JPS61291611A - 樹脂組成物及びコ−テイング剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、カーボネートジオールのジ（メタ）アクリレ
ートを含む樹脂組成物及び光伝送用の光学ガラスファイ
バ用コーティング剤に関する。

（従来の技術） 光ファイバは情報伝送性能が犬であり外部の干渉を比較
的に受けないので、最近数年間特に通信分野において用
途が著しく増加している。

光ファイバは、通信分野で使用されるため一般にガラス
類である。然しガラスファイバは元来もろく、水蒸気に
より化学的におかされるので容易に破壊され、取扱いが
困難である。従りて従来より、光学ガラスファイバは、
表面に樹脂被覆が施されている。この様な樹脂被覆材料
としては、従来エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等が用いら
れているが、硬化に長時間を賛するので生産性に劣るほ
か、柔軟性に欠けるので、側圧により伝送特性が損なわ
れる欠点がある。最近上記欠点を改良する目的でウレタ
ンアクリレートを含む紫外線硬化性組成物がさかんに検
討され、光学ガラスファイバ用紫外線硬化性組成物およ
びかかる被膜を形成する方法が、例えば、特開昭５８−
２２３６３８および特開昭５９−１７０１５４明細書に
提案されている。

（発明が解決しようとする問題点） 現在使用されている紫外線硬化性組成物は、速い硬化速
度、所望の特性が容易に且つ正確に得られる利点を有す
るが、吸水性が大きいため水によってガラスファイバが
おかされやすく。

又、硬化して常温並びに−６０℃から＋８０°Ｃまで周
期的に温度が変化する場合において物理特性の変化が大
きく伝送損失の増加の原因となり好ましくないという欠
点を有している。

（問題点を解決するための手段） 上記の問題を解決するため、本発明者らは、鋭意研究の
結果、硬化速度が速く、硬化して得られる樹脂被膜が柔
軟で、吸水率が小さく、高温から低温の広い温度範囲に
わたって膜物性の変化が少なく、ガラス転移点の低い、
光伝送用の光学ガラスファイバを被覆するのに適した新
規な樹脂組成物を見出し、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、 （１）　カーボネートジオール（平均分子量５００〜３
０００）のジ（メタ）アクリレート（Ａ）、ポリウレタ
ン（メタ）アクリレート（Ｂ）、モノエチレン性不飽和
モノマー（ｑ及び任意成分として光重合開始剤（Ｄ）を
含むことを特徴とする樹脂組成物。

（２）　　カーボネートジオール（平均分子量５００〜
３０００）のジ（メタ）アクリレート（３）、ポリウレ
タン（メタ）アクリレートの）、モノエチレン性不飽和
モノマー（Ｑ及び光重合開始剤（ＤＪを含むことを特徴
とする光学ガラスファイバ用コーティング剤。

に関するものである。

本発明で用いるカーボネートジオール（平均分子量５０
０〜３０００）のジ（メタ）アクリレート〔以上カーボ
ネートジオールジ（メタ）アクリレートという〕はカー
ボネートジオールと（メタ゛）アクリル酸を反応させる
ことにより得ることができる。カーボネートジオールジ
（メタ）アクリレートの具体的な製法は、公知であり、
例えば次の通りである。カーボネートジオール０．５モ
ルに対しくメタ）アクリル酸を好ましくは１．０〜２．
０モル、特に好ましくは、１．０〜１．５モル、エステ
ル化触媒（例えば、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、メ
ン嘔ルホン酸等）及び重合禁止剤（例えばメトキノン、
フェノチアジン、ハイドロキノン等）を（メタ）アクリ
ル酸に対してそれぞれ好ましくは０．０１〜５重量％加
え、好ましくは７０°Ｃ〜１３０℃に加熱、脱水後、ア
ルカリ洗浄、水洗し、低沸点物を除去することによって
、カーボネートジオールジ（メタ）アクリレートが得ら
れる。かかるカーボネートジオールジ（メタ）アクリレ
ートの製造原料としてのカーボネートジオールは、例え
ば次のようにして製造することができる。即ちカーボネ
ート誘導体、例えば、ジフェニルカーボネート、ビス−
クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート
、フェニルートルイルーカーホネート、フェニル−クロ
ロフェニル−カーボネート、２−トリル−４−トリル−
カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボ
ネート等のジアリールカーボネート又はジアルキルカー
ボネートとジオール類、例えば、１．６−ヘキサンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、１，４−ブタンジオー
ル、１．８−オクタンジオール、■、４−ビス−（ヒド
ロキシメチル）−シクロヘキサン、２−メチルプロパン
ジオール、ジプロピレングリコール、ジブチレングリコ
ール又は上記のジオール化合物とシュウ酸、マロン酸、
コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、ヘキサヒドロフ
タル酸等のジカルボン酸の反応生成物であるポリエステ
ルジオール等とのエステル交換反応によって得ることが
できる。

又、ホスゲンと前記ジオール類との反応によっても製造
することができる。このようにして得られるカーボネー
トジオールは分子中にカーボネート構造を一つ持つモノ
カーボネートジオール又は分子中にカーボネート構造を
二つ以上持つポリカーボネートジオールであり、市場よ
り容易に入手することができる。例えば、デスモフェン
２０２０Ｅ（住友バイエル■製、平均分子量２０００）
、ＤＮ−９８０（日本ポリウレタン■製、平均分子量２
０００）、ＤＮ−９８１（日本ポリウレタン■裂、平均
分子［１０００）、ＤＮ−９８２（日本ポリウレタン■
裂、平均分子量２０００）、ＤＮ−９８３（日本ポリウ
レタン■裂、平均分子量１０００）、等が挙げられる。

特にＤＮ−９８２及びＤＮ−９８３が、本発明で用いる
カーボネートジオールジ（゛メタ）アクリレートの原料
として好ましい。

又、本発明においては、カーボネートジオールジメタク
リレートよりもカーボネートジオールジアクリレートの
方が好ましい。

本発明の樹脂組成物及びコーティング剤（以下いずれも
組成物という）において、カーボネートジオールジ（メ
タ）アクリレートは組成物中５〜５０重量％の範囲で使
用するのが好ましく、特に１０〜４０重量％の範囲で使
用するのが好ましい。

本発明では、ポリウレタン（メタ）アクリレ−トノ）を
使用するが、通常その平均分子量は１０００以上、好ま
しくは２０００〜１００００程度とされる。このような
ポリウレタン（メタ）アクリレートとして、分子中にエ
ーテル基を持つポリエーテルポリオールのポリウレタン
（メタ）アクリレートエステル基を持つポリエステルポ
リオールのポリウレタン（メタ）アクリレート、あるい
は、エーテル基及びエステル基の両方を分子中に持つポ
リウレタン（メタ）アクリレート及びカーボネート基を
持つカーボネートジオールのポリウレタン（メタ）アク
リレート等を挙げる事ができる。ポリエーテルポリオー
ルとしては、たとえばポリプロピレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール及
び１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリ
コール、１．６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリ
コール、シクロヘキサンジメタツール、２．２−ビス（
４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、ビスフェノ
ールＡ等にエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイ
ド等が付加した化合物を用いることができる。ポリエス
テルポリオールは、アルコール成分と酸成分とを反応さ
せる事により得る事ができる。たとえばポリプロピレン
グリコール、６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリ
コール、シクロヘキサンジメタツール、２．２−ビス（
４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、ビスフェノ
ールＡ等にエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイ
ド等が付加した化合物あるいは、ニブシロンカプロラク
トンが付加した化合物等をアルコール成分として使用し
、一方の酸成分としては、アジピン酸、セバシン酸、ア
ゼライン酸、ドデカンジカルボン酸などの二塩基酸及び
その無水物が使用できる。上記のアルコール成分と酸成
分及びニブシロンカプロラクトンの三者を同時に反応さ
せる事によって得られる化合物もポリエステルポリオー
ルとして使用できる。又、カーボネートジオールとして
は前記のＡ成分製造の原料どして用いたものが使用でき
る。こうしたポリエーテルポリオール、ポリエステルポ
リオール、カーボネートジオールを用いてポリウレタン
（メタ）アクリレート（ＢＪを得るには、ポリオールの
ヒドロキシル基に対して、有機ジイソシアネートとヒド
ロキシルＩ匪 基を有する重合縁モノマーとを実質的にＮＣＯ基を含ま
ない所まで反応せしめることにより、ポリウレタン（メ
タ）アクリレート（Ｂ）は得ることができる。有機ジイ
ソシアネートとして代表的なものにはトリレンジイソシ
アネート、４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート
等の芳香族ジインシアネート、イソホロンジイソシアネ
ー）、４．４−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネー
ト等の脂環族ジインシアネート及びヘキサメチレンジイ
ソシアネー）、２．２’−）リメチルへキサメチレンジ
イソシアネート等の脂肪族ジインシアネートがあり、ま
たヒドロキシル基を有する重合性モノマーとしては、β
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、β−ヒドロ
キ７プロビル（メタ）　’７　ｖ’＋）レート、β−ヒ
ドロキシラウリル（メタ）アクリレート、ニブシロンカ
プロラクトン−β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート付加物の如きヒドロキシル基を有する（メタ）アク
リレート等である。

かかるＮＧＯ基とＯＨ基との反応は、無触媒でも進行す
るが、たとえば、トリエチルアミン等の第三級アミン、
ジブチルチンシラウリレートやジブチルチンジアセテー
ト等の有機金属化合物類、あるいは塩化スズ類等のよう
な慣用の触媒を使用してもよい。

特に好ましいポリウレタン（メタ）アクリレート（ｆ３
＋は、カーボネートジオールのポリウレタンアクリレー
トであり、有機ジイソシアネートとしてはインホロンジ
イソシアネート、４．４−ジシクロヘキシルメタンジイ
ンシアネートが特に好ましい。

ポリウレタンアクリレート（Ｂ）の使用量は、組成物中
２０〜７０重量％であるのが好ましく、特に４０〜６０
重量％であるのが好ましく、あまり多く配合すると粘ｍ
ｌ−”ｉｆ＜なり取扱いにくくなる。

モノエチル性不飽和モノマー（Ｑとしては、種々のモノ
アクリレートまたはメタクリレート等が使用できるが、
そのホモポリマーのガラス転移温度のできるだけ低いも
のを使用するのが好ましく、具体例として、フェニルオ
キシ（又はアルキルフェニルオキシ）ポリエトキシ（メ
タ）アクリレート、フェニルオキシ（又はアルキルフェ
ニルオキシ）ポリプロポキシ（メタ）アクリレート、ノ
ニルフェニルオキシポリエトキシ（メタ）アクリレート
、フェニルオキシ（又はアルキルフェニルオキシ）エト
キシ（メタ）アクリレート、フェニルオキシ（又はアル
キルフェニルオキシ）プロポキシ（メタ）アクリレート
、テトラヒドロフルフリルアルコールのε−カプロラク
トン付加物の（メタ）アクリレート（日本化薬１！！、
　ＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＣ−１１Ｏ８、ＫＡＹＡＲＡＤ　
　ＴＣ−１２０等）、ε−カプロラクトン−β−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート付加物（ダイセル化学
工業■裂、プラクセルＦＡ−１、プラクセルＦＭ−１等
）、カルピトールアクリレート、特願昭５９−１５１１
７９に記載されているフェノール誘導体のポリエトキシ
又はポリプロポキシ化合物のε−カプロラクトン付加物
の（メタ）アクリレート等が挙げられる。

モノエチレン性不飽和モノマー（Ｃ１のうち、特に好ま
しいものとしては、テトラヒドロフルフリルアルコール
のε−カプロラクトン付加物の（メタ）アクリレート（
日本化薬■爬、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＣ−１１０８％ＫＡ
ＹＡＲＡＤ　ＴＣ−１２０等）及び特願昭５９−１５１
１７９に記載されている次の構造式を有するフェノール
誘導体のポリエトキシ又はポリプロポキシ化合物のε−
カプロラクトン付加物の（メタ）アクリレートが挙げ（
式中、几１は水素原子または、炭素原子数１〜１２の炭
化水素基であり、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ水素原子また
はメチル基であり、ｍの平均値は１〜１０の数であり、
口の平均値は１〜１０の数である。） この化合物は、フェノール、ノニルフェノール等のフェ
ノール誘導体にエチレンオキサイド又はプロピレンオキ
サイドが付加した化合物にニブシロンカプロラクトンを
反応させて得たものト（メタ）アクリル酸とをパラトル
エンスルホン酸等のエステル触媒及びハイドロキノン等
の重合禁止剤の存在下に７０〜１３０℃の温度で反応さ
せることにより得ることかできる。

モノエチレン性不飽和モノマーＣ）の使用量は組成物中
２０〜７０重量％であるのが好ましく特に３０〜６０重
量％であるのが好ましい。

本発明に使用される光重合開始剤の）としては公知のど
のような光重合開始剤であっても良いが配合後の貯蔵安
定性の良い事が要求される。

この様な光重合開始剤としては、例えば、ベンジインエ
チルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテルなどのベンゾインアルキルエ
ーテル系、２，２−ジェトキシアセトフェノン、４−フ
ェノキシ−２゜２−ジクロロアセトフェノンなどのアセ
トフェノン系、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフ
ェノン、４′−インプロピル−２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロピオフェノン、４′−ドデシル２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオフェノンなどのプロピオフェノン
系、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロ
へキシルフェニルケトン及び２−エチルアントラキノン
、２−クロルアントラキノンなどのアントラキノン系、
その他、チオキサントン系光重合開始剤などがあげられ
る。特に好ましいものとしては、１−ヒドロキシシクロ
へキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール等
があげられる。これら光重合開始剤０）は、一種でも、
二種以上任意の割合で混合使用してもかまわない。その
使用量は、通常、樹脂組成物の０〜１０重量％が好まし
く、又、コーティング剤の０，１〜１０重量％が特に１
〜５重量％が好ましい。本発明の組成物は、更に必要に
応じて、重合性モノマーたトエば、Ｎ−ビニルピロリド
ン、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等を一
部加えて用いることができる。

また、所望により、変性用樹脂や各種添加剤を加えても
よく、変性用樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン、ポリブタジェン、ポリエーテル、ポリアミドイミド
、シリコーン樹脂、フェノール樹脂等を挙げることがで
きる。また上記添加剤としては、有機ケイ素化合物、界
面活性剤、重合禁止剤等を挙げることができる。

本発明の樹脂組成物は、光学ガラスファイバの被覆用に
有用である他、合わせガラス用の接着剤、繊維処理剤等
としても使用できる。

本発明の光学ガラスファイバ用コーティング剤を用いて
光学ガラスファイバを被覆する場合コーティング法とし
てはダイスコーティング法が適当である。光学ガラスフ
ァイバの線引き速度は３〜７ｍ／秒と非常に速く行うこ
とができる。

光学ガラスファイバを被覆する場合、本発明のコーティ
ング剤による被膜の厚さは特に限定されないが、通常２
０〜３００μ程度が好ましく・。

本発明のコーティング剤は紫外線照射により容易に硬化
する。本発明のコーティング剤の紫外線照射による硬化
は常法により行うことができる。例えば低圧又は高圧水
銀灯、キセノン灯等を用い紫外線を照射すればよい。

（実施例） 以下、本発明を実施例により具体的に説明する。なお、
実施例中の部は重量部である。

〔カーボネートジオールジ（メタ）アクリレートの製造例〕

製造例１゜ 攪拌機、温度調節装置、温度計、凝縮器を備えた２１反
応器に、カーボネートジオール（日本ポリウレタン■農
、品名ＤＮ−９８３，ＯＰＩ価１１２．２■ＫＯＦＩ　
／　ｇ、融点５℃、平均分子量約１０００）７００部、
アクリル酸１２１部、ｐ−トルエンスルホン酸１４部、
ハイドロキノン１．０部、ベンゼン５６０部、シクロヘ
キサン１４０部を仕込み、加熱し、生成水は溶剤と共に
蒸留、凝縮させ分離器で水のみ系外に取り除き、溶剤は
反応器に戻す。水が２５．２部生成した時点で冷却した
。反応温度は８０〜８６℃であった。反応混合物をベン
ゼン９６０部及びシクロヘキサン２４０部に溶解し２０
％苛性ソーダー水溶液で中和した後、２０５食塩水５０
０部で３回洗浄する。溶剤を減圧留去して淡黄色の液体
６９０部を得た。このものは、下記の性質を有する。

比　　　重　（２５℃）　　　　１．１０００粘　　　
度　（２５°Ｇ）　　　　　２１００　　ｃｐｓ鹸化価
　　　　４１４．４■ＫＯＨ／ｇ酸　　　価　　　　　
　　　　　　０．０１　　ｒｎｇＫＯＨ／ｇ屈折率（２
０８Ｃ）　　１．４６８０ 得られた生成物の高分解能、核磁気共鳴（ＮＭＲ）によ
る吸収周波数の測定を行った結果を下記に示す。

％　　　吸収周波数（Ｈｚ） １　　　　２６０３．５１５ ２　　　　２４９５．１４０ ３　　　　２３３３．９８４ ４　　　　１９５８．９８４ ５　　　　１９３３．５９３ ６　　　　１１９９．２１８ ７　　　　１１６６．０１５ ８　　　　１１３４．８６５ ９　　　　１０１５．６２５ １Ｑ　　　　　９６６゜７９６ １１　　　　９６２．８９０ １２　　　　９３５．５４６ １３　　　　５１１．７１８ １４　　　　４９０．２３４ １５　　　　４２９．６８７ １６　　　　３８２．８１２ 東　　　吸収周波数（Ｈｚ） １７　　　　３６９．１４０ １８　　　　　　０．０００ メ 猶・、上記測定には、基準物質としてテトチフルシラン
を用いＨ’、ｃ１３−Ｈのカップリングさせた測定を最
終的Ｃ１３のＤカップルの同定結果を示した。上記吸収
のうち、ｌ’ｈ　６．７．８は溶媒の吸収ピーク位置を
示す。％１８はテトラメチルシランのピーク位置を示す
。

製造例２゜ 製造例１と同一の反応器に、カーボネートジオール（日
本ポリウレタン■裂、ＤＮ−９８２，Ｏ）］価５６　ｒ
ｒｔｇＫＯＨ／ｇ、融点５℃、平均分子量約２０００）
７００部、アクリル酸６１部、ｐ−トルエンスルホン酸
６部、ハイドロキノン０．４部、ベンゼン５６０部、シ
クロヘキサン１４０部仕込み、生成水が１２．６部にな
るまで製造例１と同様に反応を行った。反応温度は、８
１〜８６℃であった。反応混合物をベンゼン１２００部
及びシクロヘキサン３００部に溶解し、製造例１と同様
に、中和、洗浄、脱溶剤を行ない、淡黄色の液体６５４
部を得た。このものは、下記の性質を有する。

比　　　重　（２５°Ｃ）　　　　１．１０６０粘　　
　度　（２５°Ｃ）　　　１３７５０　　　ｃｐｓ鹸化
価　　　　４１５．７　　ｒｒ＠ＫＯＨ／ｇ酸　　　価
　　　　　　　　　　　０．０３　　　ｑＫＯ月／ｇ屈
折率（２０℃）　　１．４７０Ｏ ＮＭＲによる測定結果 猶　　　　吸収周波数（Ｈｚ） １　　　　　２６０７．４２１ ２　　　　　２３３３．９８７ ３　　　　　１９６０．９３７ ４　　　　　１９３３．５９３ ５　　　　　１１９５．３１２ ６　　　　　１１６４．０６２ ７　　　　　１１３０．８５９ ８　　　　　１０１７．５７８ ９　　　　　　９６４．８４３ １０　　　　　　　　　　　５１１、　７１８１１　　
　　　　４２９．６８７ （吸収周波数（Ｈｚ） １２　　　　　３８２．８１２ １３　　　　　３６９．１４０ １４　　　　　　　０、０００ 上記の吸収のうち、遅５．６．７は溶媒の吸収ピーク（
Ｓｌｉを示す。克１．４はテトラメチルシランのピーク
位置を示す。

製造例３゜ 製造例１と同一の反応器に、カーボネートジオール（日
本ポリウレタン株制、ＤＮ−９８３，（ＪＨ価１１２．
２　ｍｇ　ＫＯＨ／ｇ、融点５℃、平均分子量約１００
０）７００部、メタクリル酸１４５部、硫酸４．５部、
ハイドロキノン１．１部、トルエン７００部仕込み生成
水が２５．２部になるまで製造例１と同様に反応を行っ
た。反応温度は、１０５〜１１６℃であった。反応混合
物をトルエン１０００部に溶解し、製造例１と同様に、
中和、洗浄、脱溶剤し、淡黄色の液体７２３部を得た。

このものは、下記の性質を有する。

比　　　重　（２５℃）　　　　１．０９４．０粘　　
　度　（２５°Ｃ）　　　　　１９００　　　　ｃｐｓ
鹸化価　　　　４００．０　　■ＫＯ）Ｉ／ｇ酸　　　
価　　　　　　　　　　　０．０２　　■ＫＯ）１部ｇ
屈折率（２０°Ｃ）　　１．４６８Ｏ ＮＭＲによる測定結果 遅　　　　吸収周波数（Ｈｚ） １　　　　　２６０１．５６２ ２　　　　　２５０９．７６５ ３　　　　　２３３３．９８４ ４　　　　　２０５２．７３４ ５　　　　　１８７８．９０６ ６　　　　　１２０１．１７１ ７　　　　　１１６７．９６８ ８　　　　　１１３６．７１８ ９　　　　　１０１５．６２５ １０　　　　　９６８．７５０ １１　　　　　　９６２．８９０ １２　　　　　９３３．５９３ １３　　　　　　５０９．７６５ １４　　　　　４２９．６８７ 遅　　　　吸収周波数（Ｈｚ） １５　　　　　３８２．８１２ １６　　　　　３６９．１４０ １７　　　　　２７３．４３７ １８　　　　　　　０．０００ 上記の吸収のうち、Ｎ１６．７．８は溶媒の吸収ピーク
位置を示す。遅１８はテトラメチルシランのピーク位置
を示す。

〔ポリウレタンアクリレート（Ｂｌの製造例〕製造例４
゜ 撹拌機、温度調節装置、温度計、凝縮器を備えた２部反
応器に、ポリプロピレングリコール（分子量約２０００
．０）１価５６．１）２５３．１部、ネオペンチルグリ
コールとアジピン酸とε−カプロラクトンの反応物であ
るポリエステルポリオール（ダイセル化学工業■裂、プ
ラクセルＬ−２２０ＡＬ、分子量約２０００．０）１価
５７．５　）　２５１．３部、イソホロンジイソシアネ
ート８４，７部を仕込み、昇温後、７５℃で１０時間反
応し、次いで反応液を６０℃に冷却し、ε−カプロラク
トン−β−ヒドロキシエチルアクリレート付加物（ダイ
セル化学工業■製、プラクセルＦＡ−２）９１．４部、
メトキノン０．３部、ジラウリル酸ジーロープチルスズ
０．１２部を仕込み、昇温後、７５〜８０℃で反応を行
った。生成物は、下記の性質を有する。

粘　　　度　（６０°Ｃ）　　　ｌｌ０Ｐ屈折率（２０
℃）　　１．４７２１ 裂造例５゜ 製造例４と同一の反応器に、カーボネートジオール（住
友バイエル■裂、品名デス上フェン２０２０Ｅ、分子量
約２０００、ＯＬＪ価５６）５００部、インホロンジイ
ソシアネー）８３．３部を仕込み、昇温後、７５℃で１
０時間反応し、次いで反応液を６０℃に冷却し、ε−カ
プロラクトン−β−ヒドロキシエチルアクリレート付加
物（ダイセル化学工業■裂、プラクセルＦＡ−２）９０
．３部、メトキノン０．３部、ジラウリル酸ジｎ−ブチ
ルスズ０．１部を仕込み、昇温後、７５〜８０℃で反応
を行った。生成物は、乍記の性質を有する。

粘　　　度　（８０°Ｃ）　　　　６７５Ｐ屈折率（２
０°Ｃ）　　１．４７３０ 製造例６゜ 製造例４と同一の反応器に、ポリプロピレングリコール
とε−カプロラクトンの反応物であるポリエステルジオ
ール（ダイセル化学工業■裂、プラクセルＰ−２２０３
、分子量約２０００．０８価５７、９　）　４３２部、
４．４−ジフェニルメタンジイソシアネー）８４．９部
を仕込み、昇温後、７５℃で１０時間反応し、次いで反
応液を６０°Ｃに冷却し２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート２６，２部、メトキノン０．２７部及びジラウリル
酸ジｎ−ブチルスズ０．１１部を仕込み、昇温後、７５
〜８０℃で反応を行った。生成物は、下記の性質を有す
る。

粘　　　度　（８０°Ｇ）　　　８８Ｐ屈折率（２０°
Ｇ）　　１．４９２０ 〔ノニルフェノールのエチレンオキサイド４モル付加物
のε−カプロラクトン２モル付加物のモノアクリレート
の製造例〕 製造例７、 撹拌機、温度調節装置、温度計、凝縮器を備えた２１反
応器に下記の構造を有する化合物、６２４部、アクリル
酸１０８部、ノ（ラドルエンスルホン酸１６．８部、ハ
イドロキノン１．０部、ベンゼン５６０部、シクロヘキ
サン１４０部を仕込み加熱し、生成水は、溶剤と共に蒸
留、凝縮させ分離器で水のみ系外に取り除き、溶剤は反
応器に戻す０ 水が１８部生成した時点で冷却した。反応温度は８０〜
８７°Ｃであった。反応混合物をベンゼン１０４０部及
びシクロヘキサン２６０部に溶解し２０％苛性ソーダ水
溶液で中和した後、２０５食塩水５００部で３回洗蒸す
る。溶剤を減圧留去して淡黄色の液体５９６部を得た。

このものは下記の性質を有する。

比　　　重　（２５℃）　　　　１．０４５粘　　　度
　（２５°Ｇ）　　　　　６８．８　　　ＣＰＳ鹸化価
　　　　２４８　　■ＫＯＢ／ｇ酸　　　価　　　　　
　　　　０．０４　　　ｑＫＯＨ／ｇ〔紫外線硬化性樹
脂組成物の実施例〕 実施例１゜ 製造例１で得たカーボネートジオールジアクリレート１
０部、製造例４で得たポリウレタンアクリレート４０部
、ノニルフェノールにエチレンオキサイドを４モル付加
した物のε−カプロラクトン２モル付加物のモノアクリ
レート４０部、テトラヒドロフルフリルアルコールに１
モルのε−カプロラクトンを反応させたもののモノアク
リＩ／　−ト（日本化薬ｔｍＨ，ＫＡＹＡＲＡＤ　　Ｔ
Ｃ−１１０８）１０部および１−ヒドロキシンクロへキ
シルフェニルケトン（チバ・ガイギー■裂、イルガキュ
アー１８４）５部、メチルハイドロキノン０．０１部を
混合し、樹脂組成物Ａを調製した。樹脂組成物及びその
硬化物の特性を第１表に示す。

実施例２゜ 製造例２で得たカーボネートジオールジアクリレート４
０部、製造例４で得たポリウレタンアクリレート２５部
、ノニルフェノールのエチレンオキサイド４モル付加物
のε−カプロラクトン２モル付加物のモノアクリレート
２５部および１−ヒドロキシンクロへキシルフェニルケ
トン（チバ・ガイギー■裂、イルガキュアー１８４）５
部、メチルハイドロキノン０．０１部を混合し、樹脂組
成物Ｂを調製した。樹脂組成物及びその硬化物の特性を
第１表に示す。

実施例３゜ 製造例２で得たカーボネートジオールジアクリレート２
０部、製造例５で得たポリウレタンアクリレート２０部
、ノニルフェノールのエチレンオキサイド４モル付加物
のε−カプロラクトン２モル付加物のモノアクリレート
４０部、ノニルフェノールのエチレンオキサイド７モル
付加物のモノアクリレート２０部および４′−ドデシル
−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン（メル
ク■裂、クロキュアー９５３）５部、メチルノ・イドロ
キノン０．０１部を混合し、樹脂組成物Ｃを調製した。

樹脂組成物及びその硬化物の特性乞第１表に示す。

実施例４゜ 製造例３で得たカーボネートジオールジメタクリレート
１０部、製造例２で得たカーボネートジオールジアクリ
レート１０部、製造例６で得たポリウレタンアクリレー
ト３０部、フェノキシエチルアクリレート１０部、ノニ
ルフェニルのエチレンオキサイド７モル付加物のモノア
クリレート４０部およびイルガキュアー１８４．５部、
メチルハイドロキノン０．０１部を混合し、樹脂組成物
りを調製した。樹脂組成物及びその硬化物の特性を第１
表に示す。

比較例 比較のために光フアイバ用の紫外線硬化性被覆組成物と
してＤｅｓｏｔｏ　Ｃｈｅｍｉｃａ１社から市販されて
いる１）ｅｓｏｔｏ　　９５０　Ｘ　Ｏ６５を樹脂組成
物Ｅとした。

樹脂組成物及びその硬化物の特性を第１表に示す。

第１表 上記第１表において、 〔ショア硬度Ａ〕の測定：Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ及びＥの組成
物は、高圧水銀ランプ（ランプ出方２に！ｉＶ）を平行
に配した光源下８ｃｍの位置で照射して（コンベアスピ
ード３０ｍ／ｍ１ｎ）、厚さ２５０μｍのシートを作製
し、これを用いて測定した。測定法はＪＩＳ−Ｚ２２４
６の方法に準じて行った。

〔ガラス転移点〕の測定：試験片は、上記のショア硬度
Ａの測定に使用したものと同一の条件で作製した。これ
を用いて粘弾性スペクトロメーター（岩本裏作所■裂）
を用いて測定した。

〔ヤング率、ｋｇ／Ｃｍ２〕の測定：試験片は、上記の
ショア硬度Ａの測定に使用したものと同一の条件で作製
した。これを用いて温度を変化させて、ヤング率（ｋｇ
／　ｃｍ　）を測定した。

〔吸水率〕の測定：試験片は、上記のショア硬度への測
定に使用したものと同一の条件で作製した。これを用い
て、純水中に２０°Ｃ／２４時間浸せきして、試験の前
・後の重量を測定し、吸水による重量の増加を％で表わ
した。

実施例５、 光学ガラスファイバ用母材を約２０００℃に加熱し、５
ｍ／秒の速度で外径１２５ミクロンの光学ガラスファイ
バに紡糸した。連続する次の工程で、ダイスコーティン
グ法により、該光学ガラスファイバに実施例に示した樹
脂組成物Ａ−Ｄそれぞれを塗布したのち、２ＫＷの高圧
水銀灯により紫外線を照射して硬化させた。得られた被
覆光学ガラスファイバは、樹脂組成物Ａ−Ｄのいずれを
塗布した場合も、−６０℃まで伝送損失の変化は認めら
れなかった。

（発明の効果） 本発明の新規な樹脂組成物及びコーティング剤は、硬化
速度が速く、得られた樹脂被膜が柔軟で、ガラス転移点
が低く、吸水率が小さく、高温から低温の広い温度範囲
にわたって膜物性の変化が少なく、光伝送用の光学ガラ
スファイバを被覆するのに適する。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）カーボネートジオール（平均分子量５００〜３０
   ００）のジ（メタ）アクリレート（Ａ）、ポリウレタン
   （メタ）アクリレート（Ｂ）、モノエチレン性不飽和モ
   ノマー（Ｃ）及び任意成分として光重合開始剤（Ｄ）を
   含むことを特徴とする樹脂組成物。
2. （２）カーボネートジオール（平均分子量５００〜３０
   ００）のジ（メタ）アクリレート（Ａ）、ポリウレタン
   （メタ）アクリレート（Ｂ）、モノエチレン性不飽和モ
   ノマー（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）を含むことを特徴
   とする光学ガラスファイバ用コーティング剤。