JPS5892601A - 選択的除草剤およびその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はチアゾロ−および（１，３）チアジノ（２，３
−ｃ）（１，２，４３）リアジノンを含有する選択的除
草剤およびその製法に関する。

除草作用を有するドリアジノンは既に公知テある（ペル
ー−国特許第６９７０８３号明細書ペルー−国特許４７
９９８５４号明細書）、シかしこの除草剤は輪作される
多数の主要農業栽培植物に対する良好な相容性を同時に
有し、当該雑草九対して良好な除草作用を有する問題を
解決しなｈｏ 本発明の課題は多数の主要農業栽培にお匹てこれを損な
わずに撲滅困難な雑草に対して使用することのできる除
草剤を開発することである。

このＩＮｍは本発明によれば一般式： 〔式中Ｒ１は１個または数個のｉｌ素原子またはイオウ
原子によって中断されて−でもよいＯ工〜６−アルキル
基、０１〜６−アルキルカル♂ンＩｔ’！１基、０１〜
６−アルキルカルざン酸エステル基。

１個または数個のアルキルによって置換されてｈでもよ
い０３〜＠−シクロアルキルＭ、１（１１または数個の
０１〜４−アルキルおよび／または０１〜４−アルコキ
シおよび／または０１〜４−アルキルチオおよび／また
はハロゲンおよび／ｌたはニトロ基によって置換されて
ｈてもよい芳香族または芳香脂肪族炭化水素残基または
へテロ環式炭化水素残基な表わし、Ｒ，は水素、０１〜
６−アルキル基または置換されていてもよ込芳香族炭化
水素残基な表わし、Ｒ５は水素、０１〜６−アルキル基
、置換されていてもよい芳香族炭化水素残基、ベンジル
基またはヒドロキシル基ヲ表わし、Ｒ１は水素、０１〜
６−アルキル基、置換されていてもよい芳香族炭化水素
残基、ベンゾに基、０１〜４−アルコキシ基ま九はヒｒ
ロキシル基を表わし、かつｎは０または１を表わす〕の
チアゾロ−およびＣ１，３）チアジノ〔２゜３−ｃ〕（
１，２，４））リアジノンを含有する選択的除草剤によ
り解決される。

本発明による化合物は意想外には特にダイオ、綿花、ト
ウモロコシおよびコムギに対して相客性で当該雑草の撲
滅にきわめて好適であり、この点で公知の剤を凌ぐ。大
碑な技術的進歩性はこの性質に結合する。

経済的理由から重要な農業栽培がますます互いに緊密な
輪作になっていることは公知である。

雑草植物相に関しては特殊な付随植物相がますます生じ
る結果になる。その中に雑草撲滅の分野での公知技術で
撲滅困難である雑草がある場合には（これが殆ど通常で
ある）、容易にかかる楕類の支配を導く条件が生じる０
例えば十分なまたは過剰の除草剤使用量を用いて撲滅を
試みることでこの問題に対処しようとした。これは屡々
栽培植物を損なう原因となる。公知の除草剤は±ｔｓに
残留して後続の栽培植物に作用することがあるので、こ
れにも損傷を与える。したがって輪作される多数の主要
農業栽培植物に対して同時に良好に相客性で当該雑草に
対して良好な活性を有する進歩的な除草剤が望まれる。

本発明により使用される化合物はこの要求を満足し、か
つ前記の栽培植物に対して意想外に良好な相客性に優れ
ており、その際該化合物は発芽前処理でも茎葉処理でも
使用することができる拳 除草作用は多数の雑草に及ぶ。良好に撲滅可能な問題の
雑草としてはアデチロン・テオフラステイ（ムｂｕｔｉ
ｌｏｎ　ｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉｉ）、イボメア（Ｉｐ
ｏｍｏｅａ）　８ａｐ−、ソラヌム（８ｏ１ａｎｕｍ）
　ｓａｐ、、ヴィオラ（Ｖｉｏｌａ）　ａｓｐ−、イヌ
ビエ、セタリア（８ｅｔａｒｉａ）　ｓｓｐ、およびゾ
ギタリア（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ）ａｓｐ、が挙けられる
。

使用は播種前の土壌に混入するかまたは発芽前ないしは
菖葉処理で行なってよい。

使用数は選択的な雑草撲滅には作用物質的０．１〜５に
＃／ｈａである。

化合物はより裏込使用量で総合雑草撲滅に４使用するこ
とができる。

本発明により使用される化合物はより少ない使用量で種
々の農業的重たは園英的に目立つ性質を達成するなめに
植物の自然の発展をも変化させ得る。各化合物が各植物
種でかつ使用形式。

使用期間または使用濃度に左右されて同じ調節作用を及
ぼすのではないことは理解される。一般に自然の植物成
長の制御は処理された植物★たはその部分の大倉さ、形
状、色または構造の変化で目で見て認めることかで舞る
０例えば本発明による化合物によって惹起される植物の
成長変化は次の通りである： 垂直成長の阻害、根の伸長の１書、植物色素の活気の強
化。

本発明による化合物の中で特に前記の一般式■において
Ｒ１は０１〜６−アルキル基、例えばメチル、トリメチ
ルメチル、エチル、プロピル、イソゾロぎル、メチルプ
ロピル、ｎ−エチル、イソエチル、ｔ−エチル、２．２
−ジメチル−１−プロピル、ｎ−ペンチルまたはｎ−ヘ
キシル、酢酸メチルエステル基；場合によりアルキル置
換され念０＾〜。−シクロアルキル基、例工ばシクロプ
ロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシク
ロヘキシルま光はシクロオクチル；場合により置換され
た芳香族炭化水素残基、例えばフェニル、４−トリメチ
ルメチルフェニル、２−メチルフェニル％３−メチルフ
ェニル、４−メチルフェニル、２−メ）＊ジフェニル、
４−メトキシフェニル、４−フルオルフェニル、４−ｖ
ｓ−ドフェニル、２−クロルフェニル、３−クロルフェ
ニル、４−クロル７エ二ル、３．４−ジクロ、ルフェニ
ル、３−ニトロフェニル、４−ニトロフェニル、１−ナ
フチルまたは２−ナフチル、芳香脂肪族炭化水素残基、
例えばベンジルまたは４−クロルペンシル、ヘテロ環式
炭化水素残基、例えばチェニルまたは２−フリルを表わ
し；Ｒ３、札および／ま念はＲ４は水素、０１〜．−ア
ルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−エチル、イソエチル、ｔ−エチル、２．２−
ジメチル−１−プロピル、ｎ−ペンチルまたはｎ−ヘキ
シル、場合により置換され光芳香族炭化水素残基、例工
ばフェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル
、４−メチルフェニル、２−メ）キシフェニル、４−メ
）キシフェニル、４−フルオルフェニル、２−クロルフ
ェニル、３−クロルフェニル、４−クロルフェニル、３
．４−ジクロルフェニル、３−ニトロフェニルｆ＋は４
−ニトロフェニルを表わし、かつＲ１１および／または
Ｒ１はそれ以外［０１〜４−アルコキシ基、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシまたはｎ−エトキシを衰わ
すかまたはヒドロキシル基を表わし、かつｎは０または
１を表わすものが前記の性質において優れている。

これらの化合物の中でＲ１がメチル、トリメチルメチル
、メチルプロピル、ｎ−ヘキシル。

シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル。

メチルフェニル、トリメチルメチルフェニル、メトキシ
フェニル、フルオルフェニル、ヨーげフェニル、クロル
フェニル、ニトロフェニル。

ベンジルまたはチェニルを表わし、Ｒ１は水素、メチル
またはフェニルを表わし、Ｒ３は水素、メチルまたはヒ
ドロキシルを表わし、Ｒ４は水素、メチル、ジメチルメ
チル、トリメチルメチル、フェニル、ベンジルまたはヒ
ドロキシルを表わし、かつｎは０または１を表わすもの
が卓越した作用に優れている。

本発明による化合物は単独でまたは相互の混合物でまた
は他の作用物質との混合物で使用することかできる。

所望の目的に応じて例えば次の除草作用物質か提示され
、これらは場合により団用直前に本発明による化合物に
添加してもよ−： 置換アニリド、置換アニリン、ｍｓアリールオキシカル
ぜン酸並びにその塩、エステルおよびアミド、置換エー
テル、置換アルソン酸並びにその塩、エステルおよびア
ミド、置換ベンズイミダゾール、＃換ベンズチアゾアゾ
ノンゾオキシド、置換ベンズオキサシン、置換ベンズオ
キサゾノン、蓋喚ビウレット、置換キノリン、置換カー
バメート、置換脂肪族カルぜン酸並びにその壇、エステ
ルおよびアミド、置換Ｎ−アリールスルホニル−Ｎ′−
トリアゾニル−尿素酵導体、ｍｓ芳香族カルがン＃！並
びにその塩、エステルおよびアミげ、置換カルバモイル
アルキル−チオール−またはジチオホスフェート、置換
キナゾリン、置換シクロアルキルアミドカル？ンチオー
ルｒＩＩａびにその１、エステルおよびアミｆ１置喚シ
クロアルキルヵル〆ンアンケ−チアブール、置換ジカル
ボン＊ｔびにその壇、エステルおよびアミド、１ＩＩｔ
換ゾヒげロベンゾフラ二ルスルホネート、置侯ゾスルフ
ィげ、電喚ゾビリゾリウム項、＃喚ゾチオヵーパメート
、置換ソチオリン酸並びにその塩、エステルおよヒアミ
ド、Ｉｌ慣尿素、（ｉ１僕へ争すヒドロー１Ｈ−カルは
チオエート、Ｉｉ喚ヒダントイン、置慣ヒＰラゾド、ａ
僕ヒドラゾニウム塩、ａｍイソキサ・戸−ルピリミげン
、＃を換イミダ・戸−ル、置換イソチアゾールピリミド
ン、置換ケトン、置換ナフト中ノン、ｆｉｔ喚脂肪族ニ
トリル、ｔｌｌｉＩ１１！芳書族ニトリル、置換オキサ
ゾアゾール、Ｉｆ攬オキサゾアゾノン、ｉｔｓオ争サフ
サジアゾリシンジオン喚オキサゾアゾ／ジオン、＃喚フ
ェノール並びにその塩、およびエステル、　ｉｆｍリン
酸並びにその塩、エステルおよびアミげ、置換ホスホニ
ウムクロリｌ＆、Ｉｔ換ホスホンア１ｖ４ルグリゾン、
＃喚ホスファイト、Ｉｔ攬りン＃並びにそり壜、エステ
ルおよびアミＦ、！ｔ（ｌ！ピペリシン、ｆｌｌｌｋ’
ラゾーｌし、１襖ビラ・戸−ルアルキカｊＶゴン酸並び
にその塩、エステルおよびアミド、１を換ピラゾリウム
順、置換ピラゾリウムアルキルスルフェート、ｆＩｔ喚
ピリダゾン、ａＡビリダ・戸ン、置換ピリゾンカルゼン
＃並びに七〇）壜、エステルおよびアンド、置換ピリシ
ン、置換ピリジンカルざキシレート、置換ビリジノン、
１喚ピリミジン、！ｆ喚ピリミドン、置換ピロリシンカ
ルざン＃Ｉ蓋びにその壇、エステルｇよびアミげ、ＩＪ
ｌＩＪ１１！ピロリゾ／、ｌｔ僕ピロリドン、置換アリ
ールスルホン＃並びにその壜、エステルＳよびアミド、
１喚スチロール、置僕テトラヒーローオキサゾアゾンゾ
オン、ＩＩｔ喚テトラヒーローオキサゾア１戸−ルジオ
ン、置換テトラヒ「ロメタノインーデン、置換テトラヒ
ドローシア・戸−ルーチオン、４１喚テトラヒｆローチ
アゾアジン−チオン、置換テトラヒ「ローチアシア・戸
−ルジオン、蓋喚チアシア１戸−ル、置換芳香族チオカ
ルデン酸アミゾ、置換チオカルぜンＩ８１！並びにその
塙、エステルＳよびアミげ、ｔＩｌ換チオールカーバメ
ート、ｖＩｔ喚チオ硬素、貴喚チオリン！！並びにその
場、エステルＳよびアミげ、１喚トリアゾン、Ｉｔ置換
リアゾール、？Ｉｌ喚ウラシル、ｎ礒つレテゾンゾオン
。

その上に池の麻加ａ」、例えば除草３］で烏刀的な作用
４圓χ与える。非愼物毒性の曜加剤、例えば遣＠剤、乳
化剤、嬉＠および油性添加刑【）更用してもよい。

有利に本発Ｉ３１１による作用物シ筐たはそり混合物は
ｌＳＩＩ刑、例えば粉末、散布剤、−粒、１Ｌエマルジ
ヨンまたは噛１列の形状で液体および／または固体のキ
ャリヤもしくは希釈剤および場合により４６ｊ４列、乳
化剤および／または分数助剤の添Ｗ下に１更用される。

好適な液体のキャリヤは例えば水、噌彷嶌および芳香＃
ｅ１２化水素、例１えばベンゼン、トルエン、キシレン
、シクロヘキサノン、イソホロン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド、史に鉱油フラクションでｈ
ｂ。

固体のキャリヤとしては鉱土、例えばトンシル、シリー
カｒル、メルク、カオリン、アタデルヂット（Ａｔｔａ
ｐｕｌｇｉｔ　）、滑石、ケイ酸および種物性生成物、
例えば穀粉が好適である。

界面活性物質は例えばカルシウムリグニンスｐｖホ＊−
ト、ｇリオキシエチレンーアルキルフェノールエーテル
、ナフタリンスルホン酸およびその塩、フェノールスル
ホン酸およびその塩、ホルムアルデヒげ縮合生成物、脂
肪アルコール７、ｔｖｙ：ｃ　−）、ｎヒに置換ベンゼ
ンスルホン酸およびその壇が挙げられる。

檀々の調剤中の作用物質（類）の割合は広範囲内で変化
してよい。例えば剤は作用物質約５〜９５１ｍ１％、液
体ｆたは固体のキャリヤ約９５〜５重量係並びに場合に
より界面活性物質２０重曖憾までン含む。

剤の施与は常法で、例えばキャリヤとして水音用いて＊
ｓｇｔ約１００〜５０００１　／　ｈａで行なわれる。

いわゆる低容會法（Ｌｏｗ−Ｖｏｌｕｍｅ−Ｖ６ｒｆａ
ｈｒｅｎ　）および超低容量法（Ｏｌｔｒａ−１ｏｗ−
Ｖｏｌｕｍｅ−Ｖａｒｆａｈｒｅｎ　）で剤’１ｌｆｆ
ｉ用することはいわゆるマイクロ顆粒の形状での適用と
同様に可能である。

調剤を製造するために例えば次の成分乞イー用する： Ａ、噴４粉木 ａ）作用物質　　　　　　　　　８０重を慢カオリン　
　　　　　　　　１５　Ｉ ｂ）作用物質　　　　　　　　　５０重を囁粘土鉱物　
　　　　　　　　４０　ｌ セルピッチ（Ｚｅｌｌｐｅｃｈ）　　　　　５　　’Ｃ
）作用物＊　　　　　　　　　　２０１１暢粘土鉱物　
　　　　　　　　７０　ｌ セルピッチ　　　　　　　　　５１ 匂ゲニンスルホン酸カルシウムとアル キルフェノールポリグリコール ｄ）作用物質　　　　　　　　　　５１［１％トンシル
　　　　　　　　　８０　ｌ セルピッチ　　　　　　　　１０　１ Ｂ、エマルジョン濃縮物 作用物質　　　　　　　　　　　２０１［曖慢キシレン
　　　　　　　　　　　４０　ｌジメチルスルホキシド
　　　　　３５　１新規の本発明による化合物は例えば
次の方法により使用することかできる： ａ）　一般式二 の化合’ｍｙ一般式： ％式％ ） の化合物または一般式二 １・−一。

（Ｒ，−ＯＨ）ｎＩＶ 醗 の化合物または一般式二 の化合物と塩基の存在で反応させ、かつ所望によりカラ
ムクロマトグラフィー処理によって分離して異性体にｆ
るか、または ｂ）一般式： の化合物を一般式： Ｈ露Ｎ ＼ Ｎ ５ の化合物と反応させるか、または Ｃ）一般式： ％式％ り化合物χ式： Ｈ，Ｎ−ＮＨ−ａｓ−ｙ、　　　　　　Ｖｌのチオセミ
カルパゾＶと反応させて一般式：％式％ の化合物にし、次いでこれ？４基り存在で一般式： Ｒａ　−ＣＨ−Ｈａ　１ ■ （Ｒｓ−ＣＨ）ｎｍ Ｒ亀−ＣＨ−Ｈａｌ の化合＠または一般式： ％式％） の化合物と反応させて一般式： の化合物ヲ形成し、これン堪基性触媒の存在で閉環して
一般式Ｉの所望の方法生成物とするか、または ｄ）　　Ｒ１が０１〜６−アルキルカルボン酸残基また
は”Ｌ−４−アルキルカルプン酸エステル基ン表わす場
合において一般式： ＲＯＯＣ−ＣミＣ−Ｃ０ＯＲＸ のアセチレンジカルヴン酸またはそのエステルを一般式
： の化合物と反応させて一般式： ３ の化合物を形成し、これを塩基の存在で閉場して一般式
： Ｒ３ の化合物にし、これを異性化して一般式１の所望の方法
生成物にする、前記の式中においてＲＬ、Ｒ１、Ｒ３、
Ｒ４およびｎは前記のものを表ワシ、かつＲは水素また
は０１〜４−アルキル基を表わす。

本発明による化合物ケ製造するだめの出発生成物は自体
公知であるかまたは自体公知の方法により製造すること
ができる。

反応成分の一反応は０〜１２０℃、一般に室温と相応す
る反応混合物の還流温度との間で行なわれる。

反応時間は１〜７２時間である。

本発明による化合物の合成には反応成分をほぼ当モル駿
で１ｖ！用する。好適な反応媒体は反応成分に対して不
活性な＃！Ｉ＠である。浴剤ないしは懸４刑の選択は相
応する出発化合物Ｒよび便用される酸受容体ないしは塩
基の＋ｆ！用に左右される。溶剤もしくは一７１１１剤
として例えばエーテル、例えばジエチルエーテル、ゾイ
ソデロビルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキ
サン、脂ＥＢＩｓおよび芳１族炭化水素、例えば石油エ
ーテル、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘゾタン、ベンゼ
ン、トルエンおよび中シレン、カルボン酸ニドＩＪ　ｊ
し、例えばアセトニトリル、およびカルゼン酸アミ−１
例えばジメチルホルムアミドが挙げられる。

酸受容体としては有機４基、例えばトリエチルアミン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリンおよびピリシン塩基または礪
機堪基、例えばアルカリ士金４およびアルカリ金部の酸
化物、水酸化物および炭ｆＩ＆塩が好適で、ある。液体
１基、例えばビリシンは同時に溶剤としてｌｔＩ用する
ことかできる。

前記の方法により製造された本発明による化合物は常法
により反応混合物から、例えばＩＩＪ！用解剤な常圧ま
たは減圧で溜置するかまたは水Ｙ用いて沈＃させて本Ｉ
１１することができる。

本発明による化合物は通常漂色檗夷の結１体であり、こ
れは水およびＢｌ＃肪族炭化水累にＳ！溶であり、ハロ
ゲン化炭化水素、例えばクロロホルムおよび四塩化炭素
１、ケトン、例えばアセトン、カルざン酸アミド、例え
ばジメチルホルムアミド、スルホキシげ、例えばゾメチ
ルスルホキシＦ、カルゲン酸ニトリル、例えばアセトニ
トリルおよび低級アルコール、例えばメタノールおよび
エタノールに中程度から良好に可溶である。

再結晶のための溶剤としては特に四塩化炭素、クロロホ
ルム、トルエン、アセトニトリルおよび酢酸エステルが
提示される。

次に本発明による化合物の製造の例Ｙ記載する。

例　　１ 炭酸水素ナトリウム５０２　ｇ（５，６モル）およびジ
ブロムエタン１５７．５　、！？　（、０，７２モル）
Ｙ２−ｆロバノール７００ｄに装入し、かつこのＰａ濁
ａン還流加熱する。この海鳴混合物中に３−メルカプト
−６−（４−メチルフェニル）−４，５−ジヒドロ−（
１，２，４３トリアゾン−５−オン６１　ｇ（０，３６
モル）、１０％−苛性ソーダ液１４６！ｌＩ８および６
０チー水性２−プロパ７−ル１５００罰から成る混合物
な爾下する。引続き２時間還流温度に加熱し、不溶の炭
酸水素ナト１）ラムχ炉別し、かつ真空中で１縮乾固す
る。傅られる固体の残分Ｙ５％−苛性ソーダ液５００Ｒ
１で洗い、かつ新たＫ濾過する。

残分をケイ酸ｒルで嵯關剤酢酸エステルン用いてカラム
クロマトグラフィー処理にまり分階する。３−（４−潰
チルフェニル）−６，７−ゾヒｈ”ｏ−４Ｈ−−ｆアゾ
ｏ−（２，３−ｃ）（１，２，４１トリアゾン−４−オ
ン２８．８　ｇ（理論の３２％）が得られる。融点：１
９３”Ｃ。

例　　２ ６−メルカデトー６−（４−メトキシフェニル）−４，
５−ゾヒげロー（１，２，４）トリ了シンー５−オン４
８０　、ｆ　（０，２１モル）および１．５−ゾデロム
デロパン１００　ｇ（０−５モル）Ｙ例１に挙げる反応
条件と同様にして反応させる。クロマドグ２フイーによ
る分離後６−（４−メトキシフェニル）−４，６，７，
８−テトラヒｆロー４Ｈ−（１、り）チアジン〔２゜３
−ｃ〕（１，２，４）トリアゾン−４−オン７．７９　
（理論の１４慢）が得られる。融点１８１℃。

例　　３ ３−メルカプト−６−ドリメチルメチルー４．５−ジヒ
タロ（１，２，４）トリアゾン−５−オン１８．５　、
！ｉ＋　（０，１モル）、２．３−ジブロムブタン４３
２　ｇ（０，２モル）およびエチルゾイソデセビルアミ
ン２５８＃（０，２モル）をアセトニトリル２００ｘＪ
［溶かし、かつ還流温度に４８時間加熱する。氷水中に
注ぎ入れ、かつ沈澱する沈澱物’ｔＰ取し、かつケイ＃
Ｒ／ｆル、展開剤ｅｎｍエステルでクロマトグラフィー
処理することにより分離する。６−ドリメチルメチルー
６．７−ゾヒｒロー６．７−ジメチル−４Ｈ−チアゾＯ
（２，３−Ｃ）（１，２，４）トリアゾン−４−オン８
．１　ｇ（埋繍の３４優）が得られる＠一点点：６４℃
。

例　　４ ２−ヒドラゾノー４．５−ジヒドロ−チアデー１ｖヒｆ
ロデ０　ミｐ１９．８１　（０，１モｚｉｖ−ｃタノー
ル２００ＩＬｔに溶かし、１ｏ俤−水性苛性ソーダｌ１
２２０　ｍｌおよび４−トリメチルメチルフェニル−グ
リオキシル酸エチルエステル２３．４、ｌｉ’　（０，
１モｔｖ　）　１Ｎ−次加え、４時間還流飄度に加熱し
、氷水中に注ぎ、沈澱する沈澱物Ｙｆ７”取し、かつ酢
酸エステルから再結畠させる。３−（４−）リメチルメ
チルフェニル）−６，７−ゾヒ）Ｆｏ−４Ｈ−チア・戸
＊（２，３−ｃ）（１゜２．４））リアシン−４−オン
１８．５　ｇ（埋−の６５％）。融点：２０３”Ｏ。

例　　５ ２−ヒげラゾノチアゾールヒＶロデロき１１９．６　ｇ
（０，１モル）８よびフェニルグリオキシル酸メチルエ
ステル１６．４　、！ｉ＋　（０，１モル）を例５と同
様にして反応させる。５−フェニル−４Ｈ−チアゾＧｌ
（２，３−ｃ〕（１，２，４）トリアゾン−４−オン９
．８．９（理論の４５憾）が得られる。一点：１８１℃
。

例　　６ ２−とげランノー２．４．５．６−チトラヒげロー２）
１−ＣＩ　、３］チアシン１２．９　ｇ（０，１モル）
およびフェニルグリオキシル酸メチルエステル１６．４
　、Ｆ　（０，１モル）Ｙ例３と同様にして反応させる
。３−フェニル−４，６，７，８−テトラヒＶロー４Ｈ
−（１，３）チアジン（２，３−ｃ〕（１，２，４）ト
リアジン−６−オン１８．４　ｇ（理論の７５％）か得
られる。

−１［１乏点　二　１５５℃。

例　　７ ３−メルカプト−６−フェニル−４，５−ジヒドロ（１
，２，４１）リアシン−５−オン２０．５９　（０，１
モル）、クロルアセトン１８．４ｇ（０，２モル）およ
び１０％−水性水酸化ナトリウム溶液８０ｒｔｒｌｔエ
タノール２５０履ｊ中で６０゛０で６時間撹拌する。檜
１酸で酸性にし。

〃為つ反応１１’ｌ！欣Ｙ冷却する＠沈澱する沈７曖物
Ｙ−取し、かつケイｅＩＩｒル、展開剤アセトン／石油
エーテル（１：１）Ｙ：用いてカラムクロマトグラフィ
ー処理することにより分離する・３−フェニル−６−メ
チル−４Ｈ−チアゾロ〔２６６−ｃ）（１，２，４））
リアシン−４−オン５．１０．９　（埋繍の２１％）が
傅らｔｉｌｅ　ｓｉ４　：１５８”Ｏ。

例　　８ 例７と同様にして６−メルカデトー６−フエニルー４．
５−ジヒドロ（１，２，４１トリアゾン−５−オン２０
．５　ｇ（０，１モル）ンデロムアセトフエノン３９．
８　ｇ（０，２モル）色反応すせる。カラムクロマトだ
ラフイーによる分１１１１優６．６−ジフェニル−４Ｈ
−チ了・戸口−〔２゜５−Ｃ〕ＣＩ　、２．４３　トリ
アゾン−４−オン４．５８．９（Ｊｌ論の１５慢）が得
られる。融点＝１２５℃。

例　　９ ６−メルカデトー６−フ二二ルー４．５−ジヒーロー（
１，２，４３トリアゾン−５−オン２０．４　ｇ（０，
１モル）奮ゾオキサン１００ｍ１およびゾメチルホＪレ
ムアミド１００１１１１ｊ中に溶カ為し、５０ｑ＆−ク
ロルアセトアルデヒＶｆｍｌ１２０ｍ１ｗ：加え、かつ
６０′Ｏで６時間攪拌する・反応混合物χ氷水中に入れ
、沈澱する沈澱物ｔカラムクロマトグラフィー（展開剤
酢酸エステル／メタノール（９：１）により分ｌｌＩ″
ｆる。３−フェニル−６一ヒｒ口中シー６．７−ジヒド
ロ−４Ｈ−チアデロ（２，５−ｃ〕（１，２，４））Ｉ
Ｊチアゾノ４−オン３．７　ｇ（理論の１５ｓ）が得ら
れる。融点＝２１３℃。

例１０ ３−メルカプト−６−フ二二、ルー４．５−ジヒｒロー
（１，２，４）トリアゾン−５−オン１５１１（０，０
７５モル）を熱時にアセトニトリ’Ｌ’　８００　ｍｌ
に溶かし、エビクロルヒｒリン１３．５ｇ（０，１５モ
ル）およびエチルゾイソデロビルアきン１４．８５　ｇ
（０，１１５モル、）を加え、かつ６０℃で１６時間反
応させる。反応混合物Ｙ真空中でａ縮し−、かつ残分χ
ケイＨｐｆルでカラムクロマトグラフィー処理すること
により分離する（糸酢酸エステル／エタノール９：１）
。

融点１８１“Ｃ０）３−フェニル−７−ヒｒロキシ−４
，６，７，８−テトラヒドロ（１，３）チアゾノー（２
，，３−ｃ）［１，２，４］）リアシン−４−オン３．
６．ｌｉ＋（理論の１９暢）が得られる。

例１１ フェニルグリオキシル酸１５　、！ｉｌ（０，１モル）
Ｙエタノール１１中に溶かす。これに５嘔−水性ｒｎ酸
５００ｍ１中０）５−第４＜カルベン）’９．１＃（０
，１モル）の溶ｇχ加え、かつ反応溶液ｔ９０℃で１５
分攪拌、する。冷却後溶剤の半ｔｖ真空中で溜置し、沈
澱する沈澱ｇＩＪンー過し、水で洗い、η為つ５０９℃
で乾燥する。得られるチオセミカル／４シンＶ再に精製
することなく５４−ソーダ溶液１２０ｄに溶かし、エタ
ノール５０Ｒ１中のクロルアセトン９．２．９　（０，
１モル）を加え、かつ６０℃で２時間攪拌する。冷却し
、１０慢−塩酸で酸性にし、かつ沈澱する沈殿物Ｙ濾過
する。沈澱物ｔビリシン／Ｓ水昨酸（１：１）２ｏｏａ
ｉから成る混合物中に溶かし、かつ６０℃で３時間攪拌
する。反応混合物Ｙ氷水５００ｄ中に注ぎ、沈澱する沈
澱物ｔ濾過し、水で洗いかつｔｎｅエステルから再結晶
させる。

ｊＭ点：１５８℃の３−フェニル−６−メチル−４Ｈ−
チアゾロ（２，３−ｃ〕（１，２，４）−トリアゾン−
４−オン１２．９　＃　（理論の５６１）が得られる・ 前記の例と同様にして相応する出発物質の使用下に次の
化合物−ン製造することかできる・５−トリメチルメチ
ル−６，７−ゾ　１２２℃ヒｙロー４Ｈ−チアゾロ（２
，３− （り（１＠２．４））リアシン−４ −オン ３−（４−メトキシフェニル）−１８８℃６−’ニアー
ジヒドロー４Ｈ−チアゾロ（２，３−ｃ）（１、２，４
）　　ト　リアシン−４−オン ６−（４−クロルフェニル）−６，１８４”０７−ジヒ
ｒロー４Ｈ−チアゾロ〔２゜ ３−ｃ）（１，２，４）トリアジン −４−オン ３−ベンゾルー６．７−ジヒドロ−１６５℃４Ｈ−テア
プロー（２，３−Ｃ） （１，２，４））リアシン−４−オン ３−シクロヘキシル−６，７−ゾヒ　１７８℃げロー４
Ｈ−チアゾロ−Ｃ２，５− ｃ〕（１，２，４１）リアジン−４ −オン ５−ｆｘ＝ｓｖ’＝　６．７−ｙヒ（９ｏ　−２０３″
′０４Ｈ−チアゾロ−〔２，５−ｃ〕 （１，２，４１トリアゾン−４−オン ６−（４−フルオルフェニル）−２０５℃４．６．７．
８−テトラヒドロ−４ Ｈ−（１，５］チ了シノー〔２，３ −ｃ）（１，２，４１−トリアゾン −４−オン ３−（４−ニトロフェニル）−４，２５６℃６．７．８
−テトラヒげロー４Ｈ− （１，３１チアゾノー（２，３−ｃ） （１，２，４）−トリアゾン−４− オン ３−シクロペンチル−４，６，７，、号４８３’０８−
テトラヒドロ−４Ｉ（−（１，３］−チアシノー（２，
３−ｃ）（１゜ ２．４１−）リアシン−４−オン ３−トリメチルメチル−４，６，７，１４８で８−テト
ラヒ「ロー４）！−（１，３］−チアゾノー（２，３−
ｖ〕ｃ１゜ ２．４〕−トリアジン−４−オン ３−へキシル−４，６，７，８−テ　１２１℃トラヒド
ロ−４ｕ−（１，３）−チ アゾノー（，２、３−ｃ　）　（１，２，４）−トリア
ゾンー４−オン ６−（４−ヨー−フェニル）−６，２１５℃７−ジヒド
ロ−４Ｈ−チア・戸口〔２゜３−Ｃ）ｉ、２．４）−１
リアシ ノー４−オン ６−シクロペンチル−６，７−ゾヒ　１７１℃ドロー４
Ｈ−チアゾロ［２，３−ｃ） （１，２，４）−トリアゾン−４− オン ３−（２−メチルプロピル）−６，１５４”Ｃ７−ゾヒ
げロー４Ｈ−チアゾロＣ２゜ ３−ｃ〕（１，２，４］−トリアゾ ン−４−オン ３−トリメチルメチル−４Ｈ−テア　１５１℃ゾロ−Ｃ
２，３−ｃ〕（１，２，４：］］トリアジンー４−オ ン−（２−フルオルフェニル）−４１８１℃Ｈ−チアゾ
ロー（２，３−ｃ〕（：１゜２．４１）リアシン−４−
オン ３−（２−メチルフェニル）−４Ｈ１５０℃−チアゾロ
−［２，３−ｃｌ（１゜ ２．４〕）リアシン−４−オン ３−フェニル−６−メチル−６，７１１４℃−ジヒドロ
−４Ｈ−チアゾロ〔２゜ ３−１１（１，２，４１）リアジン −４−オン ３−フェニル−６−ジメチルメチル　１３２′。

−６，７−ジヒドロ−４Ｈ−チアゾ ロ（２，３−ｃ）（１，２，４）） リアジン−４−オン ３−フェニル−６−ドリメチルメチ・・１６０℃ルー６
．７−ジヒ２０−４Ｈ−チア ゾロＣ２，５−ｃ〕（１，２，４） トリアゾン−４−オン ６−フェニル−６−ベンゾルー６、　１１５℃７−ゾヒ
ｒロー４Ｈ−チアゾロ〔２゜ ３−ｃ）（１，２，４））リアシン −４−オン ３．７−ジフェニル−６，７−ゾヒ　１２４℃ＹＥ：１
−４Ｈ−チアゾｏ（２，３−ｃ）（１，２，４））リア
シン−４−オ ン ３−７エゴルー７−メチルー４．６．　１３８℃７．８
−テトラヒドロ−４Ｈ−（１゜ ３〕テアゾノ（２，３−ｃ）（１゜ ２．４））リアシン−４−オン ３−シクロヘキシル−４Ｈ−チアゾ　１２５”０口（２
，３−ｃ）（１，２，４）） リアシン−４−オン ３−トリメチルメチル−６−メチル　１２８℃−４Ｈ−
チアゾロ（２，３−ｃ〕 （１，２，４１トリアゾン−４−オ ン ６−トリメチルメチル−６−メチル　１１２℃−６，７
−ジヒドロ−４Ｈ−チアゾ ロ〔２，ろ−ｃｌ（１，２，４１） リアシン−４−オン ５−エチル−６，７−ゾヒげロー４１００℃Ｈ−チアゾ
ロ（２，３−ｃｌ（１゜ ２．４〕トリアゾン−４−オン ３−イソゾロピル−６，フージヒド　　７０℃ロー４Ｈ
−デフ９口Ｃ２，５−ｃ） （１，２，４））リアシン−４−オ ン １−（６，７−ゾヒＶロー４−オキ　１０５℃ノー４Ｈ
−チアゾロ（２，３−ｃ） （１，２，４））リアシン−３−イ ル）−蟻酸エチルエステル ２−（６，７−ジヒｒロー４−オキ　１１０℃ソー４Ｈ
−チアゾロ［２，！１−（り （１，２，４）？リアシンー３−イ ル）−プロピオン酸エチルエステル ６−フェニル−６−エチル−６，７１７９℃−ジヒドロ
−４Ｈ−チアゾロ−〔２゜ ３−ｃ）（１，２，４１）リアジン −４−オン ３．７−ジフェニル−６，７−ジヒ　１７０℃ｒロー４
Ｈ−チアゾロー［２，３− ｃ）（１，２，４））リアレノ−４ −オン ３−フェニル−６，７−ジメチル−１５５”０４Ｈ−チ
アゾロ−（２，！１−Ｃ） （”１．２．４）トリアゾン−４−オ ン ６−（４−フルオルフェニル）−６，１８９℃７−ジヒ
ーロー４Ｈ−チアゾロ− Ｃ２，５−ｃ）（１，２，４］　　ト　リアシン−４−
オン ３−（２，４−ジクロルフェニル）２４２−０−６．７
−ジヒドロ−４Ｈ−テアプ ロー（２，３−ｃ〕（１，２，４） トリアゾ／−４−オン ３−（２，４−ジクロルフェニル）　１８１℃−４Ｈ−
チアゾロ−（２，３−ｃ〕 （１，２，４１）リアジン−４−オ ン ５−＜２．４−ジクロルフェニル）　１５６℃−６−メ
チル−６，７−ジヒｒロー ４Ｈ−チアゾロ−（２，３−ｃ） （１，２，４１）リアシン−４−オン ３−（５−クロル−２−チェニル）　１９５℃−６，７
−ジヒＶロー４Ｈ−（２。

３−ｃ〕（１，２，４１）リアジン −４−オン ３−（２，５−ジクロル−６−チエ　１７６℃ニル）−
６，７−ジヒド＊−４Ｈ− チアゾロ（２，３−ｃ）（１，２゜ ４〕トリアゾン−４−オン 以下本発明により１−用することのできる、他の公知の
化合物の製造を記載する。

炭酸水素ナトリウム５０２　ｇ（５，６モル）およびジ
ブロムエタン１３７．５．９　（０，７２モル）’に２
−ゾロパノール７００−に入れ、かつこの＠Ｉｆａｆｌ
’に：ｆｌｌ流加熱する。この沸騰混合物に３−メルカ
プト−６−フェニル−４，５−ゾヒＶロー（１，２，４
１）リアジン−５−オン７３．８．９　（０，３６モル
）、１０暢−苛性ソーダ液１４６−および６０９６−水
性２−ゾロパノール１５００ｍｌの混合物’１ｍ下する
。引続き２時間還流温度に加熱し、不溶の炭酸水素ナト
リウムＹＦ別し、かつ真空中で乾＊ａＩｍする。得られ
る固体の蟻分１に５１−苛性ソーダ４５００ａ＋ｚで洗
い、ｉ）ｈ　”）改め″Ｃ濾過する。残分をケイ＃１ｒ
ルでＷ１開剤酢酸エステルを用いてカラムクロマトグラ
フィーすることにより分離する。３−フェニル−６゜７
−ジヒげロー４Ｈ−チア・戸口（２，３−Ｃ）［１，２
，４１トリアジン−４−オン２８．８　Ｉｉ（珊膚の３
４ｓ）が得られる。一点二１５５℃。

例１３ 例８と同様にして３−メルカプト−６−メチル−４，５
−ジヒドロ（１，２，４］トリアゾン−５−オン１４．
３　ｇ（０，１モル）？反応させてろ一メチル−６，７
−ジヒーロー４Ｈ−チア・戸口（２，３−Ｃ〕（１，２
，４１−）リアジン−４−オン７．４．９　（珊−の４
４係）にする。

融ａ１７１℃。

例１４ ２−ヒげラフノー４．５−ゾヒｒロチア・戸−ルーヒぜ
ロデロミ−１９，８９（０，１モル）Ｙエタノール２０
０ｄに溶かし、順次１０俤−水性苛性ソーダ液８０ゴ２
よび無性デＶつ酸メチルエステル１０゜２　（０，１モ
ル）χ加え、１度（沸し、次Ａで冷却する。沈殿する沈
澱物音Ｐ取し、かつ酢酸エチルエステルから再結晶させ
る。３−メチル−６，７−ゾヒＶロー４Ｈ−チアゾロ［
２，３−ｃ）（１，２，４］−トリアゾン−４−オン１
１．０ｇ（ｉ−の６５暢）か得られる。

一点：１７１℃。

例１５ フェニルグリオキシル酸メチルエステル１６．４１１（
０，１モル）Ｙ：２−ヒダラブノー４．５−ゾヒげロー
テアゾローヒーロデロミド１９．８　、！ｉ’（０，１
モル）と反応させてろ一フェニル−６゜７−ゾヒげロー
４■−チアゾロ（２，３−ｃ〕（１，２，４］トリアゾ
ン−４−オン１ろ、２ｇ（理論の５７優）にする。融点
；１３５°Ｏ０例１６ ２−ヒｆラジノー４．５−ゾヒげ四−チアプールーヒド
ロデロミげ４０．９　（０，２モル）を２襲−苛性ソー
ダ液５００１に溶かし、この溶液χ５℃に冷却シ、アセ
チレンジカルざン醒メチルエステル２８　ｇ（０，２モ
ル）Ｙ少量ずつ加工、かつ２５℃で２時間攪拌する。沈
殿する沈殿物Ｙ　Ｆ　４し、メタノール２５０１ＲＩ中
に溶がし、トリエチルアミン２５１Ｒ１’ｌ加え、かつ
２５℃で１時間攪拌する◎沈殿する沈慮物乞改めて一過
し、次にメタノール５００ｄ中で１時間還流沸鴨する。

次いで溶削χ真空中で装置し、かつ残留する残分を酢酸
エステルから再結晶させる。融点１２３℃の３−力Ｊｖ
ヴメトキシーメチル−６゜７−ジヒドロ−４Ｈ−チフ９
ロ［２，３−ｃ〕〔ｌ　、２．４〕−トリアゾン−４−
オン２４．１１（理論の５′５％）が得られる。

以下の実施例は前記の調剤の形状で行なわれる、本発明
による化合物の使用法を説明する。

例１７ 表に挙げる本発明による化合物を水５００Ｉ／　ｈａに
溶かして作用物質５にｇ　／　ｈａの１ｅ用量で温室内
で試験植物のシナビス（８１ｎａｐｉａ　）　ｓ　ソラ
ヌム（Ｓｏｌａｎｕｍ　）およびセタリア（８ｅｔａｒ
ｉａ）に対して発芽前および茎葉処理で噴霧する。処理
３週間後処理結果を評価する。その際０２作用なし、お
よび４＝橿物の撲ｌｌｉ！Ｙ意味する。表から分るよう
に一般に試−植物の撲滅が得られ例１８ 温室内で発芽前の記載の植物を作用物質０．３もしくは
１ｑ／ｈａの便用型で化合物で処理する。化合物はその
ために水５００１　／　ｈａ　Ｙ用いて水溶液もしくは
懸濁液として均一に土壌に施した・結果は比較化合物と
は異なり本発明による化合物かより良好な相客性ないし
は上り良好な作用Ｙ有することｔ示す。

例１９ 温室内で記載の発芽後の植物を記載の化合物で作用物質
０．５ないしは１確／　ｈａ　（１）　１１！用量で処
理した。そのために化合物？水５００　ｇ　／　ｈａＹ
用ｉて水＠Ａ［’もしくは懸濁液として植物に均一に噴
霧した。この例でも処理６遍間後本発明による化合物は
雑草に対する卓越した作用で高い選択性を示す・比４ｍ
！県剤はこの選択性を示さなかった・

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式： 〔式中Ｒ１は１個または数個の酸素原子またはイオウ原
   子によ゛つて中断されて込でもよ込０ｌ−６−アルキル
   基、０１〜６−アルキルカルがン鹸残基、　０１〜６−
   アルキルカルボン酸エステル基、１個ま九′は数個のア
   ルキルによって置換されていてもよい０トー−シクロア
   ルキル基、１個または数個の０１−４−アルキルおよび
   ／または０１〜４−フルコキシおよび／または０１〜４
   −アルキルチオおよび／ま邂はハｏデンおよび／または
   ニトロ基によって置換されていてもよい芳香族または芳
   香脂肪族炭化水素残基またはヘテｒ：Ｉ虐式炭化水素残
   基を表わし、Ｒ９は水素、０１〜６−アル轡ル基ま九番
   ＼置換されていて４よ匹芳香族炭化水素残基を表わし、
   Ｒ３は水素、０１〜６−アルキル基、置換されていて本
   よい芳香族炭化水素残基。 ベンジル基またはヒドロキシル基な表わし、Ｒ４は水素
   、Ｏ１〜６−アルキル基、置換されていてもよい芳香族
   炭化水素残基、ベンシル基、’１−４−フル＊Φシ基マ
   たはヒドロキシル基を表わし、かつｎは０または１を表
   わす〕のチアゾロ−または（１，３）チアジノ〔２゜３
   −ａ〕（１，２，４））リアジノン少なくとも１種を含
   有することを特徴とする１選択的除草剤。 ２、Ｒ１がメチル、トリメチルメチル、メチルゾロぎル
   、ｎ−ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フ
   ェニル、メチルフェニル。 トリメチルメチルフェニル、メトキシフェニル、フルオ
   ルフェニル、クロ゛ルフェニル、璽＝ｙフェニル、ニト
   ロフェニル、ベンジルまたはチェニルを表わし、Ｒ，ａ
   が水素、メチルまたはフェニルを表わし、Ｒ８が水素、
   メチルまたはヒＰロキシルを表わし、Ｒ番が水素、メチ
   ル、ジメチルメチル、トリメチルメチル。 フェニル、ベンシルまたはヒドロキシルヲ表わし、かつ
   ｎが０または１を表わす一般式Ｉの化合物少なくとも１
   種を特徴する特許請求の範囲第１１記載の除草剤。 ３．３−（４−メチルフェニル）−６，７−ゾヒｒロー
   ４Ｈ−チアゾロ−［：２．３−ａ〕［１，２，４］）リ
   アジン−４−オン、３−トリメチルメチル−６，７−ジ
   ヒＶロー＼４Ｔ１−チアプロ［２，３−ｃ）［１，２，
   ４］トリアジン−４−オン。 ３−（４−メトキシフエニ・ル）−６，７−ゾヒドａ−
   ４Ｈ−チアゾｏ（：２，３−０）［：１゜２．４））リ
   アジン−４−オン。 ３−（４−クロルフェニル）−６，７−ゾヒｒロー４１
   １−チアゾロ［２，５−０）（１゜２．４３）リアジン
   −４−オン、 ３−ベンジル−６，７−シヒドロー４Ｈ−チアゾロ−（
   ２、３−Ｃ）　Ｃ１、２、４）　）　１３アジン−４−
   オン、 ３−シクロヘキシル−６，７−ジヒＰロー４Ｈ−チアゾ
   ロ−［２，３−ｃ〕（１，２，４）トリアジン−４−オ
   ン、 ３−チェニル−６，７−ジヒドロ−４Ｈ−チアゾロ−（
   ２，３−ｃ）〔１，２，４）ト１）アジン−４−オン。 ３−（４−メトキシフェニル）−４，６，７゜８−テト
   ラヒドロ−４Ｈ−［１，３］チアジノＣ２、３−ｃ　）
   　−Ｃ’Ｉ　、　２　、４　）　）　ｌ）アジｙ−４−
   オン、 ３−（４−フルオルフェニル）−ａ、ｓ、７゜８−テト
   ラヒドロ−４ａ−（１，３］チアゾノー［２、５−ｃ　
   ）　ＣＩ　、　２　、４　）　−）　ＩＪチアシノ４−
   オン、 ３−（４−二トロフェニル＞　−４−６−７−８−テト
   ラヒドロ−４）１−［１，３）チアゾノー（２，５−ｃ
   ）（１，２，４）−）リアシン−４−オン、 Ｓ−フェニル−４，６，７，８−テトラヒトａ−４Ｈ−
   ［１，３）−チアジノＣ２，３−０）（１，２，４））
   リアノン−４−オン、３−シクロペンチル−４，６，７
   ，８−テトラヒドロ−４Ｈ”−（１，３）−チアシノー
   ［２、３−ｃ　）　［１、２、４）　−）　Ｉ３アジン
   −４−オン。 ３−トリメチルメチル−４，６，７，８−子トラヒＹロ
   ー４Ｈ−Ｃ１，５）−チアシノー（：２．！１−０１（
   １，２，４３−トリアゾン−４−オン、 ３−へ々シルー４．６，７．８−テトラヒげロー４Ｈ−
   ［：１．３］−チアシノー〔２，３−Ｏ）［１，２，４
   ）−）リアシン−４−オン、 ３−（４−トリメチルメチルフェニル）−６゜７−ジヒ
   １７０−４１−チアゾ”［２，！１−ｏ〕（１，２，４
   ］）リアシン−４−オン。 ”ｓ−Ｃ４−Ｍ−げフェニル）−６，７−シヒドロー４
   Ｈ−チアゾロ［：２，３−０］Ｃ１゜２．４〕−トリア
   ジン−４−オン、 ３−シクロペンチル−６，７−ゾヒげロー４Ｈ−チアデ
   ロ［２，３−ｃ）［：１．２．４）−トリアゾン−４−
   オン。 ３−（２−メチルプロピル）−６，７−ジヒドロ−４Ｈ
   −チア・戸口（２，５−ｃ〕（１゜２．４〕−トリアゾ
   ン−４−オン、 ３−フェニル−４Ｈ−チアゾロ（２，３−ｃｌ（１，２
   ，４））リアシン−４−オン、３−トリメチルメチル−
   ４Ｈ−チアゾロ−［２，３−ｃ）（１，２，４））リア
   シン−４−オン、 ３−（２−フルオルフェニル）−４Ｈ−チア・戸　ロ　
   −　Ｃ２，３−ｃ）Ｃ１，２，４））　　リ−アジン−
   ４−オン、 ３−（２−メチルフェニル）−４Ｈ−チアゾロ−［２，
   ３−Ｃ）１１．２．４］トリアゾン−４−オン、 ３−トリメチルメチル−６，７−ジメチル−６．７−シ
   ヒドロー４Ｈ−チアゾロ［２＃３−Ｃ）（１，２，４３
   ）リアジン−４−オン、３−フェニル−６−メチル−６
   ，７−ゾヒＰロー４Ｈ−チアゾロ［２，３−ｃ］（１，
   ２゜４〕トリアジン−４−オン。 ３−３．７−シフエニルー６．７−ゾヒＰロー４Ｈ〜チ
   アクロ〔２１，３−０”）（１，２゜４〕トリアジン−
   ４−オン、 ３−フェニル−６−メチル−４Ｈ−チアｆｃＩ（２，３
   −ｏ）［１，２，４’））リアジン−４−オン、 ３．６−ジフェニル−４Ｈ−チアゾロ−〔２゜３−ｃ）
   （１，２，４））リアジン−４−オン。 ３−フェニル−６−ヒドロキシル６．７−ジヒドロ−４
   Ｈ−チアゾロ（２，３−ａ）（１゜２．４））リアジン
   −４−オン、 ６−フェニル−ツーヒドロキシ−４、６、７゜８−テト
   ラヒドロ（１，５１チアシノー［２゜３−１］［１，２
   ，４））リアジン−４−オン、 ３−フェニル−６−シメチルメチルー６．７−ソヒドａ
   −４Ｈ−チアゾａＣ２，５−ｃ）（１，２，４））リア
   ジン−４−オン、３−フェニル−６−）リメチルメチル
   −６゜７−ジヒ￥ａ−４Ｈ−チアゾａ［２，３−ａ）［
   ：１．２．４］）リアジン−４−オン、３−フェニル−
   ６−ベンジル−６，７−ジヒドｏ−４Ｈ−チアゾＩ：ｌ
   ［２，３−Ｃ）（１゜２．４））リアジン−４−オン、
   および３−フェニル−７−メチル−４，６，７，８−テ
   トラヒドロ−４Ｈ−Ｃ１，３）チアジノ（２，３−ｃ）
   ［１，２，４））リアシン−４−オンの少なくとも１種
   含有する、特許請求の範囲第１項まｔは第２項記載の除
   草剤。 ４．３−フェニル−６，７−シヒドロー４Ｈ−チアゾロ
   （２，３−ａ）（１，２，４）−）リアジン−４−オン
   ン３−メチル−６，７−シヒドロー４Ｈ−チアゾロＣ２
   、３−ｃ　］［１，２，４）−トリアゾン−４−オンお
   よび／または３−カル〆メトキシメチル−６゜７−ジヒ
   ドロ−４Ｈ−チアゾロ−（２，３−ｃ）（１，２，４）
   ）リアジン−４−オンを特徴する特許請求の範囲第１璃
   または第２項記載の除草剤。 ５、　　＊ヤリャおよび／または助剤との混合物である
   、特許請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１項記載の
   除草剤。 ６、一般式： 式３ 〔式中Ｒ０は１個または数個の酸素原子またはイオウ原
   子によって中断されていてもよい０１〜６−アルキルａ
   、’１−６−アルキルカルボンｌｌ残ｆｉ、　Ｏｚ〜６
   −アルキルカルメン酸エステル基、１個または数個のア
   ルキルによって置換されていそもよい０３〜８−シクロ
   アルキル基、１個または数個の０□〜４−アルキルおよ
   び／または００〜４−アルコキシおよび／または０１〜
   ４−アルキルチオおよび／またはハａｔ”ンおよび／ま
   たはニトロ基によって置換されていてもよい芳香族また
   は芳香脂肪族炭化水素残基またはへテロ環式炭化水素残
   基を表わし、Ｒ８は水素、０１−〇−アルキル基または
   置換されていてもよい芳香族炭化水素残基を表わし、Ｒ
   ３は水素、０１〜６−アルキル基、置換されてｈてもよ
   い芳香族炭化水素残基、ペンシル基またはヒドロキシル
   基を表わし、Ｒ４は水素、０□〜６−アルキル基、置換
   されていてもよい芳香族炭化水素残基、ペンシル基、０
   １〜４−アルコキシ基またはヒドロキシル基を表わし、
   かつｎは０または１を表わす〕の　゛・１、チアゾロ−
   または［”１．３］チアゾノ〔２゜３−ｃ）（１，２，
   ４））リアジノン少なくとも１種を含有する選択的除草
   剤を製造するための方法において、有効成分としての一
   般式１のチア・戸口−または［：１．３］チアソノ（２
   ，３−ｃ）［”１．２．４］）リアジノンを一般式： 〔式中Ｒ１は前記のものを表わす〕の化合物を一般式： ％式％ ） 〔式中”１１ｓＲＩＳ％Ｒ４およびｎは前記のものを表
   わす、〕の化合物と塩基の存在で反応させ。 かつ所望によ°リカラムクロマトグラフィー処理により
   分離して異性体にすることにより得ることを％微とする
   １選択的除草剤の製法。 〔式中Ｒ１は１個または数個の酸Ｒ原子またはイオウ原
   子によって中断されていてもよい−Ｏ１〜６−アルキル
   基、ＯＸ〜６−アルキルカルボン酸残基、　ａ、−ｅ−
   アルキルカルボン酸エステル基、１個または数個のアル
   キルによって置換されていてもよＩＡ０３−ａ−シクロ
   アルキル基、１個または数個の０１〜４−アルキルおよ
   び／または０１〜．−アルコキシおよび／ま念は０１〜
   ４−アルキルチオおよび／またはハロゲンおよび／−！
   ｉたはニトロ基によって置換されていてもよい芳香族ま
   たは芳香脂肪族炭化水素残基またはへテロ環式炭化水素
   残基を表わし、Ｒ１キ水素、０ｌ−６−アルキル基また
   は置換されていてもよい芳香族炭化水素残基な表わし、
   Ｒ３は水素、Ｑｌ〜６−アルキル基、置換されていても
   よい芳香族炭化水素残基、ベンジル基またはヒドロキシ
   ル基を表わし、Ｒ４は水素、Ｏ１〜６−アルキル基、置
   換されていてもよ、い芳香族炭化水素残基、ペンシル基
   。 Ｏユ〜４−アルコキシ基またはヒドロキシル基を表わし
   、かつｎは０または１を表わす〕のチアプローまたは（
   １，３）チアジノ〔２゜３−ｃ〕（１，２，４］）リア
   ジノン少なくとも１種を含有する選択的除草剤を製造す
   る友めの方法において、有効成分としての一般式ｌのチ
   アゾロ−または（１，３）チアジノ（２，３−ｃ）（１
   ，２，４））リアジノンを一般式： 〔式中Ｒ１は前記のものを表わす〕の化合物を一般式： ％式％ 〔式中−１Ｒ３、Ｒ４およびｎは前記のものを表わす〕
   の化合物と塩基の存在で反応させ、かつ所望によりカラ
   ムクロマトグラフィー処理により分離して異性体にする
   ことにより得ることを特徴とする、選択的除草剤の製法
   。 ８、一般式： 〔式中Ｒ１は１個または数個の酸素原子またはイオウ原
   子によって中断されていてもよいｏｌ〜６−アルキル基
   ＊ａｚ−４−アルキルカルメンＩＩ残基、　Ｏ１〜６−
   アルキルカルボン酸エステル基、１個または数個のアル
   キルによって置換されていてもよい０ｓ−ｓ−シクロア
   ルキル基、１個または数個の０１〜４−アルキルおよび
   ／または０１−４−アルコキシおよび／または０１〜４
   −アルキルチオおよび／またはハロデジおよび／ま九は
   ニトロ基によって置換されていてもよい芳香族または芳
   香脂肪族炭化水素残基またはへテロ環式炭化水素残基な
   表わし、Ｒ，は水素、０１＋＠−アルキル基または置換
   されて込でもよい芳香族炭化水素残基な表わし、ＲＩは
   水素、０□−６−アルキル基、置換されていてもよい芳
   香族炭化水素残基、ぺ／ゾル基またはヒドロキシル基を
   表わし、Ｒ４は水素、０１〜６−アルキル基、置換され
   ていてもよい芳香族炭化水素残基、ベンジル基、０１〜
   ４−アルコキシ基またはヒ「ロキシル基を表わし、力１
   つｎは０または１を表わす〕のチアゾロ−または（１，
   ３）チアジノ〔２゜５−ｏ”）（１，２，４１）リアジ
   ノン少なくとも１種を含有する選択的除草剤を製造する
   ための方法において、有効成分としての一般式１のチア
   ｆＩ２−または［１，５］チアジノ、（２，３−０）（
   １，２，４］）リアジノンを一般式： 〔式中Ｒ１は前記のものを表わす〕の化合物を一般式； 〔式−中１．．ＲａおよびＲ４は前記のものを表わすＪ
   の化合物と塩基の存在で反応させ、かつ所望°によりカ
   ラムクロマトゲラフィー処環により分離して異性体にす
   ることにより得ることを特徴とする、選択的除草剤の製
   法。 ９一般式： 〔式中Ｒ０°は１個または数個の酸素原子またはイオウ
   原子によって中断されていてもよい翫１１１ ０１〜６−アルキル基？　’１〜６−アルキルカルざン
   酸残基、０１〜６−アルキルカルメン酸エステル基、１
   １ｖＡまたは数個のアルキルによって置換されていても
   よい０３〜會−シタロアルキル基％１個または数個の’
   １−ＩＬ−アルキルおよび／または０１〜．−アルボキ
   シおよび／または０ｌ−４−アルキルチオおよび／また
   はハａデンおよび／またはｓ＝　）　ａ基によって置換
   されていてもよい芳香族または芳香脂肪族炭化水素残基
   またはへｆｗｉｌ１式炭化水素炭化水素残基、Ｒ，は水
   素％’ｌ−１！−アルキル基または置換されていてもよ
   い芳香族炭化水素残基な表わし、Ｒ３は水素、０１〜６
   −アルキル基。 置換されていて屯よい芳香族炭化水素残基、ベンジル基
   またはヒドロキシル基を表わし、Ｒ４は水素％　’１−
   １１−アルキル基、置換されていてもよい芳香族炭化水
   素残基、ベンジル基、０１−４−アルコキシ基またはヒ
   ドロキシル基な表わし、かつｎは０または１を表わす〕
   のチアゾロ−または（１，２Ｓ〕チアジノ〔２゜５−０
   ）（１，２，４））リアジン少なくともイ種を含有する
   選択的除草剤を製造するための方法において、有効成分
   としての一般式Ｉのチアゾロ−または（１，３）チアジ
   ノ（２，３−０）［１，２，４１）リアジノンを一般式
   ： 〔式中Ｒ１は前記のものを表わし、かつＲは水素または
   ０１−４−アルキル基な表わす〕の化合物と一般式： 〔式中１．、Ｒ３、Ｒ４およびｎは前記のものを表わす
   〕の化合物と反応させることを特徴とする、選択的除草
   剤の製法。 １０、一般式： 〔式中Ｒ１は１個または数個の酸素原子まえはイオウ原
   子によって中断されていてもよい０１−６−アルキル基
   、０１〜６−アルキルカルボン酸残基、　０１〜６−ア
   ルキルカルざン酸エステル基、１個または数個のアルキ
   ルによって置換されていてもよいｏト８−シクロアルキ
   ル基、１個′？！九は数個の０１〜４−アルキルおよび
   ／または’１−４−アルコキシおよび／マタはＯｌ−１
   −アルキルチオおよび／ま九はハロゲンおよび／または
   ニトロ基によって置換されていてもよい芳香族または芳
   香脂肪族−化水素残基またはへテロ環式炭、化水素残基
   を表わし、Ｒ，は水素、０１−６−アルキル基または置
   換されて込てもよい芳香族炭化水素残基な表わし、Ｒ，
   は水素、ｏｌ〜６−アルキル基、置換。 されていてもよい芳香族炭化水素残基、ペンシル基ま九
   はヒドロキシル基を表わし、Ｒ４は水素、０１〜６−ア
   ルキル基、置換されていてもよい芳香族炭化水素残基、
   ペンシル基、０１〜４−アルコキシ基またはとげロキシ
   ル基を表わし、かっｎは０または１を表わす〕のチアゾ
   ロ−まｔは（１，３）チアジノ〔２゜３−ａ〕（１，２
   ，４））リアシン少なくとも１種を含有する選択的除草
   剤を製造するための方法において、一般式： ％式％ 〔式中Ｒ１は前記のものを表わし、かっＲは水素または
   ０□〜４−アルキル基な表わス〕ノ化合物を式： ％式％ のチオセｔカルパゾｒと反応させて一般式：Ｒ１＼、Ｎ
   −ＮＨ−０８−ＮＨ９ 〔式中１ｔ１ｆ？よびＲは前記のものを表わす〕の化合
   物とし、次いでこの化合物を塩基の存在で一般式： ％式％ ） 〔式中Ｒ３、ＲＩＳ、Ｒ，およびｎは前記のものを表わ
   す〕の化合物と一般式： ％式％ 〔式中Ｒ１、Ｒ３、Ｒ３、Ｒ４、ｎおよびＲは前記のも
   のを表わす〕の化合物の形成下に反応させ、これを塩基
   性触媒の存在で閉環して一般式Ｉの所望の方法生成物に
   することを特徴とする、選択的除草剤の製法。 １１、一般式： 〔式中Ｒ１は１個または数個の酸素原子またはイオウ原
   子によって中断されていてもよい０１〜６−アルキルｉ
   、０１〜６−アルキルカルボン酸残基％’１−６−アル
   キルカルボン酸エステル基。 １個または数個のアルキルによって置換されていてもよ
   い０３〜８−シクロアルキル基、１個または数個の０Ｌ
   −４−アルキルおよび／または’１−４−アルコキシお
   よび／または０ｌ−４−アルキルチオおよび／またはハ
   ロゲンおよび／まえはニトロ基によって置換されていて
   もよい芳香族または芳香脂肪族炭化水素残基またはヘテ
   ａ環式炭化水素残基な表わし、Ｒ，は水素。 ０１〜６−アルキル基または置換されてもよい芳香族炭
   化水素残基を表わし、ＲＢは水素、０．〜６−アルキル
   基、置換されていてもよ−い芳香族炭化水素残基、ペン
   シル基またはヒドロキシル基な表わし、Ｒ１は水素、Ｏ
   １〜６−アルキル基、置換されていてもよい芳香族炭化
   水素残基、ベンジル基、０１〜４−アルコキシ基または
   ヒドロキシル基を表わし、かつｎは０または１を表わす
   〕のチアゾロ−または（１，３）チアジノ（２，３−ｃ
   ）（１，２，４））リアジン少なくとも１種を含有する
   選択的除草剤を製造するための方法において、一般式：
   〔式中Ｒ１は前種のものを表わし、かつＲは水素ま九は
   ０１〜４−アルキル基を表わす〕の化合物を式： ％式％ のチオ七電力ルパジｒと反応させて一般式：Ｒｏ／＼０
   　　　′ 〔式中Ｒ１およびＲは前記のものを表わす〕の化合物と
   し、次いでこの化合物を塩基の存在で一般式： ％式％ ） 〔式中Ｒ３、Ｒ１、Ｒ６およびｎは前記のものを表わす
   〕の化合物と一般式： 〔式中Ｒ１％’ｌ、Ｒ３、Ｒ４、ｎおよびＲは前記のも
   のを表わす〕の化合物の形成下に反応させ、これを塩基
   性触媒の存在で閉環して一般式Ｉの所望の方法生成物和
   することを特徴とする、選択的除草−の製法。 １２、一般式： 〔式中Ｒ１は００−６−アルキルカルメン酸残基または
   ０１〜６−アルキルカルメン酸エステル基を表わし、Ｒ
   ，は水素、０１〜６−アルキル基または置換されていて
   ４よい芳香族炭化水素残基を表わし、Ｒ３は水素、０１
   〜．−アルキル基、置換されていでもよい芳香族炭化水
   素残基、ベンジル基またはヒドロキシル基ヲ表わし、Ｒ
   ４は水素、０１〜６−アルキル基、置換されていてもよ
   い芳香族炭化水素残基、ベンジル基？’１−４−アルコ
   キシ基またはとｔＰｏ＊シル基を表わし、かつｎは０ま
   たは１を表わす〕のチアゾロ−まえは（１，３）チアジ
   ノ（２，３−ｃ）［１，２，４３）リアジン少なくとも
   １種を含有する選択的除草−剤を製造するための方法＃
   ＩＣおいて、 一般式：　　　ＲＯＯＯ−Ｑ−！０−０００ＲＸ〔式中
   Ｒは前記のものを表わす〕のアセチレンジカルボン酸ま
   友はそのエステルを一般式；Ｃ式中ち、Ｒ３、Ｒ４およ
   びｎは前記のものを表わす〕の化合物と一般式： 〔式中Ｒ，、Ｒ３、Ｒ４、ｎおよびＲは前記のものを褒
   わす〕の化合物の形成下に反応させ、これを塩基の存在
   で閉環して一般式： 〔式中Ｒ３、Ｒ３、ＲいｎおよびＲは前記のものを表わ
   す〕の化合物にし、これを異性化して一般式Ｉの所望の
   方法生成物にすること−を特徴とする、選択的除草剤の
   製法。