JPS6039665B2 - ビシクロアルカン誘導体の製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式１： 〔式中ｎは１又は２の数を表わし、Ｒ，は低級アルキル
基を表わし、Ｘは遊離又はケタール化されたカルボニル
基或いは遊離又はェステル基又はエーテル基中の炭素原
子数が１〜１０であるェステル化されたないしはエーテ
ル化されたヒドロキシメチレン基を表わし、Ｒ３は水素
原子を表わし、Ｒ４は飽和又は不飽和であり、及び／又
は低級アルキレンジオールで又は１・２ジフェノールで
ケタノール化されたカルボニル基により中断されており
、及び／又は塩素により置換された炭素原子数１〜６の
アシル基を表わし、かつＺはそれぞれアルキル部分が炭
素原子数１〜４である低級アルコキシカルボニル基、低
級アシル基、又は低級アルキルスルフィニル基を表わす
〕のビシクロアルカン誘導体の製法に関し、これは一般
式０〔式中ｎ、Ｘ及びＲ，は前記のものを表わし、Ｒ２
はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表わす〕
の化合物のパラジウム／カーボン触媒及びそれぞれ炭素
原子数１〜６の低級アルコール又は低級ケトンの存在で
水素添加して一般式ｌａ：〔式中ｎ、Ｘ、Ｒ，及びＲ２
は前記のものを表わす〕の化合物にしかつ該化合物を非
極’性溶剤中で一般式ｍ：〔式中Ｚ、Ｒ３及びＲ４は前
記のものを表わしかつＭｅ由はアルカリ金属−又はアル
カリ士類金属原子を表わす〕の塩と縮合させることを特
徴とする。

低級アルキル基沢，とは有利には炭素原子数１〜４のア
ルキル基であるべきであり、低級アルキル基としては例
えば次のものが挙げられる：メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ィソプロピル基、プチル基及びｔ−ブチル基。

特に有利なアルキル基Ｒ，はメチル基及びエチル基であ
る。アルキル基Ｒ２は有利には炭素原子数１〜１２のア
ルキル基であるべきである。

アリール基Ｒ２は有利には、場合によりメチル一、メト
キシー、塩素−、臭素−又はニトリロ基により置換され
ているフェニル−又はナフチル基であるべきである。ア
ルキル−、アリールー又はアラルキル基Ｒ２としては例
えば次のものが挙げられる：メチル−、エチル一、プロ
ピルー、イソプロピル−、プチルー、アミルー、イソア
ミルー、ヘキシルー、ヘプチルー、オクチル−、フェニ
ルー、ｏ−、ｍ−及びｐーメチルフェニルー又はＱ−又
は８ーナフチル基。アシル基沢４とは有利には炭素原子
数１〜６のァシル基であるべきである。

該アシル基は直鎖又は分枝状、飽和又は不飽和であって
よくかつ場合によっては遊離又はェステル化された又は
ェーナル化されたヒドロキシル基、塩素−又は臭素原子
、遊離又はケタール化されたオキソ基又は３・５ージア
ルキルイソキサゾールー４ーイル基により置換されてい
てもよい。基Ｒ４としては例えば次の原子団が挙げられ
る一ＣＯＯアルキル、一ＣＯアルキル、及び 〔式中“アルキル”は炭素原子数１〜４の低級アルキル
基を表わし、Ｑはエチレンジオキシ−、プロピレンジオ
キシ−、ジメチルプロピレンジオキシー又はフェニレン
ジオキシ基を表わしかつ“ハロゲン”は塩素−又は臭素
原子を表わす〕。

基Ｘは遊離又はケタール化されたカルボニル基又は遊離
又はェステル化されたカルボニル基又は遊離又はェステ
ル化されないいまエーテル化されたヒドロキシメチレン
基を表わしてよい。好適なケタール化されたカルボニル
基Ｘとしては次のものが挙げられる：１・２−エチレン
ジオキシーメチレン基、１・３ーブロピレンジオキシメ
チレン基、２・３ーブチレンジオキシメチル基、２・Ｚ
ージメチルー１′・３−ブロピレンジオキシーメチレン
基、２・４ーベンチレンジオキシーメチレン基又は１・
２−フェニレンジオキシーメチレン基。ェステル化され
たヒドロキシメチレン基Ｘとしては有利には、ェステル
基が炭素原子１〜ＩＮ固を有するような基を使用するこ
とができる。好適なェステル基としては例えば次のもの
が挙げられる：アセトキシ−、プロピオニルオキシー、
ブチリルオキシー、トリメチルアセトキシ−、ベンタノ
イルオキシ−、ヘキサノイルオキシ−、ヘプタノイルオ
キシ−、オクタノイルオキシ−、ベンゾイルオキシ−又
はペンジルオキシカルボニルオキシ基。好適なエーテル
化されたヒドロキシメチレン基×は有利にはアルコキシ
基又はアラルコシ基に炭素原子１〜ＩＮ固を有する、ア
ルコキシメチレン基又はアラルコキシメチレン基である
。好適なアルコキシ−又はアラルコキシ基としては例え
ば次のものが挙げられる：メトキシ−、ェトキシー、プ
ロピルオキシー、ブチルオキシー、ｔーフチルオキシー
、イソプロピルオキシー又はペンジルオキシ基。低級ア
ルコキシカルボニル基Ｚ及び低級アルキルスルフィニル
基Ｚは有利には各々、該ァルキル基が炭素原子１〜４個
を有するような基であるべきである。

特に有利な基Ｚはアルキル基がメチル基であるような基
である。本発明による方法を用いて製造することのでき
る、一般式１：〔式中ｎ、Ｘ、Ｚ、Ｒ，、Ｒ３及びＲ４
は前記のものを表わす〕の化合物は、特にステロイドの
総合合成に好適である重要な中間生成物である（ベルギ
ー特許第７３９７１８号明細書及び西ドイツ特許出願公
開第２２２１７０４号）。

反応工程１には本発明により得られた化合物（１）をス
テロイド最終生成物にする工程を記載した〔ホフマン．
ラロッシュ社西ドイツ国特許出願公開第１９５００１２
号公報（持公昭５６一３６１７７号、ベルギー特許第７
３９７１８号明細書に相応）〕。

反応工程２はこの工程を１９−ノルアンドロステンジオ
ン（ｌｅ）の製造例につき明らかにしており、ここでＲ
，＝ＣＨ３、Ｒ２＝フェニル、ｎ＝１、Ｘ＝にｒｔーブ
チルエーテル、Ｚ＝−ＣＯＯＣ２日５、例えば本発明に
より一般式ｌａの化合物（例１【ａ｝）を３ーオキソー
７・７−エチレンジオキシオクタン酸エチルェステルの
アニオンと反応させて１とし、引き続き１をアルドール
縮合すると三環系ｌｃが得られる（例１‘ｂ’）。この
化合物を水素化し飽和化合物ｌｄとする。ｌｄの酸性処
理により１工程でエーテル脱離、ケタール脱離及びアル
ドール縮合が生じる。ここで得られた化合物をクロム酸
酸化すると一般式ｌｅの化合物（１９ーノルーアンドロ
スト−４−エン−３・１７ージオン）が得られる。この
化合物はノルェチステロン及び酢酸ノルェステロンを製
造するための重要な中間体である。反応工程Ｉ 反応工程 ２ １ エーテル脱離 ２ ケタール脱離 ３ アルドール縮合 ４ 酸化 （西ドイツ国特許公開第１９５００１２号公報）本発明
による方法の第１反応工程は、一般式０の化合物をパラ
ジウムノカーボン触媒及び低級アルコール又はケトンの
存在で水素添加して一般式ｌａの化合物にするようにし
て実施される。

該反応工程用に低級アルコール又はケトンとしては、有
利には炭素原子６個までを有するアルコール又はケトン
を使用する。低級アルコール又はケトンとしては例えば
次のものが挙げられる：メタノール、エタノ−ル、プロ
／ぐノール、イソプロ／ゞノール、ブタノール、ｓ−ブ
タノール、ｔーフタノール、アミルアルコール又はイソ
アミルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、ジ
エチルケトン又はメチルイソブチルケトン。アルコール
又はケトンは溶剤として役立つ。水素添加は常用の婆ラ
ジウム／カーボン触媒を使用して行なわれる。

水素添加生成物の良好な収率を獲得するためには、反応
混合物に付加的になお少量の鉱酸、例えば塩酸、硫酸、
燐酸又は過塩素酸を添加することが有利である。

有利には反応混合物に鉄酸０．０１〜５．０％を添加す
る。水素添加は有利には反応温度０℃〜８０ｑｏかつ水
素圧ｌａｔｍ〜１００蛇ｔｍで実施される。

一般式ロの化合物の水素添加が本発明による方法の特別
な条件下に実際に完全にかつ立体特異的に進行しかつ化
合物のスルホン基が該条件下では攻撃されないというこ
とは、当業者にとって意想外である。原則として、一般
式ロの化合物の水素添加を本発明による以外のその他の
条件下で実施することができるが、その場合には水素添
加はもはや完全に又は十分に立体特異的に所望の方向へ
進行せずかついよいよ化合物のスルホン基は脱離される
。

従って、触媒としてパラジウム／カーボンの代りにパラ
ジウム／炭酸カルシウム−又はパラジウム／硫酸バリウ
ム触媒を用いる場合又は溶剤として低級アルコール又は
ケトンではなく、例えば酢酸エチルェステル、シクロヘ
キサン、ジメトキシェタン、クロロホルム又はアセトニ
トリルを使用する場合には、水素添加は不完全に行なわ
れる。溶剤として酢酸を用いる場合には、著しい含量で
異性体の化合物が得られかつ溶剤としてはジメチルホル
ムアミド又はテトラヒドロフランを使用する場合には、
スルホニル基が水素添加の際に部分的に脱鰍される。引
続いて行なわれる、一般式ｌａの化合物と一般式ｍの塩
との縮合反応は非極・性溶剤中で実施される。

非極性溶剤としては該方法工程用には例えば炭素原子１
２個までを有する、脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素
又は炭素原子数４〜１２のジアルキルェーテルを使用す
ることができる。

好適な炭化水素又はエーテルとしては例えば次のものが
挙げられる：ペンタン、ヘキサン、オクタン、石油エー
テル、シクロベンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ジエチルエーナル、ジイソプロピル
エーテル又はジブチルェーテル。一般式ｌａの化合物と
一般式ｍの塩との縮合反応は、相応する一般式Ｎ：〔式
中Ｚ、Ｒ３及びＲ４は前記のものを表わす〕の化合物を
前記溶剤中でアルカリ金属−又はアルカリ士類金属水素
化物と反応させることによって塩を製造しかつ引続きこ
うして生じた塩に一般式ｌａの化合物を作用させるよう
にして実施することができる。

他面においては該反応工程を、前記した溶剤中で一般式
ｌａの化合物、一般式Ｗの化合物及びアルカリ金属−又
はアルカリ士類金属水素化物を同時に相互に反応させる
ようにして実施することもできる。

該反応工程は有利には、式Ｗの化合物１モル当り塩基１
〜２５モルを使用して行なわれる。アルカリ金属−又は
アルカリ士類金属水素化物としては、有利には水素化リ
チウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム又は水素化
カルシウムが使用される。縮合反応は有利には反応温度
０００〜１００００で行なわれる。

原則としては縮合反応を極性溶剤、例はジメトキシェタ
ン、ジメチルホルムアミド又はエタノール中で実施する
こともできる。

しかしながら該条件下では一般式ｌａの化合物が著しい
自己縮合反応を起こすので、本発明による方法を使用し
た場合よりも著しく僅かな収率の一般式１の方法生成物
が得られる。本発明による方法に必要な一般式０の出発
化合物は例えば、一般式Ｖ：〔式中ｎ、Ｘ及びＲ，は前
記のものを表わす〕の化合物をトリェタノールアミン中
で相応するヒドロキシメチレンスルホンと反応させるか
又はトリェタノールアミン中でバラホルムアミドび相応
するメルカプタンと縮合させかつ最初に生じるチオェー
テルを酸化してスルホンにすることによって製造するこ
とができる（西ドイツ特許出願公開第２２２１７０４号
公報）。

次に本発明を実施例につき詳説する。

例１ 【ａ）１８一ｔープチルオキシー７ａ３ーメチル−４一
（フエニルスルホニルーメチル）一５・６・７・７ａ−
テトラヒドロインダン−５ーオン１．０のこエタノール
５０Ｍ、ＩＮの塩酸５叫及びパラジウム／獣炭（１０％
）１００ｍ９を加えかつ２０ｑＣかつ常圧で水素添加す
る。

反応完結後、触媒を猿別し、溶液を真空中で濃縮し、残
澄をクロロホルムと炭酸水素ナトリウム水溶液との間に
分配し、分離したクロロホルム相を真空中で濃縮し、残
澄をジィソプロピルヱーテル／へキサンから再結晶させ
ると、融点１０４〜１０６０○の１８−ｔ−ブチルオキ
シ−７ａ８−メチル−４一（フエニルスルホニルーメチ
ル）−ベルヒドロインダンー５ーオン０．７５夕が得ら
れる。

〔Ｑ〕色ｏ＝＋３９ｏ（クロロホルム；Ｃ＝１％）。‘
ｂー １８−ｔーブチルオキシー７ａ３ーメチルー４−
（フエニルスルホニルーメチル）ーベルヒドロインダン
一５−オン３８０のｏに３ーオキソ−７・７一（チレン
ジオキシ）−オクタン酸−エチルェステル０．４の‘、
水素化ナトリウム（油性分散液として、８０％）１００
ｍｇ及び無水ペンタン７０机を添加しかつ３０分間還流
下に加熱する。

次いで反応混合物に氷を加え、酢酸で酸性にし、クロロ
ホルムで抽出し、クロロホルム相を真空中で濃縮すると
、１８一ｔ−ブチルオキシ−７ａ３ーメチルー４一（２
ーエトキシカルボニル−３′ーオキソーブ・７ーエチレ
ンジオキシオクチル）ーベルヒドロインダン一５−オン
４９０雌が粗生成物として得られるＩＲ（油膜）：５．
７５山：５．８山；６．１山．こうして得た粗生成物に
引続き精製せずに２０％の水酸化ナトリウム水溶液４必
及びメタノール２０のとを加えかつ３び分間室温で放置
する。

次いで反応混合物を十分に濃縮し、残糟を酢酸で酸性に
し、食塩で飽和させかつ混合物を酢酸ェステルで抽出す
る。酢酸ェステル相を乾燥させ、濃縮すると、８ーカル
ボキシー３８一ｔ−ブチルオキシーＳＰーメチルー６−
（３′・３ーエチレンジオキシプチル）−７ーオキソ−
２・３１＄・４・５・７・８・９・望Ｂ・数Ｑーデカヒ
ドローベンズ〔ｃ〕一〔ＩＨ〕ーインデンが粗生成物と
して得られる。ＩＲ−スペクトル：３．０仏；６．０＃
該粗生成物を引続き精製せずにベンゼン２５叫に溶かし
かつ１時間還流下に加熱する。

次いで溶液を濃縮し、残櫨を珪酸ゲルカラムを用いるク
ロマトグラフィーにより精製すると、融点６０〜６がＣ
の３３−ｔーブチルオキシー＄３ーメチル−６−（３・
３ーエチレンージオキシブチル）−７−オキソ−２・３
・粉・４・５・７・８・９・鱗８・功Ｑーデカヒドロー
ペンズ〔ｅ〕一〔ＩＨ〕ーインデン３２０の９が得られ
る。

〔Ｑ〕啓＝一１４０（クロロホルム：Ｃ＝１％）例２‘
ａ’例ｌａに記載した条件下で１３ーベンゾィルオキシ
ー７ａ８ーメチルー４−（フエニルスルホニル−メチル
）−５・６・７・７ａ‐テトラヒドロィンダンー５−オ
ン１．０夕を水素添加しかつ後処理する。

融点１６７〜１６８℃の１８ーベンゾイルオキシー７ａ
８−メチル−４一（フエニルスルホニルーメチル）ーベ
ルヒドロインダン−５−オン５３０夕が得られる。〔Ｑ
〕勢＝十６７（クロロホルム：Ｃ＝１％）‘ｂ｝ １８
ーベンゾイルオキシーね８−メチル−４一（フエニルス
ルホニルーメチル）−ベルヒドロインダンー５ーオン３
８０の夕に３ーオキソー７・７ーェチレンジオキシーオ
クタン酸−エチルェステル０．４奴上、水素化ナトリウ
ム１００の９（８０％の油性分散液）、ベンタン６０泌
及びベンゼン２５の上を加えかつ３０分間還流下に加熱
する。

反応混合物を例ｌｂに記載したようにして後処理すると
、１８−ペンジルオキシ−７ａ８ーメチルー４−（２−
エトキシカルボニル−３−オキソープ・７ーエチレンジ
オキシーオクチル）ーベルヒドロィンダン−５−オンが
粗生成物として得られる。ＩＲースベクトル（油膜）：
５．７５仏；５．８ム．こうして得た粗生成物に２０％
の水酸化ナトリウム溶液４の上及びメタノール２０の‘
を加えかつ２時間室温で放置する。

次いで反応混合物を後処理しかつ得られた粗生成物を例
ｌｂに記載したようにして脱カルボキシル化すると、３
８ーヒド。キシ−粉８−メチル−６−（３・３ーエチレ
ンジオキシーブチル）−７−オキソ−２．３・粉・４・
５・７・８１９・鱗８・功Ｑ−デカヒドローベンズ〔ｅ
〕一〔ＩＨ〕−インデン３６５の９が油状物として得ら
れる。ご２４９＝１３７００。ＩＲ：２．９仏及び６．
０仏に帯。例３｛ａ｝ 例ｌａに記載したと同じ条件下
で、１３−ヒドロキシー７ａ８ーメチル−４一（フエニ
ルスルホニルーメチル）−５・６・７・７ａ‐テトラヒ
ドロインダン−５ーオン１．０夕を水素添加すると、１
８ーヒドロキシー７ａＢーメチル−４−（フエニルスル
ホニルーメチル）ーベルヒドロィンダン−５ーオン７０
０雌が油状物として得られる。

ＩＲ：２．８仏、５．８仏、７．５６仏及び８．７９〃
に帯。【ｂ｝ １３ーヒドロキシ−７ａ８−メチル一４
一（フエニルスルホニルーメチル）ーベルヒドロインダ
ン−５−オン１．０５夕に３ーオキソ−７・７−エチレ
ンジオキシーオクタン酸ーェチルェステル１の‘、水酸
化リチウム５０柵、ベンタン１００の‘及びベンゼン６
０の上を加えかつ３０分間還流下に加熱する。

反応混合物を後処理し、閉環させかつ得られた生成物を
例ｌｂに記載したようにして脱カルボキシル化すると、
３８−ヒドロキシーギ３ーメチルー６−（３・３−エチ
レンジオキシ−フチル）一７ーオキソ−２・３・ね・４
・５・７・８・９・９８・功Ｑ−デカヒドロ−ペンズ〔
ｅ〕−〔ＩＨ〕−インデン９１７のりが得られ、これは
例かにより得られた生成物と同一のものであった。

例４ ｛ａ’１８一ｔーブチルオキシ−７ａ８−エチル−４−
（フエニルスルホニルーメチル）−５・６・７・７ａ−
テトラヒドロインダンー５−オン１．０夕を例ｌａに記
載した条件下で水素添加し、かつ融点１３５〜１３６ｑ
○の１８一ｔ−ブチルオキシ−７ａ８ーエチルー４−（
フヱニルスルホニルーメチル）−ベルヒドロインダン−
５−オン６５０ｍｇが得られる。

〔Ｑ〕鮒＝十３９０（クロロホルム；ｃ＝１％）｛ｂ’
１８−ｔーブチルオキシ−７ａ８−エチル−４一（フ
エニルスルホニル−メチル）ーベルヒドロィンダン−５
ーオン１８０柵を例ｌｂに記載の条件下で反応させると
、３８−ｔ−ブチルオキシ一＄８ーエチルー６一（３・
３′ーエチレンジオキシーブチル）一７ーオキソー２・
３・３・４・５・７・８・９・鱗８・鱗Ｑ−デカヒドロ
ーベンズ〔ｅ〕−〔ＩＨ〕ーインデン１４５地が油状物
として得られる。

・２４９＝１３５００。ＩＲ：６．０山に帯。例５ ‘ａ｝ 例ｌａに記載した条件下に１８一ｔ−ブチルオ
キシー７ａ８−メチル一４一（１′−へキシルースルホ
ニルーメチル）‐５・６・７・７ａ‐テトラヒドロィン
ダンー５ーオン１．０夕を水素添加して、１８一ｔ−ブ
チルオキシー７ａ８ーメチル−（１′ーヘキシルースル
ホニルーメチル）ーベルヒドロィンダン−５ーオン７１
０のｏが油状物として得られる。

ＩＲ：７．５８山及び８．８叫こ帯。‘ｂ｝ 例ｌｂに
記載した条件下に１８一ｔーブチルオキシー７ａ８ーメ
チルー（１′−へキシルースルホニルーメチル）−ベル
ヒドロインダンー５−オン２１０の夕を反応させ、３８
−ｔ−ブチルオキシ−ＳＰ−メチル−６−（３・３−エ
チレンジオキシーブチル）−７ーオキソー２・３・粉・
４・５・７・８・９・鱗Ｂ・鮒Ｑーデカヒドローベンズ
〔ｅ〕一〔ＩＨ〕ーインデン１５０の９が得られるが、
これは例ｌｂにより製造した生成物と同一のものである
。例６ １３一ｔーブチルオキシ−７ａＰーメチルー４一（フヱ
ニルスルホニルーメチル）ーベルヒドロインダンー５ー
オン３８０の９に３ーオキソー７ークロルー６ーオクテ
ン酸エチルェステル０．４の‘、水素化ナトリウム１０
０のｏ（８０％の油性懸濁液）及びペンタン７０の‘を
加えかつ３０分間還流下に加熱する。

反応混合物を後処理し、閉環させかつ得られた生成物を
例ｌｂに記載したようにして脱カルボキシル化して、３
８一ｔーブチルオキシー＄Ｂーメチルー６一（３ークロ
ルー２ープテニル）−７−オキソー２・３・粉・４・５
・７・８・９・鱗８・鱗Ｑーデカヒドロ−ペンズ〔嘆〕
−〔ＩＨ〕−ィンデン３５０のｏが油状物として得られ
る。ご２５０＝１３２００。ＩＲ：６．０仏に帯。例７ １８一ｔーブチルオキシ−７ａ８ーメチルー４一（フエ
ニルスルホニルーメチル）ーベルヒドロインダン一５−
オン斑ｏｍ９をメチル−（２−オキソ−６・６ーフエニ
レソジオキシ−へプチル）−スルホキシド０．４夕、水
素化ナトリウム２００ｍ９（８０％の油性懸濁液）及び
ベンゼン８０の【を３０分間還流下に加熱する。

次いで反応混合物を後処理しかつ得られた生成物を例ｌ
ｃに記載したようにして閉環して、３３一ｔーブチルオ
キシー彩Ｂーメチル−６一（３・３′ーフエニレンジオ
キシーブチル）一７ーオキソ−８一（メチルスルフイニ
ル）一２・３・＄・４・５・７・８・９・鯵８・助ｏー
ブカヒドローベンズ〔ｅ〕一〔ＩＨ〕ーインデン３００
のｏが油状物して得られる。ご２４８＝１３１００。Ｉ
Ｒ：５．８６山、６．０一６．７５一及び８．１０山に
帯。例８‘ａ’１３一ｔ−ブチルオキシー７ａ８−メチ
ル一４−（フエニルースルホニルーメチル）−５．６・
７・７ａ−テトラヒドロインダン−５ーオン１．０夕に
アセトン５０地及び過塩素酸０．５の‘を加え、例ｌａ
に記載した条件下に水素添加し、後処理して、１８一ｔ
ーブチルオキシー７ａ８ーメチル−４−（フエニルース
ルホニルーメチル）ーベルヒドロィンダン−５ーオン７
３０のｃが得られるが、これは例ｌａにより製造した化
合物と同一のものである。

｛ｂ’この生成物を例１｛ｂに記載されているように環
化すると、融点６０〜６が○の３８−ｔーブチロキシ−
＄８ーメチル−６−（３．３′ーエチレンジオキシブチ
ル）−７ーオキソ−２・３・粉・４・５・７・８・９・
鱗８・蛇ｏ−デカヒドロ−ペンズ〔ｅ〕−〔ＩＨ〕ーィ
ンデンが得られる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式I： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中ｎは１又は２の数を表わし、Ｒ＿１は低級アルキ
   ル基を表わし、Ｘは遊離又はケタール化されたカルボニ
   ル基又は遊離又はエステル基又はエーテル基中の炭素原
   子数が１〜１０であるエステル化ないしはエーテル化さ
   れたヒドロキシメチレン基を表わし、Ｒ＿３は水素原子
   を表わし、Ｒ＿４は飽和又は不飽和であり、及び／又は
   低級アルキレンジオールで又は１・２−ジフエノールで
   ケタール化されたカルボニル基により中断されており、
   及び／又は塩素により置換された炭素原子数１〜６のア
   シル基を表わし、かつＺは、それぞれアルキル部分が炭
   素原子数１〜４である低級アルコキシカルボニル基又は
   低級アルキルスルフイニル基を表わす〕のビシクロアル
   カン誘導体を製造するに当り、一般式II：▲数式、化学
   式、表等があります▼ 〔式中ｎ、Ｘ及びＲ＿１は前記のものを表わし、Ｒ＿２
   はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表わす〕
   の化合物をパラジウム／カーボン触媒及びそれぞれ炭素
   原子数１〜６の低級アルコール又は低級ケトンの存在で
   水素添加して一般式Iａ：▲数式、化学式、表等があり
   ます▼ 〔式中ｎ、Ｘ、Ｒ＿１及びＲ＿２は前記のものを表わす
   〕の化合物にしかつ該化合物を非極性溶剤中で一般式I
   II：▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｚ、Ｒ＿３及びＲ＿４は前記のものを表わしかつ
   Ｍｅ■はアルカリ金属−又はアルカリ土類金属原子を表
   わす〕の塩と縮合させることを特徴とする、ビシクロア
   ルカ誘導体の製法。