JPS59111514A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

Info

Publication number
JPS59111514A
JPS59111514A JP57220083A JP22008382A JPS59111514A JP S59111514 A JPS59111514 A JP S59111514A JP 57220083 A JP57220083 A JP 57220083A JP 22008382 A JP22008382 A JP 22008382A JP S59111514 A JPS59111514 A JP S59111514A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
circuit
vcc
transistor
power supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57220083A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0567965B2 (ja
Inventor
Ryoichi Hori
堀 陵一
Kiyoo Ito
清男 伊藤
Hitoshi Tanaka
均 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP57220083A priority Critical patent/JPS59111514A/ja
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Microcomputer Engineering Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to EP83112422A priority patent/EP0113865B1/en
Priority to DE8383112422T priority patent/DE3378662D1/de
Priority to KR1019830005979A priority patent/KR920004653B1/ko
Publication of JPS59111514A publication Critical patent/JPS59111514A/ja
Priority to US07/140,628 priority patent/US4916389A/en
Priority to KR1019920001343A priority patent/KR920004657B1/ko
Priority to KR1019920001341A priority patent/KR920004655B1/ko
Priority to KR1019920001342A priority patent/KR920004656B1/ko
Priority to US07/875,088 priority patent/USRE35313E/en
Publication of JPH0567965B2 publication Critical patent/JPH0567965B2/ja
Priority to US08/371,973 priority patent/US5566185A/en
Priority to US08/707,316 priority patent/US5712859A/en
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/30Marginal testing, e.g. by varying supply voltage
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F1/00Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
    • G05F1/10Regulating voltage or current
    • G05F1/46Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
    • G05F1/462Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc as a function of the requirements of the load, e.g. delay, temperature, specific voltage/current characteristic
    • G05F1/465Internal voltage generators for integrated circuits, e.g. step down generators
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/145Applications of charge pumps; Boosted voltage circuits; Clamp circuits therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/147Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0214Particular design considerations for integrated circuits for internal polarisation, e.g. I2L
    • H01L27/0218Particular design considerations for integrated circuits for internal polarisation, e.g. I2L of field effect structures

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Control Of Electrical Variables (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、外部電源電圧を半導体集積回路チップ内で電
圧リミッタを通して降下させ、その電圧をチップ内の微
細トランジスタに印加するための電圧リミッタに関する
ものである。
〔従来技術〕
バイポーラあるいはMOS)ランジスタなどの素子微細
化に伴う素子耐圧低下によって、集積回路の動作電圧は
それにみあって低下させざるを得なくなってきている。
しかしユーザからみると、使い易い5■単一電源が望ま
しい。このような集積回路メーカとユーザの異なる要請
に応える手段として、外部電源電圧Vccをチップ内で
降下させて、その降下させた電圧VLで微細素子を動作
させることが考えられる。
第1図はその一実施例で、たとえば入出力インタ−7エ
ース回路を含むチップ10全体の回路A′を、電圧リミ
ッタ13で降下させた内部電源電圧VLで動作させる例
である。同、本例では、チップ全体がほぼ同一寸法の素
子で構成できる。
第2図は、特願昭56−57143号で先に出願したも
ので、チップ10の実質的集積密度を決定する回路Aに
は微細素子を用い、外部電源電圧Vccを電圧リミッタ
13によシ降下させた電圧VLで動作させた例である。
一方集積密度にそれほど寄与しないたとえば入出力イン
ターフェースを含む駆動回路Bには比較的大きな寸法の
素子を用いて、それにVccを印加させて動作させる例
である。
これによってチップ外部からみてVccで動作する高集
積回路(以下LSI)が可能と々る。尚、A。
A′、Bの回路は、バイポーラトランジスタおるいはC
−MOSやN−MOSなどのMOS)ランジスタのいず
れで構成されていてもよい。またこれら2種類のトラン
ジスタが混在していてもよい。
また通常動作点のVccとして必ずしも5■にこだワル
必要ハナく、V(!(!=3.5V、Vl、=2.5V
などというように設計の都合によって任意に設定できる
ことは明らかである。
ここでチップとは、メモIJ L S I 、論理LS
I。
るるいはその他のLSIが作りつけられた素片を示す。
すなわちメモIJ L S Iでは、回路Aはメモリア
レーならびにその関連回路を、また論理LSIでハ、り
とえばマイクロコンピュータのように各種ROMあるい
はRAMの領域のようにある種のセルの繰シ返しで構成
される領域などを示す。
上記の如き電圧リミッタ方式において、電圧リミッタ回
路の具体例が、特願昭56−57143号あるいは特願
昭56−168698号に記載されている。しかし電圧
リミッタからみた負荷の性質ならびに、素子破壊を防止
する電圧条件ならびにエージング電圧条件と通常の動作
電圧条件との関係、消費電力などを考慮した具体例とい
う意味では不十分であった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、このような電圧リミッタ方式において
、実用的なリミッタ回路の具体例ならびにその応用例を
提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明は外部印加電源電圧をチップ内でよシ低電圧に降
下させる手段をもち、その降下させた電圧を基準にして
、チップ内の少なくとも一部の回路が動作する半導体集
積回路に特徴があシ、よシ具体的には整流特性をもつ素
子を含む回路の出力電圧が外部印加電源電圧依存性をも
ち、該出力電圧に応答する素子によって、降下させる電
圧が制御されることを特長とする。
〔発明の実施例〕
まず、vccに対して各種のVL特性をもたせる電圧リ
ミッタ回路形式とそれらの具体例を述べ、次に電圧リミ
ッタへの給電法ならびに大きな負荷を駆動するのに好適
な電圧リミッタ用バッファ回路について具体的実施例を
述べる。
第3図〜第6図は、電圧リミッタ回路の基本概念を示し
たものである。すなわち第3図は、たとえばすでに出願
した特願昭56−168698号の第14図のR3を可
変にし、かつ出力電圧VLが人力される負荷に対する電
流駆動能力を高めるために、トランジスタQを用いたも
のである。ここでトランジスタQの制御端子電圧Voは
、外部電源電圧Vccの変化に対して変化する特性をも
ち、これは回路REFの出力電圧である・すなわち)第
4図のように、VCCをOvから徐々に増大させていっ
た場合、あるVccの点VpでVaがトランジスタQを
オンにするものとする。この71以上のVccでは、Q
は常にオンになるから、基本回路BL全全体実効的イン
ピーダンスは低下し、したがって実効的インピーダンス
Rとの比が変化し、第4図のようにVp以上のVCCで
傾斜の異々る直線となる。ここでVaは、71以上のV
ccで0■から急激にある電圧に立ち上がる例を第4図
で示したが、VcCがOvから変化させた場合に、vG
はOvから徐々に上昇し、72点でトランジスタQをオ
ンにする電圧レベルになる特性でもよい。
VoがあるVcc電圧以上で急激に立ち上がる例は、特
願昭56−168698号に示したように整流特性をも
つ素子の縦続接続で回路REFを実現できる。また徐々
に立ち上がる例は、単純な抵抗分割回路で回路REFを
実現できる。尚、第4図VLのVcCに対する係数は、
RとトランジスタQの設計によって任意に変えられる。
第5図は、第3図と同じ基本回路BLを用いた他の実施
例である。第3図が、VCC側からV、をとり出すのに
対して、アース側からVt、をとシ出した例である。回
路REF’からの出力電圧Voの特性が、72以上のV
ccでトランジスタQがオンとなるようにしておけば、
基本回路BL全全体実効的インピーダンスと、実効的イ
ンピーダンスRによってVLは決牽されるから、VLは
第6図のようになる。
尚、第3図、第5図はトランジスタとしてMOSを例に
とったが、バイポーラトランジスタでもさしつかえない
。特に第1図、第2図の例で、チップ全体がMOSで構
成される場合には、第3図。
第5図は一般にMOS)ランジスタで構成した方が設計
しやすく、チップ全体がバイポーラトランジスタの場合
にはバイポーラトランジスタで構成した方がよい。しか
し場合によっては、チップがMOS)ランジスタとバイ
ポーラトランジスタで構成される場合がある。この場合
には、用途に応じて、第3図、第5図の回路にはMOS
)ランジスタ、バイポーラトランジスタあるいはそれら
の混在形を使えることは明らかである。また回路REF
の特性例として、第4図、第6図をあげたが、特にこの
例に限定されることはなく、VL設計の目的に応じて、
回路REFの特性を定めればよい。またVp以上のVc
cで、VLのVccに対する変化率(係数)を変える目
的は、特願昭56−168698号にも明らかなように
、リミッタ回路の負荷となる、あるいはVLが印加され
る微細素子を過大電圧から保護することにある。この場
合の問題点は、通常の動作電圧(ノミナル電圧)Vcc
と、たとえば電圧マージン測定時に印加できる許容最大
電圧Vccを、VPに対してどのような位置関係で決め
るかである。これについては、たとえば第4図では、通
常の動作点Vc c t−V p以下に、また電圧マー
ジン測定時の許容電圧VccをVp以上に設定すること
もできる。これによってVLはVccに一致するので、
通常の動作条件では比較的高い動作電圧で第1図、第2
図の回路A。
A’ 、Bが設計できるので、設計が容易である。
またVLの変化率が小になった分だけ微細素子が保護さ
れる結果、マージン測定時の許容電圧Vccを大きな値
にとれる。しかし場合によっては通常動作電圧Vccを
Vp以上に設定することも可能である。この場合、回路
によっては、VLのVccに対する変化が少ないために
、外部電源Vccが変化しても、より安定に動作する回
路設計が可能となる。なお第6図の例では、通常の動作
点をVp以上に設定せざるを得ないことは明らかである
次に第3図を例に、第3図の回路を基本にしてVLのV
ccに対する特性を種々変化させた実施例を述べる。第
7図、第8図は、第3図の回路の実効的インピーダンス
Rに並列に基本回路BLをに個接続した例である。ただ
しVp6でBLaがまずオンし、次にVplでB L 
rがオンし、最後にVphでB L kがオンするとい
うように各BL内の回路孔EFが設定されている。また
それぞれの■ものVCCに対する変化係数が変えられる
ように各BL内のトランジスタが設計されている。Vc
cが犬になるにつれてRに対して並列にインピーダンス
が次々に加わることになるので、VLの全体特性はVp
6以上のVccで凹形になる。本回路は、特願昭56−
168698号第17図において、エージング時にスイ
ッチを用いてRに並列にインピーダンスを挿入してVL
のVCCに対する係数を大にする例の具体的でかつ一般
的な実施例ともいえる。ただし本実施例では、それぞれ
異なるVPでVLの変化係数を異ならしめている点に特
長がある。本回路は、通常動作時の動作の安定度ならび
に第2図の方式における効果的なエーシングという点で
実用的な回路である。例えば通常めvcc動作点を、安
定動作せしめるためにVccに対してできるだけVL、
が変化しないすなわち変化係数が小さい点に設定し、エ
ージング時には、特願昭56−168698号で述べら
れているように、大きな寸法のトランジスタと小さな寸
法のトランジスタのストレス電圧条件をほぼ等しくする
ように、変化係数の大きい点に設定する。たとえば、第
7図において、BLoとBLlのみを使用した場合、第
8図において、Vpo(たとえば2〜3v)とVpl(
たとえば6V)の間では変化係数を小さくし、この間に
Vccに関しての通常動作点(たとえば5V)を設定し
、一方■p1とVP2(たとえば7〜9■)の間では変
化係数を犬にして、この間にエージング動作点(たとえ
ばVcc = 8 V )を設定すればよい。同、設計
の目的によってはB L 2 、 B L3と多数用い
て、任意のVcc点に動作電圧点とエージングミ圧点を
設定できることは明らかである。
また多数のBLを用いることによって、76%性をVc
cに対してより滑らかにすることもできるために内部回
路の動作がよ多安定にできる。さらには、エージング時
にVcc電圧が高いので、電圧リミッタ回路自身を高耐
圧トランジスタで構成することも有効である。このため
には、たとえば第2図の方式で、電圧リミッタ回路を大
きい寸法のトランジスタで構成すればよい。
第9図、第10図は、基本回路BLをアース側に並列に
接続した例である。前述したように各BLを設計すれば
、VLの全体特性はVccに対して凸形にできる。この
特性は、たとえば第1図の方式において、回路A′を過
大VL電圧から保護するのに有効である。これによって
チップ全体のvcc電圧マージンを測定する場合、微細
素子を破壊することなく、十分高いVccを印加できる
利点がある。
尚、用途によっては、第7図、第9図を混在させること
もできる。たとえば通常動作点は変化係(11) 数の少ない点に設定し、エージング時には変化係数の大
きい点に設定する。これらは第7図の回路のB L o
とBLlで実現する。さらにこのエージング条件のVc
c以上で、素子の永久破壊を防ぐために、再び変化係数
を少なくするために、第9図の回路形式のように、他の
BLf:BLoと並列に動作するように接続する。こう
することによってエージング条件のVcc以上でも素子
が破壊しにくい回路が設計できることになる。
第11図、第12図は、第3図の回路に並列に基本回路
BL’を接続することによって、あるVcc電圧VIP
以上で、VLの変化率を角にしたものである。すなわち
Vccを増加させていくと、まずBL内の回路REFの
出力電圧VGがVp以上でトランジスタQがオンとなり
Vccに対するVLの傾斜は減少する。次にあるVcc
すなわち■6で、BL’内のトランジスタQ′がオンに
なるようにREF’を設計しておき、かつQ′のコンダ
クタンスが、Qのコンダクタンスよりも十分大きく設計
しておけば、トランジスタQ′の導通後のVL(12) 特性は、BL′の特性で支配され、VLは第12図のよ
うに負の傾斜となる。
本回路の特長は、微細素子の破壊電圧以下に上記のVL
降下点を設定しておけば、Vccを十分昇圧しても、微
細素子は破壊から完全に保護されることである。前述し
たように第7図のBLoとB L Iを用いた回路にお
いて、エージング時のVLに対応したVcc以上のVc
c領域で、本回路が作動するように設計すれば、エージ
ング条件以上にVccが上昇しても素子破壊が防げるの
で、特に効果的であることは明らかである。
冑、第5図においても、第3図の例と同様に、BLを並
列接続することによって任意のVL特性が得られること
は明らかである。
以上電圧リミッタ回路の概念例を述べてきたが、以下で
はこれらの概念に基づいた具体的回路例について述べる
第13図は、バイポーラトランジスタを用いた第3図の
実施例である。CVRは定電圧回路であシ、その両端子
電圧はvccとは無関係にほぼ一定(13) となるような、例えばツェナーダイオードあるいは通常
のダイオードの縦続接続されたものである。
(8)は、よく知られている定電圧回路である。これに
ついては、電波科学1982年、2月号、 P、111
あるいは、Transistor C1rcuit A
nalysis。
Joyce and C1arke著、 Addiso
n−Wesleypublishing Compan
y+ Ine、、P、 207に詳しい。しかしこのま
までは、VLは定電圧なので、エージング実施時などに
は不都合である。そこでこの欠点を解決したのが(B)
である。CVFLと抵抗rが直列接続されているために
、(0に示すように、VLはVc cに対して傾斜をも
つようになる。
第14図は他の実施例である。(6)は、周知のエミッ
タフォロアを用いた定電圧電源回路であり、やはF) 
V Lは定電圧なので、■ではその解決策として抵抗r
を使用している。これによって0のような特性となる。
これら第13図、第14図の例は、特に第1図のような
方式に好適である。すなわち第1図において、入出力イ
ンターフェース関連回路には、通(14) 常大きな電流が流れるだめ、それにみあって電圧リミッ
タにも大きな電流駆動能力が要求される。
これにはバイポーラトランジスタで構成された電圧リミ
ッタが適することは明らかである。
次に第3図、第7図、第9図、第11図をもとに、゛電
圧リミッタをMOSトランジスタで構成した具体例を述
べる。
第15図は、VLとしである特定の電圧70以上のvc
cで傾斜mの特性をもだせた第4図の具体的特性例であ
る。■。以上の電圧でVLの変化が少なくなるため、そ
の分だけ微細素子の破壊がおこシにくくなる。
なお、■。以下のVccでV L = Vccとしてい
るのは以下の理由による。一般にMO8Tは動作電圧が
低くなるにつれてトランジスタのしきい値電圧降下によ
って速度が劣化する。これを防ぐためには・■。以下の
Vccのような低電圧側でできるだけ高い電圧にするこ
とが望ましい。すなわちVccであることが望ましい。
第16図は、そのだめの具体的な回路の実施例(15) で第3図の具体例に相当する。
本回路の特徴は、出力電圧V+、がMOS)ランジスタ
Q、とQtのコンダクタンスの比で決まシ、MOS)ラ
ンジスタQtのコンダクタンスがVLで制御されること
にある。
本回路では、制御開始電圧V、ならびに傾斜mは、Q、
のゲート電圧VoをVc c + Vt h (0) 
(Vt h(o)は、MO8TQ、のしきい値電圧)と
すれば、■。=ΣV t h(i) + V口(3)1
+1 m −(1+ヤ1石炉ンく靴司]−1 と表わされる。ここで、β(0)、β(イ)は、Q、。
Qtのチャネルコンダクタンス、 Vtb(i) (i
=1〜n ) 、 V th(4は、MOS)ランジス
タQ、(i−1〜’)、Qzのしきい値電圧、nはQ、
の段数である。
したがって、■。9mは、n 、 V th(i) 、
 、V th(4゜β(4/β(0)によって任意にか
えることができる。
また■。以下の場合はVL=VCCとするのが望ましい
ことを前に述べたが、■。−以下では、Qtが(16) オフだからVbはv、ヤ決まる。したがって、このため
にはQ、のVaはVc a +■t h(0)以上の高
い電圧でなければならない。
同、計算を単純化し、説明を見通しよくするために、第
16図は実際の回路とは多少異なる。すなわち実用的回
路としては、後述の第27図のように、縦続接続された
トランジスタのn番目に、さらに同様な結線のトランジ
スタをアースとの間に接続する必要がある。すなわちア
ースに向って一種のダイオード接続することになる。こ
れはVccを高い電圧側から低い電圧側へ可変にした場
合に縦続接続されたトランジスタのノードが浮遊状態に
なって電荷がとシ残されるのを防ぐだめのものである。
以下の実施例でも説明の都合上省略しである。
第17図は、特願昭56−168698号にて述べたよ
うに、74以上で微細トランジスタに対して、エージン
グを効果的に行うために、m′〉mにした特性例である
第18図は、そのための具体的な回路の実施例(17) である。これらは第7.8図の具体例に相当する。
本回路の特徴は、第16図に示した回路の端子1と端子
20間に、DCVlと同様な回路DCV2を付加するこ
とによって、74以上でDCVIに対する負荷のコンダ
クタンスを増加させ、VLの傾斜を増加させることにあ
る。
本回路では、第2の制御開始電圧v4は、で表わされる
。また傾斜m′は、MOSトランジスタQ6とQ’tの
コンダクタンスの和とMOS)ランジスタQtのコンダ
クタンスの比によって決定される。ここで、V’*h(
i) (i = 1〜n ’  ) 。
V ’* h(Jりは、それぞれMOSトランジスタQ
1(i=1〜n’)+Q’zのしきい値電圧である。
したがって、V’s I nl’は、n、n’ 、β(
力。
β′(4)、 V 5h(i) * V th(4)、
 V’th(i) 、 V’th(4によって任意にか
えることができる。ここでβ′(4は、MOSトランジ
スタQ/lのチャネルコンダクタンスである。
(18) 第19図は、71以上で、あるいは、Vtと■τの間と
71以上のVccの2点でエージングさせるために、m
/〈m〃にした特性例である。
第20図は、そのだめの具体的な回路の実施例である。
これらは第7.8図の具体例に相当する。
本回路の特徴は、第16図に示した回路の端子1と端子
2の間に、回路DCVIと同様な回路DCV2とDCV
3を付加することによって、DCVIに対する負荷のコ
ンダクタンスを順次増加させ、vtとvzの2点でVt
、の傾斜を2段階に増加させることにある。
本回路では、第2.第3の制御開始電圧■tly tt
は、それぞれ、 ヨ、/ VC=V、+(ΣV ’t h(i)+V ’t h(
4) / (1m )−1 /(1−m’) で表わされる。ここで、V”5h(i) (i = 1
〜n ” ) 。
■″tbG4は、それぞれMOS)ランジスタQb((
1(19) =1〜n // ) 、 QZりのしきい値電圧である
。また、傾斜m’は、MOS)ランジスタQ、とQ−の
コンダクタンスの和と、MOSトランジスタQtのコン
ダクタンスの比で、m“は、MosトランジスタQ a
 + Q’A I Q”7のコンダクタンスの和とQt
のコンダクタンスの比で決定される。
したがって、■−とm′は、n、n’ 、β(0)。
β(4,β’(4* V th(i) + V th(
4、V’th(iL ’V4J4によって、また、vz
とm〃は、n 、 n / 、 n //。
β(0)、β(4,β′(本!’(−/)  、V t
h(i) 、V th(4。
V ’th(i) + V Ch(4+ V ’Ch(
D 、 V ’+b(1)VCj ッテ任22かえるこ
とができる。ここで、β〃(4)は QIt、のチャネ
ルコンダクタンスである。
第21図は、74以上で、さらに素子に対する保護効果
を強めるためにm >m ’にした特性例である。
第22図は、そのだめの具体的な回路の実施例である。
これらは第9.10図の具体例に相当する。本回路の特
徴は、第16図に示した回路の端子2とグランドの間に
、Dcvlと同様な回路(20) DCV2を付加することによって、Vtでトランジスタ
Q0に対する負荷のコンダクタンスを増加させVLの傾
斜を減少させることにある。
本回路では、第2の制御開始電圧Vaは、で表わされる
。また傾斜m′は、Q、のコンダクタンスと、QtとQ
Itのコンダクタンスの和の比で表わされる。
したがって、Vことm′は、n、n’ 、β(0)。
β0す、 β’(4*  V th(1)*  V a
h(jつ+  V ’tb(1)l  V ’th(4
によって任意にかえることができる。
(21) 第23図は、■。9以上で再び素子に対する保護効果を
与えるためにm’)m“にした特性例である。
第24図は、そのだめの具体的回路の実施例である。こ
れは第7,9図を混在させた例に相当する。本回路の特
徴は、前の第18図と第21図の実施例とを混在させる
ことによって、■、′とV、′の2点でVLの傾斜を増
加、減少させることにある。
本回路では、第2、第3の制御開始電圧V、′。
■。′は、それぞれ、 v、’=v、+(Σ V r’b (i)+V t’b
 (−/) )/ (1−m)I−! −V 、 ’ )/m/ で表わされる。また、傾斜m′は、Q、とQt/のコン
ダクタンスの和とQtのコンダクタンスの比で一%m“
は、Q oとQ、/のコンダクタンスの和と、QtとQ
t”のコンダクタンスの和の比で表わされる。
(22) したがって、■。′とm′は、n、n’、β(O)。
β(4,β’(−4,V th(1)、 V 1h(4
、Vt’b(j) 、 V t’b(4によって、また
、Vo”とm”は、”I ” *  ” +β(0)、
β(4)、β′(イ)、β“(jり 、 V t b(
4)、 V t b(lJ、 V t’b(1。
Vt’b(イ)、■八(i)、Vt’b(力によって任
意にかえることができる。
第25図は、■。1以上で電源を降下させ、素子を高電
圧から完全に保護するため、m′〈oにした特性例であ
る。
第26図は、そのだめの具体的回路の実施例である。こ
れらは第11.12図の具体例に和尚する。本回路の特
徴は、第16図に示した回路の端子1にDCV 2のO
′のドレイン、端子2にQt′のドレイン、グランドに
Qt′のソースを接続することによって、Q、t’のコ
ンダクタンスをVccで制御するようにし、かつQt/
のコンダクタンスをQ。
のコンダクタンスよりも太きくシ、m/<Oとしたこと
にある。
本回路では、第2の制御開始電圧V o ’ならびに傾
斜m′は、β′(4))β(0)とすれば、(23) m ’ = l−y’ア切アA醪 と表わされる。
したがって、V。’、m/は、n’ * V t’b(
1) 。
Vt’−(4)、β′(力/β(0)によって任意にか
えられる。
第27.28図は、本回路の具体例とその特性例である
。トランジスタのしきい値はすべて1■であシ、Vo 
=Vc c +V * b(0)としている。またカッ
コ内の数字はトランジスタのチャネル幅をチャネル長で
割った値を示し、第28図はQt′のその値Wt/Lt
をパラメータにしたVLを示す。
さて、これまではQ、のゲート電圧は、vcc十V1b
と仮定してきた。これは、計算を簡略化し、回路の特性
を見通し良く記述するためである。しかし、この電圧は
、本質的には、Vcc+Vtbにこだわる必要がなく、
設計の都合により任意にとることができる。
第29図囚は、第15図で述べたようにゲート電圧vG
をチップ内で電源電圧Vcc以上に昇圧さく24) せる具体的回路である。
チップ内の発振器O8Cからの振幅Vccのパルスφl
がOvからVccに立ち上がるとき、Q1′によってあ
らかじめVc c −V t bに充電されていたノー
ド4′は、2■cc−■。に昇圧される。
これにともなって、ノード4はQ2’によってVibだ
け降下した電圧2 (Vcc −V tb )となる。
次に、φ亀が0■になって、ノード2がVccに立ち上
がるとノード4は、さらに昇圧されて3 Vc c −
2Vtbとなる。したがってノード5はQ2によってv
tbだけ降下した電圧3 (Vcc  V tb )と
なる。
Q2’とQ2は一稲のダイオードだから、このサイクル
を多数回続けるとVaは、3(Vcc  Vtb)の直
流電圧となる。CPI、CF2の回路を多数段接続すれ
ば、より高電圧のVoが得られる。ここで、2段にした
理由は以下の通りである。すなわち、vccカ2.5v
と低く’zDVtbがiyとすると、1段ではvG=2
(vcc−vIIl)テオルカら、■G=3■となる。
しかし、これでは、第15図のQ。
のソース電圧VLはVccより低い2Vとなってしく2
5) まう。°これに対して、2段にするとVG =3 (V
c cV t b )であるから、Va =4.5”J
 となる。したがって、VLはVccにできるから第1
5図のように■。以下でVL =Vc cとできる。し
かし、逆にVccが高電圧になる程Voは過大電圧にな
り関連するトランジスタを破壊してしまうおそれがある
。そこでVccO高電圧制電圧側らかのVa制限回路が
必要となる。    ゛ 第30図は、Vccの低電圧側でVG =3 (Vcc
 −Vtb)と高い電圧にし、しかも、Vccの高′亀
圧側で関連するトランジスタを保護するために、vCC
十2Vrbにした例である。ここで、これまで述べた回
路、たとえば第16.18,20,22゜24.26図
の全体回路もVoの負荷としてLMIテ示した。保護回
路CLIは、V o カVc c +2V* b以上に
なろうとするとQl、Q2を通して電流が流れる結果V
ca+2Vtbに固定されてしまう。本゛回路では、C
LIが作動するVccは3(Vcc−Vtb)=Vcc
 +2V tb  からVcc =5/2V 番すとな
る。
第31図は、INVl、 INV2ノ具体的な回路で(
26) ある。出力パルスφ。がCPI、CF2に印加される。
発振回路O8Cは、チップに内蔵された回路で構成でき
るが、第32図はシリコン基板に基板電圧vlIN+を
与えるためにチップ内に内蔵したVIIB発生回路を流
用した例である。この利点は、新たに発振回路を設計す
る必要がないので、チップ面積の縮少に効果的である。
さらに、電、源電圧Vcc投入時に、Vccがある値に
達してosc’内の発振器が発振してはじめ1■Iが発
生するが、これとほぼ同時にVLも発生するので、VL
の負荷として接続されるトランジスタには、VB!lが
印加された状態でVLが印加されるので、各トランジス
タの動作が正常に行われる。もしも、VlllがOvの
状態で各トランジスタにVLが印加されると各トランジ
スタのV t bは正常な値ではないので、過大電流が
流れたり、トランジスタへのストレス条件が過酷になり
トランジスタが破壊することもある。
次にバッファ回路の具体的実施例を述べる。電圧リミッ
タの負荷として、大容量、あるいは負荷(27) 変動の大きな負荷が付く場合がある。この場合には駆動
前、巨力の大きなバッファ回路を通してこれらの大きな
負荷を駆動する必要がある。この実現手段として、第3
3図のように1個の駆動能力の大きな、すなわちW/L
の太き彦トランジスタを介して負荷を駆動する、通常の
方法が考えられる。
しかし、この方法では第34図に示すように、Vccの
低電圧側でVtbだけの電圧降下があるので性能が低下
する。第35図は、■tll降下がなく、駆動能力の大
きなバッファ回路の具体例である。
VppがV+、 十V t b  よりも犬で、Rpを
Qlの等価オン抵抗よりもはるかに大きくしておけば、
Q2のゲート電圧はVL 十V t b  となる。し
たがってQ2のソース電圧VLIはVLに等しくなる。
Q2のW/Lを犬にしておけば所望のバッファ回路が得
られる。ここで、Vccが低電圧側では、VLはVcc
になるからVPPはVcc+V*b以上でなければなら
ない。このだめの回路として第29図全体の回路が使え
る。結線としては第35図のQlのドレインに第29図
のノード5を接続すればよい。
(28) ここで、ノード5からみた実効的出力インピーダンスを
第35図のQlの等価オン抵抗よシも十分大にするよう
に、たとえば、第29図のQ2のW/L、あるいはCB
の大きさ、あるいはO20の発振周波数を適宜調整すれ
ばよい。
さて、負荷によってはその負荷の一部を構庫するトラン
ジスタのドレインにVLを与え、ゲートにVL 十V 
t b  を与えてVtb降下を防ぎ高速動作をさせる
必要のある場合がある。第36図は、このだめの実施例
である。同LM l として、たとえば第16図の回路
をVLIは前述のようにVLに等しくなり、またQ4の
ゲート電圧はVt、+2VibだからVL4 ハVL 
十V t b  になる。ここでQs、Qyの役割は、
Vccの過渡変動時にVLIに不必要な電荷が残らかい
ようにするためのものである。Qsはv0以上ノ■cc
テ動作し、またQ7はV−Vtb以上のVccで動作す
るようにLMI内から図示するように結線されている。
ここで、Qs、Q7のW/LはQ2にくらべて十分に小
さく選ばれておF)、Qs 、Qyを付加したことによ
るVLへの影(29) 響を最小限にしている。ここでQ7は■。以下の領域で
動作することを前に述べた。■。以下の領域では、Q2
 r Q4は非飽和領域の動作状態(Vos  Vib
≧Vns 、 Vas ニゲ−)−:/ −、r、間電
圧、VD8ニドレイン・ソース間電圧)であるから、余
分な電荷はQl 、Q4を介してVccに放電されるた
め、Q7は原理的には不要であるが、vccシv0の近
傍ではQ2.Q4のオン抵抗が必要以上に大になシ、そ
の効果が期待できない場合がある。したがってこのQ7
を付加することによ’)、VccがV、以下の領域(■
。−Vtb)から、それ以上のリミッタが正常に動作し
ている範囲までの広い領域で安定なVLIO値を得るこ
とができる。
なお、QBの役割は、VL2に対してVLIが負に変動
しようとしたときにQ5に電流が流れて、VL2とVL
IO差を一定に保たせるものである。また、本実施例で
は、VLとV b +V t−の例を述べたが、Ql、
Q2の対あるいは、Qs t Q4の対を縦続接続すれ
ばVLIとの差の電圧がVtbの整数倍となる電圧を発
生させ得る。
(30) 第37図は、第35.36図のバッファ回路の駆動能力
をさらに向上させるために、第35゜36図の出力段に
接続する他のバッファ回路である。このように駆動能力
のより大きなバッファ回路を接続することによシ大きな
負荷容量を駆動できる。まず、VLIは、ノード4、ノ
ード2でVLI十2 V t b 、 VLt +V 
L bにナル力、結局Q 4 Kヨツ”’Cノード5で
はVLIのレベルであるVnpとなる。ここで問題なの
は、負荷LCI内の大容量CDを高速で充電するための
C4の負荷駆動能力である。
この能力を高めるためには、負荷を充電する時間帯でC
4のゲートであるノード2を昇圧する必要がある。この
だめのトランジスタがC6〜Qllであり容量がC1,
C2である。φ2がオンでQtsによって放電されたノ
ード6は、次のφlがオンでQll1 C4によって充
電される。このときVLI+V t hであるノード2
とVLIであるノード3は、φ1オンによシ昇圧される
。これによって、QlGlQllのコンダクタンスが犬
になるので昇圧されたノード2の電圧は、Qsoe Q
ttによってVL I+V t b(31) 。
のレベルに放電される。ここで、との昇圧時間をC41
Qe2によるCDの充電時間よりも犬にしておけば、高
速にCDは充電されることになる。なお、C6はφ1に
よるノード3の昇圧時に、ノード3とノード1を切りは
なすトランジスタである。
また、φ2がオン時には、■L1≦3Vtb の条件が
満たされておればC7〜Q9はオフになるから、Qll
のゲートはV t b以下となりQllはオフとなる。
したがって、Qs + Qto+ Qllを通して電流
は流れないので低消費電力化できる。また、VLI>3
Vtbの場合の消費電力を低減するには、C6のオン抵
抗を大きくして、低電流化を図れば良い。
このときの3の電圧は、はぼ3Vtbの安定した値にな
る。これによってノード3の昇圧特性も安定になシ、結
果として全体回路の動作の安定化が可能になる。
さて、ここでQy + Q+oのソース、ゲートは共通
に接続されているため、ゲートへのバイアス条    
 件が全く等しい。したがって、 (32) のようにしておけば、ノード2,3の昇圧特性を全く等
しくでき、回路設計が容易にできる特長を有している。
なすなわ、本実施例の特長の−っは、ノード2の昇圧特
性をノード3の昇圧特性で自動的に制御できる点にあり
、このようにすることによって昇圧を行彦わない場合の
ノード2がらVssへの直流電流パスを軽減でき、低消
費電力化が可能になる。
なお、ここでQsはQloがOFFのときに、ノード2
の余分な電荷を放電する作用を有する。
第37図の実施例については各種の変形が考えられる。
すなわち、第37図のC6のドレインは、ノード2,3
の昇圧特性を極力安定化するように、VLIに接続して
いるが、vccに接続して、VLIへの負担を軽減する
ことも可能である。また、同様に、ノード2,3の昇圧
特性を安定化するため、C7と同一動作条件になるQi
oを設けているが、これを除去してノード2と9を直結
し、C7のソ(33) 一スとノード9の接続を外した構成としても良い。
この場合は、Q9とQllの関係が、上に述べたC7と
Qsoの関係にあるので、同様に昇圧特性を設計でき、
回路占有面積の低減に有効である。またさらに、ここで
は、Q? 、C8,Qeの3段接続構成としているが、
これは上に述べた低消費電力化にC2の容量を例えば、
l5SCC72Dig、of’pech、 paper
s、 P、 14などで知られている、MO8Tのゲー
トとソース、ドレイン間の反転層容量を用いて低面積で
効率良く形成するための配慮である。すなわち、反転層
容量を使用するためには、ゲート電圧はソース、ドレイ
ンに対し、vtb以上高い電圧を印加する必要があるか
らである。
したがって、vtbの低いMO8T、  あるいは通常
の容量を用いてC2を形成する場合には、C7〜Q9の
接続数は2個、あるいは1個に低減することも可能であ
る。
第37図のごときバッファ回路は、第1,2図に示すよ
うなLSI方式で特に必須である。すなわち一般に第1
,2図のVLを発生させる電圧り(34) ミッタは、回路A、A’ 、B内の回路電流がアースに
向って流れるので、電流を供給する能力が特に犬である
ことが望まれる。したがって、とれまで述べた第37図
を含む全体の回路を、第1.2図の電圧リミッタとみな
せば、一般のLSIに用いることができる。
なおこれまで述べてきた実施例では、第17図のように
、70以上のVccで動作させた場合、第18図の実際
の回路は第27図のようにダイオード接続になっている
ので、Q1′〜Qνには電流が流れて消費電力が増大す
る。この消費電力の増大は、LSI電源すなわち外部印
加電源電圧を電池でバックアップしようとする場合に問
題となる。
す彦わち通常の外部電源がオフとなった場合に、電池で
バックアップする装置において、LSI自身の消費電力
が太きいと電池の電流容量が小さいので、バックアップ
できる時間が制限されてしまう。そこで電池でバックア
ップする期間は、電池から与えられるVccをv0以下
に設定するようにしておけば、Ql−Qllには電流が
流れないので、(35) この分だけバックアップできる時間を長くできる。
あるいはバックアップする場合の電池電源電圧Vcc以
上のvoになるようにQ1〜QBの段数を決めることも
できる。
また通常の動作電源電圧Vccを、Vcc>Vaで選ぶ
以外に、Vcc〈■。とすることもできる。こうするこ
とによって通常のV Cc条件ではQ1〜Q、に電流は
流れないので低電力化できる以外にVccとVLの関係
が折れ線になる領域を避けて設計することができるので
設計が容易となるメリットがある。というのは、折れ線
の領域で設計すると、たとえばVLをある回路の一部に
使った場合にVccを直接使った回路とでVccに関す
る特性の不平衡が生じるので動作が不安定7になる場合
がちシ、V c c <V −とすれば、これが避けら
れるためである。
以上、電圧リミッタをMOS)ランジスタで構成した具
体的実施例について述べた。これらは主として、しきい
電圧V t bが正の場合、すなわちエンハンスメント
形のMOS )ランジスタを用いた(36) 場合の例であるが、特願昭56−168698号第16
図で開示した如<、Vt−が負の、すなわちデプレッシ
ョン形のMOS)ランジスタを用いた構成も勿論可能で
ある。例えば第16図の実施例において、第15図の如
(Vcc<V−の領域でVL=■ccとするためには、
Qeのゲート電圧をVG≧Vc c 十V t b (
0)とする必要があり、このためのVa発生回路として
第29図の回路を用いれば良いことを述べたが、デプレ
ッション形のMOS)ランジスタを用いれば、・さらに
回路を簡略化できる。
第39図は、その具体的実施例であシ、第16図とはQ
oをデプレッション形M08トランジスタQ、′として
、そのゲートを端子2に接続している点で異なる。この
ようにすれば、Q、′のV *’b(0)は負であるか
らQ、′は常にオン状態にあり、第29図の如きVa発
生回路を用いることなく、第15図に示した所望の特性
を実現できる。本実施例では上述のように回路構成と簡
略化できるのみでな(37) タンス)、vt′b(0)(シきい電圧)のみで決まる
定電流となるために、安定した特性の得られる特長を有
する。なお、本実施例は第16図を例にしたが、他の実
施例のQ、を本実施例の如くQ、′で置き換え、ゲート
を端子2に接続することによってそのまま適用できる。
第40図は、1個のデプレッション形MO8)ランジス
タを用いてバッファ回路を構成した実施例であり、第4
1図はその特性を示している。前に述べた第33図とは
回路構成が同一であるが、MOS)ランジスタがエンハ
ンスメント形からデプレッション形になっている点で異
なる。本バッファ回路の出力VL’は、第41図に示す
ように、VccとVLO差が、MOSトランジスタのし
きい電圧Vtboの絶対値1Vtbol  に等しくな
る点Pから折れまがり、それ以降はVLより1vt11
D1分高い電圧となる。したがって、VLを所望の値よ
り1Vtbn1分低く設定しておけば良い。本実施例で
は、簡単な回路構成で、かつ第34図に示した第33図
の実施例の特性のように、vcCり。の範囲(38) で、■ccよ971分だけ低い出力しか得られないとい
う問題点も無くすことができる特長を有している。
〔発明の効果〕
以上説明したごとく、本発明によれば、微細トランジス
タを用いても、比較的高い電源電圧で安定に動作する大
規模集積回路を提供できることになる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図、第5図、第7図、第9図、第
11図、第13図、第14図、第16図、第18図、第
20図、第22図、第24図、第26図、第27図、第
29図、第30図、第31図、第32図、第33図、第
35図、第36図、第37図、第39図、第40図はそ
れぞれ本発明の実施例を示し、第4図は第3図の実施例
の特性、第6図は第5図の実施例の特性、第8図は第7
図の実施例の特性、第10図は第9図の実施例の特性、
第12図は第11図の実施例の特性、第15図は第16
図の実施例の狩性、第17図は第18(39) 図の実施例の特性、第19図は第20図の実施例の特性
、第21図は第22図の実施例の特性、第23図は第2
4図の実施例の特性、第25図は第26図の実施例の特
性、第28図は第27図の実施例の特性、第34図は第
33図の実施例の特性、第38図は第37図の実施例の
特性、第41図は第40図の実施例の特性を示す。 Q 6+ Qt t QJ p Q1’+ Qs l 
Qs’+ QLeQt/・・・MOS)ランジスタ、1
3・・・電圧リミッタ。 代理人 弁理士 薄田利幸 (40) 奉 l 閃 2 第2 目 ′fIS 口 ′¥:14−図      預乙因 第 72 ’5Lo: 1 第 8 図 ■ イ 7 口 %lθ図 %++  凹 菫 12 図 %  13  図 Y:J14  図 819洒 り      吟C 沿 IE) t、e図 もt7通 878図 り一工一」 8/7習 第2/習 吟  吟′     吟C 毛23図 824別 % 27  図 警2B回 VccCV) 8zq  旧       (A) 時用 閉 δθ 目 %3+図 半32図 833鉗 f(3s  図 頷 3z  図 集37図 ′fJ39  図 χφθ回 第41  口

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、外部印加電源電圧をチップ内でよシ低電圧に降下さ
    せる手段をもち、その降下させた電圧を基準にして、チ
    ップ内の少なくとも一部の回路が動作することを特徴と
    した半導体集積回路。 2、整流特性をもつ素子を含む回路の出力電圧が外部印
    加電源電圧依存性をもち、当該出力電圧に応答する素子
    によって、降下させる電圧が制御されることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の半導体集積回路。
JP57220083A 1981-04-17 1982-12-17 半導体集積回路 Granted JPS59111514A (ja)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57220083A JPS59111514A (ja) 1982-12-17 1982-12-17 半導体集積回路
EP83112422A EP0113865B1 (en) 1982-12-17 1983-12-09 Semiconductor integrated circuit
DE8383112422T DE3378662D1 (en) 1982-12-17 1983-12-09 Semiconductor integrated circuit
KR1019830005979A KR920004653B1 (ko) 1982-12-17 1983-12-17 반도체장치
US07/140,628 US4916389A (en) 1982-12-17 1988-01-04 Semiconductor integrated circuit with voltage limiter having different output ranges from normal operation and performing of aging tests
KR1019920001343A KR920004657B1 (ko) 1982-12-17 1992-01-30 반도체장치
KR1019920001342A KR920004656B1 (ko) 1982-12-17 1992-01-30 반도체장치
KR1019920001341A KR920004655B1 (ko) 1982-12-17 1992-01-30 반도체장치
US07/875,088 USRE35313E (en) 1981-04-17 1992-04-28 Semiconductor integrated circuit with voltage limiter having different output ranges from normal operation and performing of aging tests
US08/371,973 US5566185A (en) 1982-04-14 1995-01-12 Semiconductor integrated circuit
US08/707,316 US5712859A (en) 1982-04-14 1996-09-03 Semiconductor integrated circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57220083A JPS59111514A (ja) 1982-12-17 1982-12-17 半導体集積回路

Related Child Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5089691A Division JP2635281B2 (ja) 1993-04-16 1993-04-16 半導体集積回路
JP5089690A Division JP2524074B2 (ja) 1993-04-16 1993-04-16 半導体集積回路
JP5089689A Division JPH0697424B2 (ja) 1993-04-16 1993-04-16 半導体集積回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59111514A true JPS59111514A (ja) 1984-06-27
JPH0567965B2 JPH0567965B2 (ja) 1993-09-28

Family

ID=16745660

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57220083A Granted JPS59111514A (ja) 1981-04-17 1982-12-17 半導体集積回路

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4916389A (ja)
EP (1) EP0113865B1 (ja)
JP (1) JPS59111514A (ja)
KR (1) KR920004653B1 (ja)
DE (1) DE3378662D1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61155913U (ja) * 1985-03-19 1986-09-27
US4803664A (en) * 1986-03-28 1989-02-07 Hitachi, Ltd. Dynamic random access memory having a gain function
US4930112A (en) * 1985-11-22 1990-05-29 Hitachi, Ltd. Semiconductor device having a voltage limiter
KR100468065B1 (ko) * 1997-04-18 2005-04-14 지멘스 악티엔게젤샤프트 내부공급전압을발생시키기위한회로장치
US7732945B2 (en) 2004-09-30 2010-06-08 Fujitsu Limited Rectifier circuit
JP2010152911A (ja) * 1997-12-12 2010-07-08 Hynix Semiconductor Inc 内部電圧発生回路

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5566185A (en) * 1982-04-14 1996-10-15 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit
CA1317344C (en) * 1988-12-21 1993-05-04 National Semiconductor Corporation Bicmos positive supply voltage reference
US5149988A (en) * 1988-12-21 1992-09-22 National Semiconductor Corporation BICMOS positive supply voltage reference
JP2809768B2 (ja) * 1989-11-30 1998-10-15 株式会社東芝 基準電位発生回路
NL9001017A (nl) * 1990-04-27 1991-11-18 Philips Nv Bufferschakeling.
KR100209449B1 (ko) * 1990-05-21 1999-07-15 가나이 쓰토무 반도체 집적회로 장치
KR100231393B1 (ko) * 1991-04-18 1999-11-15 나시모토 류조 반도체집적회로장치
KR940008286B1 (ko) * 1991-08-19 1994-09-09 삼성전자 주식회사 내부전원발생회로
FR2680586B1 (fr) * 1991-08-19 1994-03-11 Samsung Electronics Co Ltd Circuit generateur de tension d'alimentation interne programmable electriquement.
KR950012018B1 (ko) * 1992-05-21 1995-10-13 삼성전자주식회사 반도체장치의 내부전원 발생회로
US5696452A (en) * 1995-08-08 1997-12-09 Harris Corporation Arrangement and method for improving room-temperature testability of CMOS integrated circuits optimized for cryogenic temperature operation
JP3088403B2 (ja) * 1999-01-11 2000-09-18 ファナック株式会社 機械の消費電力表示装置
DE10011670A1 (de) * 2000-03-10 2001-09-20 Infineon Technologies Ag Schaltungsanordnung, insbesondere Bias-Schaltung
JP4920253B2 (ja) * 2003-07-28 2012-04-18 ティーピーオー、ホンコン、ホールディング、リミテッド 電圧変換装置
US7495519B2 (en) * 2007-04-30 2009-02-24 International Business Machines Corporation System and method for monitoring reliability of a digital system

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS566098U (ja) * 1979-06-21 1981-01-20
JPS57172761A (en) * 1981-04-17 1982-10-23 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA556448A (en) * 1949-09-27 1958-04-22 L. Harder Edwin Adjustable non-linear resistance
US3386030A (en) * 1964-10-21 1968-05-28 Collins Radio Co Voltage regulator
US3523195A (en) * 1967-06-07 1970-08-04 Bendix Corp Function generator network utilizing a transistor including a multiple tap emitter follower
US3553487A (en) * 1967-10-12 1971-01-05 Honeywell Inc Circuit for generating discontinuous functions
US3588675A (en) * 1968-03-29 1971-06-28 Meidensha Electric Mfg Co Ltd Voltage regulator circuit effective over predetermined input range
US3742338A (en) * 1971-03-15 1973-06-26 Matsushita Electronics Corp Dc voltage regulator circuit
JPS5252560A (en) * 1975-10-27 1977-04-27 Nec Corp Electrode constructing body
JPS5821208B2 (ja) * 1978-09-30 1983-04-27 株式会社島津製作所 リニアライザ
EP0013099B1 (en) * 1978-12-23 1982-02-10 Fujitsu Limited Semiconductor integrated circuit device including a reference voltage generator feeding a plurality of loads
US4482985A (en) * 1981-04-17 1984-11-13 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit
JPS57186351A (en) * 1981-05-12 1982-11-16 Fujitsu Ltd Semiconductor device
FR2506045A1 (fr) * 1981-05-15 1982-11-19 Thomson Csf Procede et dispositif de selection de circuits integres a haute fiabilite
DE3124188C2 (de) * 1981-06-19 1986-04-03 TRW Repa GmbH, 7077 Alfdorf Gurtband-Klemmvorrichtung für Sicherheitsgurte in Kraftfahrzeugen
JPS58105563A (ja) * 1981-12-17 1983-06-23 Mitsubishi Electric Corp 基板バイアス発生回路
US4585955B1 (en) * 1982-12-15 2000-11-21 Tokyo Shibaura Electric Co Internally regulated power voltage circuit for mis semiconductor integrated circuit
JPS59191935A (ja) * 1983-04-15 1984-10-31 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS566098U (ja) * 1979-06-21 1981-01-20
JPS57172761A (en) * 1981-04-17 1982-10-23 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61155913U (ja) * 1985-03-19 1986-09-27
US4930112A (en) * 1985-11-22 1990-05-29 Hitachi, Ltd. Semiconductor device having a voltage limiter
US4803664A (en) * 1986-03-28 1989-02-07 Hitachi, Ltd. Dynamic random access memory having a gain function
KR100468065B1 (ko) * 1997-04-18 2005-04-14 지멘스 악티엔게젤샤프트 내부공급전압을발생시키기위한회로장치
JP2010152911A (ja) * 1997-12-12 2010-07-08 Hynix Semiconductor Inc 内部電圧発生回路
US7732945B2 (en) 2004-09-30 2010-06-08 Fujitsu Limited Rectifier circuit

Also Published As

Publication number Publication date
KR840007309A (ko) 1984-12-06
EP0113865A1 (en) 1984-07-25
DE3378662D1 (en) 1989-01-12
JPH0567965B2 (ja) 1993-09-28
EP0113865B1 (en) 1988-12-07
KR920004653B1 (ko) 1992-06-12
US4916389A (en) 1990-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59111514A (ja) 半導体集積回路
JP3420606B2 (ja) 高電圧発生装置
US6002599A (en) Voltage regulation circuit with adaptive swing clock scheme
JPS60176121A (ja) 電圧降下回路
JP3323936B2 (ja) 上昇率を制御するチャージ・ポンプ
US6483378B2 (en) Voltage pump with diode for pre-charge
ITMI932145A1 (it) Circuito stabilizzato di generazione della tensione e convertitore in riduzione della tensione interna
JP4044800B2 (ja) 電荷ポンプ回路
CN101213499A (zh) 用于广泛电源电压范围的有效电荷泵
JP2010004717A (ja) 定電圧昇圧電源
EP1750271B1 (en) Multistage regulator for charge-pump boosted voltage applications
JPS6222269B2 (ja)
JPH07326194A (ja) 不揮発性メモリ用電圧ブースタ
JP2815293B2 (ja) 高効率nチャネルチャージポンプ
JP3148070B2 (ja) 電圧変換回路
JPH03205683A (ja) 半導体集積回路装置
US6191963B1 (en) Charge pump with no diode drop at output stage
JPH09259585A (ja) 半導体記憶装置
KR0149224B1 (ko) 반도체 집적장치의 내부전압 승압회로
US6380800B1 (en) Pump area reduction through the use of passive RC-filters or active filters
US20030020534A1 (en) Voltage generating circuits and methods including shared capacitors
JPH0697424B2 (ja) 半導体集積回路
JP2524074B2 (ja) 半導体集積回路
JP2635281B2 (ja) 半導体集積回路
JPH06253532A (ja) 昇圧回路