JPS5928329B2 - 光重合性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な光重合性組成物に関する。
更に詳しくは、本発明は、スペクトルの可視部領域に
》吸収を有するアリールケトンおよびp−ジアルキルア
ミノアリールアルデヒドから導かれた選ばれた増感剤と
の組合せにおいて光解離性(PhOtOdi一SsOc
lable)開始剤を含有する光重合性組成物に関する
。これらの組成物の重合速度を増大させるために光重合
の分野においては多くの研究がなされている。
》吸収を有するアリールケトンおよびp−ジアルキルア
ミノアリールアルデヒドから導かれた選ばれた増感剤と
の組合せにおいて光解離性(PhOtOdi一SsOc
lable)開始剤を含有する光重合性組成物に関する
。これらの組成物の重合速度を増大させるために光重合
の分野においては多くの研究がなされている。
使用されている多くの周知の光開始剤または光開始剤系
は光重合性組成物およびエレメントの適用性を限定して
いる。何故ならば、それらの開 3始剤は第一義的にス
ペクトルの紫外部領域において活性化可能だからである
。米国特許第3479185号明細書はエチレン性不飽
和単量体、遊離ラジカル生成剤例えばロイコトリフエニ
ルアミン染料およびヘキサアリール 4qビイミダゾー
ルを包含する光重合性組成物を開示している。
は光重合性組成物およびエレメントの適用性を限定して
いる。何故ならば、それらの開 3始剤は第一義的にス
ペクトルの紫外部領域において活性化可能だからである
。米国特許第3479185号明細書はエチレン性不飽
和単量体、遊離ラジカル生成剤例えばロイコトリフエニ
ルアミン染料およびヘキサアリール 4qビイミダゾー
ルを包含する光重合性組成物を開示している。
これら組成物はスペクトルの紫外部領域で光開始可能で
ある。しかしながらこの米国特許は、キサンチンおよび
アクリジンのような種類のエネルギー伝達染料の添加に
よつて光重合性組成物の感度が重合速度の増大と共に町
視スペクトル領域にまで延長されることを発見した。米
国特許第3549367号明細書は、ヘキサアリールビ
イミダゾールおよびp−アミノフエニルケトン例えばミ
ヒラ一のケトン(これらはスベクトルの可視部にわずか
にその組成物のスペクトル感受性を延長させる)を含有
する光重合性組成物を開示している。
ある。しかしながらこの米国特許は、キサンチンおよび
アクリジンのような種類のエネルギー伝達染料の添加に
よつて光重合性組成物の感度が重合速度の増大と共に町
視スペクトル領域にまで延長されることを発見した。米
国特許第3549367号明細書は、ヘキサアリールビ
イミダゾールおよびp−アミノフエニルケトン例えばミ
ヒラ一のケトン(これらはスベクトルの可視部にわずか
にその組成物のスペクトル感受性を延長させる)を含有
する光重合性組成物を開示している。
米国特許第3652275号明細書は更に選ばれたビス
一(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトン増感剤
の使用によつて、光重合性組成物中のヘキサアリールビ
イミダゾール系の有効性を増強させている。前記組成物
は光重合性組成物の改善された町視光線増感作用を与え
るけれども、写真速度を更に改善して低エネルギー露光
光源を使用できるかまたは像様重合露光の効果を改善す
るようにすることが望ましい。
一(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトン増感剤
の使用によつて、光重合性組成物中のヘキサアリールビ
イミダゾール系の有効性を増強させている。前記組成物
は光重合性組成物の改善された町視光線増感作用を与え
るけれども、写真速度を更に改善して低エネルギー露光
光源を使用できるかまたは像様重合露光の効果を改善す
るようにすることが望ましい。
更に、改善された増感は露光光源を光重合性層からより
大なる距離に保持することを可能ならしめ、そしてそれ
によつて露光光源からの放射のより大なる調整を可能な
らしめる。また、特に二重露光法(最初に紫外部スペク
トル域中での像様露光そしてそれに次いで可視部領域中
での全体的露光)によつて陽画重合体像を生成しうる、
光阻害剤として特定のニトロ芳香族化合物を含有する光
重合性組成物中において使用するために町視部スペクト
ル域において改善された増感速度を与えることも望まし
い。ニトロ芳香族光阻害剤および陽画重合体像を製造す
る方法は米国特許第758699号明細書に開示されて
いる。本発明によれば、(1)常圧で100′C以上の
沸点を有し、そして光開始された付加重合によつて高分
子量重合体を形成しうる少くとも1種の非気体状エチレ
ン性不飽和化合物。
大なる距離に保持することを可能ならしめ、そしてそれ
によつて露光光源からの放射のより大なる調整を可能な
らしめる。また、特に二重露光法(最初に紫外部スペク
トル域中での像様露光そしてそれに次いで可視部領域中
での全体的露光)によつて陽画重合体像を生成しうる、
光阻害剤として特定のニトロ芳香族化合物を含有する光
重合性組成物中において使用するために町視部スペクト
ル域において改善された増感速度を与えることも望まし
い。ニトロ芳香族光阻害剤および陽画重合体像を製造す
る方法は米国特許第758699号明細書に開示されて
いる。本発明によれば、(1)常圧で100′C以上の
沸点を有し、そして光開始された付加重合によつて高分
子量重合体を形成しうる少くとも1種の非気体状エチレ
ン性不飽和化合物。
(2)単共有結合によつて一緒に結合された2個のロフ
イン基より成る少くとも1種の2,4,5トリアリール
イミダゾリルニ量体、および(3)増感作用量の式 〔式中A,B,D,Eは炭素原子であるかまたは1個は
単独に窒素原子であつてもよく、R1は、H,OHまた
はCH3Oであり、R2はH,OH,CH3OまたはN
(R7)2であり、R3はH,OHまたはCH3Oであ
り、 aは0または1であり、 −FCH2÷b、(式中bは1,2または3である)、
中R’はHまたはフエニルである)であるか、\;また
はZが CHでありそしてR4が−O−/または N−
CH3でありそしてaが0の場合/にはZはR4と結合
されており、 R4はH,CH3,OHまたはCH3Oであり、R5は
HであるかまたはR5+ R7が一 CH2CH2−,
− CH2CH2CH2−または−O−CH2CH2−
であり、R6はHであるかまたはR6+R7が 一CH2CH2−,−CH2CH2CH2−または一O
−CH2CH2−であり、そしてR7はCH3,−(C
H2)n−CH3(式中nは1〜5である)、−CH2
CH2−Cl,−CH2CH2OHまたはCH2CH2
OCH3である〕B 〔式中A,B,Dは炭素原子であるか、または1個は単
独に窒素原子であつてもよく、R1はH,CH3,−0
CH3CH20R(式中RはH,CH3または−CH2
CH2OR′でそのR’がCH3またはCH3CH2−
である)であり、R2はH,CH3,OHまたはCH3
Oであり、R3はH,OH,CH3O,CH3,F,B
r,CNまたはN(R,O)2であり、R2+R3は−
0−CH2−O−であり、R4はH,CH3またはCH
3Oであり、R,はH,CH3,−0CH2CH20R
(式中RはH,CH3または−CH2CH2OR′でそ
のR’がCH3またはCH3CH2−である)であり、
R6はH,CH3またはフエニルであり、R7はH,C
H3,OHまたはCH3Oであり、R8はHであり、R
8+RlOは−CH2CH2−, 一CH2CH2CH2−または−0CH2CH2であり
、R9はHでありそしてまたR9+RlOは−CH2C
H2−,−CH2CH2CH2−または−0CH2CH
2−であり、そしてR1oはCH3または−FCH2チ
NCH3(式中nは1〜5である)である〕、またはC
− 0 p または (式中Gは−C−,−0−または−S−であり、 R,はH,CH3または−0CH3であり、そしてR2
はCH3または−CH2CH3である)を有し且つ35
0〜550nmの範囲に最大吸収を有するアリーリリデ
ンアリールケトン化合物を混合物の状態で包含してなる
光重合性組成物が提供される。
イン基より成る少くとも1種の2,4,5トリアリール
イミダゾリルニ量体、および(3)増感作用量の式 〔式中A,B,D,Eは炭素原子であるかまたは1個は
単独に窒素原子であつてもよく、R1は、H,OHまた
はCH3Oであり、R2はH,OH,CH3OまたはN
(R7)2であり、R3はH,OHまたはCH3Oであ
り、 aは0または1であり、 −FCH2÷b、(式中bは1,2または3である)、
中R’はHまたはフエニルである)であるか、\;また
はZが CHでありそしてR4が−O−/または N−
CH3でありそしてaが0の場合/にはZはR4と結合
されており、 R4はH,CH3,OHまたはCH3Oであり、R5は
HであるかまたはR5+ R7が一 CH2CH2−,
− CH2CH2CH2−または−O−CH2CH2−
であり、R6はHであるかまたはR6+R7が 一CH2CH2−,−CH2CH2CH2−または一O
−CH2CH2−であり、そしてR7はCH3,−(C
H2)n−CH3(式中nは1〜5である)、−CH2
CH2−Cl,−CH2CH2OHまたはCH2CH2
OCH3である〕B 〔式中A,B,Dは炭素原子であるか、または1個は単
独に窒素原子であつてもよく、R1はH,CH3,−0
CH3CH20R(式中RはH,CH3または−CH2
CH2OR′でそのR’がCH3またはCH3CH2−
である)であり、R2はH,CH3,OHまたはCH3
Oであり、R3はH,OH,CH3O,CH3,F,B
r,CNまたはN(R,O)2であり、R2+R3は−
0−CH2−O−であり、R4はH,CH3またはCH
3Oであり、R,はH,CH3,−0CH2CH20R
(式中RはH,CH3または−CH2CH2OR′でそ
のR’がCH3またはCH3CH2−である)であり、
R6はH,CH3またはフエニルであり、R7はH,C
H3,OHまたはCH3Oであり、R8はHであり、R
8+RlOは−CH2CH2−, 一CH2CH2CH2−または−0CH2CH2であり
、R9はHでありそしてまたR9+RlOは−CH2C
H2−,−CH2CH2CH2−または−0CH2CH
2−であり、そしてR1oはCH3または−FCH2チ
NCH3(式中nは1〜5である)である〕、またはC
− 0 p または (式中Gは−C−,−0−または−S−であり、 R,はH,CH3または−0CH3であり、そしてR2
はCH3または−CH2CH3である)を有し且つ35
0〜550nmの範囲に最大吸収を有するアリーリリデ
ンアリールケトン化合物を混合物の状態で包含してなる
光重合性組成物が提供される。
この光重合性組成物は、少くとも1種のエチレン性不飽
和化合物、2,4,5−トリアリールイミダゾリルニ量
体およびアリーリリデンアリールケトンを含有している
ことの他に、好ましくは高分子有機結合剤をも含有して
いる。
和化合物、2,4,5−トリアリールイミダゾリルニ量
体およびアリーリリデンアリールケトンを含有している
ことの他に、好ましくは高分子有機結合剤をも含有して
いる。
他の有用な添加剤としてはトリアリールイミダゾリルラ
ジカルにより染料に酸化されうるロイコ染料、光阻害剤
および不活性成分例えば町塑剤、像の町視性の増大のた
めの染料および顔料、充填剤その他があげられる。エチ
レン性不飴冴旧ヒ合物は、光重合性組成物中に単量体お
よび結合剤の重量基準で3.O〜100重量部の量で存
在させることができ、そして有機結合剤はO〜97重量
部の量で存在させることができる。
ジカルにより染料に酸化されうるロイコ染料、光阻害剤
および不活性成分例えば町塑剤、像の町視性の増大のた
めの染料および顔料、充填剤その他があげられる。エチ
レン性不飴冴旧ヒ合物は、光重合性組成物中に単量体お
よび結合剤の重量基準で3.O〜100重量部の量で存
在させることができ、そして有機結合剤はO〜97重量
部の量で存在させることができる。
2,4,5−トリアリールイミダゾリル二量体はエチレ
ン性不飽和化合物と結合剤との合計重量100重量部当
りO.01〜20.0重量部の量で存在させうる。
ン性不飽和化合物と結合剤との合計重量100重量部当
りO.01〜20.0重量部の量で存在させうる。
アリーリリデンアリールケトン増感剤は、エチレン性不
飽和化合物と結合剤との合計重量100重量部当りO.
O01〜15.0重量部、好ましくは1.O〜10.0
重量部の量で存在させることができる。その他の添加剤
も当業者には周知のように少量で存在させることができ
る。エチレン性不餌旧ヒ合物(1)(本発明の光重合性
単量体)は常圧で100℃以上の沸点を有しており、そ
して光開始付加重合によつて高分子重合体を形成しうる
。適当な化合物は、米国特許第3756827号明細書
(第2欄第36行ないし第3欄第30行)に開示されて
おり、その開示はここに参照として包含される。他の有
用な単量体としては、1978年3月31日付米国特許
出願第892295号明細書記載のエチレン性不飽和ジ
エステルポリヒドロキシポリエーテルがあげられる。例
としては、シエル・ケミカル・カンパニーにより販売さ
れている「エポクリル8(Epocryl)」があげら
れる。
飽和化合物と結合剤との合計重量100重量部当りO.
O01〜15.0重量部、好ましくは1.O〜10.0
重量部の量で存在させることができる。その他の添加剤
も当業者には周知のように少量で存在させることができ
る。エチレン性不餌旧ヒ合物(1)(本発明の光重合性
単量体)は常圧で100℃以上の沸点を有しており、そ
して光開始付加重合によつて高分子重合体を形成しうる
。適当な化合物は、米国特許第3756827号明細書
(第2欄第36行ないし第3欄第30行)に開示されて
おり、その開示はここに参照として包含される。他の有
用な単量体としては、1978年3月31日付米国特許
出願第892295号明細書記載のエチレン性不飽和ジ
エステルポリヒドロキシポリエーテルがあげられる。例
としては、シエル・ケミカル・カンパニーにより販売さ
れている「エポクリル8(Epocryl)」があげら
れる。
多くの重合性単量体は特に長期間または高温に保存され
た場合には熱重合を受ける。そのような化合物は市場的
に供給される場合にはそれらには少量ではあるがしかし
有効量の熱重合阻害剤を含有させることが一般的である
。これら阻害剤は、後記の実帷例中におけるようにして
本発明の光重合性コーテイング組成物を製造した場合に
単量体中に残存してもよい。得られる組成物は通常満足
すべき熱安定性を有している。異常な熱に対する露出が
予想されている場合、または熱重合阻害剤をほとんどか
または全く含有していない単量体が使用される場合には
、充分な保存寿命を有する組成物は、例えば単量体のO
.5重量?までの熱重合阻害剤例えばヒドロキノン、メ
チルヒドロキノン、p−メトキシフエノールその他を混
入することによつて得ることができる。2,4,5−ト
リアリールイミダゾリルニ量体(2,2′,4,4′,
5,5′−ヘキサアリールビイミダゾール)は光解離し
て相当するトリアリールイミダゾリルラジカルとなりう
る。
た場合には熱重合を受ける。そのような化合物は市場的
に供給される場合にはそれらには少量ではあるがしかし
有効量の熱重合阻害剤を含有させることが一般的である
。これら阻害剤は、後記の実帷例中におけるようにして
本発明の光重合性コーテイング組成物を製造した場合に
単量体中に残存してもよい。得られる組成物は通常満足
すべき熱安定性を有している。異常な熱に対する露出が
予想されている場合、または熱重合阻害剤をほとんどか
または全く含有していない単量体が使用される場合には
、充分な保存寿命を有する組成物は、例えば単量体のO
.5重量?までの熱重合阻害剤例えばヒドロキノン、メ
チルヒドロキノン、p−メトキシフエノールその他を混
入することによつて得ることができる。2,4,5−ト
リアリールイミダゾリルニ量体(2,2′,4,4′,
5,5′−ヘキサアリールビイミダゾール)は光解離し
て相当するトリアリールイミダゾリルラジカルとなりう
る。
これらヘキサアリールビイミダゾールは255〜275
μ域において最大吸収を示し、そして通常より小さいけ
れども300〜375mμ域にいくらかの吸収を示す。
吸収バンドは約430mμ程度の高い波長も包含するよ
うにテイリングする傾向があるけれども、それらは通常
その解離のためには255〜375mμ波長に富んだ光
を必要とする。れらは同一または異なる炭素環式または
複素環式のものであつて未置換であるかまたはへキサア
リールビイミダゾールのトリアリールイミダゾリルラジ
カルへの解離またはロイコ染料の酸化を阻害しない置換
基で置換されたものであることができ、そして各点線の
円はイミダゾリル環の炭素および窒素原子の原子価を満
足させるための4個の非局在電子(すなわち2個の共役
二重結合)を意味している〕により表わすことができる
。
μ域において最大吸収を示し、そして通常より小さいけ
れども300〜375mμ域にいくらかの吸収を示す。
吸収バンドは約430mμ程度の高い波長も包含するよ
うにテイリングする傾向があるけれども、それらは通常
その解離のためには255〜375mμ波長に富んだ光
を必要とする。れらは同一または異なる炭素環式または
複素環式のものであつて未置換であるかまたはへキサア
リールビイミダゾールのトリアリールイミダゾリルラジ
カルへの解離またはロイコ染料の酸化を阻害しない置換
基で置換されたものであることができ、そして各点線の
円はイミダゾリル環の炭素および窒素原子の原子価を満
足させるための4個の非局在電子(すなわち2個の共役
二重結合)を意味している〕により表わすことができる
。
BおよびDのアリール基は各々0〜3の置換基で置換す
ることができ、そしてAのアリール基は0〜4の置換基
で置換することができる。有用な2,4,5一トリアリ
ールイミダゾリルニ量体は米国特許第3652275号
明細書(第5欄第44行なιル第7欄第16行)に開示
されている。この開示はここに参照として包含される。
光重合性組成物中に有用なアリーリリデンアリールケト
ン増感剤は前記に広義に定義されている。
ることができ、そしてAのアリール基は0〜4の置換基
で置換することができる。有用な2,4,5一トリアリ
ールイミダゾリルニ量体は米国特許第3652275号
明細書(第5欄第44行なιル第7欄第16行)に開示
されている。この開示はここに参照として包含される。
光重合性組成物中に有用なアリーリリデンアリールケト
ン増感剤は前記に広義に定義されている。
好ましい増感剤化合物は次の構造式A
〔式中R1はH,OHまたはCH3O−であり、R2は
H,OHまたはCH3O−であり、R3はH,OHまた
はCH3OであるがただしRl,R2またはR3の1個
が0Hである場合にはその残余のものはHまたはCH3
O−でなくてはならないものであり、\ \/ Zは/ CHOH,/Cx,千CH2チa(式中aは1
,2または3である、− O − CH(式中R’はH
またはψである)であるかまたはZが゛(’Hでありそ
してR4が−o−または−N一/ lの場合にはZはR
4と結合しており、 R4はH,CH3,OHまたはCH3O−であるがただ
しRl,R2またはR3の一つが0Hの場合にはR4は
H,CH3またはCH3O−であり、R5はHであるか
またはR5+ R7が一CH2CH2−,−CH2CH
2CH2−または一O−CH2CH2−でありR6はH
であるかまたはR6+ R7が .−CH2CH2−,−CH2CH2CH2−または−
O−CH2CH2−であり、R7はCH3−またはCH
3CH2−である〕、R1はHまたはCH3であり、R
2はH,OH,CH3またはCH3Oであり、R3はH
,CH3,OHまたはCH3Oであり、R2+R3は−
O−CH2−O−であり、R4はH,CH3−またはC
H3O−であり、R5はHまたはCH3であり、R6は
HまたはCH3であり、 R7はH,CH3,OHまたはCH3Oであるがただし
R2,R3およびR7の1個が0Hである場合にはその
残余のものはH,CH3またはCH3O−でなくてはな
らず、R8はHであるかまたはR8+RlOは 一CH2CH2−,−CH2CH2CH2−または一O
−CH2CH2−であり、R9はHであるかまたはR9
+RlOは 一CH2CH2,−CH2CH2CH2−または一O−
CH2CH2−であり、R1oはCH3−またはCH3
CH2−である〕ものである。
H,OHまたはCH3O−であり、R3はH,OHまた
はCH3OであるがただしRl,R2またはR3の1個
が0Hである場合にはその残余のものはHまたはCH3
O−でなくてはならないものであり、\ \/ Zは/ CHOH,/Cx,千CH2チa(式中aは1
,2または3である、− O − CH(式中R’はH
またはψである)であるかまたはZが゛(’Hでありそ
してR4が−o−または−N一/ lの場合にはZはR
4と結合しており、 R4はH,CH3,OHまたはCH3O−であるがただ
しRl,R2またはR3の一つが0Hの場合にはR4は
H,CH3またはCH3O−であり、R5はHであるか
またはR5+ R7が一CH2CH2−,−CH2CH
2CH2−または一O−CH2CH2−でありR6はH
であるかまたはR6+ R7が .−CH2CH2−,−CH2CH2CH2−または−
O−CH2CH2−であり、R7はCH3−またはCH
3CH2−である〕、R1はHまたはCH3であり、R
2はH,OH,CH3またはCH3Oであり、R3はH
,CH3,OHまたはCH3Oであり、R2+R3は−
O−CH2−O−であり、R4はH,CH3−またはC
H3O−であり、R5はHまたはCH3であり、R6は
HまたはCH3であり、 R7はH,CH3,OHまたはCH3Oであるがただし
R2,R3およびR7の1個が0Hである場合にはその
残余のものはH,CH3またはCH3O−でなくてはな
らず、R8はHであるかまたはR8+RlOは 一CH2CH2−,−CH2CH2CH2−または一O
−CH2CH2−であり、R9はHであるかまたはR9
+RlOは 一CH2CH2,−CH2CH2CH2−または一O−
CH2CH2−であり、R1oはCH3−またはCH3
CH2−である〕ものである。
実施例に示されている増感剤は次のとおりである。
2(4′−ジエチルアミノ−2/−メチルベンジリデン
)−1−インダノン2−(4′−ジエチルアミノベンジ
リデン)3−ヒドロキシ−1−インダノン8−(4′−
ジメチルアミノベンジリデン)アセナフタレンーJメ[オ
ン2−(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリ
デン)−1−テトラロン4−ジエチルアミノ デンアセトフエノン メチルベンジリ 4′−ジメチルアミノベンジリデン−4−ジメチルアミ
ノアセトフエノン4′−ジエチルアミノ−2′−メチル
ベンジリデン−2−〔β一(β7ーメトキシエトキシ)
−エトキシ〕アセトフエノン4′−ジエチルアミノ−2
′−メチルベンジリデ゛ン一2−メチルアセトフエノン
4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリ ″デン
一4−フルオロアセトフエノン4′−ジエチルアミノ−
2′−メチルベンジリデン−4−シアノアセトフエノン
2−(4′−ジエチルアミノベンジリデン)−3−フエ
ニル一1−クロマノン2−(4′−ジエチルアミノベン
ジリデン)1−クロマノン2−(4′−ジエチルアミノ
ベンジリデン)クロマン1,3−ジオン2−〔4′−ジ
一(β−クロロエチル)アミノベンジリデン〕−3−ヒ
ドロキシ−1−インダノン 2−(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデ
ン)−3−ヒドロキシ−1−インダノン 2−(4′−ジメチルアミノシンナミリデン)−3−ヒ
ドロキシ−1−インダノン2−(4′−ジエチルアミノ
−2′−メチルベンジリデン)−1−テトラロン2−(
4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン)−
1−ベンゾスベロン4・ 2−(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデ
ン)−5,6−ジメトキシ−1−インダノン 4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン−3
,4−メチレンジオキシアセトフエノン 4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン−4
−メトキシアセトフエノン4′−ジエチルアミノ−2′
−メチルベンジリデン−3−メトキシアセトフエノン4
′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン−4−
メチルアセトフエノン2−(4′−ジエチルアミノ−2
′−メトキシベンジリデン)−1−インダノン2−(9
′−ジユロリリデン)−1−インダノン2−(4′−ジ
エチルアミノベンジリデン)−1−テトラン2−(4′
−ジエチルアミノベンジリデン)プロピオフエノン2−
(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン)
−プロピオフエノン4−ジエチルアミノベンジリデンデ
オキシベンゾイン 2−(4′−ジエチルアミノベンジリデン)−1−イン
ダノン402−(4′−ジエチルアミノベンジリデン)
−3−ジエム(Gem)ジメチル−1−インダノン47
4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン−4
−ヒドロキシアセトフエノン484′−ジメチルアミノ
ベンジリデン−3−ヒドロキシアセトフエノンこれらは
アリーリリデンアリールケトンは例1および例32に記
載の操作によつて特定のアリールケトンとp−ジアルキ
ルアミノアリールアルデヒドを反応させる既知の方法に
従つて製造することができる。
)−1−インダノン2−(4′−ジエチルアミノベンジ
リデン)3−ヒドロキシ−1−インダノン8−(4′−
ジメチルアミノベンジリデン)アセナフタレンーJメ[オ
ン2−(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリ
デン)−1−テトラロン4−ジエチルアミノ デンアセトフエノン メチルベンジリ 4′−ジメチルアミノベンジリデン−4−ジメチルアミ
ノアセトフエノン4′−ジエチルアミノ−2′−メチル
ベンジリデン−2−〔β一(β7ーメトキシエトキシ)
−エトキシ〕アセトフエノン4′−ジエチルアミノ−2
′−メチルベンジリデ゛ン一2−メチルアセトフエノン
4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリ ″デン
一4−フルオロアセトフエノン4′−ジエチルアミノ−
2′−メチルベンジリデン−4−シアノアセトフエノン
2−(4′−ジエチルアミノベンジリデン)−3−フエ
ニル一1−クロマノン2−(4′−ジエチルアミノベン
ジリデン)1−クロマノン2−(4′−ジエチルアミノ
ベンジリデン)クロマン1,3−ジオン2−〔4′−ジ
一(β−クロロエチル)アミノベンジリデン〕−3−ヒ
ドロキシ−1−インダノン 2−(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデ
ン)−3−ヒドロキシ−1−インダノン 2−(4′−ジメチルアミノシンナミリデン)−3−ヒ
ドロキシ−1−インダノン2−(4′−ジエチルアミノ
−2′−メチルベンジリデン)−1−テトラロン2−(
4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン)−
1−ベンゾスベロン4・ 2−(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデ
ン)−5,6−ジメトキシ−1−インダノン 4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン−3
,4−メチレンジオキシアセトフエノン 4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン−4
−メトキシアセトフエノン4′−ジエチルアミノ−2′
−メチルベンジリデン−3−メトキシアセトフエノン4
′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン−4−
メチルアセトフエノン2−(4′−ジエチルアミノ−2
′−メトキシベンジリデン)−1−インダノン2−(9
′−ジユロリリデン)−1−インダノン2−(4′−ジ
エチルアミノベンジリデン)−1−テトラン2−(4′
−ジエチルアミノベンジリデン)プロピオフエノン2−
(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン)
−プロピオフエノン4−ジエチルアミノベンジリデンデ
オキシベンゾイン 2−(4′−ジエチルアミノベンジリデン)−1−イン
ダノン402−(4′−ジエチルアミノベンジリデン)
−3−ジエム(Gem)ジメチル−1−インダノン47
4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン−4
−ヒドロキシアセトフエノン484′−ジメチルアミノ
ベンジリデン−3−ヒドロキシアセトフエノンこれらは
アリーリリデンアリールケトンは例1および例32に記
載の操作によつて特定のアリールケトンとp−ジアルキ
ルアミノアリールアルデヒドを反応させる既知の方法に
従つて製造することができる。
精製後、例えば表3に示されているように融点、紫外線
スペクトルデータを測定することができる。この増感剤
は300〜700nmの広いスペクトル範囲で放射を吸
収する。最大吸収(λMax)は350〜550nm1
好ましくは400〜500nmにある。熱町塑性高分子
有機重合体結合剤を光重合性組成物中に存在させるのが
好ましい。
スペクトルデータを測定することができる。この増感剤
は300〜700nmの広いスペクトル範囲で放射を吸
収する。最大吸収(λMax)は350〜550nm1
好ましくは400〜500nmにある。熱町塑性高分子
有機重合体結合剤を光重合性組成物中に存在させるのが
好ましい。
重合体結合剤のタイブとしては、(a)テレフタル酸、
イソフタル酸、セバシン酸、アジピン酸およびヘキサヒ
ドロテレフタル酸をベースとしたコポリエステル、(b
)ナイロンまたはポリアミド、(c)ビニリデンクロリ
ド共重合体、(d)エチレン/ビニルアセテート共重合
体、(e)セルロースエーテル、(f)ポリエチレン、
(g)合成ゴム、(h)セルロースエステル、(1)ポ
リビニルアセテート/アクリレートおよびポリビニルア
セテート/メタクリレート共重合体を含めてポリビニル
エステル、(j)ポリアクリレートおよびポリーα−ア
ルキルアクリレートエステル例えばポリメチルメタクリ
レートおよびポリエチルメタクリレート、(k)400
0〜4,000,000の平均分子量を有する高分子量
エチレンオキサイド重合体(ポリエチレングリコール)
、(l)ポリ塩化ビニルおよび共重合体、−ポリビニル
アセタール、(n)ポリホルムアルデヒド、(0)ポリ
ウレタン、(p)ポリカーボネート、および(q)ポリ
スチレンがあげられる。本発明の特に好ましい態様にお
いては、重合体結合剤は未露光光重合性コーテイングが
主として水性の溶液例えば稀水性アルカリ溶液に可溶性
であるがしかし活性放射に露光するとそれに比較的不溶
性となるように選ばれる。典型的には、これらの要求を
満足させる重合体はカルボキシル化重合体、例えば遊離
カルボン酸基を含有するビニル付加重合体である。他の
好ましい結合剤群としてはポリアクリレートエステルお
よびポリ一α−アルキルアクリレートエステル特にポリ
メチルメタクリレートがあげられる。場合によりロイコ
染料もまたこの光重合性組成物中に存在させることがで
きる。
イソフタル酸、セバシン酸、アジピン酸およびヘキサヒ
ドロテレフタル酸をベースとしたコポリエステル、(b
)ナイロンまたはポリアミド、(c)ビニリデンクロリ
ド共重合体、(d)エチレン/ビニルアセテート共重合
体、(e)セルロースエーテル、(f)ポリエチレン、
(g)合成ゴム、(h)セルロースエステル、(1)ポ
リビニルアセテート/アクリレートおよびポリビニルア
セテート/メタクリレート共重合体を含めてポリビニル
エステル、(j)ポリアクリレートおよびポリーα−ア
ルキルアクリレートエステル例えばポリメチルメタクリ
レートおよびポリエチルメタクリレート、(k)400
0〜4,000,000の平均分子量を有する高分子量
エチレンオキサイド重合体(ポリエチレングリコール)
、(l)ポリ塩化ビニルおよび共重合体、−ポリビニル
アセタール、(n)ポリホルムアルデヒド、(0)ポリ
ウレタン、(p)ポリカーボネート、および(q)ポリ
スチレンがあげられる。本発明の特に好ましい態様にお
いては、重合体結合剤は未露光光重合性コーテイングが
主として水性の溶液例えば稀水性アルカリ溶液に可溶性
であるがしかし活性放射に露光するとそれに比較的不溶
性となるように選ばれる。典型的には、これらの要求を
満足させる重合体はカルボキシル化重合体、例えば遊離
カルボン酸基を含有するビニル付加重合体である。他の
好ましい結合剤群としてはポリアクリレートエステルお
よびポリ一α−アルキルアクリレートエステル特にポリ
メチルメタクリレートがあげられる。場合によりロイコ
染料もまたこの光重合性組成物中に存在させることがで
きる。
「ロイコ染料」なる表現は、トリアリールイミダゾリル
ラジカルによりその有色形に酸化されうる染料化合物の
無色(すなわち還元)形を意味している。ロイコ染料は
米国特許第3652275号明細書(第7欄第24行な
いし第11欄第32行)に開示されており、この開示は
ここに参照として包含される。好ましい陽画として働く
光重合性組成物においては、゛ペルキー特許第8525
17号明細書に開示されたニトロ芳香族光阻害剤が存在
せしめられる。これら化合物はエチレン性不飽和化合物
と結合剤との合計重量100重量部当り0.5〜15重
量部の量で存在させることができ、式〔式中Rl,R2
,R3およびR4は同一または異つていてH,ON、ハ
ロゲン、NO2,CNll〜18個の炭素原子を含有す
るアルキル、アルキル部分が1〜18個の炭素原子を含
有しているアルコキシ、6〜18個の炭素原子を含有す
るアリール、ベンジル、ハロゲン置換フエニル、2〜1
8個の炭素原子および1〜6個の酸素原子のポリエーテ
ル、各アルキル部分が1〜18個の炭素原を有するジア
ルキルアミ人アルキル部分が1〜18個の炭素原子を含
有するチオアルキル、またはアリール部分が6〜18個
の炭素原子であるチオアリールであるか、あるいはまた
Rl,R2,R3およびR4のいずれか2個が一緒にな
つてベンゼン核に融合された第2のベンゼン環残基を形
成しているがただしRl,R2,R3およびR4の1個
よりも多くが0HまたはNO2であることはなく、R5
はH、1〜18個の炭素原子を含有するアルキル、ハロ
ゲン、フエニルまたはアルキル部分が1〜18個の炭素
原子を含有するものであるアルコキシであり、R6はH
,OHll〜18個の炭素原子を含有するアルキル、フ
エニル、またはアルキルが1〜18個の炭素原子を含有
するアルコキシであるがただしR5およびR6の一方の
みはHであるかまたはR5とR6は一緒になつて−0,
−CH2,O−CH2−,−NC6H5、アルキル部分
の各々が1〜18個の炭素原子を含有する−NC6H4
N(アルキル)2、−0−C2H4−0−、ヒドロカル
ピレン基が1〜18個の炭素原子を有するまたは C−C−NH C C− (式中R8およびR9は、同一または異つてHであるか
または1〜4個の炭素原子を含有するアルキルであり、
そしてR7およびRlOは同一または異つて−CN,−
CORll(ただしRllは1〜5個の炭素原子のアル
キルである)またCOORl2(ただしEl2が酸素原
子により中断されていてもよい1〜6個の炭素原子のア
ルキル、2〜5個の炭素原子を含有するアルケニルまた
は2〜5個の炭素原子を含有するアルキニルである)で
あるかまたはR7およびR8またはR9およびRlOが
それぞれ一緒になつてケト基を含有する6員炭素環を完
成している)である〕により定義される。
ラジカルによりその有色形に酸化されうる染料化合物の
無色(すなわち還元)形を意味している。ロイコ染料は
米国特許第3652275号明細書(第7欄第24行な
いし第11欄第32行)に開示されており、この開示は
ここに参照として包含される。好ましい陽画として働く
光重合性組成物においては、゛ペルキー特許第8525
17号明細書に開示されたニトロ芳香族光阻害剤が存在
せしめられる。これら化合物はエチレン性不飽和化合物
と結合剤との合計重量100重量部当り0.5〜15重
量部の量で存在させることができ、式〔式中Rl,R2
,R3およびR4は同一または異つていてH,ON、ハ
ロゲン、NO2,CNll〜18個の炭素原子を含有す
るアルキル、アルキル部分が1〜18個の炭素原子を含
有しているアルコキシ、6〜18個の炭素原子を含有す
るアリール、ベンジル、ハロゲン置換フエニル、2〜1
8個の炭素原子および1〜6個の酸素原子のポリエーテ
ル、各アルキル部分が1〜18個の炭素原を有するジア
ルキルアミ人アルキル部分が1〜18個の炭素原子を含
有するチオアルキル、またはアリール部分が6〜18個
の炭素原子であるチオアリールであるか、あるいはまた
Rl,R2,R3およびR4のいずれか2個が一緒にな
つてベンゼン核に融合された第2のベンゼン環残基を形
成しているがただしRl,R2,R3およびR4の1個
よりも多くが0HまたはNO2であることはなく、R5
はH、1〜18個の炭素原子を含有するアルキル、ハロ
ゲン、フエニルまたはアルキル部分が1〜18個の炭素
原子を含有するものであるアルコキシであり、R6はH
,OHll〜18個の炭素原子を含有するアルキル、フ
エニル、またはアルキルが1〜18個の炭素原子を含有
するアルコキシであるがただしR5およびR6の一方の
みはHであるかまたはR5とR6は一緒になつて−0,
−CH2,O−CH2−,−NC6H5、アルキル部分
の各々が1〜18個の炭素原子を含有する−NC6H4
N(アルキル)2、−0−C2H4−0−、ヒドロカル
ピレン基が1〜18個の炭素原子を有するまたは C−C−NH C C− (式中R8およびR9は、同一または異つてHであるか
または1〜4個の炭素原子を含有するアルキルであり、
そしてR7およびRlOは同一または異つて−CN,−
CORll(ただしRllは1〜5個の炭素原子のアル
キルである)またCOORl2(ただしEl2が酸素原
子により中断されていてもよい1〜6個の炭素原子のア
ルキル、2〜5個の炭素原子を含有するアルケニルまた
は2〜5個の炭素原子を含有するアルキニルである)で
あるかまたはR7およびR8またはR9およびRlOが
それぞれ一緒になつてケト基を含有する6員炭素環を完
成している)である〕により定義される。
広範囲の非重合性町塑剤が改善された露光および現像温
度範囲の実現に有効である。
度範囲の実現に有効である。
層中に高分子結合剤が存在している場合には、可塑剤の
選択はそれならびに単量体、二量体、ケトンおよびその
他の成分と相容性となるように当技術分野に周知のもの
に基づいてなされる。例えばアクリル結合剤に関しては
、ジブチルフタレートおよびその他の芳香族酸のエステ
ル、脂肪族多価酸のエステル例えばジイソオクチルアジ
ペート、ナイトレートエステルその他、グリコール、ポ
リオキシアルキレングリコール、脂肪族ポリオールその
他の芳香族酸または脂肪族酸エステル、アルキルおよび
アリールホスフエート、低分子量ポリ一α−メチルスチ
レンのポリエステル、塩素化パラフイン、スルホンアミ
ドタイプのものが使用できる。一般に、水不溶性町塑剤
がより大なる高湿度保存安定性の故に好ましいがしかし
改善された寛容度を得るためには必要ではない。他の不
活性添加剤例えば染料、顔料および充填剤は当業者には
既知である。それら添加剤は、一般に少量で存在せしめ
られ、そしてそれは光重合性層の露光を阻害すべきでは
ない。本明細書に記載の光重合性組成物は、広範囲の種
類の基材(サブストレート)よりコーテイングすること
ができる。
選択はそれならびに単量体、二量体、ケトンおよびその
他の成分と相容性となるように当技術分野に周知のもの
に基づいてなされる。例えばアクリル結合剤に関しては
、ジブチルフタレートおよびその他の芳香族酸のエステ
ル、脂肪族多価酸のエステル例えばジイソオクチルアジ
ペート、ナイトレートエステルその他、グリコール、ポ
リオキシアルキレングリコール、脂肪族ポリオールその
他の芳香族酸または脂肪族酸エステル、アルキルおよび
アリールホスフエート、低分子量ポリ一α−メチルスチ
レンのポリエステル、塩素化パラフイン、スルホンアミ
ドタイプのものが使用できる。一般に、水不溶性町塑剤
がより大なる高湿度保存安定性の故に好ましいがしかし
改善された寛容度を得るためには必要ではない。他の不
活性添加剤例えば染料、顔料および充填剤は当業者には
既知である。それら添加剤は、一般に少量で存在せしめ
られ、そしてそれは光重合性層の露光を阻害すべきでは
ない。本明細書に記載の光重合性組成物は、広範囲の種
類の基材(サブストレート)よりコーテイングすること
ができる。
「基材」とは、任意の天然または合成支持体、好ましく
は町撓性または剛性フイルムまたはエートの形で存在し
うるものを意味している。例えば基材は金属シートまた
は箔、合成有機樹脂のシートまたはフイルム、セルロー
ス紙、フアイバーボードその他またはこれら物質の2種
またはそれ以上のものの複合体でありうる。特定の基材
としては、アルミナブラスト処理アルミニウム、アノー
ド処理アルミニウム、アルミナブラスト処理ポリエチレ
ンテレフタレートフイルム、ポリエチレンテレフタレー
トフイルム例えば樹脂下引きポリエチレンテレフタレー
トフイルム、ポリビニルアルコールコーテイング紙、交
叉結合ポリエステルコーテイング紙、ナイロン、ガラス
、セルロースアセテートフイルム、重質紙例えば石版印
刷紙その他があげられる。特定の基材は一般に包含され
る使用目的によつ′ て決定される。
は町撓性または剛性フイルムまたはエートの形で存在し
うるものを意味している。例えば基材は金属シートまた
は箔、合成有機樹脂のシートまたはフイルム、セルロー
ス紙、フアイバーボードその他またはこれら物質の2種
またはそれ以上のものの複合体でありうる。特定の基材
としては、アルミナブラスト処理アルミニウム、アノー
ド処理アルミニウム、アルミナブラスト処理ポリエチレ
ンテレフタレートフイルム、ポリエチレンテレフタレー
トフイルム例えば樹脂下引きポリエチレンテレフタレー
トフイルム、ポリビニルアルコールコーテイング紙、交
叉結合ポリエステルコーテイング紙、ナイロン、ガラス
、セルロースアセテートフイルム、重質紙例えば石版印
刷紙その他があげられる。特定の基材は一般に包含され
る使用目的によつ′ て決定される。
例えば印刷回路の製造の場合には、基材はフアイバーボ
ード上にコーテイングした銅のプレートでありうる。石
版印刷プレートの製造においては基材はアノード処理ア
ルミニウムである。好ましくは、光重合性組成物の層は
約0.0001インチ(〜0.0003(1−JモV1)
〜約0.01インチ(0.025CTII)の範囲の厚
さを有しており、そしてこれは低〜中等度接着性で薄い
可撓性の重合体フイルム支持体(これは光重合性層に対
して活性の放射を透過しうるものでありうる)に接着さ
れている。
ード上にコーテイングした銅のプレートでありうる。石
版印刷プレートの製造においては基材はアノード処理ア
ルミニウムである。好ましくは、光重合性組成物の層は
約0.0001インチ(〜0.0003(1−JモV1)
〜約0.01インチ(0.025CTII)の範囲の厚
さを有しており、そしてこれは低〜中等度接着性で薄い
可撓性の重合体フイルム支持体(これは光重合性層に対
して活性の放射を透過しうるものでありうる)に接着さ
れている。
光重合性層の反対側には、保護カバー層またはカバーシ
ートを接着させることができる。その場合、シートはフ
イルム支持体と層との間の接着性よりも低い層接着性を
有している。特に好ましい支持体は約0.001インチ
(〜0.0025cTn)の厚さを有する透明ポリエチ
レンテレフタレートフイルムである。0.001インチ
(〜0.0025Cr!L)のポリエチレンは好ましい
カバーシートであり、またポリビニルアルコールコーテ
イングは好ましいカバー層である。
ートを接着させることができる。その場合、シートはフ
イルム支持体と層との間の接着性よりも低い層接着性を
有している。特に好ましい支持体は約0.001インチ
(〜0.0025cTn)の厚さを有する透明ポリエチ
レンテレフタレートフイルムである。0.001インチ
(〜0.0025Cr!L)のポリエチレンは好ましい
カバーシートであり、またポリビニルアルコールコーテ
イングは好ましいカバー層である。
アリーリリデンアリールケトン増感剤の吸収バンドに重
なるスペクトル領域の波長を与えるすべての通常の活性
放射源を使用してトリアリールイミダゾリルラジカルの
形成、像形成および光重合の開始のためにこの光重合性
組成物を活性化させることができる。
なるスペクトル領域の波長を与えるすべての通常の活性
放射源を使用してトリアリールイミダゾリルラジカルの
形成、像形成および光重合の開始のためにこの光重合性
組成物を活性化させることができる。
光は天然のものでもまたは人工のものでもよいし、単色
(モノクロマチツク)または多色(ポリクロマチツク)
のものでもよいし、非干渉性または干渉性のものであり
うる。そして高い効率のためには、これは増感剤の主吸
収バンドにその波長が厳密に相当しているべきであり、
そしてこれは増感剤の実質的比率のものを活性化させる
に充分な強度のものであるべきである。慣用の光源とし
ては405,436および546nm(Hg)付近の波
長に中心をもつ狭いかまたは広いバンドを与える蛍光ラ
ンプ、水銀灯、金属添加灯およびアークランプがあげら
れる。
(モノクロマチツク)または多色(ポリクロマチツク)
のものでもよいし、非干渉性または干渉性のものであり
うる。そして高い効率のためには、これは増感剤の主吸
収バンドにその波長が厳密に相当しているべきであり、
そしてこれは増感剤の実質的比率のものを活性化させる
に充分な強度のものであるべきである。慣用の光源とし
ては405,436および546nm(Hg)付近の波
長に中心をもつ狭いかまたは広いバンドを与える蛍光ラ
ンプ、水銀灯、金属添加灯およびアークランプがあげら
れる。
干渉性光源はパルス化されたキセノン、アルゴンイオン
およびイオン化ネオンレーザーであつて、その発光が増
感剤の可視部吸収バンド内に人るかまたはこれとオーバ
ーラツプするものである。光感受性物質上に書くための
焼出し(プリントアウト)糸において広く有用な紫外線
および可視光線発生性陰極線管もまた本発明の組成物に
関連して有用である。一般にこれらは光エネルギーへの
電気エネルギー交換手段として紫外線または可視光線発
生性蛍光体内部コーテイングを包含し、そして光感受性
タ一ゲツトに放射を指向するための手段としての繊雄光
学面プレートを包含している。本発明を実施するための
最良の様式は例1に説明されている。
およびイオン化ネオンレーザーであつて、その発光が増
感剤の可視部吸収バンド内に人るかまたはこれとオーバ
ーラツプするものである。光感受性物質上に書くための
焼出し(プリントアウト)糸において広く有用な紫外線
および可視光線発生性陰極線管もまた本発明の組成物に
関連して有用である。一般にこれらは光エネルギーへの
電気エネルギー交換手段として紫外線または可視光線発
生性蛍光体内部コーテイングを包含し、そして光感受性
タ一ゲツトに放射を指向するための手段としての繊雄光
学面プレートを包含している。本発明を実施するための
最良の様式は例1に説明されている。
そこでは2−(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベ
ンジリデン)l−インダノンを加えた光重合性処方物が
501Z9/dm2のコーテイング重量でアルミニウム
プレート上にコーテイングされている。ポリビニルアル
コール含有層を光重合性層上に塗布し、そして製造され
たエレメントを真空ノレーム中で水銀灯光源に1倹様露
光せしめる。例1に記載の紫外線フイルターを光重合性
層上に置き、これを次いで露九させる。例1に記載のよ
うにして現像および水洗した後、石版印刷用プレートが
得られる。本発明の光市合性組成物はオフセツトおよび
平版印刷用プレート、エ業製図用フイルムならひに印刷
回路製造用または化学的ミルにおけるホトレジストとし
て、そしてはんだマスクとして有用である。
ンジリデン)l−インダノンを加えた光重合性処方物が
501Z9/dm2のコーテイング重量でアルミニウム
プレート上にコーテイングされている。ポリビニルアル
コール含有層を光重合性層上に塗布し、そして製造され
たエレメントを真空ノレーム中で水銀灯光源に1倹様露
光せしめる。例1に記載の紫外線フイルターを光重合性
層上に置き、これを次いで露九させる。例1に記載のよ
うにして現像および水洗した後、石版印刷用プレートが
得られる。本発明の光市合性組成物はオフセツトおよび
平版印刷用プレート、エ業製図用フイルムならひに印刷
回路製造用または化学的ミルにおけるホトレジストとし
て、そしてはんだマスクとして有用である。
印刷プレート適用においては、重?な使用は陽画光重合
体石版印刷プレートの陽画/陰画二重露光画像形成糸に
おいてである。この組成物はまた陽画的に動く光重合体
リスフイルムにおいてもまた有用である。更にその他の
使用はカラープルーフに適当な色分解陰画からの着色画
像の調製に対してである。これらエレメントから製造さ
れた像は基材への熱転写によるコピーの製造に使用する
ことができる。具体的な用途は当業者には明らかであろ
う。ホトレジスト適用においては、この組成物から製造
された薄いフイルムレジストがマイクロ回路の製造に有
用である。
体石版印刷プレートの陽画/陰画二重露光画像形成糸に
おいてである。この組成物はまた陽画的に動く光重合体
リスフイルムにおいてもまた有用である。更にその他の
使用はカラープルーフに適当な色分解陰画からの着色画
像の調製に対してである。これらエレメントから製造さ
れた像は基材への熱転写によるコピーの製造に使用する
ことができる。具体的な用途は当業者には明らかであろ
う。ホトレジスト適用においては、この組成物から製造
された薄いフイルムレジストがマイクロ回路の製造に有
用である。
レジストは溶媒可溶性であるかまたは水性現像性である
。はんだマスクは保護コーテイングであり、これは選択
的に印刷回路板表面の一部に適用されてはんだを板のパ
ツド部分に限定しそしCめつき操作および成分はんだづ
けの間の導体間の架僑形成を阻止する。はんだマスクは
またベースの銅導体の腐食を阻止または最小ならしめる
ように、そして隣接回路に対してある成分を絶縁させる
誘電体としても働く。本発明のアリーリリデンアリール
ケトン増感剤を含有する光重合性徂成物は、予期せざる
ことに改善された可視光線感受性を示す。
。はんだマスクは保護コーテイングであり、これは選択
的に印刷回路板表面の一部に適用されてはんだを板のパ
ツド部分に限定しそしCめつき操作および成分はんだづ
けの間の導体間の架僑形成を阻止する。はんだマスクは
またベースの銅導体の腐食を阻止または最小ならしめる
ように、そして隣接回路に対してある成分を絶縁させる
誘電体としても働く。本発明のアリーリリデンアリール
ケトン増感剤を含有する光重合性徂成物は、予期せざる
ことに改善された可視光線感受性を示す。
顕著な速度の増大は結果としてそれに関連するエネルギ
ーおよびコストの節約を生ずる。その埋由は、光重合性
エレメントの露光により低いエネルギーの露光光源が使
用でぎあるいは多数のエレメントがある与えられた時間
内に露光および現像できるからである。あるいはまた光
重合性層を既知の増感エレメントに対して通常であるよ
りも一層遠い距離に保たれた露光光源によつて露光させ
ることができる。このことは露光放射の調整を可能なら
しめるがこれは実質的に垂直の側面を有するハーフトー
ンドツト(中間調網点)の形成においては特に有利なも
のである。増感の有効性と組合さnた広い増感範囲は二
重露光法(すなわち第一のスペクトルの紫外部での像様
露光および特定のニトロ芳香族光阻害剤を使用した可視
スペクトル域での全体的露光)により有用な陽画重合体
像の形成を可能ならしめる。本発明を次の実施例により
説明するがここに?は重量基準である。
ーおよびコストの節約を生ずる。その埋由は、光重合性
エレメントの露光により低いエネルギーの露光光源が使
用でぎあるいは多数のエレメントがある与えられた時間
内に露光および現像できるからである。あるいはまた光
重合性層を既知の増感エレメントに対して通常であるよ
りも一層遠い距離に保たれた露光光源によつて露光させ
ることができる。このことは露光放射の調整を可能なら
しめるがこれは実質的に垂直の側面を有するハーフトー
ンドツト(中間調網点)の形成においては特に有利なも
のである。増感の有効性と組合さnた広い増感範囲は二
重露光法(すなわち第一のスペクトルの紫外部での像様
露光および特定のニトロ芳香族光阻害剤を使用した可視
スペクトル域での全体的露光)により有用な陽画重合体
像の形成を可能ならしめる。本発明を次の実施例により
説明するがここに?は重量基準である。
150mlのエタノ一ル中509(0.3785モノ(
ハ)のl]ンタノンおよび77.759の93%ジエチ
ルアミノ−2−メチルベンズアルテヒドの溶液を攪拌し
、そして94mlの25%水性水酸化ナトリウムの温溶
液(約30°C)を加えた。
ハ)のl]ンタノンおよび77.759の93%ジエチ
ルアミノ−2−メチルベンズアルテヒドの溶液を攪拌し
、そして94mlの25%水性水酸化ナトリウムの温溶
液(約30°C)を加えた。
この反応混合物を45分間熱還流させた。30分後に固
体分の沈澱が出現し始めた。
体分の沈澱が出現し始めた。
次いでこの混合物を約5℃に冷却し、そして沈澱を沢過
しそして石油エーテルで洗つた。風乾後、得られた固体
を洗浄物がPH7.Oとなるまで水洗した。洗つた沈澱
を80%水性エタノールから再結晶させると96.69
(80.170収率)の2−(4′−ジエチルアミノ2
′−メチルベンジリデン)−1−インダノン(M.p.
l33.5〜134.5イC)が得られた。その紫外ス
ペクトルおよびε値は表3に記載してある。構造は赤外
線および核磁気共鳴スペクトルにより確認された。光重
合性エレメント中の増感剤としてのこの化合物の有効性
を試,験するために次のストツク溶液を製造した。
しそして石油エーテルで洗つた。風乾後、得られた固体
を洗浄物がPH7.Oとなるまで水洗した。洗つた沈澱
を80%水性エタノールから再結晶させると96.69
(80.170収率)の2−(4′−ジエチルアミノ2
′−メチルベンジリデン)−1−インダノン(M.p.
l33.5〜134.5イC)が得られた。その紫外ス
ペクトルおよびε値は表3に記載してある。構造は赤外
線および核磁気共鳴スペクトルにより確認された。光重
合性エレメント中の増感剤としてのこの化合物の有効性
を試,験するために次のストツク溶液を製造した。
この物質(ま18.57%を固体分としC含有していた
。
。
509の試料をとり、そして前記で製造された増感剤0
,08259を0.17189の光阻害剤試料(3,4
−ジメトキシ−6−ニトロベンズアルデヒド)と共にそ
れに加えた。
,08259を0.17189の光阻害剤試料(3,4
−ジメトキシ−6−ニトロベンズアルデヒド)と共にそ
れに加えた。
この最終混合物を0.012インチ(0.30關)厚さ
のアルミニウムプレート上にスピンコーティング化た。
光感受性層上の最終コーテイング重量は50!F9/D
nl2であつた。次いでこの光感受性層をビニルピロリ
ドン/ビニルアセテートの混合物をその中に分散させた
完全加水分解ポリビニルアルコールの水性溶液を包含す
る10η/Dm2の層でオーバーコートした。このプレ
ートを乾燥した後、その表面の半分を黒色ポリエチレン
シートでおおつた。
のアルミニウムプレート上にスピンコーティング化た。
光感受性層上の最終コーテイング重量は50!F9/D
nl2であつた。次いでこの光感受性層をビニルピロリ
ドン/ビニルアセテートの混合物をその中に分散させた
完全加水分解ポリビニルアルコールの水性溶液を包含す
る10η/Dm2の層でオーバーコートした。このプレ
ートを乾燥した後、その表面の半分を黒色ポリエチレン
シートでおおつた。
次いで適当なターゲツトを未被覆側上に置き、そしてプ
レートを真空印刷フレーム中に入れた。次いでバーキ一
(Berkey)社製[アスコル](AscOr)16
01−40」光源を有する[アスコル]ライトインテグ
レータープレートメーカ一型式141512を使用して
38インチ(96.5藝)の距離で2000ワツト水銀
灯に像様露光(陽画的露光)した。露光は20単位であ
つた。次いで黒色ポリエチレンシートを除去しそして′
2階段くさびを予めプロツクした部分上に置いた。紫外
線フイルタ一(後述)をプレート上に置きそしてプレー
ト全体に100単位の露光を与えた。この最終露光はプ
ロツ′され−Cいた部分に陰画的露光を与え、そして他
の半分−ヒでは一連の陽画的な二露光を完成させた。次
いで露光したプレートを30秒間22゜Cで次の処方す
なわちの現像液中で現像した。
レートを真空印刷フレーム中に入れた。次いでバーキ一
(Berkey)社製[アスコル](AscOr)16
01−40」光源を有する[アスコル]ライトインテグ
レータープレートメーカ一型式141512を使用して
38インチ(96.5藝)の距離で2000ワツト水銀
灯に像様露光(陽画的露光)した。露光は20単位であ
つた。次いで黒色ポリエチレンシートを除去しそして′
2階段くさびを予めプロツクした部分上に置いた。紫外
線フイルタ一(後述)をプレート上に置きそしてプレー
ト全体に100単位の露光を与えた。この最終露光はプ
ロツ′され−Cいた部分に陰画的露光を与え、そして他
の半分−ヒでは一連の陽画的な二露光を完成させた。次
いで露光したプレートを30秒間22゜Cで次の処方す
なわちの現像液中で現像した。
次いで現像したプレートを流水下に洗い、その間像形成
部分を綿のパツドでしずかにこすつた。石版印刷プレー
トとして適当な高品質レリーフ像プレートが得られた。
陽画像および陰画像功にこのプレート上にあつた。陽画
的様式においては、第1階段は完全に未重合であり、一
方陰画的様式においては、階段13は像中でもつとも重
合の少ない階段であつた。本例で使用された紫外線フイ
ルタ一は次のようにして製造された。
部分を綿のパツドでしずかにこすつた。石版印刷プレー
トとして適当な高品質レリーフ像プレートが得られた。
陽画像および陰画像功にこのプレート上にあつた。陽画
的様式においては、第1階段は完全に未重合であり、一
方陰画的様式においては、階段13は像中でもつとも重
合の少ない階段であつた。本例で使用された紫外線フイ
ルタ一は次のようにして製造された。
この溶液(固体分18.35%)を約90分間撹拌した
。
。
紫外線吸収剤として2,2/−ヒドロキシ4−メトキシ
ーベンゾフエノンを加えて最終溶液が10%の紫外線吸
収剤と90%の重合体溶液とを含有するようにした。こ
の物質を0.004インチ(0.01CTIL)の樹脂
下引きポリエチレンテレフタレートフイルム上にコーテ
イングして紫外線吸収剤の0.00095インチ(0.
024朋)厚さホこれら増感剤を例1に記載と同−の光
感受性処方物中で試1験し、そしてここに記載のように
して;.とした。例2〜6 第1に記載の反応と同様な塩基触媒縮合反応において、
次の増感剤が製造された。
ーベンゾフエノンを加えて最終溶液が10%の紫外線吸
収剤と90%の重合体溶液とを含有するようにした。こ
の物質を0.004インチ(0.01CTIL)の樹脂
下引きポリエチレンテレフタレートフイルム上にコーテ
イングして紫外線吸収剤の0.00095インチ(0.
024朋)厚さホこれら増感剤を例1に記載と同−の光
感受性処方物中で試1験し、そしてここに記載のように
して;.とした。例2〜6 第1に記載の反応と同様な塩基触媒縮合反応において、
次の増感剤が製造された。
可視部吸収データは次の表3に記されている。コーテイ
ングおよびオーバーコーテイングを行ない、露光させそ
して現像させて次の.結果を得た。
ングおよびオーバーコーテイングを行ない、露光させそ
して現像させて次の.結果を得た。
これら試1験は、すべてが可視部増感剤であること、そ
してほとんどは例1に記載の適当な陽画/陰画石版印刷
プレートの製造において良好な性能を有することを示し
ている。例7 次の光重合性組成物を製造した。
してほとんどは例1に記載の適当な陽画/陰画石版印刷
プレートの製造において良好な性能を有することを示し
ている。例7 次の光重合性組成物を製造した。
これらの物質を充分に混合し、そして次いで100フイ
ート/分(30.48m/分)で0.004インチ(0
.01cTn)ポリエチレンテレフタレートフイルム支
持体の樹脂下引き側上に機械塗布した。
ート/分(30.48m/分)で0.004インチ(0
.01cTn)ポリエチレンテレフタレートフイルム支
持体の樹脂下引き側上に機械塗布した。
被膜を20『F(93.3℃)で乾燥させると約50〜
/Dm″のコーテイン重量の黒色光重合体層が得られた
。次の成分を含有する第2の光重合性組成物を製造した
。この組成物を充分にかきまぜてすべての成分を混合さ
せ、そしてこの混合物を30フイート/分(914.4
cTn/分)で第1の光重合体層に隣接させて塗布した
。
/Dm″のコーテイン重量の黒色光重合体層が得られた
。次の成分を含有する第2の光重合性組成物を製造した
。この組成物を充分にかきまぜてすべての成分を混合さ
せ、そしてこの混合物を30フイート/分(914.4
cTn/分)で第1の光重合体層に隣接させて塗布した
。
得られた層(約30η/Dm″)を220′F(104
.4℃)で乾燥させ、そして0.001インチ(0.0
025?)ポリエステルカバーシートをその上に積層さ
せた。この複合多層エレメントをカバーシートに密着さ
せた写真陽画像を通して60インチ(152.4cm)
の距離で4kWパルスキセノンアークに20秒間露光さ
せた。
.4℃)で乾燥させ、そして0.001インチ(0.0
025?)ポリエステルカバーシートをその上に積層さ
せた。この複合多層エレメントをカバーシートに密着さ
せた写真陽画像を通して60インチ(152.4cm)
の距離で4kWパルスキセノンアークに20秒間露光さ
せた。
次いで陽画像を除去し、そしてエレメントを400nm
以下のすべての光を吸収するカツトオフフイルタ一を通
して同一光源に20秒露光させた。次いでカバーシート
を除去し、そしてフイルムを米国特許出願第830,4
77号明細書に記載の自動処理機中で7フイート/分(
353.36c/分)および72ーF(2242で処理
して原画の陽画像の正確な複製を生成させた。例8〜3
1 例1に記載と同様にして次の増感剤が製造された。
以下のすべての光を吸収するカツトオフフイルタ一を通
して同一光源に20秒露光させた。次いでカバーシート
を除去し、そしてフイルムを米国特許出願第830,4
77号明細書に記載の自動処理機中で7フイート/分(
353.36c/分)および72ーF(2242で処理
して原画の陽画像の正確な複製を生成させた。例8〜3
1 例1に記載と同様にして次の増感剤が製造された。
試料12,13および14の化合物は酸触媒縮合反応に
より製造された。
より製造された。
これらの叶視部吸収データは表3に記載されている。増
感剤8〜31を固体分2.72重量?の量で例1の光阻
害剤を使用する下記の処方中で試験した。
感剤8〜31を固体分2.72重量?の量で例1の光阻
害剤を使用する下記の処方中で試験した。
各試料を0.002インチ(0.005cm)ドクター
ナイフを使用して0.004インチ(0.01(11)
ポリエチレンテレフタレートフイルムを支持体の樹脂下
引き側にコーテイングし、そして180のF(82℃)
および4フイート/分(121.9CTfL/分)でこ
の層上に0.001インチ(0.0025cIn)ポリ
エチレンテレフタレートカバーシートを積層させた。各
試料を例1に記載のようにしてそしてその例に記載のも
のと同一の紫外線フイルタ一を使用して露光させた。カ
バーシートを除去しそして像を22℃のNa2CO3/
NaHCO3(90/10)水性溶液(3%固体分)中
で5秒間現像した。露光の結果は次の表2に示されてい
る。これらの試験は、これら増感剤がマスターからの適
当な陽画/陰画像の製造に有用であることを示している
。
ナイフを使用して0.004インチ(0.01(11)
ポリエチレンテレフタレートフイルムを支持体の樹脂下
引き側にコーテイングし、そして180のF(82℃)
および4フイート/分(121.9CTfL/分)でこ
の層上に0.001インチ(0.0025cIn)ポリ
エチレンテレフタレートカバーシートを積層させた。各
試料を例1に記載のようにしてそしてその例に記載のも
のと同一の紫外線フイルタ一を使用して露光させた。カ
バーシートを除去しそして像を22℃のNa2CO3/
NaHCO3(90/10)水性溶液(3%固体分)中
で5秒間現像した。露光の結果は次の表2に示されてい
る。これらの試験は、これら増感剤がマスターからの適
当な陽画/陰画像の製造に有用であることを示している
。
ほとんどが優れた性能を示した。例32次のようにして
例1の増感剤を製造した。
例1の増感剤を製造した。
31のエタノール中に10009(7.57モノ(ハ)
の1−インダノンおよび15579の93%4ジエチル
アミノ−2−メチルベンズアルデヒドの溶液を迅速に攪
拌混入した。
の1−インダノンおよび15579の93%4ジエチル
アミノ−2−メチルベンズアルデヒドの溶液を迅速に攪
拌混入した。
この溶敲の温度は12℃であつた。1880m1の22
℃の25%NaOH溶液(6259Na0Hおよび25
00(1とするに必要な量の水)を10分間かけて加え
た。
℃の25%NaOH溶液(6259Na0Hおよび25
00(1とするに必要な量の水)を10分間かけて加え
た。
反応は発熱性でありそして41℃の温度に達した。30
分後には温度は38℃に下がつた。
分後には温度は38℃に下がつた。
この時点でその温度をトルエン−ドライアイス浴中で5
゜に下げた。得られた固体沈澱をF過により回収しそし
て次いで5れCのエタノール31で洗つた。次いでフイ
ルターケーキを31の5゜Cエタノールに再懸濁させそ
して再度ろ過した。この段階をその固体が3〜41の冷
水で4回洗われるまでくりかえした。水洗をその済液が
中件PHとなるまで続けた。次いで生成物を完全に乾燥
させると19779の生成物が得られた。これは理論収
量の85.5%であつた。最終生成物を、融点、UV.
IR、およびNMRスペクトルにより同定しそしてその
構造を確認した。得られる生成物の有効性は、例1の記
載と同様に試験された。同等の結果が得られた。例33
ソトn)〜l病号?木νト玄口Pけ4レn五く制Z4卜
犬41ナーーこれら組成物(14.95%固体分)を充
分に混合し、次いで例8〜31に記載のようにポリエチ
レンテレフタレートフイルム支持体上に塗布しそしてこ
の複合構造体に例1の3V゛2階段くさびおよびフイル
タ一を通して陽画的露光を与え、そして例8・〜31に
記載のようにして現像した。
゜に下げた。得られた固体沈澱をF過により回収しそし
て次いで5れCのエタノール31で洗つた。次いでフイ
ルターケーキを31の5゜Cエタノールに再懸濁させそ
して再度ろ過した。この段階をその固体が3〜41の冷
水で4回洗われるまでくりかえした。水洗をその済液が
中件PHとなるまで続けた。次いで生成物を完全に乾燥
させると19779の生成物が得られた。これは理論収
量の85.5%であつた。最終生成物を、融点、UV.
IR、およびNMRスペクトルにより同定しそしてその
構造を確認した。得られる生成物の有効性は、例1の記
載と同様に試験された。同等の結果が得られた。例33
ソトn)〜l病号?木νト玄口Pけ4レn五く制Z4卜
犬41ナーーこれら組成物(14.95%固体分)を充
分に混合し、次いで例8〜31に記載のようにポリエチ
レンテレフタレートフイルム支持体上に塗布しそしてこ
の複合構造体に例1の3V゛2階段くさびおよびフイル
タ一を通して陽画的露光を与え、そして例8・〜31に
記載のようにして現像した。
次の結果が得られた。用した場合(フイルムC)の独特
の利点を示している。
の利点を示している。
本例は再に本発明の増感剤がそれ自体は開始剤ではない
ということ(対照フイルムB)、そして本発明の増感剤
を除外した場合(対照フイルムA)には比較的低い速度
の光感受性組成物しか得られないことを示している。例
34 次の光重合性組成物を製造した。
ということ(対照フイルムB)、そして本発明の増感剤
を除外した場合(対照フイルムA)には比較的低い速度
の光感受性組成物しか得られないことを示している。例
34 次の光重合性組成物を製造した。
この組成物を完全に混合し、そして例8〜31に記載の
ようにしてポリエチレンテレフタレートフイルム支持体
上に塗布した。
ようにしてポリエチレンテレフタレートフイルム支持体
上に塗布した。
ポリエチレンテレフタレートカバーシートをその上に、
例8〜31に記載のようにして積層させ、そしてその複
合構造体に3V了階段くさびを通した陽画的露光および
例1のフイルタ一を使用した全体的露光を与えそして例
8〜31に記載のようにして現像した。次の結果が得ら
れた。これら実施例の増感剤は、光阻害剤が存在しない
以外は例1に開示されたと同一の光重合性処方において
試験された。
例8〜31に記載のようにして積層させ、そしてその複
合構造体に3V了階段くさびを通した陽画的露光および
例1のフイルタ一を使用した全体的露光を与えそして例
8〜31に記載のようにして現像した。次の結果が得ら
れた。これら実施例の増感剤は、光阻害剤が存在しない
以外は例1に開示されたと同一の光重合性処方において
試験された。
溶液を例1に記載のようにしてコーテイングおよびオー
バーコーテイングした。例1の記載と同一の光源を使用
して可視部重合露光のみを与えた。プレートは例1の記
載のようにして現像された。これら試料は高速(高感度
)陰画作用性石版印刷プレートにおけるこれら可視部増
感剤の有用性を示している。
バーコーテイングした。例1の記載と同一の光源を使用
して可視部重合露光のみを与えた。プレートは例1の記
載のようにして現像された。これら試料は高速(高感度
)陰画作用性石版印刷プレートにおけるこれら可視部増
感剤の有用性を示している。
例37〜44
これら実施例の増感剤は、光1泪害剤が存在しない以外
は例8〜31におけると同一の光感受性処方中で試験さ
れた。
は例8〜31におけると同一の光感受性処方中で試験さ
れた。
溶液を例8〜31に記載のようにしてコーテイングし、
そして積層させた。例8〜31におけると同一の光源を
使用して可視部重合露光のみを与えた。フイルムはこれ
また例8〜31の記載のようにして現像された。これら
実施例は高速フイルムにおけるこれら可視部材感剤の有
用性を説明している。
そして積層させた。例8〜31におけると同一の光源を
使用して可視部重合露光のみを与えた。フイルムはこれ
また例8〜31の記載のようにして現像された。これら
実施例は高速フイルムにおけるこれら可視部材感剤の有
用性を説明している。
例4
0.001インチ(0.025nm)のポリエチレンテ
レフタレート支持体上にメチレンクロリド中11.5%
固体分の次の溶液を40m9/Dm”でコーテイングし
、そして0,005インチ(05127nm)厚さのデ
ユポンニ重つやけし処理製図用フイルムに積層させるこ
とによつてフイルムを製造した。
レフタレート支持体上にメチレンクロリド中11.5%
固体分の次の溶液を40m9/Dm”でコーテイングし
、そして0,005インチ(05127nm)厚さのデ
ユポンニ重つやけし処理製図用フイルムに積層させるこ
とによつてフイルムを製造した。
なお上記ABタイプ分散剤においてAセグメノトトはト
リイソシアネート(DesmOdur.N)であり、そ
してBセグメントはMW9,OOOのメタクリル酸/2
−エチルヘキシルアクリレート(58/42)共重合体
である。
リイソシアネート(DesmOdur.N)であり、そ
してBセグメントはMW9,OOOのメタクリル酸/2
−エチルヘキシルアクリレート(58/42)共重合体
である。
このフイルムをGE高強度可視蛍光バルブ+F54Tl
7SPD(εMax425nm)を使用してコンベア上
で5フイート/分(1.52m/分)すなわち2.2秒
の露光時間でフイルムをバルブの側を通過させることに
よつて露光させた。
7SPD(εMax425nm)を使用してコンベア上
で5フイート/分(1.52m/分)すなわち2.2秒
の露光時間でフイルムをバルブの側を通過させることに
よつて露光させた。
カバーシートを剥離して製図用フイルム支持体上に陽画
像を残留させ、重合された像部分をカバーシートに付着
させた。本例は、工業製図用フイルムにおける例2の増
感剤の有用性を示している。例46 次の成分を混合することによつて光重合性溶液を製造し
た。
像を残留させ、重合された像部分をカバーシートに付着
させた。本例は、工業製図用フイルムにおける例2の増
感剤の有用性を示している。例46 次の成分を混合することによつて光重合性溶液を製造し
た。
グおよびオーバーコーテイングした。
例1に使用されたものと同一の光源を使用して町視部重
合露光のみを与えた。プレートを例1におけるようにし
て現像したがしかし現像液中60秒含浸を使用した。本
例はλ〉480nmで像形成させることのできる陰画と
して働く高速(高感度)石版印刷プレートを例示してい
る。
合露光のみを与えた。プレートを例1におけるようにし
て現像したがしかし現像液中60秒含浸を使用した。本
例はλ〉480nmで像形成させることのできる陰画と
して働く高速(高感度)石版印刷プレートを例示してい
る。
例47〜48
例1に記載の操作と同様にして次の増感剤を製造した。
これら増感剤を例8〜31に記載の処方中で試験し、そ
してそこに記載のようにしてコーテイングし、積層し、
露光させそして現像(ただし像現像時間は異なる)した
。
してそこに記載のようにしてコーテイングし、積層し、
露光させそして現像(ただし像現像時間は異なる)した
。
現像時間はその結果と共に次に示されている。これらの
光重合性組成物をポリエチレンテレフタレートフイルム
上にコーテイングしそして例7に記載のようにして乾燥
された。
光重合性組成物をポリエチレンテレフタレートフイルム
上にコーテイングしそして例7に記載のようにして乾燥
された。
次いで第2の組の5個の透明光重合性組成物を例7に記
載のようにして下記のように単量体成分を変化させて次
の成分から製造した。
載のようにして下記のように単量体成分を変化させて次
の成分から製造した。
この試1験は、これら化合物がマスターからの適当な陽
画/陰画像の製造に極めて有用であることを示している
。
画/陰画像の製造に極めて有用であることを示している
。
例49〜53
下記のように単量体化合物のみを変化させる以外は例7
に記載のようにして5種の黒色光重合性組成物(下層用
)を製造した。
に記載のようにして5種の黒色光重合性組成物(下層用
)を製造した。
これらの透明光束合性組成物を例7に記載のようにして
第1の光重合体層に隣接させてコーテイングした。
第1の光重合体層に隣接させてコーテイングした。
各多層エレメントを例7に記載のようにして露光させそ
して処理すると、原画陽画像の正確な複製が生成した。
して処理すると、原画陽画像の正確な複製が生成した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記すなわち (1)常圧で100℃以上の沸点を有し、そして光開始
された付加重合によつて高分子量重合体を形成しうる少
くとも1種の非気体状エチレン性不飽和化合物、(2)
単共有結合によつて一緒に結合された2個のロフィン基
より成る式くとも1種の2,4,5−トリアリールイミ
ダゾリル二量体、および(3)増感作用量の式▲数式、
化学式、表等があります▼ 〔式中A、B、D、Eは炭素原子であるかまたは1個は
単独に窒素原子であつてもよく、R_1はH、OHまた
はCH_3Oであり、R_2はH、OH、CH_3Oま
たはN(R_7)_2であり、R_3は、H、OHまた
はCH_3Oであり、aは0または1であり、Zは▲数
式、化学式、表等があります▼、CHOH、▲数式、化
学式、表等があります▼、■CH_2■_b (式中bは1、2または3である)、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、(式中R′はHまたはフェニルである)であるかまた
は、Zが▲数式、化学式、表等があります▼でありそし
てR_4が−O−または▲数式、化学式、表等がありま
す▼でありそしてaが0の場合にはZはR_4と結合さ
れており、 R_4はH、CH_3、OH、CH_3Oであり、R_
5はHであるかまたはR_5+R_7が−CH_2CH
_2−、−CH_2CH_2CH_2−または−O−C
H_2CH_2−であり、R_6はHであるかまたはR
_6+R_7が−CH_2CH_2−、−CH_2CH
_2CH_2−または−O−CH_2CH_2−であり
、そしてR_7はCH_3、−(CH_2)_n−CH
_3(式中nは1〜5である)、−CH_2CH_2−
Cl、−CH_2CH_2OHまたはCH_2CH_2
OCH_3である〕、B ▲数式、化学式、表等があり
ます▼ 〔式中A、B、Dは炭素原子であるか、または1個は単
独に窒素原子であつてもよく、R_1はH、CH_3、
−OCH_2CH_2OR(式中RはH、CH_3また
は−CH_2CH_2OR′でそのR′がCH_3また
はCH_3CH_2−である)であり、R_2はH、C
H_3、OHまたはCH_3Oであり、R_3はH、O
H、CH_3O、CH_3、F、Br、CNまたはN(
¥R_1_0¥)_2であり、R_2+R_3は−O−
CH_2−O−であり、R_4はH、CH_3またはC
H_3Oであり、R_5はH、CH_3、−OCH_2
CH_2OR(式中RはH、CH_3または−CH_2
CH_2OR′でそのR′がCH_3またはCH_3C
H_2−である)であり、R_6はH、CH_3または
フェニルであり、R_7はH、CH_3、OHまたはC
H_3Oであり、R_8はHであり、R_8+R_1_
0は−CH_2CH_2−、−CH_2CH_2CH_
2−または−OCH_2CH_2であり、R_9はHで
ありそしてまたR_9+R_1_0は−CH_2CH_
2−、−CH_2CH_2CH_2−または−OCH_
2CH_2−であり、そしてR_1_0はCH_3また
は■CH_2■_nCH_3(式中nは1〜5である)
である〕、または▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Gは▲数式、化学式、表等があります▼、−O−
または−S−であり、R_1はH、CH_3または−O
CH_3であり、そしてR_2はCH_3または−CH
_2CH_3である)を有し且つ350〜550nmの
範囲に最大吸収を有するアリーリリデンアリールケトン
化合物の混合物を包含することを特徴とする、光重合性
組成物。 アリーリリデンアリールケトン化合物が式C ▲数式、
化学式、表等があります▼ 〔式中R_1はH、OHまたはCH_3O−でありR_
2はH、OHまたはCH_3O−であり、R_3はH、
OHまたはCH_3OであるがただしR_1、R_2ま
たはR_3の1個がOHである場合にはその残余はHま
たはCH_3O−ではなくてはならず、Zは▲数式、化
学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、■CH_2■_a(式中aは1、2または3で
ある)、▲数式、化学式、表等があります▼(式中R′
はHまたはφである)であるかまたはZが▲数式、化学
式、表等があります▼でありそしてR_4が−O−また
は▲数式、化学式、表等があります▼の場合にはZはR
_4と結合しており、R_4は、H、CH_3、OHま
たはCH_3O−であるがただしR_1、R_2または
R_3の一つがOHの場合にはR_4はH、CH_3ま
たはCH_3O−の一つでなくてはならず、R_5はH
であるかまたはR_5+R_7が−CH_2CH_2−
、−CH_2CH_2CH_2−または−O−CH_2
CH_2−であり、R_6はHであるかまたはR_6+
R_7が−CH_2CH_2−、−CH_2CH_2C
H_2−または−O−CH_2CH_2−であり、R_
7はCH_3−またはCH_3CH_2−である〕また
はB ▲数式、化学式、表等があります▼ R_1はHまたはCH_3であり、 R_2はH、OH、CH_3またはCH_3Oであり、
R_3はH、CH_3、OHまたはCH_3Oであり、
R_2+R_3は−O−CH_2−O−であり、R_4
はH、CH_3−またはCH_3O−であり、R_5は
HまたはCH_3であり、R_6はHまたはCH_3で
あり、 R_7はH、CH_3OHまたはCH_3Oであるがた
だしR_2、R_3およびR_7の1個がOHである場
合にはその残余は、H、CH_3またはCH_3O−で
なくてはならず、R_8はHであるかまたはR_8+R
_1_0は−CH_2CH_2−、−CH_2CH_2
CH_2−または−O−CH_2CH_2−であり、R
_9はHでありR_9+R_1_0は−CH_2CH_
2、−CH_2CH_2CH_2−または−O−CH_
2CH_2−であり、R_1_0はCH_3−またはC
H_3CH_2−である〕のものであることを特徴とす
る、前記第1項記載の光重合性組成物。 3 光重合性組成物が更に、(4)少くとも1種の高分
子量有機重合体結合剤を含有しており、そしてエチレン
性不飽和化合物および結合剤がそれぞれ3.0〜100
および0〜97重量部の相対量で存在していることを特
徴とする、前記第1項または第2項記載の光重合性組成
物。 4 2,4,5−トリアリールイミダゾリル二量体がエ
チレン性不飽和化合物と結合剤との合計重量100重量
部当り0.01〜20.0重量部の量で存在しているこ
とを特徴とする、前記第1〜3項のいずれかに記載の光
重合性組成物。 5 アリーリリデンアリールケトン化合物がエチレン性
不飽和化合物と結合剤との合計重量100重量部当り0
.001〜15.0重量部の量で存在していることを特
徴とする、前記第1〜4項のいずれかに記載の光重合性
組成物。 6 アリーリリデンアリールケトン化合物が2−(4′
−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン)−1−
インダノンであることを特徴とする、前記第1〜5項の
いずれかに記載の光重合性組成物。 7 アリーリリデンアリールケトン化合物が2−(4′
−ジエチルアミノ−2′−メトキシベンジリデン)−1
−インダノンであることを特徴とする、前記第1〜5項
のいずれかに記載の光重合性組成物。 8 アリーリリデンアリールケトン化合物が2−(9′
−ジユロリリデン)−1−インダノンであることを特徴
とする、前記第1〜5項のいずれかに記載の光重合性組
成物。 9 エチレン性不飽和化合物がトリメチロールプロパン
トリアクリレートであることを特徴とする、前記第1〜
8項のいずれかに記載の光重合性組成物。 10 エチレン性不飽和化合物がテトラエチレングリコ
ールジメタクリレートであることを特徴とする、前記第
1〜8項のいずれかに記載の光重合性組成物。 11 エチレン性不飽和化合物がビスフェノールAおよ
びエピクロロヒドリンのメタクリル化重合体状エポキシ
樹脂であることを特徴とする、前記第1〜8項のいずれ
かに記載の光重合性組成物。 12 重合体結合剤がメチルメタクリレート/メタクリ
ル酸共重合体であることを特徴とする、前記第3〜11
項のいずれかに記載の光重合性組成物。 13 2種の重合体結合剤を存在せしめ、その一つがス
チレン/マレイン酸無水物の共重合体であり、そして第
2のものがエチルアクリレート/メチルメタクリレート
/アクリル酸のターポリマーであることを特徴とする、
前記第3〜11項のいずれかに記載の光重合性組成物。 14 エチレン性不飽和化合物がトリメチロールプロパ
ントリアクリレートであり、重合体結合剤がメチルメタ
クリレート/メタクリル酸共重合体であり、2,4,5
−トリアリールイミダゾリル二量体がビス(2−o−ク
ロロフエニル−4,5−ビスフェニル)イミダゾールで
あり、そしてアリーリリデンアリールケトンが2−(4
′−ジエチルアミノ−2′−メチルベンジリデン)−1
−インダノンであることを特徴とする、前記第3項記載
の光重合性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/903,947 US4162162A (en) | 1978-05-08 | 1978-05-08 | Derivatives of aryl ketones and p-dialkyl-aminoarylaldehydes as visible sensitizers of photopolymerizable compositions |
US000000903947 | 1978-05-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54155292A JPS54155292A (en) | 1979-12-07 |
JPS5928329B2 true JPS5928329B2 (ja) | 1984-07-12 |
Family
ID=25418298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54056839A Expired JPS5928329B2 (ja) | 1978-05-08 | 1979-05-08 | 光重合性組成物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4162162A (ja) |
EP (1) | EP0005274B1 (ja) |
JP (1) | JPS5928329B2 (ja) |
BR (1) | BR7902623A (ja) |
CA (1) | CA1131395A (ja) |
DE (1) | DE2966543D1 (ja) |
Cited By (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1621929A2 (en) | 2004-07-29 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition comprising a sensitising dye |
EP1640805A1 (en) | 2004-09-24 | 2006-03-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
EP1710627A1 (en) | 2005-03-28 | 2006-10-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
EP1755002A2 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate |
EP1762896A2 (en) | 2005-09-09 | 2007-03-14 | FUJIFILM Corporation | Method of producing photosensitive planographic printing plate |
EP1930770A2 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Imaging recording material and novel compound |
EP1939692A2 (en) | 2006-12-28 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
EP1939687A2 (en) | 2006-12-26 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP1947514A2 (en) | 2007-01-17 | 2008-07-23 | FUJIFILM Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
EP1975710A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
EP1975708A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP1975706A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP1975707A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition and planographic printing plate precursor |
EP2006738A2 (en) | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP2039509A1 (en) | 2007-09-18 | 2009-03-25 | FUJIFILM Corporation | Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor |
EP2042312A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Processing method of lithographic printing plate precursor |
EP2042924A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate |
EP2042311A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
EP2042923A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Image-forming method and lithographic printing plate precursor |
EP2042928A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
EP2045662A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-08 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2070696A1 (en) | 2007-12-10 | 2009-06-17 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2078984A1 (en) | 2008-01-11 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
EP2090933A1 (en) | 2008-02-05 | 2009-08-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method |
EP2101218A1 (en) | 2008-03-10 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2105800A2 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor |
EP2105797A1 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
WO2009119610A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
WO2009119687A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法 |
EP2108999A1 (en) | 2005-07-25 | 2009-10-14 | Fujifilm Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2131239A1 (en) | 2008-05-29 | 2009-12-09 | Fujifilm Corporation | Processing liquid for lithographic printing plate development and method of producing lithographic printing plates |
WO2010021364A1 (ja) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2159640A1 (en) | 2008-08-29 | 2010-03-03 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2168767A1 (en) | 2008-09-24 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
Families Citing this family (159)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4268667A (en) * | 1980-04-21 | 1981-05-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones based on 9,10-dihydro-9,10-ethanoanthracene and p-dialkyl-aminoaryl aldehydes as visible sensitizers for photopolymerizable compositions |
DE3162597D1 (en) * | 1980-04-21 | 1984-04-19 | Du Pont | Derivatives of aryl ketones as sensitizers of photopolymerizable compounds for the visible spectral range, and photopolymerizable compositions comprising the said sensitizers |
US4351893A (en) * | 1980-12-31 | 1982-09-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Derivatives of aryl ketones as visible sensitizers of photopolymerizable compositions |
JPS57188040A (en) * | 1981-05-15 | 1982-11-18 | Toshiba Corp | Electrophographic organic photoconductive composition |
US4477556A (en) * | 1982-08-18 | 1984-10-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Acidic o-nitroaromatics as photoinhibitors of polymerization in positive working films |
US4454218A (en) * | 1982-09-13 | 1984-06-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | N-Alkylindolylidene and N-alkylbenzo-thiazolylidene alkanones as sensitizers for photopolymer compositions |
JPS5993443A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-29 | Sekisui Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
GB8323291D0 (en) * | 1983-08-31 | 1983-10-05 | Zyma Sa | Flavanone and thioflavanone derivatives |
US4592816A (en) | 1984-09-26 | 1986-06-03 | Rohm And Haas Company | Electrophoretic deposition process |
DE3681366D1 (de) | 1985-07-31 | 1991-10-17 | Du Pont | Optische beschichtungszusammensetzung. |
EP0243159A3 (en) * | 1986-04-22 | 1988-11-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable compositions |
US4732831A (en) * | 1986-05-01 | 1988-03-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Xeroprinting with photopolymer master |
US4863968A (en) * | 1987-04-09 | 1989-09-05 | Merrell Dow Pharmaceuticals Inc. | Methods of treating gout with chalcone derivatives |
US4753965A (en) * | 1987-04-09 | 1988-06-28 | Merrell Dow Pharmaceuticals, Inc. | Method of treating multiple sclerosis with chalcone derivatives |
US4904697A (en) * | 1987-04-09 | 1990-02-27 | Merrell Dow Pharmaceuticals Inc. | Controlling the growth of certain tumor tissue with chalcone derivatives |
JP2538992B2 (ja) * | 1987-07-21 | 1996-10-02 | 三菱化学株式会社 | 光重合性組成物 |
US4859551A (en) * | 1987-11-04 | 1989-08-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing positive and negative images using photohardenable electrostatic master |
DE3918105A1 (de) * | 1988-06-02 | 1989-12-14 | Toyo Boseki | Photopolymerisierbare zusammensetzung |
DE68916332T2 (de) * | 1988-07-28 | 1994-12-08 | Du Pont | Bei längeren Wellenlängen wirksamer Photopolymerisations- sensibilisator. |
US4987230A (en) * | 1988-07-28 | 1991-01-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerization sensitizers active at longer wavelengths |
US4917977A (en) * | 1988-12-23 | 1990-04-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Visible sensitizers for photopolymerizable compositions |
JP2775880B2 (ja) * | 1989-08-21 | 1998-07-16 | ブラザー工業株式会社 | 転写記録媒体 |
US5112721A (en) * | 1990-01-29 | 1992-05-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions containing sensitizer mixtures |
JP2550756B2 (ja) * | 1990-06-27 | 1996-11-06 | 日立化成工業株式会社 | 非線形光学材料および非線形光学素子 |
US5514521A (en) * | 1990-08-22 | 1996-05-07 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
JP2871181B2 (ja) * | 1991-07-09 | 1999-03-17 | ブラザー工業株式会社 | 光硬化型組成物 |
US5204467A (en) * | 1991-12-20 | 1993-04-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Visible photosensitizers for photopolymerizable compositions |
US5256520A (en) * | 1991-12-20 | 1993-10-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Visible photosensitizers for photopolymerizable compositions |
JP3141517B2 (ja) | 1992-05-14 | 2001-03-05 | ブラザー工業株式会社 | 光硬化型組成物 |
US5643356A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-01 | Kimberly-Clark Corporation | Ink for ink jet printers |
US5721287A (en) | 1993-08-05 | 1998-02-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of mutating a colorant by irradiation |
US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
US6017471A (en) | 1993-08-05 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants and colorant modifiers |
US5773182A (en) | 1993-08-05 | 1998-06-30 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of light stabilizing a colorant |
US5700850A (en) | 1993-08-05 | 1997-12-23 | Kimberly-Clark Worldwide | Colorant compositions and colorant stabilizers |
US5865471A (en) | 1993-08-05 | 1999-02-02 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photo-erasable data processing forms |
US6017661A (en) | 1994-11-09 | 2000-01-25 | Kimberly-Clark Corporation | Temporary marking using photoerasable colorants |
US5733693A (en) | 1993-08-05 | 1998-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for improving the readability of data processing forms |
CA2120838A1 (en) | 1993-08-05 | 1995-02-06 | Ronald Sinclair Nohr | Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation |
US6211383B1 (en) | 1993-08-05 | 2001-04-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Nohr-McDonald elimination reaction |
US5645964A (en) | 1993-08-05 | 1997-07-08 | Kimberly-Clark Corporation | Digital information recording media and method of using same |
US5607816A (en) * | 1993-11-01 | 1997-03-04 | Polaroid Corporation | On-press developable lithographic printing plates with high plasticizer content photoresists |
ATE195590T1 (de) | 1994-06-22 | 2000-09-15 | Ciba Sc Holding Ag | Positiv-photoresist |
US5739175A (en) | 1995-06-05 | 1998-04-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer |
US5685754A (en) | 1994-06-30 | 1997-11-11 | Kimberly-Clark Corporation | Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor |
US6242057B1 (en) | 1994-06-30 | 2001-06-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition and applications therefor |
US6071979A (en) | 1994-06-30 | 2000-06-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor |
US5557308A (en) | 1994-07-08 | 1996-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet print head photoresist layer having durable adhesion characteristics |
JPH08101498A (ja) | 1994-08-03 | 1996-04-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
US5738974A (en) | 1994-09-05 | 1998-04-14 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate |
US6008268A (en) | 1994-10-21 | 1999-12-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor |
US5725970A (en) * | 1994-11-07 | 1998-03-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Broad band reflection holograms and a dry process for making same |
US5578412A (en) * | 1994-12-20 | 1996-11-26 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Photosensitive films having a thermally sensitive material containing layer and process for using the same |
JP3442176B2 (ja) | 1995-02-10 | 2003-09-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JP3400586B2 (ja) * | 1995-02-10 | 2003-04-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US5798015A (en) | 1995-06-05 | 1998-08-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition |
RU2170943C2 (ru) | 1995-06-05 | 2001-07-20 | Кимберли-Кларк Уорлдвайд, Инк. | Новые прекрасители |
US5786132A (en) | 1995-06-05 | 1998-07-28 | Kimberly-Clark Corporation | Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color |
US5849411A (en) | 1995-06-05 | 1998-12-15 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition |
US5747550A (en) | 1995-06-05 | 1998-05-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material |
US5811199A (en) | 1995-06-05 | 1998-09-22 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Adhesive compositions containing a photoreactor composition |
BR9609295A (pt) | 1995-06-28 | 1999-05-18 | Kimberly Clark Co | Novas substâncias corantes e modificadores de substância corante |
DE69524589D1 (de) | 1995-08-08 | 2002-01-24 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Bildung von metallischen Bildern |
EP0762214A1 (en) | 1995-09-05 | 1997-03-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Photosensitive element comprising an image forming layer and a photopolymerisable layer |
US5753414A (en) * | 1995-10-02 | 1998-05-19 | Macdermid Imaging Technology, Inc. | Photopolymer plate having a peelable substrate |
US5855655A (en) | 1996-03-29 | 1999-01-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US5782963A (en) | 1996-03-29 | 1998-07-21 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US6099628A (en) | 1996-03-29 | 2000-08-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
CA2210480A1 (en) | 1995-11-28 | 1997-06-05 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Improved colorant stabilizers |
DE69620723T2 (de) | 1995-12-22 | 2002-12-05 | Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo | Fotopolymerisierbare Zusammensetzung für einen Farbfilter, Farbfilter und Flüssigkristallanzeigevorrichtung |
JPH09218514A (ja) * | 1996-02-09 | 1997-08-19 | Brother Ind Ltd | 光硬化型組成物及び感光性カプセル |
US5891229A (en) | 1996-03-29 | 1999-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorant stabilizers |
US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
US5874197A (en) * | 1997-09-18 | 1999-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thermal assisted photosensitive composition and method thereof |
US6162810A (en) * | 1997-11-17 | 2000-12-19 | The Regents Of The University Of California | Inadone and tetralone compounds for inhibiting cell proliferation |
JPH11184084A (ja) | 1997-12-22 | 1999-07-09 | Brother Ind Ltd | 速硬化性感光性組成物及び記録用シート |
JP2002517523A (ja) | 1998-06-03 | 2002-06-18 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 新規な光開始剤およびその利用 |
WO1999063006A2 (en) | 1998-06-03 | 1999-12-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplasts produced by microemulsion technology and inks for ink jet printing |
JP2002520470A (ja) | 1998-07-20 | 2002-07-09 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 改良されたインクジェットインク組成物 |
ES2263291T3 (es) | 1998-09-28 | 2006-12-01 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Quelatos que comprenden grupos quinoides como fotoiniciadores. |
US6368396B1 (en) | 1999-01-19 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
SG78412A1 (en) | 1999-03-31 | 2001-02-20 | Ciba Sc Holding Ag | Oxime derivatives and the use thereof as latent acids |
US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
EP1739484B1 (en) * | 2000-04-19 | 2011-08-24 | AGFA Graphics NV | Photosensitive lithographic printing plate and method for making a prinitng plate. |
KR100772772B1 (ko) | 2000-06-19 | 2007-11-01 | 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. | 신규한 광개시제 및 그의 용도 |
US6376148B1 (en) | 2001-01-17 | 2002-04-23 | Nanotek Instruments, Inc. | Layer manufacturing using electrostatic imaging and lamination |
AU2002306752B2 (en) | 2001-03-30 | 2008-10-16 | The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Materials, methods, and uses for photochemical generation of acids and/or radical species |
US7344970B2 (en) | 2002-04-11 | 2008-03-18 | Shipley Company, L.L.C. | Plating method |
US7303854B2 (en) * | 2003-02-14 | 2007-12-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Electrode-forming composition for field emission type of display device, and method using such a composition |
US20050037278A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-02-17 | Jun Koishikawa | Photosensitive thick-film paste materials for forming light-transmitting electromagnetic shields, light-transmitting electromagnetic shields formed using the same, and method of manufacture thereof |
US7105588B2 (en) * | 2003-10-10 | 2006-09-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Screen printable hydrogel for medical applications |
US7144676B2 (en) * | 2004-02-06 | 2006-12-05 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Imaging compositions and methods |
US7977026B2 (en) * | 2004-02-06 | 2011-07-12 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Imaging methods |
US20050175941A1 (en) * | 2004-02-06 | 2005-08-11 | Rohm And Hass Electronic Materials, L.L.C. | Imaging composition and method |
KR101125678B1 (ko) * | 2004-02-06 | 2012-03-28 | 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨. | 개선된 이미지화 조성물 및 방법 |
US7270932B2 (en) * | 2004-02-06 | 2007-09-18 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Imaging composition and method |
US7683107B2 (en) * | 2004-02-09 | 2010-03-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet printable thick film compositions and processes |
US20050176246A1 (en) * | 2004-02-09 | 2005-08-11 | Haixin Yang | Ink jet printable thick film ink compositions and processes |
US20050173680A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-08-11 | Haixin Yang | Ink jet printable thick film ink compositions and processes |
WO2005111707A1 (ja) | 2004-04-26 | 2005-11-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | カラーフィルター用青色組成物、カラーフィルター及びカラー画像表示装置 |
DE102004030019A1 (de) * | 2004-06-22 | 2006-01-19 | Xetos Ag | Photopolymerisierbare Zusammensetzung |
US20060027307A1 (en) * | 2004-08-03 | 2006-02-09 | Bidwell Larry A | Method of application of a dielectric sheet and photosensitive dielectric composition(s) and tape(s) used therein |
US7135267B2 (en) * | 2004-08-06 | 2006-11-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable photoimageable compositions for use in photo-patterning methods |
JP2006065074A (ja) | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
US7371335B2 (en) | 2004-10-21 | 2008-05-13 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Curable thick film compositions for use in moisture control |
US20060154180A1 (en) | 2005-01-07 | 2006-07-13 | Kannurpatti Anandkumar R | Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element |
US7326370B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-02-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7569165B2 (en) * | 2005-03-09 | 2009-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7381353B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-06-03 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7384577B2 (en) * | 2005-03-09 | 2008-06-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US7579134B2 (en) * | 2005-03-15 | 2009-08-25 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Polyimide composite coverlays and methods and compositions relating thereto |
US20060223690A1 (en) * | 2005-04-01 | 2006-10-05 | Tsutomu Mutoh | Photosensitive thick-film dielectric paste composition and method for making an insulating layer using same |
WO2006134633A1 (ja) | 2005-06-13 | 2006-12-21 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | インクジェット用インク、インクジェット記録方法、インクジェット用インクの評価方法、およびインクジェット用インクの製造方法 |
EP1739688A1 (en) | 2005-06-29 | 2007-01-03 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Method for manufacturing a conductive composition and a rear substrate of a plasma display |
JP2007012371A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | E I Du Pont De Nemours & Co | 導電組成物およびプラズマディスプレイの背面基板の製造方法 |
US20070023388A1 (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-01 | Nair Kumaran M | Conductor composition for use in LTCC photosensitive tape on substrate applications |
JP4701042B2 (ja) | 2005-08-22 | 2011-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
US7291292B2 (en) * | 2005-08-26 | 2007-11-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of silver particles using thermomorphic polymers |
US20070059459A1 (en) * | 2005-09-12 | 2007-03-15 | Haixin Yang | Ink jet printable hydrogel for sensor electrode applications |
US7666328B2 (en) * | 2005-11-22 | 2010-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thick film conductor composition(s) and processing technology thereof for use in multilayer electronic circuits and devices |
US20070117042A1 (en) * | 2005-11-23 | 2007-05-24 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Imaging methods |
US20070238036A1 (en) * | 2006-03-22 | 2007-10-11 | Keiichiro Hayakawa | Dielectric, display equipped with dielectric, and method for manufacturing said dielectric |
US7678457B2 (en) * | 2006-03-23 | 2010-03-16 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Dielectric and display device having a dielectric and dielectric manufacturing method |
TW200807104A (en) | 2006-04-19 | 2008-02-01 | Mitsubishi Chem Corp | Color image display device |
US7678296B2 (en) * | 2006-05-04 | 2010-03-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof |
US20080008957A1 (en) * | 2006-06-27 | 2008-01-10 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable elements |
US7655864B2 (en) * | 2006-07-13 | 2010-02-02 | E.I Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive conductive paste for electrode formation and electrode |
US7608784B2 (en) * | 2006-07-13 | 2009-10-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive conductive paste for electrode formation and electrode |
US7749321B2 (en) | 2007-06-28 | 2010-07-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Black pigment compositions, thick film black pigment compositions, conductive single layer thick film compositions, and black and conductive electrodes formed therefrom |
JP5303127B2 (ja) * | 2007-08-03 | 2013-10-02 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 黒色バス電極用導電組成物およびプラズマディスプレイパネルの前面板 |
US20090039781A1 (en) * | 2007-08-08 | 2009-02-12 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Electrode paste for plasma display panel and black bus electrode for plasma display panel |
JP4890408B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法 |
US7648655B2 (en) * | 2007-10-30 | 2010-01-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Conductive composition for black bus electrode, and front panel of plasma display panel |
US8193707B2 (en) * | 2007-11-06 | 2012-06-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Conductive composition for black bus electrode, and front panel of plasma display panel |
WO2009099211A1 (ja) | 2008-02-07 | 2009-08-13 | Mitsubishi Chemical Corporation | 半導体発光装置、バックライト、カラー画像表示装置、及びそれらに用いる蛍光体 |
WO2009135678A2 (en) * | 2008-05-08 | 2009-11-12 | Detrey Gmbh Dentsply | Radical polymerisation inhibitors for light-curable dental materials |
US8002603B2 (en) * | 2008-05-19 | 2011-08-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Co-processable photoimageable silver and corbon nanotube compositions and method for field emission devices |
JP5248203B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
WO2010022203A1 (en) * | 2008-08-22 | 2010-02-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method of making air-fired cathode assemblies in field emission devices |
JP5405141B2 (ja) | 2008-08-22 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
US7887992B2 (en) | 2008-12-23 | 2011-02-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive paste and process for production of pattern using the same |
US20100167032A1 (en) * | 2008-12-29 | 2010-07-01 | E.I.Du Pont De Nemours And Company | Front electrode for pdp |
US8129088B2 (en) | 2009-07-02 | 2012-03-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Electrode and method for manufacturing the same |
US20110083874A1 (en) | 2009-10-09 | 2011-04-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Electrode and method for manufacturing the same |
KR101813298B1 (ko) | 2010-02-24 | 2017-12-28 | 바스프 에스이 | 잠재성 산 및 그의 용도 |
JP5714544B2 (ja) | 2011-09-15 | 2015-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 製版処理廃液のリサイクル方法 |
EP2762977B1 (en) | 2011-11-04 | 2017-09-27 | FUJIFILM Corporation | Method for recycling plate-making processing waste solution |
JP5898725B2 (ja) * | 2014-06-20 | 2016-04-06 | 株式会社ケミクレア | 光増感剤および光電変換素子 |
WO2016124493A1 (en) | 2015-02-02 | 2016-08-11 | Basf Se | Latent acids and their use |
EP3147335A1 (en) | 2015-09-23 | 2017-03-29 | BYK-Chemie GmbH | Colorant compositions containing wettting and/or dispersing agents with low amine number |
WO2019096893A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
CN111344319B (zh) | 2017-11-15 | 2022-12-23 | 毕克化学有限公司 | 嵌段共聚物 |
ES2955365T3 (es) | 2021-02-11 | 2023-11-30 | Xetos Ag | Composición fotopolimerizable |
ES2959027T3 (es) | 2021-02-11 | 2024-02-19 | Xetos Ag | Blanqueamiento mejorado |
ES2963992T3 (es) | 2021-02-11 | 2024-04-03 | Xetos Ag | Sistema 2K |
EP4043502B1 (de) | 2021-02-11 | 2023-10-04 | Xetos AG | Photopolymerisierbare hoe-zusammensetzung |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3479185A (en) * | 1965-06-03 | 1969-11-18 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers |
GB1165570A (en) * | 1966-12-08 | 1969-10-01 | Agfa Gevaert Nv | Photopolymerization of Ethylenically Unsaturated Compounds |
US3549367A (en) * | 1968-05-24 | 1970-12-22 | Du Pont | Photopolymerizable compositions containing triarylimidazolyl dimers and p-aminophenyl ketones |
US3652275A (en) * | 1970-07-09 | 1972-03-28 | Du Pont | HEXAARYLBIIMIDAZOLE BIS (p-DIALKYL-AMINOPHENYL-{60 ,{62 -UNSATURATED) KETONE COMPOSITIONS |
JPS6026122B2 (ja) * | 1977-01-20 | 1985-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
-
1978
- 1978-05-08 US US05/903,947 patent/US4162162A/en not_active Expired - Lifetime
-
1979
- 1979-04-30 BR BR7902623A patent/BR7902623A/pt unknown
- 1979-05-04 CA CA327,027A patent/CA1131395A/en not_active Expired
- 1979-05-05 DE DE7979101375T patent/DE2966543D1/de not_active Expired
- 1979-05-05 EP EP79101375A patent/EP0005274B1/en not_active Expired
- 1979-05-08 JP JP54056839A patent/JPS5928329B2/ja not_active Expired
Cited By (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1621929A2 (en) | 2004-07-29 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition comprising a sensitising dye |
EP1640805A1 (en) | 2004-09-24 | 2006-03-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
EP1710627A1 (en) | 2005-03-28 | 2006-10-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
EP2108999A1 (en) | 2005-07-25 | 2009-10-14 | Fujifilm Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP1755002A2 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate |
EP2306246A1 (en) | 2005-08-18 | 2011-04-06 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method of lithographic printing plate |
EP1762896A2 (en) | 2005-09-09 | 2007-03-14 | FUJIFILM Corporation | Method of producing photosensitive planographic printing plate |
EP1930770A2 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Imaging recording material and novel compound |
EP1939687A2 (en) | 2006-12-26 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP2662729A1 (en) | 2006-12-28 | 2013-11-13 | Fujifilm Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
EP2503393A1 (en) | 2006-12-28 | 2012-09-26 | Fujifilm Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
EP1939692A2 (en) | 2006-12-28 | 2008-07-02 | FUJIFILM Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
EP2447780A1 (en) | 2007-01-17 | 2012-05-02 | Fujifilm Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
EP2447779A1 (en) | 2007-01-17 | 2012-05-02 | Fujifilm Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
EP1947514A2 (en) | 2007-01-17 | 2008-07-23 | FUJIFILM Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
EP1975707A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition and planographic printing plate precursor |
EP1975708A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP1975706A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP1975710A2 (en) | 2007-03-30 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
EP2006738A2 (en) | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP2039509A1 (en) | 2007-09-18 | 2009-03-25 | FUJIFILM Corporation | Curable composition, image forming material, and planographic printing plate precursor |
EP2045662A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-08 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2042928A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
EP3021167A1 (en) | 2007-09-28 | 2016-05-18 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2042312A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Processing method of lithographic printing plate precursor |
EP2042924A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate |
EP2042311A1 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
EP2042923A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Image-forming method and lithographic printing plate precursor |
EP2070696A1 (en) | 2007-12-10 | 2009-06-17 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2078984A1 (en) | 2008-01-11 | 2009-07-15 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method |
EP2090933A1 (en) | 2008-02-05 | 2009-08-19 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and printing method |
EP2101218A1 (en) | 2008-03-10 | 2009-09-16 | FUJIFILM Corporation | Method for preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2105797A1 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
WO2009119687A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置および自動現像方法 |
WO2009119610A1 (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2105800A2 (en) | 2008-03-25 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Processing solution for preparing lithographic printing plate and processing method of lithographic printing plate precursor |
EP2131239A1 (en) | 2008-05-29 | 2009-12-09 | Fujifilm Corporation | Processing liquid for lithographic printing plate development and method of producing lithographic printing plates |
WO2010021364A1 (ja) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2159640A1 (en) | 2008-08-29 | 2010-03-03 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2168767A1 (en) | 2008-09-24 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4162162A (en) | 1979-07-24 |
JPS54155292A (en) | 1979-12-07 |
CA1131395A (en) | 1982-09-07 |
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EP0005274A1 (en) | 1979-11-14 |
DE2966543D1 (en) | 1984-02-23 |
BR7902623A (pt) | 1979-11-27 |
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