JPS6022116A - 光センサの汚れ清掃装置 - Google Patents
光センサの汚れ清掃装置Info
- Publication number
- JPS6022116A JPS6022116A JP58129388A JP12938883A JPS6022116A JP S6022116 A JPS6022116 A JP S6022116A JP 58129388 A JP58129388 A JP 58129388A JP 12938883 A JP12938883 A JP 12938883A JP S6022116 A JPS6022116 A JP S6022116A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical sensor
- heat
- heater
- foul
- voltage
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B23/00—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
- G02B23/16—Housings; Caps; Mountings; Supports, e.g. with counterweight
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Astronomy & Astrophysics (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は光センサの汚れを除去するのに用いる清掃装
置に関する。
置に関する。
一般に、光センサは種々の用途に用いられているが、そ
の使用環境については必ずしもその光センサの検出面表
面(二汚れが付着しにくいような状況下で用いられると
は限らず、汚れ易いような状況で使用される場合もある
。しかし、従来、光センサには検出面表面の汚れを取り
除くことができるような装置が設けられ【おらず、この
ため光センサの検出面が汚れた場合には、それが原因で
感度の低下、誤検知、誤動作が発生するという問題があ
る。
の使用環境については必ずしもその光センサの検出面表
面(二汚れが付着しにくいような状況下で用いられると
は限らず、汚れ易いような状況で使用される場合もある
。しかし、従来、光センサには検出面表面の汚れを取り
除くことができるような装置が設けられ【おらず、この
ため光センサの検出面が汚れた場合には、それが原因で
感度の低下、誤検知、誤動作が発生するという問題があ
る。
この発明は上記の点に鑑みてなされたもので、光センサ
の検出面の汚れに起因する感度の低下等を防止できるよ
うにすることを目的とするものである。
の検出面の汚れに起因する感度の低下等を防止できるよ
うにすることを目的とするものである。
この発明は、上記目的を達成するため、光センナの検出
面に耐熱ガラスを設けると共に、その耐熱ガラスの表面
に加熱ヒータを設け、これにより付着した汚れを加熱ク
リーニングして除去するようにしたものである。
面に耐熱ガラスを設けると共に、その耐熱ガラスの表面
に加熱ヒータを設け、これにより付着した汚れを加熱ク
リーニングして除去するようにしたものである。
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図(A)〜の)はこの発明の一実施例を示すもので
、光センサとして反射型光センサを使用した場合を示す
。
、光センサとして反射型光センサを使用した場合を示す
。
第1図において、(1)は発光部及び受光部を組み込ん
だ反射型光センサで、第1図囚に示すその検出面には、
まず所要の温度に耐え得る透明の耐熱ガラス(2)が同
図(B)、(C)のように貼り付けられ、そしてこの耐
熱ガラス(2)の表面に、同図の)に示すように、汚れ
を加熱クリーニングするための加熱ヒータとしてのセラ
ミックヒータ(3)をスリット状に取付けるようにする
。AA203磁器を応用したセラミックヒータ(3)は
印加電圧を一定にすれば一定温度が得られるので、上述
のように耐熱ガラス(2)及びセラミックヒータ(3)
から成る装置を反射型光センサ(1)の検出面に装着し
、セラミックヒータ(3)に所定の電圧を印加すれば、
表面及び周囲に付着した汚れが焼却クリーニングされて
除去される。このため、たとえ汚れ易い状況下で使用さ
れる場合でも簡単に汚れをクリーニングしてなくすこと
ができ、汚れに起因する反射型光センサ(1)の感度の
低下、誤検知、誤動作等の不都合を防止することができ
る。
だ反射型光センサで、第1図囚に示すその検出面には、
まず所要の温度に耐え得る透明の耐熱ガラス(2)が同
図(B)、(C)のように貼り付けられ、そしてこの耐
熱ガラス(2)の表面に、同図の)に示すように、汚れ
を加熱クリーニングするための加熱ヒータとしてのセラ
ミックヒータ(3)をスリット状に取付けるようにする
。AA203磁器を応用したセラミックヒータ(3)は
印加電圧を一定にすれば一定温度が得られるので、上述
のように耐熱ガラス(2)及びセラミックヒータ(3)
から成る装置を反射型光センサ(1)の検出面に装着し
、セラミックヒータ(3)に所定の電圧を印加すれば、
表面及び周囲に付着した汚れが焼却クリーニングされて
除去される。このため、たとえ汚れ易い状況下で使用さ
れる場合でも簡単に汚れをクリーニングしてなくすこと
ができ、汚れに起因する反射型光センサ(1)の感度の
低下、誤検知、誤動作等の不都合を防止することができ
る。
第2図は複写機における光センサに適用した一例を示す
もので、上記セラミックヒータ(3)への電圧の印加を
定着器の温度に応じて制御する場合を示す。
もので、上記セラミックヒータ(3)への電圧の印加を
定着器の温度に応じて制御する場合を示す。
第2図において、反射型光センサ(1)の発光素子(l
a)及び受光素子(lb)の各一端は夫々+5Vの電源
′vcc+ +12Vの電源V。0に接続され、また発
光素子(la)、の他端はアースに接続されており、受
光素子(1b)の他端から出力が取り出されるようにな
っている。この反射型光センサ(1)の検出面に耐熱ガ
ラス(2)を介して装着されたセラミックヒータ(3)
の−万の電極はリード線りを介してアースに接続され、
またその他方の電極はリード線kを介してトランジスタ
Q+のエミッタに接続され、そのコレクタが上記+5v
の電源Vc[、に接続されており、トランジスタQ+が
オンした場合にセラミックヒータ(3)に+5Vの電圧
が印加されるようになっている。このトランジスタQ0
のオン、オフはメインCPTJ(4)から送出される制
御信号により制御されるようになっており、このメイン
CPU(41は定着器(5)における定着器温度検知回
路を構成するサーミスタ(6)からの検知出力に基づい
て、複写機のパワーオン時、定着器(5)の温度が例え
ば30℃以下の時に例えば60秒間上記トランジスタQ
1をオンさせるよう制御するようになっている。
a)及び受光素子(lb)の各一端は夫々+5Vの電源
′vcc+ +12Vの電源V。0に接続され、また発
光素子(la)、の他端はアースに接続されており、受
光素子(1b)の他端から出力が取り出されるようにな
っている。この反射型光センサ(1)の検出面に耐熱ガ
ラス(2)を介して装着されたセラミックヒータ(3)
の−万の電極はリード線りを介してアースに接続され、
またその他方の電極はリード線kを介してトランジスタ
Q+のエミッタに接続され、そのコレクタが上記+5v
の電源Vc[、に接続されており、トランジスタQ+が
オンした場合にセラミックヒータ(3)に+5Vの電圧
が印加されるようになっている。このトランジスタQ0
のオン、オフはメインCPTJ(4)から送出される制
御信号により制御されるようになっており、このメイン
CPU(41は定着器(5)における定着器温度検知回
路を構成するサーミスタ(6)からの検知出力に基づい
て、複写機のパワーオン時、定着器(5)の温度が例え
ば30℃以下の時に例えば60秒間上記トランジスタQ
1をオンさせるよう制御するようになっている。
従って、今、複写機のパワーオン時に定着器(5)の温
度が80℃以下の場合には、トランジスタQ1がオンせ
しめられ、セラミックヒータ(3)には60秒間+5V
の電圧が印加されるので、この間約500℃の加熱クリ
ーニングを行ない、汚れを除去することができ、反射型
光センサ(1)の感度低下等を招くおそれがなく、複写
機のように浮遊トナー等の発生し易い状況の場合でも反
射型センサ(1)の所要の機能が汚れによって阻害され
るということを防止することができる。
度が80℃以下の場合には、トランジスタQ1がオンせ
しめられ、セラミックヒータ(3)には60秒間+5V
の電圧が印加されるので、この間約500℃の加熱クリ
ーニングを行ない、汚れを除去することができ、反射型
光センサ(1)の感度低下等を招くおそれがなく、複写
機のように浮遊トナー等の発生し易い状況の場合でも反
射型センサ(1)の所要の機能が汚れによって阻害され
るということを防止することができる。
以上のように、この発明は、光センサに付着する汚れを
加熱クリーニングして除去することができるので、感度
の低下、誤検知、誤動作等の発生を防止することができ
、特:二汚れ易い状況下で使用する光センナに適用して
簡単な構成で常に光センサの所要の機能を維持すること
カーできる等の効第1図はこの発明の一実施例の構成を
示す構成図、第2図は複写機の光センサζ二利用した場
合の一例を示す回路図である。
加熱クリーニングして除去することができるので、感度
の低下、誤検知、誤動作等の発生を防止することができ
、特:二汚れ易い状況下で使用する光センナに適用して
簡単な構成で常に光センサの所要の機能を維持すること
カーできる等の効第1図はこの発明の一実施例の構成を
示す構成図、第2図は複写機の光センサζ二利用した場
合の一例を示す回路図である。
符号説明
(1)・・・・・・反射型光センサ (2)・・・・・
・耐熱ガラス(3)・・・・・・セラミックヒータ
・耐熱ガラス(3)・・・・・・セラミックヒータ
Claims (1)
- 光センサの検出面に設けた耐熱ガラスと、この耐熱ガラ
スの表面に設けられた、汚れを加熱クリーニングするた
めの加熱ヒータとを有することを特徴とする光センサの
汚れ清掃装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58129388A JPS6022116A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 光センサの汚れ清掃装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58129388A JPS6022116A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 光センサの汚れ清掃装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6022116A true JPS6022116A (ja) | 1985-02-04 |
Family
ID=15008340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58129388A Pending JPS6022116A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 光センサの汚れ清掃装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6022116A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63262101A (ja) * | 1987-04-21 | 1988-10-28 | 小川 泰弘 | 布帛靴およびその製造法 |
WO2004081511A1 (de) * | 2003-03-13 | 2004-09-23 | Kistler Holding Ag | Selbstreinigender optischer sensor |
DE102010003413A1 (de) * | 2010-03-29 | 2011-09-29 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren zur Reinigung eines optischen Positionsmesssystems für Substrate in einer Beschichtungsanlage |
-
1983
- 1983-07-18 JP JP58129388A patent/JPS6022116A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63262101A (ja) * | 1987-04-21 | 1988-10-28 | 小川 泰弘 | 布帛靴およびその製造法 |
WO2004081511A1 (de) * | 2003-03-13 | 2004-09-23 | Kistler Holding Ag | Selbstreinigender optischer sensor |
DE102010003413A1 (de) * | 2010-03-29 | 2011-09-29 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren zur Reinigung eines optischen Positionsmesssystems für Substrate in einer Beschichtungsanlage |
US8605292B2 (en) | 2010-03-29 | 2013-12-10 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Method and device for cleaning an optical position measurement system for substrates in a coating installation |
DE102010003413B4 (de) * | 2010-03-29 | 2016-12-22 | Von Ardenne Gmbh | Verfahren zur Reinigung eines optischen Positionsmesssystems, optisches Positionsmesssystem und Beschichtungsanlage |
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