JPS6019749B2 - クロルチオ−n−フタルイミドの製造方法 - Google Patents
クロルチオ−n−フタルイミドの製造方法Info
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- JPS6019749B2 JPS6019749B2 JP52121571A JP12157177A JPS6019749B2 JP S6019749 B2 JPS6019749 B2 JP S6019749B2 JP 52121571 A JP52121571 A JP 52121571A JP 12157177 A JP12157177 A JP 12157177A JP S6019749 B2 JPS6019749 B2 JP S6019749B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/44—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles
- C07D209/48—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles with oxygen atoms in positions 1 and 3, e.g. phthalimide
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Indole Compounds (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
特許第1224412号(特公昭59−505号)の発
明は、N−N′ージチオービスーフタルイミドを20℃
〜10000の温度で塩素または塩素化剤と反応させる
ことからなるクロルチオーNーフタルイミドの製造方法
に関する。
明は、N−N′ージチオービスーフタルイミドを20℃
〜10000の温度で塩素または塩素化剤と反応させる
ことからなるクロルチオーNーフタルイミドの製造方法
に関する。
さて、この方法をさらに開発することにより、ラジカル
形成体を反対成分に加えるときおよび/または反応を光
の存在で実施するとき、前記反応は非常にすぐれた容積
/時間の収率で起こること(すなわち、同等の収率がよ
り4・さし、反応容積および/またはより短かし、反応
時間で得られること)がわかった。
形成体を反対成分に加えるときおよび/または反応を光
の存在で実施するとき、前記反応は非常にすぐれた容積
/時間の収率で起こること(すなわち、同等の収率がよ
り4・さし、反応容積および/またはより短かし、反応
時間で得られること)がわかった。
本発明において、ラジカル形成体とは、ラジカル含有破
片に分解する化合物を意味する。
片に分解する化合物を意味する。
このような化合物の例は、次のとおりである:過酸化ジ
第三ブチル、過酸化ジベンゾィル、過酸化ジアセチル、
過酸化ビスートリクロルアセチル、クメンヒドロ/ぐ−
オキシド、Q,Q′ーアゾービスーイソプチロニトリル
、Q,Q′−アゾービス−(Q−フェニループロピオニ
トリル、)、無機過硫酸塩、たとえばK2S208、過
ホウ素酸塩および過リン酸塩。Q,Q′−アゾービスー
ィソブチロニトリルを使用することが好ましい。ラジカ
ル形成化合物は、N,N′−ジチオービス”フタルィミ
ド1モル当り好ましくは0.01〜0.1モル、最も好
ましくは0.03〜0.08モルの量で加える。光源の
例は、日光、紫外線および適当なレザー光線である。光
源は好ましくは200〜800ナノメーターの波長をも
ち、とくに好ましくは250〜450ナノメータ−の波
長をもつ。クロルチオ−Nーフタルィミドが生成するク
ロルリシス反応は20〜100つ0、好ましくは30〜
約60℃の温度において実施する。
第三ブチル、過酸化ジベンゾィル、過酸化ジアセチル、
過酸化ビスートリクロルアセチル、クメンヒドロ/ぐ−
オキシド、Q,Q′ーアゾービスーイソプチロニトリル
、Q,Q′−アゾービス−(Q−フェニループロピオニ
トリル、)、無機過硫酸塩、たとえばK2S208、過
ホウ素酸塩および過リン酸塩。Q,Q′−アゾービスー
ィソブチロニトリルを使用することが好ましい。ラジカ
ル形成化合物は、N,N′−ジチオービス”フタルィミ
ド1モル当り好ましくは0.01〜0.1モル、最も好
ましくは0.03〜0.08モルの量で加える。光源の
例は、日光、紫外線および適当なレザー光線である。光
源は好ましくは200〜800ナノメーターの波長をも
ち、とくに好ましくは250〜450ナノメータ−の波
長をもつ。クロルチオ−Nーフタルィミドが生成するク
ロルリシス反応は20〜100つ0、好ましくは30〜
約60℃の温度において実施する。
出発物質のN−N′−ジチオービスーフタルィミドは既
知の化合物である(Ca脇dianJoumalofC
hemistry.Vol.44,2112(1966
))。
知の化合物である(Ca脇dianJoumalofC
hemistry.Vol.44,2112(1966
))。
塩素のほかに、他の塩素化剤、とくに塩化スルフリルも
使用できる。一般に、この反応は化学量論量のN,N′
ージチオービスーフタルィミドと塩素または塩素化剤と
を用いて実施するが、比較的小過剰量の、好ましくは1
0モル%以下の一方または他方の出発物質を使用するこ
ともできる。
使用できる。一般に、この反応は化学量論量のN,N′
ージチオービスーフタルィミドと塩素または塩素化剤と
を用いて実施するが、比較的小過剰量の、好ましくは1
0モル%以下の一方または他方の出発物質を使用するこ
ともできる。
この反応は反応条件下で塩素に対して不活性である溶媒
中で実施する。このような溶媒の例は、次のとおりであ
る:過ハロゲン化脂肪族炭化水素、ことにテトラクロル
メタン;芳香族炭化水素、たとえばベンゼンおよびニト
ロベンゼン;好ましくは芳香族塩素化炭化水素、これに
クロルベンゼンおよびジクロロベンゼン。一般に、この
反応はN,N′ージチオービスーフタルィミドおよびラ
ジカル生成化合物を溶媒中にレナん濁および/または熔
解し、塩素または塩素化剤をかきまぜながら加えること
によって実施する。
中で実施する。このような溶媒の例は、次のとおりであ
る:過ハロゲン化脂肪族炭化水素、ことにテトラクロル
メタン;芳香族炭化水素、たとえばベンゼンおよびニト
ロベンゼン;好ましくは芳香族塩素化炭化水素、これに
クロルベンゼンおよびジクロロベンゼン。一般に、この
反応はN,N′ージチオービスーフタルィミドおよびラ
ジカル生成化合物を溶媒中にレナん濁および/または熔
解し、塩素または塩素化剤をかきまぜながら加えること
によって実施する。
ラジカル形成化合物の代わり‘こ光源を使用する場合、
この装置は塩素化の全期間にわたって運転すべきである
。添加が完了したとき、反応混合物をある期間放置して
反応させ、次いで溶媒を部分的にまたは完全に、必要に
応じて減圧下に、留去し、反応生成物を単離する。溶媒
の一部分のみを礎去し、引き続いて反応生成物のクロル
チオ−N−フタルィミド‘こついて溶解度がひじように
低く、かつ反応中に使用する溶媒と混和しうる溶媒を加
えることがとくに有利であることがある。この目的に対
して、反応条件下に塩素に対してかならずしも不活性で
はない種類の標準溶媒、たとえば、石油エーテルおよび
石油ベンジンのような脂肪炭化水素および混合物を有利
に使用することもできる。このようにして、反応生成物
をたとえば沈殿させ、反応混合物から、たとえば炉過ま
たは遠心によって有利に単離できる。
この装置は塩素化の全期間にわたって運転すべきである
。添加が完了したとき、反応混合物をある期間放置して
反応させ、次いで溶媒を部分的にまたは完全に、必要に
応じて減圧下に、留去し、反応生成物を単離する。溶媒
の一部分のみを礎去し、引き続いて反応生成物のクロル
チオ−N−フタルィミド‘こついて溶解度がひじように
低く、かつ反応中に使用する溶媒と混和しうる溶媒を加
えることがとくに有利であることがある。この目的に対
して、反応条件下に塩素に対してかならずしも不活性で
はない種類の標準溶媒、たとえば、石油エーテルおよび
石油ベンジンのような脂肪炭化水素および混合物を有利
に使用することもできる。このようにして、反応生成物
をたとえば沈殿させ、反応混合物から、たとえば炉過ま
たは遠心によって有利に単離できる。
一般に、この反応は常圧で実施するが、減圧下にまたは
高圧下に実施することもできる。
高圧下に実施することもできる。
ある場合において、反応速度を高くしかつ反応時間を短
縮するため、反応を約1戊気圧ゲージまで、ことに約2
気圧ゲージまでの高圧下に実施することはとくに有利で
あることがある。本発明による方法は、もちろん連続的
に実施でき、たとえば反応管、反応器のガスケードまた
は連続法について知られた他の装置中で連続的に実施で
きる。
縮するため、反応を約1戊気圧ゲージまで、ことに約2
気圧ゲージまでの高圧下に実施することはとくに有利で
あることがある。本発明による方法は、もちろん連続的
に実施でき、たとえば反応管、反応器のガスケードまた
は連続法について知られた他の装置中で連続的に実施で
きる。
この方法の生成物のクロルチオ−N−フタルィミドは、
たとえばゴム補助剤の製造に適する中間体である。
たとえばゴム補助剤の製造に適する中間体である。
次に、本発明を比較例および実施例によって具体的に説
明する。
明する。
比較例
N,N′ージチオービスーフタルイミド215夕(0.
63モル)をクロルベンゼン1200必中にて35℃で
雛拝しながら塩素43夕(0.61モルと反応させ、塩
素はこれを消費した際に加えるようにした。
63モル)をクロルベンゼン1200必中にて35℃で
雛拝しながら塩素43夕(0.61モルと反応させ、塩
素はこれを消費した際に加えるようにした。
反応混合物を同一温度で更に60分間渡洋した。次に溶
媒を真空下で除去し、反応混合物をその容量の約1/3
に減じた。炉過して徴量の末反応出発物質を除去した。
かくして得られた反応溶液を等容量の石油ベンジン(沸
点60〜95午0)と混合し、そして1000に冷却し
た。沈殿した反応生成物を炉別し、真空下で乾燥した。
融点135〜137ご0の黄色結晶としてクロルチオ−
N−フタルイミド219夕(理論値の85%)が得られ
た。実施例 1 215夕(0.63モル)のN,N′−ジチオービスー
フタルイミドを1200の‘のクロロベンゼンに導入し
、次いで43夕の塩素を35q0において紫外線ランプ
(2000/450ワット、0sramHgH社製)の
光線のもとに5分間にわたって導入した。
媒を真空下で除去し、反応混合物をその容量の約1/3
に減じた。炉過して徴量の末反応出発物質を除去した。
かくして得られた反応溶液を等容量の石油ベンジン(沸
点60〜95午0)と混合し、そして1000に冷却し
た。沈殿した反応生成物を炉別し、真空下で乾燥した。
融点135〜137ご0の黄色結晶としてクロルチオ−
N−フタルイミド219夕(理論値の85%)が得られ
た。実施例 1 215夕(0.63モル)のN,N′−ジチオービスー
フタルイミドを1200の‘のクロロベンゼンに導入し
、次いで43夕の塩素を35q0において紫外線ランプ
(2000/450ワット、0sramHgH社製)の
光線のもとに5分間にわたって導入した。
紫外線のもとに3500においてさらに5分間かきまぜ
たのち、出発物質は完全に反応した。溶媒の3分の2を
減圧蒸発し、等しい容積の石油ベンジン(沸点範囲60
〜95q0)を得られた反応溶液に加え、この混合物を
10qoに冷却した。沈殿した生成物を炉遇し、減圧乾
燥すると、263夕(理論値の98%)のクロルチオ−
N−フタルィミドが135qoで溶融する黄色結晶の形
で得られる。
たのち、出発物質は完全に反応した。溶媒の3分の2を
減圧蒸発し、等しい容積の石油ベンジン(沸点範囲60
〜95q0)を得られた反応溶液に加え、この混合物を
10qoに冷却した。沈殿した生成物を炉遇し、減圧乾
燥すると、263夕(理論値の98%)のクロルチオ−
N−フタルィミドが135qoで溶融する黄色結晶の形
で得られる。
実施例 2
215夕(0.63モル)のN,N′ージチオービスー
フタルィミドを1200の‘のクロロベンゼンに導入し
、次いで59のQ,Q′ーアゾービスーイソブチロニト
リルを加えた。
フタルィミドを1200の‘のクロロベンゼンに導入し
、次いで59のQ,Q′ーアゾービスーイソブチロニト
リルを加えた。
引き続いて43夕の塩素を40〜45こ0において5分
間にわたって導入した。45〜50ooにおいてさらに
18分間かきまぜたのち、出発物質は完全に反応した。
間にわたって導入した。45〜50ooにおいてさらに
18分間かきまぜたのち、出発物質は完全に反応した。
この反応混合物を実施例1に記載する方法と同じ方法で
処理すると、241夕のクロルチオーNーフタルィミド
が得られた。これは理論収率の89.5%に相当する。
上記の実施例1および実施例2を比較例(特許第122
4412(特公昭59−505号)号明細書の実施例1
)と対比すると、反応時間は、比較例では6ぴ分間以上
(塩素導入時間と蝿梓時間との合計)であるのに対して
、実施例1では10分間、実施例2では2粉ご間であり
、反応率は、比較例ではloo%禾満である(反応混合
物中に徴量ながら末反応出発物質が含まれている)のに
対して、実施例1および実施例2では共に100%(完
全の反応)であり、収率は、比較例では85%であるの
に対して、実施例1では聡%、実施例2では89.5%
であり、本発明による改良効果は明らかである。追加の
関係 特許第1224412号(特公昭59一505号)の発
明は、「N,N′ージチオーピスーフタルイミドを20
00〜100午0の温度で塩素または塩化剤と反応させ
ることを特徴とするクロルチオ−N−フタルィミドの製
造法」である。
処理すると、241夕のクロルチオーNーフタルィミド
が得られた。これは理論収率の89.5%に相当する。
上記の実施例1および実施例2を比較例(特許第122
4412(特公昭59−505号)号明細書の実施例1
)と対比すると、反応時間は、比較例では6ぴ分間以上
(塩素導入時間と蝿梓時間との合計)であるのに対して
、実施例1では10分間、実施例2では2粉ご間であり
、反応率は、比較例ではloo%禾満である(反応混合
物中に徴量ながら末反応出発物質が含まれている)のに
対して、実施例1および実施例2では共に100%(完
全の反応)であり、収率は、比較例では85%であるの
に対して、実施例1では聡%、実施例2では89.5%
であり、本発明による改良効果は明らかである。追加の
関係 特許第1224412号(特公昭59一505号)の発
明は、「N,N′ージチオーピスーフタルイミドを20
00〜100午0の温度で塩素または塩化剤と反応させ
ることを特徴とするクロルチオ−N−フタルィミドの製
造法」である。
これに対し、本願の発明は、「N,N′ージチオービス
ーフタルイミドを約2000〜約100oCの温度で塩
素または塩素化剤と反応させることからなるクロルチオ
ーNーフタルイミドの製造方法において、該反応をラジ
カル形成体の存在および/または光の存在で実施するこ
とを特徴とする方法」である。
ーフタルイミドを約2000〜約100oCの温度で塩
素または塩素化剤と反応させることからなるクロルチオ
ーNーフタルイミドの製造方法において、該反応をラジ
カル形成体の存在および/または光の存在で実施するこ
とを特徴とする方法」である。
したがって、本願の発明は、特許第1224412号(
特公昭59一505号)の発明の構成に欠くことができ
ない事項の全部をその構成に欠くことができない事項の
主要部としている発明であって、特許第1224412
号(特公昭59−505号)の発明と同一の目的を達成
するものであり、特許法第31条1号を満足する発明で
ある。
特公昭59一505号)の発明の構成に欠くことができ
ない事項の全部をその構成に欠くことができない事項の
主要部としている発明であって、特許第1224412
号(特公昭59−505号)の発明と同一の目的を達成
するものであり、特許法第31条1号を満足する発明で
ある。
Claims (1)
- 1 N,N′−ジチオ−ビス−フタルイミドを約20℃
〜約100℃の温度で塩素または塩素化剤と反応させる
ことからなるクロルチオ−N−フタルイミドの製造方法
において、該反応をラジカル形成体の存在および/また
は光の存在で実施することを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762646349 DE2646349C2 (de) | 1976-10-14 | 1976-10-14 | Verfahren zur Herstellung von Chlorthio-N-phthalimid |
DE2646349.0 | 1976-10-14 | ||
DE2717636.9 | 1977-04-21 | ||
DE19772717636 DE2717636A1 (de) | 1977-04-21 | 1977-04-21 | Verfahren zur herstellung von chlorthio-n-phthalimid |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5350158A JPS5350158A (en) | 1978-05-08 |
JPS6019749B2 true JPS6019749B2 (ja) | 1985-05-17 |
Family
ID=25771010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52121571A Expired JPS6019749B2 (ja) | 1976-10-14 | 1977-10-12 | クロルチオ−n−フタルイミドの製造方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6019749B2 (ja) |
BR (1) | BR7706857A (ja) |
DK (1) | DK455277A (ja) |
ES (1) | ES463168A2 (ja) |
FR (1) | FR2367744A2 (ja) |
GB (1) | GB1541814A (ja) |
IL (1) | IL53102A (ja) |
IT (1) | IT1116131B (ja) |
LU (1) | LU78305A1 (ja) |
NL (1) | NL7711159A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63134152U (ja) * | 1987-02-25 | 1988-09-02 |
-
1977
- 1977-10-10 GB GB42049/77A patent/GB1541814A/en not_active Expired
- 1977-10-11 IL IL53102A patent/IL53102A/xx unknown
- 1977-10-11 NL NL7711159A patent/NL7711159A/xx not_active Application Discontinuation
- 1977-10-12 IT IT51373/77A patent/IT1116131B/it active
- 1977-10-12 LU LU78305A patent/LU78305A1/xx unknown
- 1977-10-12 JP JP52121571A patent/JPS6019749B2/ja not_active Expired
- 1977-10-13 BR BR7706857A patent/BR7706857A/pt unknown
- 1977-10-13 ES ES463168A patent/ES463168A2/es not_active Expired
- 1977-10-13 DK DK455277A patent/DK455277A/da unknown
- 1977-10-14 FR FR7731060A patent/FR2367744A2/fr active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63134152U (ja) * | 1987-02-25 | 1988-09-02 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IL53102A0 (en) | 1977-12-30 |
FR2367744A2 (fr) | 1978-05-12 |
DK455277A (da) | 1978-04-15 |
GB1541814A (en) | 1979-03-07 |
ES463168A2 (es) | 1978-08-16 |
IT1116131B (it) | 1986-02-10 |
IL53102A (en) | 1980-11-30 |
LU78305A1 (ja) | 1978-06-12 |
JPS5350158A (en) | 1978-05-08 |
NL7711159A (nl) | 1978-04-18 |
FR2367744B2 (ja) | 1984-05-18 |
BR7706857A (pt) | 1978-07-04 |
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