JPS60154329A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体、さらに詳しくは高密度記録に適
した磁気記録媒体に関する。

〔従来技術〕

近年、開発が進められている高密度記録用磁気記録媒体
においては、磁気ヘッドと磁気テープとの間のいわゆる
間隙損失を軽減させるため、磁性層の表面性をより高度
なものとすることが要求される。この目的のためには、
磁性層の製造技術、すなわち磁性粒子の分散、塗布、表
面成形技術などの改良により磁性層の表面性を向上させ
ることが必要であると共に、支持体の表面性を向上させ
ることもまた必要となる。とくに、記録密度が高くなる
にともない記録波長が小となることにより、厚み損失を
逃がれるために磁性層を薄くする試みがなされてきてい
る。それにより、支持体の表面性が磁性層の表面性に与
える影響はますます大となってきている。

しかしながら磁気記録媒体に使用される支持体の表面性
を向上させることは下記の理由から限界がある。つまり
、製膜して巻き取る工程において、フィルムの表面性が
良いと発送ローラーに対する摩擦抵抗が大となり、しば
しば蛇行を起こしたり、シワが生じたりする。またフィ
ルム間の摩擦抵抗が増大し巻き取りロールの形状にゆが
みが生じたりもする。

前記の背反する問題点の解決のために、これまでに種々
の試みがなされてきている。たとえば特開昭５３−１０
９６０５号公報には、支持体上に熱可塑性樹脂の微粒子
を突出させ、巻き取り後、磁性層形成時に溶剤にて該樹
脂を溶解除去する方法が記載されている。しかしながら
、この方法も溶解除去の工程を要するばかりでなく、高
密度記録用磁気記録媒体としての満足すべき特性を付与
しうるにはいたっていない。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、前記の従来技術の欠点を除き、高密度
記録に適する磁気記録媒体を提供することにある。

本発明の他の目的はＳ／Ｎ又はＣ／Ｎの優れた磁気記録
媒体を提供することにある。

本発明の更に他の目的は、非磁性支持体との接着力の高
い中間層を有する磁気記録媒体を提供することにある。

本発明の他の目的は塗布適性の優れた中間層を有する磁
気記録媒体を提供することにある。

本発明の更に他の目的は、カールを生じなく、耐久性の
優れた磁気記録媒体を提供することにある。

〔発明の構成〕

本発明者らは上記の目的を達成すべく鋭意検討を重ねた
結果、表面あらさくＲα）が０．０１０μｍ（カットオ
フ０．２５１１）以上である非磁性支持体上にアクロイ
ル基またはメタクロイル基を分子中に２個以上有する分
子量が５，０００以下のポリエーテル（以下、ポリエー
テルアクリレートと称する）と放射線照射により重合可
能なモノマーとを該モノマーの含有量がポリエーテルア
クリレートとモノマーとの和の５〜５０重量％であるよ
うな中間層を設け、これに放射線照射を行なった後に、
　（該中間層に磁気記録層を設けた磁気記録媒体によっ
て上記の目的が達成され、顕著な効果が得られることを
見出し、本発明に致った。

すなわち、本発明は表面あらさが０．０１０μｍ以上で
ある非磁性体と磁性層間間に分子量がｓ、ｏｏｏ以下の
ポリエーテルアクリレートと七ツマ−を含み、該七ツマ
−の含有量かポリエーテルアクリレートとモノマーとの
和め５〜５０重量％である中間層を設け、該中間層が放
射線照射されていることを特徴とする磁気記録媒体であ
る。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明に使用される非磁性支持体の表面あらさは表、裏
で異なるものを使用することも可能であるが、そのよう
な支持体の調製には高度の技術を要し、また製造効率も
低い。そこで本発明では表裏両面の表面あらさがはｇ同
一に調製された支持体を主たる適用対象とするが、本発
明の範囲はこれのみにとｙまるものではない。

本発明に使用される支持体は、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエ
ステル類：ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン類；セルローストリアセテート、セルロースダイ
アセテート、セルロースアセテートゾチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導体；
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂
；ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド等
のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、銅、
スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不銹銅など
の非磁性金属類；紙、バライタまたはポリエチレン、ポ
リプロピレン、エチレン−ブテン共重合体などの炭素数
２〜ＩＯのα−ポリオレフィン類を塗布またはラミネー
トした紙などである。

本発明における表面あらさとは、ＪＩＳ−８０６０１の
５項で定義される中心線平均あらさをさし、カットオフ
値は０．２５ｍｍである。

本発明に使用される支持体の表面あらさは０．０１０μ
ｍ以上、とくに０．０１５　μｍ　〜０．５μｍである
ことが好ましい。

支持体の裏面には走行性などの改良を目的としていわゆ
るバック層を設けることができる。この場合、）ζツク
層の表面あらさをＯ，９１０μｍ以上、好ましくは０．
０１５μ以上とすることにより本発明の効果は同様に発
揮される。

本発明の中間層に使用されるポリエーテルアクリレート
は、多価アルコールの重縮合またはアルキレンオキシド
の開環重合などによりボリエーテｙ４リオールの２個以
上の水酸基をアクリレート変性またはメタクリレート変
性したものである。

多価アルコールとしては、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、ブタンジオール、はンタンジオール、
ネオ被ンチルグリコール、ヘキサンジオール、オクタン
ジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン１
，４−ジメタツール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、クリセリン、トリメチロールプロパン
、ペンタンエリスリトール、ジベンタンエリスリトール
、等がある。

アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド９、プ
ロピレンオキシド９、及びこれらオキシド類のアルキル
置換オキシド等のポリエーテルポリオールをアクロイル
変性またはメタクロイル変性した化合物を挙げることが
できる。

本発明で用いるポリエーテルアクリレート類の分子量は
５，０００以下、より好ましくは３００〜２、ｏｏｏで
あるポリエーテルアクリレートの分子量が５，０００以
上では中間層の表面性が悪く、また支持体との接着性が
悪くなるので好ましくない。

本発明で前記ポリエーテルアクリレートと共に中間層に
用いられるモノマーは放射線照射により重合可能な化合
物であって、炭素−炭素不飽和結合を分子中に１個以上
有する化合物であり、アクリル酸エステル類、アクリル
アミビ類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド
類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル
類、ヒニル異節環化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン
類、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸類、イタコ
ン酸類、オレフィン類、　／・など℃ が例としてあげられる。これらのうち好ましいものとし
てアクリロイル基またはメタクリロイル基を２個以上含
む下記の化合物があげられる。具体的には、ジエチレン
グリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジ
アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリス１ノトールテトラアクリレート、などのアクリレ
ート類、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリ
エチレングリコールトリメタクリレート、テトラエチレ
ングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、はンタエリスリトールテトラメ
タクリレート、などのメタクリレート類あるいはその他
の２官能以上のＪ　ＩＪオールとアクリル酸メタクリル
酸とのエステル類、などがある。

これらのモノマーは１種でもよくまた２種以上用いても
よい。

本発明で中間層として用いるホＩＪエーテルアクリレー
トと七ツマ−との割合は、該モノマーカーポリエーテル
アクリレートとモノマーとの和の５〜５０重量％である
。モノマーが５重量％以下では塗布性が悪く、セルフレ
はリンクが生じ難く、中間層の表面性が良くない。また
、５０重量％以上では中間層と支持体との接着性が悪く
、カールを生じ易く、また重合に必要な放射線の量を太
きくしなければならない等の欠点が生ずる。

中間層用の前記ポリエーテルアクリレートとモノマーを
支持体に塗布するには溶剤を用いてもよいが、モノマー
の種類によっては、モノマーが溶剤としての役をなし、
パリエーテルアクリレートの分子量が小さい場合には他
の溶剤を用いなくても両者のみで良い塗布性及びセルフ
レベリング性を示すので、溶剤を用いなくてもよいとい
う利点がある。

本発明の中間層には、必要に応じて、塩化ビニル−塩化
ビニリデン系樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリル−
ブタジェン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、繊
維素樹脂、アセタール系樹脂等の熱可塑性樹脂を前記成
分と共に用いることができる。

本発明における前記のポリエーテルアクリレートとモノ
マーからなる中間層用の塗液は粘性が低く、塗布性が良
く、薄く塗ることができることや、良好なセルフレはリ
ングを生ずるので表面性の良い中間層を形成する効果が
ある。

本発明の塗液な支持体に設け、これに放射線照射を行っ
て重合硬化させて中間層を形成すると、支持体との密着
性が良く、カール等を生じない中間層が得られ、また表
面あらさが０．０１０μｍ以上（このような表面あらさ
の支持体は製膜時の巻取り操作等に好ましい）の支持体
を用いても表面あらさがｏ、ｏｉｏμｍ以下の表面性の
良い中間層を形成することができ、従ってこの上に形成
する磁性層の表面性を著しく改良することができ、また
耐久性にも優れているので電磁特性が改良され、特に高
密度記録に適した磁気記録媒体を得ることができる。

本発明において使用される放射線は電子線および紫外線
である。紫外線を使用する場合には前記の化合物に増感
剤を添加することが好ましい。増感剤としては、特に限
定されないが、紫外線照射光源として通常使用される水
銀灯の輝線スはクトルを生ずる２５４．３１３．３６５
　ｒＬｍの波長において吸光係数の比較的太なるものが
好ましい。

その代表例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン
、はンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール
、インジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケト
ン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒト９０
キシシクロへキシルフェニルケトン、２−２ジエトキシ
アセトフエノン、Ｍｉｃｈｌｅｒｓケトンなどの芳香族
ケトンが使用できる。

増感剤の混合比率は、化合物１００重量部に対し０．５
〜２０重量部、好ましくは２〜１５重量部、さらに好ま
しくは３〜１０重量部である。

前記中間層を支持体上に塗設する場合、種々の有機溶媒
が必要に応じ使用できるが、前記したように中間層塗液
が低粘度の液体である場合無洛媒でもよい。使用できる
有機溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、　（シクロヘキサノン等のケトン
系；メタノール、エタノール、プロパツール、フタノー
ル等のアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、乳酸エチル、酢酸クリコールモノエチルエーテル
等のエステル系：エーテル、グリコールジメチルエーテ
ル、／＋７コール七ノエチルエーテル、ジオキサン等の
夛すコールエーテル系：インゼン、トルエン、キシレン
等のタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド
、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エ
チレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等があげられ
る。

前記中間層の厚さは放射線照射による重合硬化後の測定
で０．１〜１．５μｍであることが好ましく、該層の表
面あらさば０．０１０μｍ以下であることが好ましい。

このためには比較的低粘度の化合物、゛　あるいは有機
溶媒の添加により低粘度に保ち塗設によるいわゆるセル
フレはリング効果をもたせることが有効な手段の１つと
なる。

電子線加速器としくはスキャニング方式、ダブルスキャ
ニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが
、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテン
ビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧がｌ
Ｏ〜ｉ　ｏ　ｏ　ｏ　ｌｃｖ、好ましくは５０〜３００
　ｋＶであり、吸収線量として０．５〜２０メガラッド
好ましくは１〜１０メガラツト９である。加速電圧が１
０　ｈｖ以下の場合は、エネルギーの透過、量が不足し
１０００　ＡＶを超えると重合に使われるエネルギー効
率が低下し経済的でない。

吸収線量が０．５メガランド以下では硬化反応が不充分
で２０メガラッド以上になると、硬化に使用されるエネ
ルギー効率が低下したり、被照射体が発熱し、特にプラ
スティック支持体が変形するので好ましくない。

本発明の重合硬化層の上に設けられる磁性層は強磁性粉
末と結合剤とを主成分とするものであっても、磁性金属
薄膜であってもよい。

本発明に適用される磁性金属薄膜の形成法は真空槽内で
膜を形成する方法あるいはメッキ法によればよく、金属
薄膜の形成速度の速いこと、製造工程が簡単であること
、あるいは排液処理等の必要のないこと等の利点を有す
る真空槽内で膜を形成する方法が好ましい。真空槽内で
膜を形成する方法とは希薄な気体あるいは真空空間中に
おいて析出させようという物質またはその化合物を蒸気
あるいはイオン化した蒸・気として基体となる支持体上
に析出させる方法で真空蒸着法、スノツタリング法、イ
オンブレーティング法、化学気相メッキ法等がこれに相
当する。

さらに本発明において磁気記録層となるべき強磁性金属
層としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金属
あるいはＦｇ−ＧＯ，Ｆｇ−Ｎｉ、Ｇｏ　−Ｎｉ　、　
Ｆｅ　−Ｅ３ｉ　、　Ｆｇ−ＲＡ％Ｇｏ−Ｐ、、Ｇｏ−
Ｂ、Ｃｏ−８ｉ　、　Ｇｏ−Ｖ、Ｃ１）−Ｙ、　Ｇｏ−
Ｌα、ＧＯ−Ｃｅ。

Ｇｏ−Ｐｒ、　Ｇｏ−３ｍ、　Ｇｏ−ＰｉｌＧｏ−Ｍｎ
、　Ｆｅ−ＧＯ−Ｎｉ　、　Ｇｏ　−ＪＪｉ　−Ｐ、　
Ｇｏ　−Ｎｉ−Ｂ、　Ｃ（＋　−Ｎｉ−Ａｇ、Ｇｏ−Ｎ
ｉ−Ｎｃｚ、Ｇｏ　−Ｎｉ　−Ｃｔ　、　Ｇｏ　−Ｎｉ
−ＺｆＬ。

０６−Ｎｉ　−Ｇｕ　、　Ｇｏ　−Ｎｉ　−Ｗ、　Ｇｏ
　−Ｎｉ　−Ｒｅ　。

Ｇｏ　−Ｅ３ｍ−０１Ｌ等の強磁性合金を真空槽内で膜
を形成する方法あるいはメッキ法によって薄膜状に形成
せしめたもので、その膜厚は磁気記録媒体として使用す
る場合０．０５μｍ〜２μｍの範囲であり特に０．１μ
ｒＩＬ〜０．４μｍが好ましい。

本発明の磁性層に使用される強磁性粉末、各種添加剤、
有機溶媒、さらに分散、塗布方式などの詳細に関しては
特開昭５２−１０８，８０４号、同５４−２１，８０４
号、同５４−４６，０１１号公報に記載されており必要
に応じ本発明に適用できる。

〔実施例〕

以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。

なお実施例中「部」は重量部を示す。

実施例１ 表面あらさ０．０２μｍ、厚さ１４．５μｍのポリエチ
レンテレフタレート支持体上に分子量６００のポリエチ
レンオキシドの両末端ンアクリレート化のポリエーテル
アクリレートとトリメチロールプロパントリアクリレー
トとからなる塗液（９０／ｌＯ）を塗設し、加速電圧１
６５　ｋＶ　、ビーム電流５ｍＡで吸収線量３Ｍｒａｄ
、の電子線照射を行なった。硬化後の中間層の厚さは０
１５μｍであった。

下記組成の磁性塗液なボールミルで１０時間混妹分散し
た。

分散後、トリイソシアネート化合物のトリメチロールプ
ロパン付加体（分子量７６０．Ｎｅｏ含有量１３．３ｕ
ｌｔ％、商品名：バイエルＡ、Ｇ０社製「テスモジュー
ルＬ−７５Ｊ　）の７５ｗｔ％酢酸エチル溶液を２２部
加え１時間高速剪断分散して磁性塗布液を調製した。得
られた塗布液を中間層の上側に乾燥後の厚みが４μｍと
なるよう塗設した。ついで、直流磁場中で配向処理して
１００’Ｃの熱風を送って乾燥した。乾燥後、カレンダ
リング処理を施して、μインチ巾にスリットしてビデオ
用の磁気テープサンプル准１を得た。

比較例１゜ 実施例１において中間層を塗設せず、他は実施例１と同
様にして磁気テープサンプル／Ｉ６２を得た。

実施例２ 表面あらさ０．０３０μ？＋！、厚さ１４．５ｔｔｍの
ポリエチレンテレフタレート支持体上に、分子量３．０
００のポリプロピレンオキシト９０両末端をアクリレー
ト化したポリエーテルアクリレートとテトラメチロール
メタントリアクリレートとよりなる塗液（５０１５０）
を塗設し、８０　Ｗ　／ａｍ　（７）水銀灯で１秒間紫
外線照射を行った。重合硬化後の中間層の厚さは１．０
μｍであった。

他は実施例１と同様にして磁気テープサンプル／ｉ６３
を得た。

実施例３ 表面あらさ０．０２５μＦ７１．厚さ１４．５Ａｍのポ
ジエチレンテレ７タレート支持体上に分子量２，０００
のポリ（エチレンオキシド９−プロピレンオキシド）の
両末端をアクリレート化したポリエーテルアクリレート
とジエチレングリコールジアクリレートとよりなる塗液
（７０／３０）を塗設し、実施例１と同様に電子線照射
を行い中間層を設けた。中間層の厚さは０．６μｍであ
った。

下記組成の磁性塗液なボールミルで１０時間混錬分散し
た。

一ト２２部を加え実施例１と同様にして磁性塗液を作っ
た。

この磁性塗液な前記中間層上に塗設し、配向、乾燥、カ
レンダー処理を施こした。次いで加速電圧１６５　ＡＶ
で吸収線量がｌ　Ｑ　Ｍｒａｃｅ、になるように電子線
照射を行い、Ａインチ巾にスリットして磁気サーブルテ
ープ腐４を得た。

比較例２゜ 実施例３において中間層を塗設せず、他は実施例３と同
様にして磁気テープサンプル鷹５を得た。

実施例４ 実施例工と同様な支持体上に、分子ｚ２．ｏｏ。

のポリエチレンオキシドの両末端をアクリレート化した
ポリエーテルアクリレート、テトラエチレングリコール
ジアクリレート、及びＮ−ビニルビ・リドンからなる塗
液（７０／２５１５　）を塗設し、　ｌ実施例１と同様
に電子線照射な行って中間層を設けた。この中間層の厚
さは０．５μｍであった。

この中間層上に斜め蒸着によりＧｏ−Ｎｉ（Ｎｉ：２０
重量％）磁性膜を１，０ＯＯＡ厚となるように設けて磁
気テープサンプル／１６６を得た。

比較例３゜ 実施例４において中間層を塗設せず、他を家実施例４と
同様にして磁気テープサンプル腐７を得た。

比較例４゜ 実施例１において、塗液としてポリエーテルアクリレー
トを用いずジエチレングリコールジアクリレートのみを
用いた以外★ま同様にして磁気テープサンプル准８を得
た。なお、この秒１１における中間層の厚さは０．４μ
ｍであった。

以上のサンプルについて、ビデオ感度、Ｃ／Ｎ　。

接着力を測定し、結果を次表に示した。

測定方法の概略を下記に示す。

ビデオ感度：　ＶＨ８方式ＶＴＲ（松下′亀産製造、商
品名「ＮＶ−８８００ｊ　）を使用して ４ＭＨ２での再生出力を測定した。

０／Ｎ：　３５ＭＨｚの搬送波（キャリヤー）を目巳録
し、再生したときのキャリヤーとノイズの比（Ｓ／ＮＫ
ａ当）を比較例１を基準（±ＱｄＢ）として測定した。

接着力測定 磁気テープｌインチ巾）の磁性面にポリエチレンテレフ
タレートの粘着テープを貼りつけ１８０°剥離したとき
の力をばねばかりで測定した。

（注）：ビデオ感度及びＣ／Ｎはサンプル２（比較例２
）との相対値で示した。

〔発明の効果〕

表より明かなように、本発明により、表面あらさが０．
０１８ｍ以上の支持体に分子！５，０００以下のポリエ
ーテルアクリレートとモノマーからなる中間層を設け、
放射線照射した後に磁性層を設けたサンプルはビデオ感
度、Ｃ／Ｎ、及び接着性が著しく改良されていることが
わかる。

（ほか３名） 手続補正書 昭和５９年３　月エノ日 １、事件の表示 昭和５９　年特許願第　９９７０　号 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係、特許出願人 名称　（５２０）富士写真フィルム株式会社霞が関ビル
内郵便局　私書箱第４９号 栄光特許事務所　電話（５８１）−９６０１（代却氏　
名　弁理士（８１０７）　佐々木　清　隆　（はが　３
名）　・、パ、・・・　−へ 「発明の詳細な説明Ｊの欄を下記の如く補正する。

１）明細書第２頁１９行「発送ローラー」を「搬送ロー
ラー」と補正する。

２）同書第４頁９行ｒＯ，０１０ＪをｒＯ，０１Ｊと補
正する。

３）同書第５頁１行ｒｏ、ｏ１ｏ」をｒ［］、０１Ｊと
補正する。

４）同書第６頁１６行「０．０１ＤＪをｒ［１，０１Ｊ
と補正する。

５）同書第６頁２０行「０．０１０Ｊを「０．０１Ｊと
補正する。

６）同書第８頁５行「以上」を「より大」と補正する。

７）同書第９頁１８行「以下」を「より小」と補正する
。

８）同書第９頁２０行「以上」を「より大」と補正する
。

９）同書第１１頁６行［０，０１０Ｊを「０．０１Ｊと
補正する。

１０）　同書第１１頁９行ｒｏ、ｏ１０Ｊをｌ””０．
０１ｊと補正する。

１１）　同書第１５頁１１行ｒｏ、ｏ　１０Ｊをｒｏ、
０１Ｊと補正する。

１２）　同書第２１頁１８行ｒ３５ＭＨｚＪをｒ３．ｓ
ＭＨｚＪと補正する。

１３）　同書第２２頁最終行「較例２」を「較例１」と
補正する。

以上 「特許請求の範囲」 （１）表面ららさがユ旦ユμｍ以上である非磁性支持体
と磁性層との中間に、分子量ｓ、ｏｏｏ以下のポリエー
テルアクリレートと放射線照射により重合可能なモノマ
ーとを含み、且つ該モノマーの含有量が４？リエーテル
アクリレートとモノマーとの和の５〜５０重量％である
中間層を設け、該中間層が放射線照射されていることを
特徴とする磁気記録媒体。

（２）中間層の表面あらさが見立ユμｍ以下である特許
請求の範囲第（１１項に記載の磁気記録媒体。

（３）中間層の厚さが０．１〜１．５μｍである特許請
求の範囲第（１）項に記載の磁気記録媒体。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）表面あらさが０．０１０μｍ以上である非磁性支
   持体と磁性層との中間に、分子量５，０００以下のポリ
   エーテルアクリレートと放射線照射により重合可能なモ
   ノマーとを含み、且つ該モノマーの含有量がポリエーテ
   ルアクリレートと七ツマ−との和の５〜５０重量％であ
   る中間層を設け、該中間層が放射線照射されていること
   を特徴□とする磁気記録媒体。
2. （２）中間層の表面あらさがｏ、ｏｔｏμｍ以下である
   特許請求の範囲第（１）項に記載の磁気記録媒体。
3. （３）中間層の厚さがＯ３１〜１．５μｍである特許請
   求の範囲第（１）項に記載の磁気記録媒体。