JPS5929666A - ジヒドロカルボスチリル誘導体及びその製造方法 - Google Patents
ジヒドロカルボスチリル誘導体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS5929666A JPS5929666A JP57138983A JP13898382A JPS5929666A JP S5929666 A JPS5929666 A JP S5929666A JP 57138983 A JP57138983 A JP 57138983A JP 13898382 A JP13898382 A JP 13898382A JP S5929666 A JPS5929666 A JP S5929666A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dihydrocarbostyryl
- methyl
- alkoxy
- hydroxy
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Quinoline Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はジヒドロカルボスチリル誘導体及びその製造方
法に関し、特にψ位にメチル基、6位にヒドロキシ基又
はアルコキシ基ヲ持つジヒドロカルボスチリル誘導体及
びその製造方法に関する。
法に関し、特にψ位にメチル基、6位にヒドロキシ基又
はアルコキシ基ヲ持つジヒドロカルボスチリル誘導体及
びその製造方法に関する。
カルボスチリル、ジヒドロカルボスチリル及ヒその誘導
体は医薬、農薬、染料、添加剤などの目的で最近注目を
あびている化合物である。
体は医薬、農薬、染料、添加剤などの目的で最近注目を
あびている化合物である。
たとえば、特開昭jl/−−20./I弘号、同jg−
istr 、sip号、PJj−Jt、0/9号、同1
6−46.f/1号、同!7−42,35PO号、 J
、Org、Chem、441 1ris(iりto)。
istr 、sip号、PJj−Jt、0/9号、同1
6−46.f/1号、同!7−42,35PO号、 J
、Org、Chem、441 1ris(iりto)。
J、Heterocyclic Chem、、/2
i、2/3(/本発明の化合物は新規なジヒドロカルボ
スチリルであシ、上述の用途の他還元剤、写真用現像薬
の中間体、各種添加剤等として有用な化合物で69、特
に化学工業界において主要な原材料であるp−アミンフ
ェノールから少ない工程でしかも好収率で得られるとい
う利点t−iするものである。
i、2/3(/本発明の化合物は新規なジヒドロカルボ
スチリルであシ、上述の用途の他還元剤、写真用現像薬
の中間体、各種添加剤等として有用な化合物で69、特
に化学工業界において主要な原材料であるp−アミンフ
ェノールから少ない工程でしかも好収率で得られるとい
う利点t−iするものである。
カルボスチリルt−Knorr法などtはじめとする各
種の反応で合成することは知られておシ、カルボスチリ
ルの還元反応によシ対応するジヒドロ体を得ることも詳
細に検討されている。たとえばJ、km、Chem、8
oc、、4t 1tyi<tree)においてHas
kellらは各種のカルボスチリル全還元することを試
みている。そして、 m 4’−メチルカルボスチリルは還元を受けに〈い
こと (2)触媒としてはバラジュウム触媒が有効であること (3)触媒として白金触媒、ニッケル触媒は有効でない
ことなどを明らかにしている。
種の反応で合成することは知られておシ、カルボスチリ
ルの還元反応によシ対応するジヒドロ体を得ることも詳
細に検討されている。たとえばJ、km、Chem、8
oc、、4t 1tyi<tree)においてHas
kellらは各種のカルボスチリル全還元することを試
みている。そして、 m 4’−メチルカルボスチリルは還元を受けに〈い
こと (2)触媒としてはバラジュウム触媒が有効であること (3)触媒として白金触媒、ニッケル触媒は有効でない
ことなどを明らかにしている。
本発明者らはり一メチル力ルポスチリルの誘導体である
弘−メチル−6−オキシ(又はアルコキシ)3.4A−
ジヒドロカルボスチリルが前述した各種の用途に対し、
重要な物体であることにかんがみ、その開発を試みた。
弘−メチル−6−オキシ(又はアルコキシ)3.4A−
ジヒドロカルボスチリルが前述した各種の用途に対し、
重要な物体であることにかんがみ、その開発を試みた。
そして、上述の雑文からは全く予想されない結果′fr
:得て、本発明の化合物の開発に成功したものである。
:得て、本発明の化合物の開発に成功したものである。
即ち、グーメチル−6−メドキシカルポスチリルについ
て詳述すればこの化合物は(1)上述の雑文で記載され
ている条件よpもはるかに苛酷な高温、高圧下でもバラ
ジュウムを触媒に用いた時には還元をうけにくいこと、
(λ)ニッケル触媒を用いた場合には還元反応が円滑に
進行することを見出した。
て詳述すればこの化合物は(1)上述の雑文で記載され
ている条件よpもはるかに苛酷な高温、高圧下でもバラ
ジュウムを触媒に用いた時には還元をうけにくいこと、
(λ)ニッケル触媒を用いた場合には還元反応が円滑に
進行することを見出した。
本発明に係るジヒドロカルボスチリル誘導体は下記一般
式(1)で表わされる。
式(1)で表わされる。
鵠
上式中、Rは水素原子1fcはアルキル基を表ゎ〆
ア。
また、本発明に係る夷造方法は、下記一般式(n)で表
わされるカルボスチリル誘導体’lt元すること¥r%
徴とする一般式(I)で表わされるジヒドロカルボスチ
リル誘導体の製造方法テある。
わされるカルボスチリル誘導体’lt元すること¥r%
徴とする一般式(I)で表わされるジヒドロカルボスチ
リル誘導体の製造方法テある。
上式中、Rは水素原子またはアルキル基を表ゎ丁。
上述のび一メチル−6−ヒドロキシ(又はアルコキシ)
カルボスチリルはp−ア七トアセトアニシジドを硫酸、
ポリリン酸、酢酸などの酸触媒で処理する所謂Knor
r法で合成される化合物であり、アルコキシ五のアルギ
ル部分はこの反応に全く関与しない。又、還元を受ける
部分はメチルカルボスチリルの部分である。それで本発
明においてアルコキシ基のアルキルとしては特に限定さ
るべきものではないが炭素原子数を以下の、たとえばベ
ンジル、λ−エチルヘキシル、シクロヘキシ71、.5
ee−7ミル、メチル、プロピル、エチル、メチル基等
が用いられる。工業用原材料としての入手の容易さ、原
料コスト、生成する化合物の結晶性に痒う・・ンドリン
グの容易さなどの点から、エチル、メチル基などは特に
好都合である。ヒドロキシ体は、アルコキシ基tもりV
−メチルジヒドロカルボスチリルをハロゲン化アルミ、
ハロゲン化ホウ累などで加水分解することによっても得
られる。本発明の還元反応においては、ニッケルS− 触媒が特にM用であシ、鉄、コバルト、白金、・ξラジ
ュウムなどの触媒全単独又は併用して使用してもよい。
カルボスチリルはp−ア七トアセトアニシジドを硫酸、
ポリリン酸、酢酸などの酸触媒で処理する所謂Knor
r法で合成される化合物であり、アルコキシ五のアルギ
ル部分はこの反応に全く関与しない。又、還元を受ける
部分はメチルカルボスチリルの部分である。それで本発
明においてアルコキシ基のアルキルとしては特に限定さ
るべきものではないが炭素原子数を以下の、たとえばベ
ンジル、λ−エチルヘキシル、シクロヘキシ71、.5
ee−7ミル、メチル、プロピル、エチル、メチル基等
が用いられる。工業用原材料としての入手の容易さ、原
料コスト、生成する化合物の結晶性に痒う・・ンドリン
グの容易さなどの点から、エチル、メチル基などは特に
好都合である。ヒドロキシ体は、アルコキシ基tもりV
−メチルジヒドロカルボスチリルをハロゲン化アルミ、
ハロゲン化ホウ累などで加水分解することによっても得
られる。本発明の還元反応においては、ニッケルS− 触媒が特にM用であシ、鉄、コバルト、白金、・ξラジ
ュウムなどの触媒全単独又は併用して使用してもよい。
還元反応の際に用いる溶媒としては、グーメチル−6−
メドキシカルポスチリルがアルニア n、系溶媒、た
とえばメトキシエタノール、エチルセロソルフ、フロノ
にノール、エタノール、メタノール等に易溶のため、こ
れら全単独もしくは芳香族系溶媒、極性溶媒、ハロゲン
化炭化水素酢酸などを併用して使用できる。
メドキシカルポスチリルがアルニア n、系溶媒、た
とえばメトキシエタノール、エチルセロソルフ、フロノ
にノール、エタノール、メタノール等に易溶のため、こ
れら全単独もしくは芳香族系溶媒、極性溶媒、ハロゲン
化炭化水素酢酸などを併用して使用できる。
還元反応の際の温度は室温ないし/30oC1好しくは
zoocないし/ io 0C−ehF)、圧力は10
0気圧以下好ましくはIQないしgo気圧である。本発
明の化合物の還元反応は理論量の水素を吸収したところ
で停止し副生物金全く与えない利点がある。以下に実施
例金あけて詳述する。
zoocないし/ io 0C−ehF)、圧力は10
0気圧以下好ましくはIQないしgo気圧である。本発
明の化合物の還元反応は理論量の水素を吸収したところ
で停止し副生物金全く与えない利点がある。以下に実施
例金あけて詳述する。
実施例1
内容積100m1のオートクレーブにぴ−メチルー6−
メトキシ力ルポスチリルr、oy、メタノールso−お
よびラネーニッケル0.20f′t−秤りとった。力・
きまぜながら水素ガスを10気圧に 6− 充填し、roocで75時間保持した。触媒’kF別し
た後、水冷すると角柱状の結晶が析出した。生成物をメ
タノールを用いて再結晶し、分子量/り/(MS)、融
点/4’、2−3°CL:l)μmメチル−6−メドキ
シー3.弘−ジヒドロカルボスチリルを定量的に得7c
。
メトキシ力ルポスチリルr、oy、メタノールso−お
よびラネーニッケル0.20f′t−秤りとった。力・
きまぜながら水素ガスを10気圧に 6− 充填し、roocで75時間保持した。触媒’kF別し
た後、水冷すると角柱状の結晶が析出した。生成物をメ
タノールを用いて再結晶し、分子量/り/(MS)、融
点/4’、2−3°CL:l)μmメチル−6−メドキ
シー3.弘−ジヒドロカルボスチリルを定量的に得7c
。
参考例
実施例1と同様な反応を行った。但し触媒としてバラジ
ュウムO,コjv金用い水素ガス圧7j気圧、温度10
00Cで4I−に時間かきまぜを続けた。
ュウムO,コjv金用い水素ガス圧7j気圧、温度10
00Cで4I−に時間かきまぜを続けた。
反応は殆んど進行せず、大部分の原料が回収された。
実施例2
内容積λOO−のフラスコに、弘−メチル−6−メドキ
シー3.弘−ジヒドロカルボスチリル0゜0/mol、
メチレンクロライド70yd’ff秤9とつ7co ;
’り”きまぜながら水冷下にメチレンクロライド30−
に3臭化ホウ素Q 、Ojmalt1″浴解した液ラフ
!分間で部下した。次いで、弘o ’Cを越えないよう
に弘時間反応させ、氷水10−を加え析出する結晶を分
離した。定量的な収率で弘−メチル−6−オキシ−3,
4A−ジヒドロカルボスチリルを得た。分子量i 77
(MS’)、融点2 i o OC以上、この化合物
は、反応性に富むフェノール性水酸基を有することから
、ノ・ライド酸クロライド、エポキサイド、ジケテン、
エチレンカーボナート、インシアナート、アミン類など
と容易に反応し、x −チル、エステル、ウレタン、ア
ミン等を生成する。
シー3.弘−ジヒドロカルボスチリル0゜0/mol、
メチレンクロライド70yd’ff秤9とつ7co ;
’り”きまぜながら水冷下にメチレンクロライド30−
に3臭化ホウ素Q 、Ojmalt1″浴解した液ラフ
!分間で部下した。次いで、弘o ’Cを越えないよう
に弘時間反応させ、氷水10−を加え析出する結晶を分
離した。定量的な収率で弘−メチル−6−オキシ−3,
4A−ジヒドロカルボスチリルを得た。分子量i 77
(MS’)、融点2 i o OC以上、この化合物
は、反応性に富むフェノール性水酸基を有することから
、ノ・ライド酸クロライド、エポキサイド、ジケテン、
エチレンカーボナート、インシアナート、アミン類など
と容易に反応し、x −チル、エステル、ウレタン、ア
ミン等を生成する。
次にエーテル化反応の一例をあげる。
実施例3
実mN2で得lこグーメチル−t−ヒドロキシ−31弘
−ジヒドロカルボスチリルo、oirモル、エタノール
3−1水2−1苛性ソーダo、oiりmoli秤りとつ
7Icoかきませながらジエチル硫酸0.0f9m01
を氷冷下に70分間で滴下した後、更にjoocで3時
間かきまぜ放置した。析出する結晶全メタノールを用い
て再結晶し弘−メチル−6−ニトキシー3.4A−ジヒ
ドロカルボスチリル3..2fを得た。分子量、2oz
(MS)融点/λワタ−00C 元素分析値チ 炭素 水素 窒素計算値
70.λ2 7.3j t、Iλ実測値 70.21
7,3/ 4.タコ特許出願人 富士写真フィル
ム株式会社−タ−
−ジヒドロカルボスチリルo、oirモル、エタノール
3−1水2−1苛性ソーダo、oiりmoli秤りとつ
7Icoかきませながらジエチル硫酸0.0f9m01
を氷冷下に70分間で滴下した後、更にjoocで3時
間かきまぜ放置した。析出する結晶全メタノールを用い
て再結晶し弘−メチル−6−ニトキシー3.4A−ジヒ
ドロカルボスチリル3..2fを得た。分子量、2oz
(MS)融点/λワタ−00C 元素分析値チ 炭素 水素 窒素計算値
70.λ2 7.3j t、Iλ実測値 70.21
7,3/ 4.タコ特許出願人 富士写真フィル
ム株式会社−タ−
Claims (1)
- L μmメチル−6−ヒドロキシ(又はアルコキシ)−
j 、弘−ジヒドロカルボスチリル14A−)fルー6
−ヒドロキシ(又はアルコキシ)−カルボスチリル全還
元することを特徴とする、弘−メチル−6−ヒドロキシ
(又はアルコキシ) −j 、弘−ジヒドロカルボスチ
リルの製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57138983A JPS5929666A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | ジヒドロカルボスチリル誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57138983A JPS5929666A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | ジヒドロカルボスチリル誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5929666A true JPS5929666A (ja) | 1984-02-16 |
Family
ID=15234730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57138983A Pending JPS5929666A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | ジヒドロカルボスチリル誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5929666A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61119646A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-06 | Nachi Fujikoshi Corp | 酸素含有高硬度工具用焼結体及びその製造法 |
US6192839B1 (en) | 1997-09-19 | 2001-02-27 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Cooling apparatus for construction machine, and construction machine |
CN115611807A (zh) * | 2022-09-02 | 2023-01-17 | 湖南复瑞生物医药技术有限责任公司 | 一种西格他唑中间体的制备方法 |
-
1982
- 1982-08-10 JP JP57138983A patent/JPS5929666A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61119646A (ja) * | 1984-11-16 | 1986-06-06 | Nachi Fujikoshi Corp | 酸素含有高硬度工具用焼結体及びその製造法 |
JPS6261105B2 (ja) * | 1984-11-16 | 1987-12-19 | Fujikoshi Kk | |
US6192839B1 (en) | 1997-09-19 | 2001-02-27 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Cooling apparatus for construction machine, and construction machine |
CN115611807A (zh) * | 2022-09-02 | 2023-01-17 | 湖南复瑞生物医药技术有限责任公司 | 一种西格他唑中间体的制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005511668A (ja) | 結晶性ベンラファキシン塩基及びベンラファキシン塩酸塩の新規多形、並びにそれらの製法 | |
JPS5929666A (ja) | ジヒドロカルボスチリル誘導体及びその製造方法 | |
JPS6023351A (ja) | 2−アミノ−3,5−ジブロムベンジルアミン類の製法 | |
SU664559A3 (ru) | Способ получени производных 3-амино-2-оксипропана или их солей | |
JP2003519678A (ja) | α−(2−4−ジスルホフェニル)−N−tert−ブチルニトロン及びその医薬上許容しうる塩の新規な製造方法 | |
JP2000119208A (ja) | アントラセン誘導体及びその製造方法 | |
KR100521062B1 (ko) | (3-알콕시페닐)마그네슘클로라이드의제조방법및당해클로라이드를사용한알콜제조방법 | |
JPS5970671A (ja) | アリ−ルカルボスチリル誘導体 | |
BRPI0618555A2 (pt) | processo para produção de bifenilas | |
JP3949481B2 (ja) | スルホン酸アミン塩の製造方法 | |
US7091327B2 (en) | Process for the preparation of aromatic azo-compounds | |
US5132461A (en) | Process for the production of 4-[ethyl-(2'-hydroxyethyl)-amino]-1-[(2'-hydroxyethyl)-amino]-2-nitro-benzene | |
US5654467A (en) | Process for the production of C-substituted diethylenetriamines | |
JPS5965072A (ja) | インドリンまたはインドリン誘導体の製造方法 | |
EP0338898B1 (fr) | Procédé de préparation d'un dérivé mono-bromé en ortho du phénol | |
JPS6216482A (ja) | エルゴリンのn−メチル誘導体の製法 | |
EP0627403B1 (fr) | Procédé de préparation d'acides hydroxyphénylacétiques | |
JPH05500813A (ja) | アルキル―〔3クロロフェニル〕―スルホンの製造方法 | |
US20060205930A1 (en) | Process for the preparation of aromatic azo-compounds | |
JPH01192711A (ja) | ヒドラジン類の包接錯体、その製法及び該錯体を用いる分離法 | |
JP2003306461A (ja) | 1,3,5−トリス(4−ヒドロキシフェニル)アダマンタン類及びその製造方法 | |
JPS6248654A (ja) | N−アルキルアミノフエノ−ル類の製造法 | |
JP4381524B2 (ja) | 核置換アニリン化合物の製造方法 | |
JPH06345735A (ja) | N−置換−3−ピペリジノールの製法 | |
JP2002522411A (ja) | 新規フェニルエチルアミン誘導体、その製造方法及びその医薬組成物としての使用 |