞれの薄膜?形成するための液Amg物
およびその塗布法・硬化法により、各薄膜の光学特性が
決定付けられる。
本発明における■、[ロ]、[ハ]の各層を形成する為
■液状組成物の成分として、酸化アンチモンO微粒子θ
コロイド分散体は、高屈折率成分として不可欠θもので
ある。また、更に、塗膜′7)耐水性、耐久性、技染色
性を得る為にも重要な成分である。
■液状組成物の成分として、酸化アンチモンO微粒子θ
コロイド分散体は、高屈折率成分として不可欠θもので
ある。また、更に、塗膜′7)耐水性、耐久性、技染色
性を得る為にも重要な成分である。
また、これ以外には、溶媒にシリカ微粒子全分散させた
コロイダルシリカ、有機残基kWjる金属化合物やその
加水分解縮合物、天然樹脂、合成便脂等の高分子、重合
性亀緻体、熟硬化反応型単匿体等の反応性化合物から選
ばれる少くとも一成分を用い、屈折率を!1.Il整し
、或1八は染色性を改善することができる。
コロイダルシリカ、有機残基kWjる金属化合物やその
加水分解縮合物、天然樹脂、合成便脂等の高分子、重合
性亀緻体、熟硬化反応型単匿体等の反応性化合物から選
ばれる少くとも一成分を用い、屈折率を!1.Il整し
、或1八は染色性を改善することができる。
ここで、酸化アンチモン微粒子のコロイドゾル体とは、
五酸化アンチモン、あるいは、三酸化アンチモン微粒子
で、気相法で得たものを分散媒に分散したものや、液相
法で得たコロイドゾル等が利用できる。このゾルの微粒
子の粒径は、1〜100m1t、好ましくは1〜50m
μの酸化アンチモンが有用である9粒径が100?71
μ以上では鼓膜に白濁金主じ、1mμ以下T:は、鼓膜
の耐水性が低下する。酸化アンチモン微粒子の分散媒と
しては、水、メタノール、エタノール、イングロバノー
ル、セロンルブ等の他、酢酸等のカルボン酸O使用も可
能である。また、特に水を分散媒とした場合、ゾル微粒
子を酢酸、硝酸、硫酸、アミン等で安定化させたものが
有用である。
五酸化アンチモン、あるいは、三酸化アンチモン微粒子
で、気相法で得たものを分散媒に分散したものや、液相
法で得たコロイドゾル等が利用できる。このゾルの微粒
子の粒径は、1〜100m1t、好ましくは1〜50m
μの酸化アンチモンが有用である9粒径が100?71
μ以上では鼓膜に白濁金主じ、1mμ以下T:は、鼓膜
の耐水性が低下する。酸化アンチモン微粒子の分散媒と
しては、水、メタノール、エタノール、イングロバノー
ル、セロンルブ等の他、酢酸等のカルボン酸O使用も可
能である。また、特に水を分散媒とした場合、ゾル微粒
子を酢酸、硝酸、硫酸、アミン等で安定化させたものが
有用である。
こO酸化アンチモン微粒子は、形成された薄膜中に0層
で10重社チ以上、0層で40重社チ以上含まれること
が必要であり、これは、■層、■層における酸化アンチ
モン微粒子の含有量がそれ以下になると反射防止薄膜と
して要求される所望の屈折率が得られ難いためである。
で10重社チ以上、0層で40重社チ以上含まれること
が必要であり、これは、■層、■層における酸化アンチ
モン微粒子の含有量がそれ以下になると反射防止薄膜と
して要求される所望の屈折率が得られ難いためである。
次に、コロイダルシリカとしては、粒径1〜10077
1μ■シリ力微粒子を含むも■が、所望■硬さを得る上
で好適であるが、コロイダルシリカの代わりに、池■金
属酸化物微粒子0コロイド状分散体を併用することもで
きる。
1μ■シリ力微粒子を含むも■が、所望■硬さを得る上
で好適であるが、コロイダルシリカの代わりに、池■金
属酸化物微粒子0コロイド状分散体を併用することもで
きる。
また、有機残基全方する金属化合物としては、一般式E
eaRh *、 8 i 4−α−すで夫わされるシラ
ンカップリング剤や、テトラアルコキシシラン等がある
。
eaRh *、 8 i 4−α−すで夫わされるシラ
ンカップリング剤や、テトラアルコキシシラン等がある
。
これらの加水分解物、部分縮合物等も同等O性質を有す
る。ここでR1は、アルキル基、アルケニル基、フェニ
ル基、ハロゲン基等、またR?は、エポキシ基、アミン
基、アミド基、メルカプト基、メタクリロイルオキシ基
、シアン基、核ハロゲン化芳香猿を有する基等を含む有
機基を示し、Xはハロゲン基、アルコキシル基、アルコ
キシアルコキシル基、アシルオキシ基等の加水分解可能
な基を示す、また、α、bは、各々0.1または2で、
α+bが1な^し3である。これらの化合物の例として
は、テトラメトキシシラン等の四官能シラン、メチルト
リメトキシシラン、r−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、r−メタクリロイル
オキシプロピルトリメトキシシラン、βf3.4−エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン#r−
ダリシドキシプロビルトリメトキシシラン、γ−メチル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−r
−アミノプロピルトリメトキシシラン、r−ウレイドグ
ロビルトリメトキシシラン、γ−シアノプロピルトリメ
トキシシラン、r−モ゛ルフオリノブロビルトリメトキ
シシラン、N−フェニルアミノグロビルトリメトキシシ
ラン等の三官能シラン、前記三官能シラン〇一部がメチ
ル基、エチル基、ビニル基に置換した三官能シラン等が
挙げられる。この他、特に低屈折率層を形成させる為に
、パーフルオロアルキル基を含む官能シラン化合物が好
適である。
る。ここでR1は、アルキル基、アルケニル基、フェニ
ル基、ハロゲン基等、またR?は、エポキシ基、アミン
基、アミド基、メルカプト基、メタクリロイルオキシ基
、シアン基、核ハロゲン化芳香猿を有する基等を含む有
機基を示し、Xはハロゲン基、アルコキシル基、アルコ
キシアルコキシル基、アシルオキシ基等の加水分解可能
な基を示す、また、α、bは、各々0.1または2で、
α+bが1な^し3である。これらの化合物の例として
は、テトラメトキシシラン等の四官能シラン、メチルト
リメトキシシラン、r−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、r−メタクリロイル
オキシプロピルトリメトキシシラン、βf3.4−エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン#r−
ダリシドキシプロビルトリメトキシシラン、γ−メチル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−r
−アミノプロピルトリメトキシシラン、r−ウレイドグ
ロビルトリメトキシシラン、γ−シアノプロピルトリメ
トキシシラン、r−モ゛ルフオリノブロビルトリメトキ
シシラン、N−フェニルアミノグロビルトリメトキシシ
ラン等の三官能シラン、前記三官能シラン〇一部がメチ
ル基、エチル基、ビニル基に置換した三官能シラン等が
挙げられる。この他、特に低屈折率層を形成させる為に
、パーフルオロアルキル基を含む官能シラン化合物が好
適である。
また、シラン以外の有機残基全方する金属化合物は、全
般に屈折率の高い薄膜形成に有用である。
般に屈折率の高い薄膜形成に有用である。
この例としては、チタネート系カップリング剤やアルミ
ニウム系カップリング剤’thしめ、ジルコニウム、タ
ンタル、スズ、インジウム等のアルコラード、アシレー
トやキレート性化合物が性用である。
ニウム系カップリング剤’thしめ、ジルコニウム、タ
ンタル、スズ、インジウム等のアルコラード、アシレー
トやキレート性化合物が性用である。
この他、これらと類似O方法で調整出来るハフニウム、
トリウム、バナジウム、ニオブ、クロム、モリブテン、
マンガン、鉄、セリウム、ランタン鉛、亜鉛等のアルコ
ラード、アシレート、キレート性化合物等も利用可能で
ある。
トリウム、バナジウム、ニオブ、クロム、モリブテン、
マンガン、鉄、セリウム、ランタン鉛、亜鉛等のアルコ
ラード、アシレート、キレート性化合物等も利用可能で
ある。
次に、天然樹脂、合成樹脂等の高分子材料としては、主
な目的は、金桟原子■安定化剤、或lAは柔軟性、被染
色性、靭性を付与することである。
な目的は、金桟原子■安定化剤、或lAは柔軟性、被染
色性、靭性を付与することである。
ttRO例としては、カルボキシアルキル化セルロース
等のセルロース類、テルペン糸樹脂、グルコース訪導体
、ポリアミノ酸、キチン、キトサン類、デンプン類の天
然高分子や、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリ
コール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポ
リメタクリル酸エステル、ポリビニルアミン、ポリウレ
タン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポ
リビニルイミダゾール等の陰性基を有する合成高分子や
、ポリスチレン、ビスフェノールA#ポリカーボネート
等の會芳香族高分子やポリサル7オン類■高屈折率高分
子、フッ素樹脂のような低屈折率高分子が挙げられる。
等のセルロース類、テルペン糸樹脂、グルコース訪導体
、ポリアミノ酸、キチン、キトサン類、デンプン類の天
然高分子や、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリ
コール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポ
リメタクリル酸エステル、ポリビニルアミン、ポリウレ
タン、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポ
リビニルイミダゾール等の陰性基を有する合成高分子や
、ポリスチレン、ビスフェノールA#ポリカーボネート
等の會芳香族高分子やポリサル7オン類■高屈折率高分
子、フッ素樹脂のような低屈折率高分子が挙げられる。
また、粘度v!4整、特性改質、強靭さ、耐久性を得る
為に加える反応性化合物0例としては、元硬化型の多官
能アクリレート類をはじめとして、エチレングリコール
ジグリシジルエーテル等Qエポキシ化合物を加えること
ができる。
為に加える反応性化合物0例としては、元硬化型の多官
能アクリレート類をはじめとして、エチレングリコール
ジグリシジルエーテル等Qエポキシ化合物を加えること
ができる。
また、上記の有機成分は、形成された薄膜中に少くとも
、20重敞チ含まれることが盛装である。
、20重敞チ含まれることが盛装である。
すなわち、20重奮チ以下では、弾力性が充分でなく、
耐熱性、i′を衝撃性等の耐久性に劣る。また薄膜各層
間の付着性も充分なものが得られ難い。
耐熱性、i′を衝撃性等の耐久性に劣る。また薄膜各層
間の付着性も充分なものが得られ難い。
また、上限は限定されないが、有機成分の多いものは、
硬さが劣る傾向にあり、また、高屈折率層の屈折率を高
く保つことが難しい。従って、用途との兼ねおいで該範
囲で有機成分の種類と含址を決めることが望ましい。
硬さが劣る傾向にあり、また、高屈折率層の屈折率を高
く保つことが難しい。従って、用途との兼ねおいで該範
囲で有機成分の種類と含址を決めることが望ましい。
本発明における液状組成物は、上記!7:l薄膜形成物
O他に塗布作業性の問題を考慮して、適当な溶剤が加え
られる。溶剤としては、アルコール類、ケトン類、セロ
ンルブ類、ホルムアミド類や水、フレオン等の溶剤を用
いて、1〜20重量%Q固形分を含む溶液が好適である
が、必ずしも限定されるものではない。
O他に塗布作業性の問題を考慮して、適当な溶剤が加え
られる。溶剤としては、アルコール類、ケトン類、セロ
ンルブ類、ホルムアミド類や水、フレオン等の溶剤を用
いて、1〜20重量%Q固形分を含む溶液が好適である
が、必ずしも限定されるものではない。
また、界面活性剤や紫外線吸収剤、酸化防止剤、チキン
トロピー剤、顔料、染料、帯電防止剤、導電性粒子等を
加えることもできる。
トロピー剤、顔料、染料、帯電防止剤、導電性粒子等を
加えることもできる。
このようにして得られた組成物は、公知の方法で塗布・
硬化させることによって塗膜を形成させル、即チ、フロ
ーコート、ディップコート、スピンコード、ロールコー
ト、スプレーコートオヨヒ各種の改善された塗布方法を
用いることができる。
硬化させることによって塗膜を形成させル、即チ、フロ
ーコート、ディップコート、スピンコード、ロールコー
ト、スプレーコートオヨヒ各種の改善された塗布方法を
用いることができる。
また、乾燥と硬化は、用いる基材および成分によって決
められるが、好ましくは40℃〜130℃で、10分〜
10時間の加熱による硬化が実用的である。
められるが、好ましくは40℃〜130℃で、10分〜
10時間の加熱による硬化が実用的である。
また、用いた成分中の反応基Q架橋、重合反応を促進す
る為、赤外線、紫外線や、r線、電子線の照射を行うこ
とによっても硬化を行うことが出来る。
る為、赤外線、紫外線や、r線、電子線の照射を行うこ
とによっても硬化を行うことが出来る。
また、本発明の■、@、θ層の塗工前に、その付着性を
向上させる目的で、基材をプラズマ処理アルカリ処理等
の表面処理を行うことも有用である。
向上させる目的で、基材をプラズマ処理アルカリ処理等
の表面処理を行うことも有用である。
本発明における反射防止薄膜の屈折率は、基材から第1
層、第2層、第3層の屈折率がそれぞれ1.55〜1.
80および1.65〜2.25および1.4σ〜1.5
0であり、且つ屈折率は第2層が最も高く、次に第1層
、第3層と低くなるもQである。また、naは基材の屈
折率より高いものを選択する心安がある。一方、膜厚は
、溶剤或いはコーティング法で調整する事により任意の
直に設定出来る為、屈折率の組合せに応じた任意の膜厚
の組合せから選択するが、特に各層の光学膜厚は、可視
波長の四分の−の奇の整数倍が好ましい、これらの光学
的条件から外れる場合は、反射防止特性が劣るため好ま
しくない。
層、第2層、第3層の屈折率がそれぞれ1.55〜1.
80および1.65〜2.25および1.4σ〜1.5
0であり、且つ屈折率は第2層が最も高く、次に第1層
、第3層と低くなるもQである。また、naは基材の屈
折率より高いものを選択する心安がある。一方、膜厚は
、溶剤或いはコーティング法で調整する事により任意の
直に設定出来る為、屈折率の組合せに応じた任意の膜厚
の組合せから選択するが、特に各層の光学膜厚は、可視
波長の四分の−の奇の整数倍が好ましい、これらの光学
的条件から外れる場合は、反射防止特性が劣るため好ま
しくない。
以下、実施例により本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。
はこれに限定されるものではない。
実施例1
(1) 高屈折率用コーティング1(Al)の調製反
応用フラスコ内に、酢酸60.0? ’r−入れ、攪拌
下、酢酸を分散媒とする五酸化アンチモン微粒子のコロ
イド分散体(sli−均粒予後15±1mμm5b20
S含有ffl: 19.17%) 50.08 fを加
え、充分攪拌した後、γ−グリシドキシプロビルトリメ
トキシシラン3゜432を加え、室温下1時間攪拌を行
った。その後、メチルセロソルブ140.1?、および
シリコン系界面活性剤0.022ヲ加え、コーテイング
液とした。こ■塗布/10)粘度ハエ。4センチストー
クス(20℃)、固形分濃度は、5.1型針チであった
。
応用フラスコ内に、酢酸60.0? ’r−入れ、攪拌
下、酢酸を分散媒とする五酸化アンチモン微粒子のコロ
イド分散体(sli−均粒予後15±1mμm5b20
S含有ffl: 19.17%) 50.08 fを加
え、充分攪拌した後、γ−グリシドキシプロビルトリメ
トキシシラン3゜432を加え、室温下1時間攪拌を行
った。その後、メチルセロソルブ140.1?、および
シリコン系界面活性剤0.022ヲ加え、コーテイング
液とした。こ■塗布/10)粘度ハエ。4センチストー
クス(20℃)、固形分濃度は、5.1型針チであった
。
(2) 低屈折率用コーテイング液(A2)の調製反応
用フラスコ内に、エタノール85.729 k入れ、攪
拌下、r−プリシドキシグロビル(メチル) シyl
) キシシラy8.57F 、 0.051J塩酸1.
251P を加え、攪拌下、加水分解を1時間行った。
用フラスコ内に、エタノール85.729 k入れ、攪
拌下、r−プリシドキシグロビル(メチル) シyl
) キシシラy8.57F 、 0.051J塩酸1.
251P を加え、攪拌下、加水分解を1時間行った。
この後エタノール分散コロイダルシリカ(オスカル12
32#触媒化FM、■、固形分濃度30チ)202を加
え、室温で30分間攪拌を行った。その後、メチルセロ
ソルブ85.72 F 、シリコン系界面活性剤0.0
29 e加え、コーテイング液とした。この塗布1ff
lo粘度は、1.3センチストークス(20℃)、固形
分濃度は、6.2重鎗チであった。
32#触媒化FM、■、固形分濃度30チ)202を加
え、室温で30分間攪拌を行った。その後、メチルセロ
ソルブ85.72 F 、シリコン系界面活性剤0.0
29 e加え、コーテイング液とした。この塗布1ff
lo粘度は、1.3センチストークス(20℃)、固形
分濃度は、6.2重鎗チであった。
(3) 中屈折率用コーテイング液(A3)の調製前
項(1)の添加縫をそれぞれ下記に示すとおりに変更す
る他は、すべて同様にして調製した。
項(1)の添加縫をそれぞれ下記に示すとおりに変更す
る他は、すべて同様にして調製した。
酢酸 50.03 f
酢酸を分散媒とする五酸化アンチモン微粒子のコロイド
分散体 26.08f γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン
7.14 F メチルセロソルブ 116.75 Fこの塗布液の粘
度は、1.4センチストークス(加℃)、固形分濃度は
、5.2重址チであった。
分散体 26.08f γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン
7.14 F メチルセロソルブ 116.75 Fこの塗布液の粘
度は、1.4センチストークス(加℃)、固形分濃度は
、5.2重址チであった。
なお、上記コーテイング液(1) 、 (2) 、(3
)は、ii調製後、各々、メンブランフィルタ−により
ろ過を行い、巨大粒子や不溶分を除去した。
)は、ii調製後、各々、メンブランフィルタ−により
ろ過を行い、巨大粒子や不溶分を除去した。
(4)反射防止膜の塗布および硬化
5チ水酸化す) IJウム水溶液中に5分間浸漬し、ア
ルカリ処理を施したジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート樹脂のフラット板(直径10譚、厚さ0.5
m、屈折率1.50 、全光線透過率92チ)に反射防
止膜を以下の方法で設けた。
ルカリ処理を施したジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート樹脂のフラット板(直径10譚、厚さ0.5
m、屈折率1.50 、全光線透過率92チ)に反射防
止膜を以下の方法で設けた。
最初に中屈折率薄膜用の塗布液(A−3)に該樹脂?浸
し、液1110℃、引上げ速度3cm1分の条件で、塗
布を行った。引上げ1.100℃で30分硬化を行い、
中屈折率層を得た。
し、液1110℃、引上げ速度3cm1分の条件で、塗
布を行った。引上げ1.100℃で30分硬化を行い、
中屈折率層を得た。
続^て該樹脂を、強塩酸水溶液に3分間浸し、充分水洗
を行い乾燥させた後、高屈折率薄膜用塗布液(A−1)
に浸し、液温lO℃、引上は速度3crn/分の条件で
塗布2行った。引上げ後、100℃で40分硬化を行い
、高屈折率層を積16シた。
を行い乾燥させた後、高屈折率薄膜用塗布液(A−1)
に浸し、液温lO℃、引上は速度3crn/分の条件で
塗布2行った。引上げ後、100℃で40分硬化を行い
、高屈折率層を積16シた。
最後に、該樹脂を、強塩酸水溶液に2分間浸し、充分水
洗を行い乾燥させた後、低屈折率薄膜用塗布1(A−2
)に浸し、液温7℃、引上げ速度2crn/分の条件で
、塗布を行った。引上げ後、120℃で20分硬化させ
、三層からなる反射防止膜を得た。
洗を行い乾燥させた後、低屈折率薄膜用塗布1(A−2
)に浸し、液温7℃、引上げ速度2crn/分の条件で
、塗布を行った。引上げ後、120℃で20分硬化させ
、三層からなる反射防止膜を得た。
(5)試験結果
反射防止膜?設けたジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート樹脂の全光線透過率は、96.3チであり、
反射干渉色は緑色?呈した。
ーボネート樹脂の全光線透過率は、96.3チであり、
反射干渉色は緑色?呈した。
クロスカットテープ試験により密着性を評価したところ
、全く間Uがなく、耐水性、耐擦傷性(÷0000スチ
ールウール、l()回擦傷)、耐温水性(60℃)の結
果も良好であった。
、全く間Uがなく、耐水性、耐擦傷性(÷0000スチ
ールウール、l()回擦傷)、耐温水性(60℃)の結
果も良好であった。
なお、(A3)、(AI)、(A2)の缶液を塗布して
得られた薄膜を各々、11 、12.13層とすると、
屈折率と膜厚は以下のとおりであった。
得られた薄膜を各々、11 、12.13層とすると、
屈折率と膜厚は以下のとおりであった。
薄膜 屈折率 膜厚(nm)
11 1.61 79.4
12 1.70 71.6
J3 1.49 85.8
実施例2
(1) 高屈折率用コーテイング液(B1)の調製反
応用フラスコ内に、イソプロピルアルコール’17.9
22を入れ、攪拌下、イソプロピルアルコールを分散媒
とする五酸化アンチモン微粒子のコロイド分散体(平均
粒子径21±1mμs 5bZO5含有社23.5チ)
42.55 Fを加え、攪拌した後、γ−グリシドキ
シグロビル(メチル)ジメトキシシラン1゜791.0
.05N塩酸水0.74M’を加え、室温下2時間攪拌
を行った。そ■後、攪拌下、メチルエチルケトン116
.88F、グリセロールジグリシジルエーテル1.25
1 、過塩素酸マグネシウム0.0272を加え、溶解
させた。この塗布液■粘度は、1.3センチストークス
(20℃)、固形分値開は、4.8重社チであった。
応用フラスコ内に、イソプロピルアルコール’17.9
22を入れ、攪拌下、イソプロピルアルコールを分散媒
とする五酸化アンチモン微粒子のコロイド分散体(平均
粒子径21±1mμs 5bZO5含有社23.5チ)
42.55 Fを加え、攪拌した後、γ−グリシドキ
シグロビル(メチル)ジメトキシシラン1゜791.0
.05N塩酸水0.74M’を加え、室温下2時間攪拌
を行った。そ■後、攪拌下、メチルエチルケトン116
.88F、グリセロールジグリシジルエーテル1.25
1 、過塩素酸マグネシウム0.0272を加え、溶解
させた。この塗布液■粘度は、1.3センチストークス
(20℃)、固形分値開は、4.8重社チであった。
(2) 低屈折率用コーテイング液(B2)■調製反応
用フラスコ内に、エタノール88.91 ? k入れ、
攪拌下、r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン
2.53r、0.05N塩酸水1.32Fを加え、室温
下、1時間攪拌を行った。
用フラスコ内に、エタノール88.91 ? k入れ、
攪拌下、r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン
2.53r、0.05N塩酸水1.32Fを加え、室温
下、1時間攪拌を行った。
この後、インプロピルアルコール分散コロイダルシリカ
(オスカル1432.触媒化成■、固形分濃度30%)
a、331 、メチルトリエトキシシラン13.30
9を加え、室温で加分間攪拌を行った。
(オスカル1432.触媒化成■、固形分濃度30%)
a、331 、メチルトリエトキシシラン13.30
9を加え、室温で加分間攪拌を行った。
ソノ後、メチルセロソルブ133.36F 、グリセロ
ールジグリシジルエーテル2.53P s過塩素酸マグ
ネシウム0.0749 k加え、溶解させた。この塗布
液の粘度は、1.6センチストークス(20℃)、固形
分濃度は、5.2重量%であった。
ールジグリシジルエーテル2.53P s過塩素酸マグ
ネシウム0.0749 k加え、溶解させた。この塗布
液の粘度は、1.6センチストークス(20℃)、固形
分濃度は、5.2重量%であった。
(3) 中屈折率用コーテイング液(B3)■調製前
項α)■添加量をそれぞれ下記に示すとおりに変更する
他は、ナベで同様にして調製した。
項α)■添加量をそれぞれ下記に示すとおりに変更する
他は、ナベで同様にして調製した。
イソプロピルアルコール 86.22 fイソプロピ
ルアルコールを分散媒とする五酸化アンチモン微粒子の
コロイド分散体 26.60 Pγ−グリシドキシブ
aビル(メチル)ジメトキシシラン 5.35 F 0.05N塩酸水 1.02 メチルエチルケトン 129.33 yグリセロール
ジグリシジルエーテル 2.52過塩素酸マグネシウム
0.057 ’?こ■塗布液の粘度は1.4センチス
トークス(20℃)、固形分濃度は、5.0重肚チでお
った。
ルアルコールを分散媒とする五酸化アンチモン微粒子の
コロイド分散体 26.60 Pγ−グリシドキシブ
aビル(メチル)ジメトキシシラン 5.35 F 0.05N塩酸水 1.02 メチルエチルケトン 129.33 yグリセロール
ジグリシジルエーテル 2.52過塩素酸マグネシウム
0.057 ’?こ■塗布液の粘度は1.4センチス
トークス(20℃)、固形分濃度は、5.0重肚チでお
った。
なお、上dピコ−ティングI(1)、(2)、(3)は
、液調製後、各々、メンブランフィルタ−によりろ過を
行ム巨大粒子や不溶分を除去した。
、液調製後、各々、メンブランフィルタ−によりろ過を
行ム巨大粒子や不溶分を除去した。
(4)Aカードコート加工
α)ハードコート液の調製
r−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン13.5
F 、エタノール分散コロイダルシリカ(オスカル12
32.触媒化成■、固形分[1加チ)22.5fおよび
メチルセロソルブ135.3 tからなる溶液に、0.
05N塩酸水3.699を徐々に滴下し加水分解を行っ
た。この溶液を0℃で為時間熟成した後、グリセロール
ジグリシジルエーテル9.02と過塩素酸マグネシウム
0.1217fとシリコン系界面活性剤0.04fを加
え室温T3時間攪拌し、ノーードコート液とした。
F 、エタノール分散コロイダルシリカ(オスカル12
32.触媒化成■、固形分[1加チ)22.5fおよび
メチルセロソルブ135.3 tからなる溶液に、0.
05N塩酸水3.699を徐々に滴下し加水分解を行っ
た。この溶液を0℃で為時間熟成した後、グリセロール
ジグリシジルエーテル9.02と過塩素酸マグネシウム
0.1217fとシリコン系界面活性剤0.04fを加
え室温T3時間攪拌し、ノーードコート液とした。
b)ハードコート液の塗布及び硬化
5%水酸化す) IJウム水溶液中に5分間浸漬し、ア
ルカリ処理5施したジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート樹脂製プラルンズ(屈折率1.50.全光線
透過率92%)を、前記ハードコート液に浸した後、引
上げ速度15crn/分の条件で塗布を行った。続いて
、熱風乾燥炉に2.80℃で1時間、130℃で1時間
別¥p!を行い硬化させた。
ルカリ処理5施したジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート樹脂製プラルンズ(屈折率1.50.全光線
透過率92%)を、前記ハードコート液に浸した後、引
上げ速度15crn/分の条件で塗布を行った。続いて
、熱風乾燥炉に2.80℃で1時間、130℃で1時間
別¥p!を行い硬化させた。
この時■ハードコート層の膜厚は2.3μmであった。
(5)反射防止膜の塗布および硬化
前記(4)で得られたレンズを、アルゴンガスプラズマ
処理(400W、20秒)1fr:行った後、以下の方
法で反射防止膜を設けた。
処理(400W、20秒)1fr:行った後、以下の方
法で反射防止膜を設けた。
般初に中屈折率薄膜用O塗布後(B−3)に該レンズを
浸し、H@ 10℃、引上げ速度3 cm 7分の条件
’t=塗布を行った。引上げ後100℃で40分硬化を
行い、中屈折率層を得た。
浸し、H@ 10℃、引上げ速度3 cm 7分の条件
’t=塗布を行った。引上げ後100℃で40分硬化を
行い、中屈折率層を得た。
続いて該レンズを強酸性水溶液中に浸し3分間処哩した
後、十分水洗を行い乾燥させた1次いで、高屈折率薄膜
用塗布液(B−1)に浸し、1mx。
後、十分水洗を行い乾燥させた1次いで、高屈折率薄膜
用塗布液(B−1)に浸し、1mx。
℃、引上げ速度3 cm 7分の条件で塗布を行った。
引上げ後、100℃で45分硬化を行い、高屈折率1−
全積層した。
全積層した。
最後に、該レンズを強酸性水溶液中に3分間浸し、十分
水洗を行った後、吐油折率薄膜用塗布液(B−2)に浸
し、′tL温8℃、引上げ速度2儒/分O条件で塗布2
行った。引上げ後、130℃で30分硬化させ、三層か
らなる反射防止膜を得た。
水洗を行った後、吐油折率薄膜用塗布液(B−2)に浸
し、′tL温8℃、引上げ速度2儒/分O条件で塗布2
行った。引上げ後、130℃で30分硬化させ、三層か
らなる反射防止膜を得た。
(6)試験結果
こ■ようにして得られたレンズO全光線透過率は、 9
6.5%であり、反射干渉色は、緑色を呈しまた。
6.5%であり、反射干渉色は、緑色を呈しまた。
また、この反射防止レンズを赤、宵、黄03色を混合し
た市販の分散染料を水に分散溶解させた染色浴を用い、
凹℃、加分間染色した。こOレンズの全光線透過率は5
6.7%で、良好な染色性を示した。
た市販の分散染料を水に分散溶解させた染色浴を用い、
凹℃、加分間染色した。こOレンズの全光線透過率は5
6.7%で、良好な染色性を示した。
さらに、クロスカットテープ試験により密着性を評価し
たところ、全く問題がなく、耐水性、耐擦傷性(す。o
ooスチールウール、10回擦傷)、耐温水性(60℃
)の結果も良好であった。
たところ、全く問題がなく、耐水性、耐擦傷性(す。o
ooスチールウール、10回擦傷)、耐温水性(60℃
)の結果も良好であった。
なお、(B3) 、 (Bl) 、 (B2) の缶
液を塗布して得られた薄PIAを各々21 、22 、
お層とすると、屈折率と膜厚は以下のとおりであった。
液を塗布して得られた薄PIAを各々21 、22 、
お層とすると、屈折率と膜厚は以下のとおりであった。
薄膜 屈折率 膜厚(nm)
21 1.58 82.82
2 1.71 76.9 Z3 1.48 87.8天
旅例3 (1) 高屈折率用コーテイング液(cl)ok製反
応用フラスコ内に、エチルセロソルブ180.22を入
れ、攪拌下、水を分散媒とする三酢化アンチモン微粒子
のコロイド分散体(乎均粒子径40土1 m A 、
sbo、含有!!−27,3%) 17.589 k加
え充分攪拌した後、γ−グリシドキシプロビルトリエト
キシシラン1.71f 、 0.051J塩酸水0.4
7y 。
2 1.71 76.9 Z3 1.48 87.8天
旅例3 (1) 高屈折率用コーテイング液(cl)ok製反
応用フラスコ内に、エチルセロソルブ180.22を入
れ、攪拌下、水を分散媒とする三酢化アンチモン微粒子
のコロイド分散体(乎均粒子径40土1 m A 、
sbo、含有!!−27,3%) 17.589 k加
え充分攪拌した後、γ−グリシドキシプロビルトリエト
キシシラン1.71f 、 0.051J塩酸水0.4
7y 。
エタノール分散コロイダルシリカ(オスカル1232、
触媒化成員、固形分製団3oチ)2゜072゜およびシ
リコン系界面活性剤帆02fを加え、コーテイング液と
した。この塗布液0粘度は、1.5my、、)−クス(
20℃)、固形分濃度は、5.91蔽チであった。
触媒化成員、固形分製団3oチ)2゜072゜およびシ
リコン系界面活性剤帆02fを加え、コーテイング液と
した。この塗布液0粘度は、1.5my、、)−クス(
20℃)、固形分濃度は、5.91蔽チであった。
(2) 低屈折率用コーテイング液(C2)■調製低
屈折率コーティング液として市販Oフッ素シリコーンコ
ーティング剤(商品名”KP−801’、信越シリコー
ン作製、固形分3%)を用いた。
屈折率コーティング液として市販Oフッ素シリコーンコ
ーティング剤(商品名”KP−801’、信越シリコー
ン作製、固形分3%)を用いた。
(3) 中屈折率用コーテイング液(C3)■調製前
□記実施例1における高屈折率用コーティングf& (
AI) 73.8 yと低屈折率用コーテイング液(A
2 ) 64.7t f混合し、中屈折率用コーテイン
グ液(C3)とした。こO塗布液O粘度はC4cmスト
ークス(20℃)、固形分@度は、5.6重量%であっ
た。
□記実施例1における高屈折率用コーティングf& (
AI) 73.8 yと低屈折率用コーテイング液(A
2 ) 64.7t f混合し、中屈折率用コーテイン
グ液(C3)とした。こO塗布液O粘度はC4cmスト
ークス(20℃)、固形分@度は、5.6重量%であっ
た。
なお、上記コーテイング液(1) 、 (2) 、 (
3)は、液調製後、各々、メンブランフィルタ−により
ろ過を行い、巨大粒子や不溶分を除去した。
3)は、液調製後、各々、メンブランフィルタ−により
ろ過を行い、巨大粒子や不溶分を除去した。
(4)反射防止膜の塗布および硬化
5チ水酸化す) IJウム水溶液中に3分間浸漬しアル
カリ処理ヲ施した市販の無機ガラスパネル(直径12c
rn、厚さ0.2+wa、屈折率1.52.全光線透過
率92%)に、以下の方法で反射防止膜を設けた。
カリ処理ヲ施した市販の無機ガラスパネル(直径12c
rn、厚さ0.2+wa、屈折率1.52.全光線透過
率92%)に、以下の方法で反射防止膜を設けた。
最初に中屈折率薄膜用の塗布液CC−3)に、該ガラス
パネルを浸し、液@9℃、引上げ速度3備/分の条件で
塗布を行った。引上げ後100℃で5分間硬化を行い、
中屈折率層fi!:得た。
パネルを浸し、液@9℃、引上げ速度3備/分の条件で
塗布を行った。引上げ後100℃で5分間硬化を行い、
中屈折率層fi!:得た。
続りで該ガラスパネルを強酸性水溶液中に3分間浸し、
十分水洗を行った後、高屈折間膜用塗布液(C−1)に
浸し、液@lO℃、引上げ速度3 cm 1分の条件で
塗布を行った。引上げ後、100℃で30分硬化を行い
、高屈折率層を積層した。
十分水洗を行った後、高屈折間膜用塗布液(C−1)に
浸し、液@lO℃、引上げ速度3 cm 1分の条件で
塗布を行った。引上げ後、100℃で30分硬化を行い
、高屈折率層を積層した。
最後に該ガラスパネルを、酸素プラズマガス処理(50
0W 、 lo秒)を行った後、低屈折率薄膜用塗布液
(C−2)に浸し、液@7℃、引上げ速度2crn/分
の条件で塗布を行った。引上げ後、100℃で加分間乾
燥硬化させ、三層からなる反射−防止膜を得た。
0W 、 lo秒)を行った後、低屈折率薄膜用塗布液
(C−2)に浸し、液@7℃、引上げ速度2crn/分
の条件で塗布を行った。引上げ後、100℃で加分間乾
燥硬化させ、三層からなる反射−防止膜を得た。
(5)試験結果
このようにして得られたガラスパネルの全光線透過率は
97.5%であり、反射干渉色は、赤紫色を呈した。
97.5%であり、反射干渉色は、赤紫色を呈した。
また、クロスカットテープ試験により密着性を評価した
ところ、全く問題がみられず、耐水性、耐擦傷性(す0
000スチールウール、10 回m ’tJA)、耐温
水性(60℃)■結果も良好であった。
ところ、全く問題がみられず、耐水性、耐擦傷性(す0
000スチールウール、10 回m ’tJA)、耐温
水性(60℃)■結果も良好であった。
なお、(C3) 、 (C1) 、 (C2) の缶
液を塗布して得られた薄膜を各々、31 、32ハiと
すると屈折率と膜厚は以下Oとおりであった。
液を塗布して得られた薄膜を各々、31 、32ハiと
すると屈折率と膜厚は以下Oとおりであった。
薄膜 屈折率 膜厚(nm)
311゜62 80.2
32 1.74 74゜7
33 1.45 89.7比較例1
(1)高屈折率用コーテイング液(Dl)■調製反応用
フラスコ内に、インプロピルアルコール127.4 f
、フェネチルアルコール31.86 fを入れ、a
拌T 、エタノール分散コロイダルシリカ(オスカル1
232.触媒化成■、固形分濃度加饅)6.679およ
び、テトラ−n−ブチルチタネート34.04 f 、
シリコン系界面活性剤0゜04vを入れ、室需T1時間
Vt拌し、コーテイング液とした、この塗布液の粘度は
、1.9センチストークス(20℃)、固形分敲度は、
5.2重址チであった。
フラスコ内に、インプロピルアルコール127.4 f
、フェネチルアルコール31.86 fを入れ、a
拌T 、エタノール分散コロイダルシリカ(オスカル1
232.触媒化成■、固形分濃度加饅)6.679およ
び、テトラ−n−ブチルチタネート34.04 f 、
シリコン系界面活性剤0゜04vを入れ、室需T1時間
Vt拌し、コーテイング液とした、この塗布液の粘度は
、1.9センチストークス(20℃)、固形分敲度は、
5.2重址チであった。
(2) 低屈折率用コーテイング液(D2)として、
前記実施例1の(A2) ’!に用いた。
前記実施例1の(A2) ’!に用いた。
(3) 中屈折率用コーテイング液(D3) O調製
前項α)の象加誓゛をそれぞれ下記に示すとおりに変更
する他は、ナベで同様にし、て調製した。
前項α)の象加誓゛をそれぞれ下記に示すとおりに変更
する他は、ナベで同様にし、て調製した。
イングロビルアルコール 136.97rフエネ
チルアルコール 24.17F工タノール分
散:rC:xイダルシリカ 13.33tテトラ−n−
ブチルチタネート25.53fこ■塗布液の粘度は、1
.6センチストークス(20℃)、固形分離度は、5.
3重111チでありた。
チルアルコール 24.17F工タノール分
散:rC:xイダルシリカ 13.33tテトラ−n−
ブチルチタネート25.53fこ■塗布液の粘度は、1
.6センチストークス(20℃)、固形分離度は、5.
3重111チでありた。
(4) 反射防止@O塗布および硬化5%水酸化ナト
リウム水溶液中に5分間浸漬し、アルカリ処[eMした
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂Oフ
ラット板を、中屈折率薄膜用の塗布液(D−3’)に浸
し、液@10 ’C、引上げ速度3−7分の条件で、塗
布を行った。
リウム水溶液中に5分間浸漬し、アルカリ処[eMした
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂Oフ
ラット板を、中屈折率薄膜用の塗布液(D−3’)に浸
し、液@10 ’C、引上げ速度3−7分の条件で、塗
布を行った。
引上げ後、100℃で1時間硬化を行い、中屈折率l1
1t−得た。
1t−得た。
しかし、該樹脂を強酸性水溶液中に3分間浸し十分水洗
を行ったところ、中屈折率薄膜が一部消失しており、布
で拭くことにより、薄膜が剥離していた。
を行ったところ、中屈折率薄膜が一部消失しており、布
で拭くことにより、薄膜が剥離していた。
以上述べたように、本発明によれば、透明基材の少、な
くとも一部に屈折率の異なる三層の薄膜からなる反射防
止mk液状組成物■塗布および硬化により施すにあたり
、透明基材層よりも高い屈折率を有する高屈折率薄膜、
中屈折率薄膜を形成するためQ液状組成物として、水ま
′たは他の溶媒に分散した酸化アンチモン微粒子○コロ
イド分散体を酵a取分とすることにより、所望の屈折率
が央現され、また従来■金属アルコラードを用いた場合
に比べ、付着性、硬度、耐薬品性、耐擦傷性、耐水性、
染色性などの諸物性に優れた大容量、大量生産が可能な
反射防止膜を得ることが可能となった。
くとも一部に屈折率の異なる三層の薄膜からなる反射防
止mk液状組成物■塗布および硬化により施すにあたり
、透明基材層よりも高い屈折率を有する高屈折率薄膜、
中屈折率薄膜を形成するためQ液状組成物として、水ま
′たは他の溶媒に分散した酸化アンチモン微粒子○コロ
イド分散体を酵a取分とすることにより、所望の屈折率
が央現され、また従来■金属アルコラードを用いた場合
に比べ、付着性、硬度、耐薬品性、耐擦傷性、耐水性、
染色性などの諸物性に優れた大容量、大量生産が可能な
反射防止膜を得ることが可能となった。
嬉1図は、実施例1の反射防止膜の断面図。
11・・・中屈折率薄膜
12・・・高屈折率薄膜
13−・・低屈折率薄膜
14・・・基材樹脂
哨2図は、実施例1の反射防止膜の表面の反射スペクト
ル図。 以 上
ル図。 以 上
Claims (1)
- (1)a)透明基材の少なくとも一部に、該基材から大
気側に向かって、[イ]、[ロ]、[ハ]の三層の薄膜
からなる反射防止膜を施すにあたり、 b)[イ]、[ロ]、[ハ]の三層の光学特性は、各々 [イ]1.55<na<1.80 na×da=lλ_1/4(nm) [ロ]1.65<nb<2.25 nb×db=mλ_2/4(nm) nb>na [ハ]1.40<nc<1.50 nc×dc=nλ_3/4(nm) (ここで、na、nb、ncは各々、[イ]層、[ロ]
層、[ハ]層の屈折率、da、db、dcは各々、イ層
、ロ層、[ハ]層の膜厚(nm)を表し、mは正の整数
、l、nは奇の正整数、λ_1、λ_2、λ_3は各々
独立に可視領域の波長(nm単位)を表す。また、na
>(基材の屈折率)である。)の条件を満たし、 c)[イ]層、[ロ]層、[ハ]層の各薄膜は、各々、
液状で塗布し、加熱、乾燥或いは活性エネルギー線によ
る硬化で得られ、 d)さらに、[イ]層、[ロ]層を形成するための液状
組成物は成分として水または他の溶媒に分散した酸化ア
ンチモン微粒子のコロイド分散体により提供されること
を特徴とする反射防止膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60187723A JPS6247601A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60187723A JPS6247601A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 反射防止膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6247601A true JPS6247601A (ja) | 1987-03-02 |
Family
ID=16211047
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60187723A Pending JPS6247601A (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6247601A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6480904A (en) * | 1987-09-22 | 1989-03-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Transparent plate stuck with conductive antireflection film |
US6476969B2 (en) * | 1993-12-02 | 2002-11-05 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transparent functional membrane containing functional ultrafine particles, transparent functional film, and process for producing the same |
KR100942625B1 (ko) * | 2002-03-22 | 2010-02-17 | 라이브니츠-인스티투트 퓌어 노이에 마테리알리엔 게마인누찌게 게엠베하 | 다층 간섭 코팅된 플라스틱 필름 |
CN108885281A (zh) * | 2016-09-27 | 2018-11-23 | 株式会社Lg化学 | 抗反射膜及其制备方法 |
-
1985
- 1985-08-27 JP JP60187723A patent/JPS6247601A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6480904A (en) * | 1987-09-22 | 1989-03-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Transparent plate stuck with conductive antireflection film |
US6476969B2 (en) * | 1993-12-02 | 2002-11-05 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transparent functional membrane containing functional ultrafine particles, transparent functional film, and process for producing the same |
KR100942625B1 (ko) * | 2002-03-22 | 2010-02-17 | 라이브니츠-인스티투트 퓌어 노이에 마테리알리엔 게마인누찌게 게엠베하 | 다층 간섭 코팅된 플라스틱 필름 |
CN108885281A (zh) * | 2016-09-27 | 2018-11-23 | 株式会社Lg化学 | 抗反射膜及其制备方法 |
US10823883B2 (en) | 2016-09-27 | 2020-11-03 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film |
US10908323B2 (en) | 2016-09-27 | 2021-02-02 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film and method for preparing same |
US10962686B2 (en) | 2016-09-27 | 2021-03-30 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film |
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