JPS60147930A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体の製造方法、特に高密度記録に適
した磁気記録媒体の製造方法に関する。

〔従来技術〕

近年、開発が進められてきている高密度記録用磁気記録
媒体においては磁気ヘッドと磁気テープとの間のいわゆ
る間隙損失を軽減させるため、磁性層の表面性をより高
度なものとすることが要求される。この目的のためＫは
、磁性層の製造技術、すなわち磁性粒子の分散、塗布、
表面成形技術などの改良により磁性層の表面性を向上さ
せることが必要であると同時に、支持体の表面性を向上
させることもまた必要となる。とくに、記録密度が高く
なるにともない記録波長が小となることにより、厚み損
失を逃がれるために磁性層を薄くする試みがなされてき
ている。それＫより、支持体の表面性が磁性層の表面性
に与える影響はますます犬となってきている。

しかしながら磁気記録媒体に使用される支持体の表面性
を向上させることは下記の理由から限界がある。つまり
、製膜して巻き取る工程において、フィルムの表面性が
良いと搬送ローラーに対する摩擦抵抗が犬となり、しば
しば蛇行を起こしたり、シワが生じたりする。またフィ
ルム間の摩擦抵抗が増大し巻き取りロールの形状にユガ
ミが生じたりもする。

従って、製膜時には、例えば表面あらさが００１μｍ以
上の支持体として製造されることが好ましく、表面性が
良く、高密度記録に適した磁性層を設けるには、表面あ
らさが例えば０．０１μｍ以下の平滑な表面を有する支
持体であることが要求される。

前記の背反する問題点の解決のために、これまでに種々
の試みがなされてきている。たとえば特開昭５３−１０
９６０５には、支持体上に熱可塑性樹脂の微粒子を突出
させ、その溶剤にて溶解除去しその表面に磁性層を形成
する方法が記載されている。が、この方法もいまだ高密
度記録用磁気記録媒体としての満足すべき特性を賦与し
５るにはいたっていない。

本発明者らはこれら従来技術の問題を解消するために、
表面あらさ０．０１μｍ以上の非磁性支持体上に電子線
や紫外線の如き放射線照射により重合可能な化合物より
なる中間層を塗設し、これに放射線照射して重合硬化し
た後に磁性層を設けた磁気記録媒体を提案した（特願昭
５８−１８７５１９号）。

このような磁気記録媒体によって一応前記の問題点は解
消された。すなわち、塗設された中間層が放射線照射さ
れて硬化する前にしＩ　リンダにより表面性が改善され
、硬化後この上に設けられる磁性層の表面性も改善され
るので、０．０１μｍ以上の表面あらさの支持体を用い
ても、表面性のよい高密度記録に適する磁気記録媒体を
得ることができた。

本発明者らは、このような磁気記録媒体についてさらに
改良すべく検討を重ね、前記の如き放射線照射を行った
中間層を設けた磁気記録媒体でも、なおドロップアウト
を生ずるものがあり、このような欠陥は次のような原因
によって発生することを知った。すなわち、前記したよ
５に製膜時の支持体の表面あらさはＲαで０．０１μｍ
以上であることが望ましいが、このような支持体にはＲ
αで０．２μｍ程度またはそれ以上のフイツユアイと称
せられる大きな突起が存在しており、このようなフイツ
ユアイの存在している支持体に前記の如き中間層を設け
てから磁性層を設けてもフイツユアイによる影響を完全
には取り除くことができず、ドロップアウトの原因とな
っていることを知った。

従って、このようなフイツユアイの影響を除去するため
にさらに検討を重ねた結果、支持体表面を予め研磨処理
した後に前記の如き中間層を設け、次いでこの上に磁性
層を設けることにより、フィッシュアイの影響が無く、
極めて表面性のよい磁気記録媒体を得ることができた。

〔発明の目的〕

従って、本発明の第１の目的は表面あらさ０．０１μｍ
以上の非磁性支持体を用い、フィッシュアイの影響によ
るドロップアウトが防止された磁気記録媒体の製造方法
を提供することにある。

本発明の第２の目的は、表面性がすぐれ、高密度記録に
適した磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。

本発明の第３の目的は、非磁性支持体との接着力の高い
中間層及び磁性層を有する磁気記録媒体の製造方法を提
供することにある。

〔発明の構成〕

上記の目的は以下にのべる本発明によって達成される。

すなわち、本発明は表面あらさ０．０１μｍ以上の非磁
性支持体の表面を予め研磨処理し、この表ｍ１に放射線
照射により重合可能な化合物を含む層を設け、放射線を
照射した後に磁性層を設けることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法である。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明に使用される非磁性支持体の表面あらさば表、裏
で異なるものを使用することも可能であるが、そのよう
な支持体の調製には高度の技術を要し、また製造効率も
低い。そこで本発明では表裏両面の表面あらさがはｙ同
一に調製された支持体を主たる適用対象とするが、本発
明の範囲はこれのみにとｙまるものではない。

本発明に使用される支持体は、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエ
ステル類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン類；セルローストリアセテート、セルロースダイ
アセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導体；
ポリ塩化ビニル、ポリ塩化“ビニリデン等のビニル系樹
脂；ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド９イミ
ト９等のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム
、銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不銹
銅などの非磁性金属類；紙、バライタまたはポリエチレ
ン、ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体などの
炭素数２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布またはラ
ミネートした紙などである。

本発明における表面あらさとは、Ｊ工５−Ｂｏ６ｏｔの
５項で定義される中心線平均あらさをさし、カットオフ
値は０．２５ｍである。

本発明に使用される支持体の表面あらさば０．０１μｍ
以上である。

支持体の裏面には走行性などの改良を目的としていわゆ
るノミツク層を設けることができる。この場合、バック
層の表面あらさをｏ、ｏ　ｉ　ｏμｍ以上、好ましくは
０．０１５μｍ以上とすることにより本発明の効果は同
様に発揮される。

本発明においては、上記の如き支持体表面を研摩処理す
るのであるが、研摩処理はいわゆるバーニッシュ処理と
称される研摩テープを用いる方法（例えば特開昭５８−
１９６６２６号公報参照）や回転プレードを用いる方法
（例えば特開昭５８−１９６６２５号公報参照）等を用
いて行うことができるＯ すなわち、前者においては、第１図に側面図として示す
ように、走行する支持体１０表面に逆方向に走行する研
摩テープ２をヘッド３で押圧しつつ支持体表面を研摩す
る。また、後者においては、走行する支持体の表面に、
表面に多くのプレード１３を有する中空シリンダー状回
転プレード１２を押圧し、支持体の走行方向と逆方向に
回転させる。

本発明における研摩は、支持体面の平滑化というよりは
むしろフィッシュアイの除去が主目的であるので、研摩
の程度も、高さで約０．２μｍ　又はそれ以上の大きな
突起を除く程度であればよ（・。

研摩後フィッシュアイの屑が多く出るような場合には、
エヤスプレー、吸引、クリーニングテープ等により除く
ことが好ましい。

上記は本発明に適用できる研摩手段の好ましい例につい
てのべたが、本発明はこれらに限定されるものではなく
、フィッシュアイの影響を除くことができる研摩手段で
あればすべて用いることができる。

次に、前記の如く研摩処理された支持体の該表面に、中
間層として放射線照射により重合可能な化合物を含む層
を塗設する。

本発明の中間層に使用される放射線照射により重合可能
な化合物は炭素−炭素不飽和結合を分子中に１個以上有
する化合物でありアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド９類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類
、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類
、ヒニル異節環化合物、Ｎ−ビニル化合物、スチレン類
、クロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフ
ィン類などが例としてあげられる。これらのうち好まし
いものとしてアクリロイル基またはメタクリロイル基を
２個以上含む下記の化合物があげられる。ジエチレング
リコールジアクリレート、トリエチレンダリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート
、トリメチロールプロノξントリアクリレート、はンタ
エリスリトールテトラアクリレート、などのアクリレー
ト類、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールトリメタクリレート、テトラエチレン
グリコールジメタクリレート、トリメチロ−＃　ブｏ）
ξントリメタクリレート、はンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、などのメタクリレートＭあるいはその
他の２官能以上の７Ｉ９１７オールとアクリル酸メタク
リル酸とのエステル類、／【ど。

また、これらの化合物は高分子最体のものであってもよ
い。好ましくは高分子の主鎖末端あるいは側鎖にアクリ
ル酸またはメタクリル酸とのエステル結合を有する化合
物であり、これらはＡ、　Ｖｒａｎｃｋｅｍ　”　Ｆａ
ｔすｅｃ　Ｃ□すｒｅｓｓ　”　１．１　１９（１９７
２）に引用されている。たとえは以下に示す化合物 であり、例示した化合物のポリエステル骨格がポリウレ
タン骨格、エポキシ樹脂の骨格、ポリエーテル骨格、ポ
リカポネート骨格であってもあるいはこれらの混合され
た骨格でもよい。分子量は１．０　＜１０〜２０，００
０が好ましいが、とくに限定されるものではない。

上記の放射線照射により重合可能な化合物は単独に、ま
た任意の割合で混合して使用すること／ｌ”−できる。

さらに塩ビー塩化ビニリデン系樹脂、ウレタン樹脂、ア
クリロニトリルシタジエン樹脂、塩ビ酢ビ系共重合体、
繊維素系樹脂、アセタール系樹脂、等の熱可塑性樹脂を
必要により前記放射線照射により重合可能な化合物と混
合使用することかできる。

本発明において使用される放射線は電子線および紫外線
である。紫外線を使用する場合には前記の化合物に光重
合開始剤を添加することが好ましい。光重合開始剤とし
ては、特に限定されないが、紫外線照射光源として通常
使用される水銀灯の輝線スはクトルを生ずる２５４．３
１３．３６５　ｎｍの波長において吸光係数の比較的太
なるものが好マシイ。その代表例としては、アセトフェ
ノン、はンゾフエノン、ベンゾインエチルエーテル、イ
ンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベン
ゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフェニル
ケトン、１−ヒト９０キシンクロへキシルフェニルケト
ン、２−２０エトキシアセトフエノン、Ｍｉｃｈｌｅｒ
ｓケトンなどの芳香族ケトンが使用できる。

光重合開始剤の混合比率は、化合物１００重量部に対し
０．５〜２０重量部、好ましくは２〜１５重量部、さら
に好ましくは３〜１０重量部である。

前記中間層を支持体上に塗設する場合、種々の有機溶媒
が必要に応じ使用できるが化合物が液体である場合無溶
媒でもよい。使用できる有機溶媒としてはアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン等のケトン系；メタノール、エタノール、プロ
パツール、ブタノール等のアルコール系；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコール
モノエチルエーテル等のエステル系；エーテル、クリコ
ールジメチルエーテル、タリコールモノエチルエーテル
、ジオキサン等のグリコールエーテル系；ハンゼン、ト
ルエン、キシレン等のタール系（芳香族炭化水素）；メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼン等力あげられる。

前記中間層の厚さは放射線照射による重合硬化後の測定
で０．１〜２μｍであることが好まし該層の表面あらさ
ば０．０１μｍ以下であることが好ましい。このために
は比較的低粘度の化合物、あるいは有機溶媒の添加によ
り低粘度に保ち塗設によるいわゆるレイリング効果をも
たせることが有効プよ手段の１つとなるｔ 電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャ
ニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが
、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテン
ビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が１
０〜１ｏｏｏｋｖ、好ましくは５０〜３００ｋＶであり
、吸収線量として０．５〜２０メガランド好ましくは１
〜１０メガラツドである。加速電圧がｉ　ｏ　ｈｖ以下
の場合は、エネルギーの透過量が不足し１００ＯＡＶを
超えると重合に使われるエネルギー効率が低下し経済的
でない。

吸収線量が０．５メガラツド以下では硬化反応が不充分
であり、２０メガラッド以上になると、硬化に使用され
るエネルギー効率が低下したり、被照射体が発熱し、特
にプラスティック支持体が変形するので好ましくない。

本発明の重合硬化層の上に設けられる磁性層は強磁性粉
末と結合剤とを主成分とするものであっても、磁性金属
薄膜であってもよい。

本発明に適用される磁性金属薄膜の形成法は真空槽内で
膜を形成する方法あるいはメッキ法によればよく、金属
薄膜の形成速度の速いこと、製造工程が筒中、であるこ
と、ある・いは排液処理等の必要のないこと等の利点を
有する真空槽内で膜を形成する方法が好ましい。真空槽
内で膜を形成する方法とは希薄な気体あるいは真空空間
中において析出させようという物質またはその化合物を
蒸気ある℃・はイオン化した蒸気として基体となる支持
体上に析出させる方法で爽空蒸着法、スパッタリング法
、イオンブレーティング法、化学気相メッキ法等がこれ
に相当する。

さらに本発明において磁気記録層となるべき強磁性金属
層としては鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金属
あるし・はＦｅ−Ｇｏ、　Ｆｅ−Ｎｉ。

Ｇｏ−Ｎｉ、　Ｆｅ−８ｉ、　Ｆ″ｇ−ＲＡ、Ｃｏ−Ｐ
、　Ｇｏ−Ｂ。

Ｃｏ−８ｉ、　Ｇｏ−Ｖ、　Ｃｏ−Ｙ、　Ｇｏ−Ｌａ、
　Ｃ０−Ｃ１１゜Ｇｏ−Ｐｒ、　Ｇｏ−：３ｒｒＬ、　
Ｃｏ−Ｐｔ、　Ｇｏ−Ｍｎ、　Ｆｅ−Ｇｏ−Ｎｉ。

Ｇｏ−Ｎｉ−Ｐ、　Ｇｏ−Ｎｉ−Ｂ、Ｇｏ−Ｎｉ−ｋｇ
、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｎａ。

Ｇｏ−Ｎｉ−Ｇｅ、　Ｇｏ−Ｎｉ−Ｚｎ、　Ｇｏ−Ｎｉ
−Ｇｕ、。

Ｇｏ−Ｎｉ−Ｗ、　Ｇｏ−Ｎｉ−Ｒｅ、　Ｇｏ−８ｒｎ
−’Ｇｕ、等の強磁性合金を真空槽内で膜を形成する方
法あるいはメッキ法によって薄膜状に形成せしめたもの
で、その膜厚は磁気記録媒体として使用する場合０．０
５μｍ〜２μｍの範囲であり特に０１μｍ−０，４μｍ
が好ましい。

本発明の磁性層に使用される強磁性粉末、各種添加剤、
有機溶媒、さらに分散・塗布方式などの詳細に関しては
特開昭５２−１０８，８０４号、同５４−２１，８０４
号、同５４−４６，０１１号に記載されており必要に応
じ本発明に適用できろ。

〔実施例〕

以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。

実施例１゜ 表面あらさ０．０１μｍ、厚さ１４．５μｍのポリエチ
レンフタレート支持体の表面を下記の如研摩処理した。

支持体を５Ｑｍ／ｍｉｎ、研摩シートを逆方向に３　Ｑ
　ｍ／ｒｎｉｎで走行させ第１図に示す研摩ヘットゞで
研摩シートを支持体に押しあてる。この研摩ヘッドを連
続１０台走行方向に沿って並設して研摩し最後にクリー
ニング用の不絨布を支持体に押し当てる。

上記の如く研摩処理した支持体上にジエチレングリコー
ルジアクリレートを塗設し、加速電圧１６５　ｋＶ、ビ
ーム鍼流５　ｍＡで吸収線量５　Ｍｒａｄ。

の電子線照射を行った。重合硬化した中間層の層厚は０
．５μｍであった。

下記組成の磁性塗液をボールミルで１０時間混線分散し
た。

分散後、トリイソシアネート化合物のトリメチロールプ
ロパン付加体（分子約７６０．ＮＧＯ含有量１３．３　
ｗｔ％、商品名：バイエルＡ、　Ｇ、社製［デスモジュ
ールＬ−７５ｊ　）　１７）７５　ｗｔ％酢酸エチル溶
液を２２部加え１時間高速剪断分散して磁性塗布液を調
製した。得られた塗布液を前記層の上側に乾燥後の厚さ
が４μとなるよう塗設した。

ついで、直流磁場中で配向処理して１００　℃の熱風を
送って乾燥した。乾燥後、カレンダリング処理を施して
、１／２　インチ中にスリットしてビデオ用の磁気テー
プサンプル／１６１を得た。

比較例１ 実施例１で支持体の研摩処理を行わず、他は実施例１と
同様にして磁気テープザンプル／ｆ６２を得た。

比較例２ 実施例１で支持体の研摩処理を行わず、且つ中間層を設
けず、他は実施例と同様にして磁気テープザンプル／ｆ
６３を得た。

実施例２゜ 表面あらさ０．０３０μｍ１厚さ１４．５μｍのポリエ
チレンテレフタレート支持体を用い、実施例１と同様に
して磁気テープサンプル腐４を得た。

比較例３ 実施例２で研摩処理を行わ１゛、他は実施例２と同様に
し′″Ｃ磁気磁気テープサンプル製５た。

比較例４ 実施例２で研摩処理を行わず且つ中間層を設けず、他は
実施例２と同様にて磁気テープサンプル／ｆ６６を得た
。

上記の各サンプルについて、Ｏ／Ｎ　（３ＭＨｚ　）、
ビデオ感度、ドロップアウトを次のようにして測定し、
結果を次表に示した。

Ｇ／ｌＪ　：　３　ＭＨｚの搬送波（キャリヤー）を記
録し、再生したときのキャリヤ ーとノイズの比（Ｓ／Ｎに相当）を 比較例１を基準（±ＱｄＢ）として 測定した。

ビデオ感度：　ＶＨ８方式ＶＴＲ（松下電産製造、商品
名「Ｎｖ−８８００」）を使用し て４ＭＨｚでの再生出力を測定した。

ドロップアウト：ＶＨ８−ＶＴＲ（日本ビクター（株）
製ＨＲ３６００）にグレー信号を入 れ、１５μ秒−１ｆ３　ｄＢのスライドレはルにてこれ
以上のドロップア ウトを日本自動制御（（転）のり、０゜〔発明の効果〕 上記の結果からも明かなよ５に、本発明に従って支持体
を研摩処理した後忙中間層を設けた磁気記録媒体（サン
プル、４６１及び４４）は比較例のルンプルと比較して
Ｏ／Ｎ、ビデオ感度共にすぐれ、特にドロップアウトが
著しく少なくなっていることがわかる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の研摩処理に用い「れる二側
を示す説明図である。 １．１１・・・支持体　２・・・研摩テープ１２・・・
回転ブレード　３・・・研摩ヘッド（ほか３名） 第１図 手続補正書 昭和５９年　６月「日 昭和５９年特許願第　６５８４　号 ２、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 ３、補正をする者 事件との関係°特許出願人 名称　（５２，０）富士写真フィルム株式会社霞が関ビ
ル内郵便局　私書箱第４９号 栄光特許事務所　電話（５８１）−９６０１（代表）７
、補正の対象 ０明細書第３頁１２行目、「ｏ、ｏｌＪを「０．００７
Ｊと補正する。 ０明細書第４貞１２行目、ｌ”Ｒａで」を「高さ」と補
正する。 ０明細書第７頁下から６行目、「口、ｏ　１ｏｊをｊＯ
，０１Ｊと補正する。 ○明細書第９頁下から６行目、「オレフィン類」を削除
する。 ０明細書第２０頁１行目、「比較例１」を「比較例２」
と補正する。 ０明細書第２０頁５行目、「再生出力を」のあとに［比
較例２を基準（±ＯｄＢ）として」を挿入する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）表面あらさ０．０１μｍ以上の非磁性支持体表面
   をあらかじめ研磨処理し、この表面に放射線照射により
   重合可能な化合物を含む層を設け、放射線照射した後に
   、磁性層を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。