JPS5825657B2 - シンキビス − アルカノ−ルアミンルイノ セイゾウホウホウ - Google Patents

シンキビス − アルカノ−ルアミンルイノ セイゾウホウホウ

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JPS5825657B2
JPS5825657B2 JP48025943A JP2594373A JPS5825657B2 JP S5825657 B2 JPS5825657 B2 JP S5825657B2 JP 48025943 A JP48025943 A JP 48025943A JP 2594373 A JP2594373 A JP 2594373A JP S5825657 B2 JPS5825657 B2 JP S5825657B2
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シユテール ヘルムート
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トラウネツカー ベルナー
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なラセミまたは光学活性のビス−アルカノ
ールアミン類およびそれらの酸付加塩、医薬品としての
本新規化合物の使用ならびに本新規化合物の製造方法に
関する。
この新規化合物は一般式■ を表わし;そしてR2は水素、塩素または臭素原子を表
わすか、またはR1とR2とは一緒になって2・3
(CH2)4−12・3− CH=CH−CH=CH−または3・4−(CH2)3
−を表わし;R3は水素、塩素または臭素原子を表わし
;R4は水素を表わし;そしてnは1〜10の整数であ
る。
本新規化合物は次の経路により製造される:(1)一般
式■ 〔式中、R1−R3は前記意味を有し、Zは基または (Hal −ハロゲン原子)を意味する〕 の化合物と一般式 %式%() (式中、R4とnは前記意味を有する) のアルキレンジアミンとの反応。
(2)一般式■ (式中、R1−R4は前記意味を有する)の化合物と一
般式 %式%() (式中、nおよびHa lは前記意味を有する)のアル
キレンジノ・ライドとの反応。
(3)一般式■ (式中、R1−R4ならびにnは前記意味を有し、Sc
hは水素添加により除去されるベンジル基である) のビスー第三アミンの保護基Schの分解。
この調力法によればR4が水素原子である一般式■の化
合物が得られる。
(4)一般式■ (式中、R1−R4およびnは前記意味を有する)の化
合物と一般式■の化合物との反応。
同様に一般式Iの化合物はつぎの方法によっても製造す
ることができる。
(5)一般式■a (式中、R4,nおよび2は前記意味を有する)の化合
物と一般式xm (式中、R1−R3は前記意味を有する)のフェノール
類またはその塩との反応。
この反応はとりわけR4がアルキル基を意味する一般式
Iの化合物を製造するのに適している。
一般式■〜X■の出発物質は=部公知である。
公知でない場合にかぎり通例方法に従って製造すること
ができる。
このようにして、一般式■のエポキシド類は一般式X■
の相応フェノール類もしくはその塩(好ましくはアルカ
リ塩)とエピクロロヒドリンとの反応によって得られ、
それから相応するハロゲン化水素酸H−Halで開環し
て一般式■のハロヒドリン類が製造される。
基R4がアルキル基を意味する一般式■の化合物はR4
が水素原子を意味する一般式■の相応化合物とふつうの
アルキル化剤R2−X(X=反応性エステル基、例えば
ハロゲンまたはトルエンスルホニルオキシ基)とから製
造できる。
第二アルキル基は同様にして相応するケトン(例えばア
セトン)およびNaBH4で還元的にアミン化して得ら
れる。
一般式■の化合物は一般式■の化合物とアミンNH2−
R4(R4は前記意味を有する)との反応から適切に得
ることができる。
一般式Vの化合物は相応するジアルコール類HO−(C
H2)n−OHから、5OC12またはPCl5のよう
なふつうのハロゲン化剤との反応により得ることができ
る。
一般式■の化合物は一般式■の化合物と一般式VI S ch)(lt’J (CH2) n ’I’□
S ch (XVI )(式中、Schおよびnは
前記意味を有する)ノシアミン類との反応により適切に
製造される。
一般式X■の化合物は、R4が水素原子である一般式■
の化合物を保護基を生成するふつうの反応剤(例えば臭
化ベンジル、塩化アセチル、カルボベンゾオキシクロリ
ド)と反応させて製造することができる。
一般式■の化合物は一般式■の化合物(その製造は前述
したとおり)をアミン類NH2−R,(R4は前記定義
のとおり)と反応させて適切に得られる。
一般式■aの化合物は一般式■の化合物とエピクロロヒ
ドリンとの反応により得られる。
このようにして得られた一般式■aのハロヒドリン類は
カセイソーダ水溶液により一般式■aのエポキシド類に
変換することができる。
一般式■の本発明化合物は2個の不斉炭素原子を有して
いるので、ラセミ体として乃至は光学対掌体の形で存在
する。
これらは例えばジー0・0−p−)ルイルーD−酒石酸
のような光学的活性補助酸で分割することができる。
生理学的に許容し得る酸類、例えば塩酸、臭化水素酸、
マレイン酸、乳酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、硫酸
、または酒石酸を用いて本発明化合物を酸付加塩に変換
することができる。
一般式■の化合物およびそれらの生理学上許容し得る酸
付加塩は動物実験において価値ある治療学的性質、特に
抗アドレナリン性および抗高血圧性の性質を示す。
特に注目すべきことは前記化合物により刺激された心臓
のβ−受容体の心臓選択的ブロッキング、所謂β1−作
用である。
このように本発明化合物は心臓病もしくは冠動脈性心臓
病および血圧疾患の処置や予防用に人間医薬に使用され
る。
それ故、R1が側鎖に対し、0−またはp−位にある不
飽和置換基例えばCN、エチニル、アリル、アリルオキ
シまたはプロパルギルオキシ基を表わす化合物が特に価
値を有している。
場合により分枝したヒドロキシアルキル基をもつモノ置
換が作用強度に対し、好適な効果を有する。
R1が側鎖に対し、O−またはp−位にあるアシルアミ
ノ(例、アセトアミド)またはアルキルスルホンアミド
およびジアルキルスルホンアミド(例、メチル−および
ジメチル−スルホンアミド)基を表わす物質も同様に価
値ある心臓選択性β−ブロッキング作用を有する。
非常に良好な心臓選択作用はR1がp−位のC0OH−
基である一般式■の化合物が示す。
特に価値ある物質としては例えばN−N’−ビス〔2−
ヒドロキシ−5−(2−シアノフェノキシ)−1−プロ
ピル〕−1・6−へキサメチレンジアミンが強調される
本発明化合物の1回投与量は1〜300■、好ましくは
1〜60m9(経口)乃至0.1〜30771p(非経
口)である。
本発明化合物乃至その酸付加塩を溶液、エマルジョン、
錠剤、被覆錠剤、生薬または持続放出型のようなふつう
の投与形態に製剤化するには公知方法により、ふつうの
賦形薬、担体、崩壊剤、結合剤、被覆剤、潤滑剤、香料
、甘味剤、放出持続付与剤または可溶化剤を用いて遂行
することができる。
本発明化合物およびその酸付加塩は同様に他の冠動脈拡
張剤、交感神経興奮剤またはトランキライザーとの併用
にも適している。
以下に述べる実施例は本発明を何等匍肌することなしに
本発明を説明するものである: 実施例 I N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(2−アリル
フェノキシ) −1−フロビルクーエチレンジアミン・
2塩酸塩(プロセス1による)1−(2−アリルフェノ
キシ)−2・3−エポキシプロパン19P(0,1モル
)をエタノール150rrLlに溶解し、エチレンジア
ミン3?(0,05モル)を添加し、2時間還流加熱す
る。
冷却後、溶媒を留去し、残渣を希塩酸に溶解する。
不溶解分を分離し、水溶液をカセイソーダでアルカリ性
に調整する。
沈殿した塩基性部分をエーテルで抽出し、有機相を分離
し、水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥する。
エーテルを留去後、残渣が131残り、これを少量のエ
タノールに溶解し、エーテル性塩酸と混合する。
沈殿した塩酸塩をメタノールから2回再結晶し、ついで
処理し、吸引瀝過し、乾燥する。
収量:4.5P、融点:248〜251℃ 実施例 2 N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(3−Lヒド
ロキシメチルフェノキシ)−1−プロピル〕−1・4−
ブチレンジアミン・2塩酸塩(プロセスlによる) 1−(3−ヒドロキシメチルフェノキシ)−2・3−エ
ポキシプロパン12F(0,066モル)をエタノール
100m1中で1・4−ジアミノブタン2.93P(0
,033モル)と2時間還流加熱する。
溶媒を留去したのち、残渣をエタノールに溶解し、エー
テル性塩酸を添加する。
塩酸塩は粘重な油として沈殿する。
エーテルで数回処理し、ついでエタノールと一緒に沸騰
する。
冷却後、無色結晶(3,4ft) カ得られ、これはメ
タノールからエーテルの添加下に再結晶するときは、融
点は189〜190℃となる。
実施例 3 N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(2−シアノ
フェノキシ)−1−プロピル〕−1・4−ジアミノブタ
ン・2塩酸塩(方法1による)1−(2−シアノフェノ
キシ)−2・3−エポキシプロパン20f(0,114
モル)および1・4−ジアミノブタン3.7P(0,0
42モル)をメタノール100yd中で2時間還流加温
する。
メタノールを留去したのち、残った残渣をエタノールに
溶解し、エーテル性塩酸で酸性化する。
沈殿した結晶をメタノールから再結晶する。
融点:227〜228℃、収量:3.5グ 実施例 4 N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(2−アリル
オキシフェノキシ)−1−プロピル〕−1・2−エチレ
ンジアミン・2塩酸塩(フロセス1による) 1−(2−アリルオキシフェノキシ)−2・3−ニポキ
シプロパン10.:l(0,05モル)およヒーr−y
−レンジアミン1.!1l(0,025モル)ヲエタノ
ール100TLl中で2時間還流加熱する。
溶媒を留去したのち、固体残渣(12,6f)を酢酸エ
チルから石油エーテルの添加下に再結晶する。
塩基をメタノールに溶解し、エーテル性塩酸を添加する
析出した塩酸塩を再びメタノールから再結晶する。
収量:2.=l、融点:188〜190℃実施例 5 N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(4−アセチ
ルアミノフェノキシ)−1−プロピル〕−1・6−へキ
サメチレンジアミン(プロセス1による) 1−(4−アセチルアミノフェノキシ)−2・3−エポ
キシプロパン20.1’(0,1モル)を1・6−へキ
サメチレンジアミン5.8 P (0,05モル)とエ
タノール20OrrLl中で2時間還流加熱する。
冷却後、このジアミン誘導体を無色結晶として単離し、
メタノールから数回再結晶する。
融点:179〜181℃、収率:5.8P実施例 6 N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(2−シアノ
フェノキシ)−1−プロピル〕−1・6−へキサメチレ
ンジアミン・2塩酸塩(プロセス1による) 1−(2−シアノフェノキシ)−2・3−エポキシプロ
パン87.5P(0,5モル)ヲヘキサメチレンジアミ
ン29?(0,25モル)とメタノール750m1中に
溶解し、沸点で3時間還流加熱する。
溶媒を留去したのち、残渣を希塩酸約7oornlで処
理し、不溶解方を分離する。
水相をカセイソーダで分別し、アルカリ性に調整すると
pH7,5〜8.5で沈殿する塩基性分はエーテルに移
るから水で洗う。
乾燥後、エーテルを留去し、残った塩基約161をメタ
ノールに溶解し、アルコール性塩酸で酸性化する。
エーテルを添加すると融点200〜203℃の分析上純
粋な塩酸塩9?が析出する。
実施例 7 N−N−ビス−イソプロピル−N−N’−ビス−〔2−
ヒドロキシ−5−(3−)リルオキシ)−1−フロビル
〕−1・2−エチレンジアミン・2修酸塩(プロセス2
による) 1−(3−)リルオキシ)−3−イソプロピルアミノ−
2−フロパノール22.31(0,1モル)をエチレン
−1−2−ジブロミド9.5 S’ (0,05ンモル
)および重炭酸ナトリウム12.6P(0,15モル)
と一緒にテトラヒドロフラン100rrLlおよびジメ
チルホルムアミド25m1の混合物中で攪拌しながら1
7時間還流加熱する。
溶媒を留去したのち、希塩酸で酸性化し1、クロロホル
ムで2回振出し、有機相を水洗し、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、クロロホルムを留去する。
残渣(19?)を水で処理し、吸引瀝過し、希カセイソ
ーダと混合する。
沈殿した塩基性部分をエーテルに取り入れ、この有機相
を水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥する。
エーテルを留去し、残渣をアセトンに溶解し、修酸のア
セトン溶液と混合する。
エーテルを添加すると、修酸塩が粘重な状態で分離する
これをアセトニトリルから再結晶する。
融点ニア5〜80℃、収量:4グ 実施例3(プロセス1)と同様にして、次表の一般式■
の化合物が一般式■の相応エポキシドおよび一般式■の
相応アルキレンジアミンから製造される: 実施例 8 N−N’−ビス−(2−ヒドロキシ−3−α−ナフトキ
シ−1−プロピル)−1・6−へキサメチレンジアミン
・2塩酸塩(プロセス3による)N−N’−ビス−(2
−ヒドロキシ−3−α−ナフトキシ−1−プロピル)−
N−N’−ビス−ベンジル−1・6−へキサメチレンジ
アミン3.71をメタノール80m1中で6気圧下、6
0〜80°Cでパラジウム炭の存在下に水素添加する。
理論量の水素の吸収がすんだら冷却し、触媒を分離する
溶媒を真空留去し、残渣を少量のメタノールに溶解する
エーテル性塩酸で酸性化し、エーテルを添加する。
塩酸塩が無色結晶として析出する。融点:197〜19
9℃。
この化合物はプロセス1に従って得た物質と同一である
混融点:197〜200℃ 実施例 9 N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(2−シアノ
フェノキシ) −1−フロビル〕−1・6−へキサメチ
レンジアミン・2塩酸塩(プロセス4による) 1−(2−シアノフェノキシ)−3−(6−アミンへキ
シルアミノ)−2−プロパツール1.451(0,00
5モル)をメタノール20rrLl中で1−(2−シア
ノフェノキシ)−2・3−エポキシプロパン0.881
(0,005モル)と3時間還流加熱する。
冷却後、溶媒を蒸発し、残渣を希塩酸で処理する。
活性炭上に瀝過し、P液を注意しながらカセイソーダと
混合する。
pH7,5〜8.5の間で沈澱する塩基部分をエーテル
に分配し、水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥する。
このエーテルを留去し、残渣を少量のメタノールに溶解
し、エーテル性塩酸を添加する。
無色の融点199〜202°Cの塩酸塩が析出する。
本物質はプロセス1(実施例6)に従って得た生成物と
同一である。
さらに、次の化合物が実施例1と同様にして得られる: N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(5・6−7
・8−テトラヒドロ−1−ナフトキシ)−1−プロピル
〕−へキサメチレンジアミン・2塩酸塩、融点162〜
163℃、1−(5・6・7・8−テトラヒドロ−1−
ナフトキシ)−2・3−エポキシプロパンおよびヘキサ
メチレンジアミンから。
N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(4−ter
t 、−ブチルフェノキシ)−1−プロピル〕−へキサ
メチレンジアミン、融点:223〜226℃、1−(4
−tert 、−ブチルフェノキシ)2・3−エポキシ
プロパンおよびヘキサメチレンジアミンから。
N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(5−インダ
ニルオキシ)−1−プロピル〕−へキサメチレンジアミ
ン・2塩酸塩、融点:255〜258℃、■−(5−イ
ンダニルオキシ)2・3−エポキシプロパンおよびヘキ
サメチレンジアミンから。
実施例 1O N−N’−ビス−(1−(2−クロロ−5−メチルフェ
ノキシ)−2−ヒドロキシプロピル−3〕−プチレン−
1・4−ジアミン・2塩酸塩(プロセスlによる) 1−(2−クロロ−5−メチルフェノキシ)−2・3−
エポキシプロパン8.451(0,042モル)をエタ
ノール75m1に溶解し、ブチレンジアミン−1・41
.851(0,021モル)を添加する。
沸騰点で還流加熱し、それから蒸発乾固する。
残渣をエーテルで研和し、固体部分を酢酸エチルからエ
ーテルを添加して再結晶する。
この無色結晶をメタノールに溶解し、この溶液をエーテ
ル性塩酸で酸性化する。
塩酸塩が無色結晶として析出する。
収量:2.5グ、融点:233〜235C 実施例 11 N−N’−ビス−(1−(2−クロロ−5−メチルフェ
ノキシ)−2−ヒドロキシ−プロピル−3〕−エチレン
ジアミン−(1・2)−2塩酸塩(フロセス1による) 1−(2−クロロ−5−メチルフェノキシ)−2・3−
エポキシプロパン10f(0,05モル)およびエチレ
ンジアミン1.5f(0,025モル)をエタノールL
oom/に溶解する。
融点に2時間還流加熱したのち、氷水で冷却すると、ビ
スアルカノールアミンが析出する。
この結晶を吸引瀝過し、ジメチルホルムアミドから再結
晶する。
融点156〜160℃の無色塩基をメタノールに溶解し
、エーテ4塩酸を添加する。
塩酸塩が無色結晶として析出する。
収量:3.2P、融点:255〜260°C0実施例
12 N−■−ビスー(1−(2−クロロ−5−メチルフェノ
キシ)−2−ヒドロキシプロピル−3〕−へキサメチレ
ン−1・6−ジアミン・2塩酸塩 N−N’−ビス−(1−(2−クロロ−5−メチルフェ
ノキシ)−2−ヒドロキシ−プロピル−3〕−N−N’
−ジベンジルへキサメチレン−1・6−ジアミン・2塩
酸塩14.5P(0,019モル)をパラジウム炎上で
メタノール20077Il中、60℃、6気圧下に理論
量の水素の吸収がなされるまで水素添加する。
触媒を分離したのち、溶媒を留去し、固体残渣をエタノ
ールからエーテルの添加下に2回再結晶する。
収量:5.6グ、融点:207〜210℃実施例 13 N−N’−ビス−(1−(2−アリルオキシフェノキシ
)−2−ヒドロキシプロビル−3〕−エチレン−1・2
−ジアミン・2塩酸塩(プロセス1による) 1−(2−アリルオキシフェノキシ)−3−ブロモ−2
−フロパノール8 P (,0,028モル)を触媒量
のp−)ルエンスルホン酸の存在下にジヒドロピラン7
.9r10.09モル)と攪拌しながら、温度を40℃
に保つように冷却しながら、検体に反応させる。
さらに40℃に30分間保ったのち、ベンゼン100T
Llを添加し、エチレンジアミン1.7′y(0,02
8モル)を滴加する。
6時間加熱したのち、80℃に冷却し、水で2回洗い、
有機相を分離する。
ベンゼンを留去したのち、残渣10.9rが残る。
これを希塩酸30TLlに溶解し、60〜70℃に30
分間加熱する。
冷却後、カセイソーダでアルカリ性に調整し、クロロホ
ルムで抽出し、水洗する。
硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、クロロホルムを留去
し、残渣をシリカゲルカラム上で精製する。
純粋塩基を少量のエタノール中アルコール性塩酸で酸性
化し、エーテルを添加すると、塩酸塩が結晶化する。
吸引瀝過したのち、この結晶をアルコール/エーテルか
ら再結晶する。
融点=187〜190℃。実施例4に述べた物質との混
融点は186〜190℃である。
実施例 14 N−N’−ビス−(1−(2−シアノフェノキシ)=2
−ヒドロキシ−プロビル−3〕−プロピレン−1・3−
ジアミン(プロセス5による)エビクロロヒドリンc+
、z5P(o、otモル)をエタノール50m1に溶解
し、エタノール30m1に溶解したプロピレン−1・3
−ジアミン3.71を添加し、55℃に攪拌しながら2
時間加熱する。
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム上で精製する。
単離したN−N’−ビス−(2−ヒドロキシ−3−クロ
ロプロピル−1)−プロピレン−1・3−ジアミン4.
21(0,02モル)をメタノール207dに溶解し、
これを2−シアンフェノール4−8 f (0,04モ
ル→およびカセイカリ2.21(0,04モル)をメタ
ノール30ydに溶解した溶液に攪拌しながら滴加する
それから、沸騰点に6時間還流加熱する。
溶媒を留去したのち、この反応混合物をシリカゲルカラ
ム上で精製する。
所望化合物を含有するフラクションを合併し、溶媒混合
物を留去し、残渣を少量のエタノールに溶解し、エーテ
ル性塩酸を添加する。
分離した無色結晶の融点は217〜220℃である。
実施例3(プロセス1)と同様にして、下記の一般式■
の化合物を製造した: N −N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(2−ヒド
ロキシカルボニルフェノキシ)−1−プロピル〕−1・
2−エチレンジアミン・2塩酸塩、融点263〜266
℃; N−R−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(4−アミノフ
ェノキシ)−1−プロピル〕−1・4−ブチレンジアミ
ン、融点105〜108℃:N−N’−ビス−〔2−ヒ
ドロキシ−5−(3・5−ジブロモ−4−アミノフェノ
キシ)−1−プロピル〕−1・6−ヘキサメチレンジア
ミン・4臭化水素酸塩、融点228〜230℃; N−マービス−〔2−ヒドロキシ−5−(2−アミンメ
チルフェノキシ)−1−プロピル〕−1・6−ヘキサメ
チレンジアミン・2塩酸塩、融点223〜226℃ ; N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(4−アミノ
フェノキシ)−1−プロピル〕−1・6−へキサメチレ
ンジアミン・塩酸塩、融点129〜131℃(塩基); N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(2−ヒドロ
キシカルボニルフェノキシ) −1−7’ロピル〕−1
・4−テトラメチレンジアミン・2塩酸塩、融点208
〜209℃; N−マービス−〔2−ヒドロキシ−5−(4−ヒドロキ
シカルボニルフェノキシ)−1−7”ロピル〕−1・4
−テトラメチレンジアミン・2塩酸塩、融点293℃; N−N’−ビス−〔2−ヒドロキン−5−(4−ヒドロ
キシカルボニル)−1−プロピル〕−1・6−へキサメ
チレンジアミン・2塩酸塩、融点287〜288°G
: N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(4−ヒドロ
キシカルボニルフェノキシ〕−1−プロピル〕−エチレ
ンジアミン・2塩酸塩、融点300℃ ; N−マービス−〔2−ヒドロキシ−5−(4−シアノフ
ェノキシ)−1−プロピル〕−1・6−へキサメチンン
ジアミン・2塩酸塩、融点207〜209℃; N−N’−ビス−ジメチル−N−N’−ビス−〔2−ヒ
ドロキシ−5−(2−シアノフェノキシ)−1−プロピ
ル〕−1・2−エチレンジアミン・2シユウ酸塩、融点
152〜154℃: N−N’−ビス−〔2−ヒドロキシ−5−(2−シアノ
−4・6−ジクロロフェノキシ)−1−プロピル〕−1
・5−ペンタメチレンジアミン・2塩酸塩、融点227
〜228℃;および N−N−ビス−(l−(2−クロロ−5−メチルフェノ
キシ)−2−ヒドロキシプロピル−3〕−N−N’−ビ
ス−メチル−へキサメチレン−1・6−ジアミン、2塩
酸塩、融点185〜189℃。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 1式中R0は1〜5個の炭素原子を有するアルキル、H
    2C−CH−CH2−1H2C−CH−CH2C−1H
    C三C−CH2−0−1HC三C−1HOCH2−1H
    3CO−1CN−1H3C−CO−1HOOC−1H3
    C−00C−1H2N−CO−1H2N−102N−1
    F3C−1H3C−CO−NH−1H3C−CO−NH
    −CH2−1 H3C−NH−CO−NH−1 H5C−Nu−CO−NH−CH2−1C6H11−1
    H2N−CH2−1H5C2−CO−1塩素または臭素
    を表わし;そして R2は水素、塩素または臭素原子を表わすか、または R1とR2とは一緒になって2・3− (CH2)4−12・3−CH=CH−CH=CH−ま
    たは3・4−(CH2)謀を表わし; R3は水素、塩素または臭素原子を表わし;R4は水素
    を表わし;そして nは1〜10の整数を表わす〕 の新規なラセミ体または光学活性のビス−アルカノール
    アミン化合物およびそれらの生理学上許容し得る酸付加
    塩の製造方法において、 一般式■ 〔式中、R0〜R3は前記意味を有し、Zは基または (ここに Halはハロゲン原子である)を意味する〕の化合物を
    一般式■ R,IN−(CH2)n−NHR4(III)(式中、
    R4およびnは前記意味を有する)のアルキレンジアミ
    ンと反応させる、ついで所望により、得られた塩基を生
    理学的に許容される酸付加塩を形成するに適する酸と反
    応させて酸付加塩を形成する工程、または得られた1式
    のラセミ体化合物を適当な補助酸との反応によりそのジ
    アステレオマー塩を形成し、分別結晶により分割する工
    程および所望により得られた塩を別の生理学的に許容さ
    れる酸付加塩に変換する工程を行なうことよりなる方法
    。 2 一般式 〔式中R1は1〜5個の炭素原子を有するアルキル、H
    2C=CH−CH2−1 H2C=CH−CH2O−1HC三C−CH2−0−1
    HC三C−1HOCH2−1H3CO−1CN−1H3
    C−CO−1HOOC−1H3C−0OC−1H2N−
    Co−lH2N−102N−1F3C−1H3C−CO
    −NH−1H3C−CO−NH−CH2−1H3C−N
    H−Co−NH−1 HaCNT(Co NI(CH2−1C6H1、−1
    H2N−CH2−lH5C2−CO−1塩素または臭素
    を表わし;そして R2は水素、塩素または臭素原子を表わすか、または R1とR2とは一緒になって2・3− (CH2)4−12・3−CH=CH−CH=CH−ま
    たは3・4− (CH2) 3基を表わし;R3は水素
    、塩素または臭素原子を表わし;R4は水素を表わし:
    そして nは1〜10の整数を表わす〕 の新規なラセミ体または光学活性体のビス−アルカノー
    ルアミン化合物およびそれらの生理学上許容し得る酸付
    加塩の製造方法において、 一般式■ (式中、R1−R4は前記意味を有する)の化合物を一
    般式V Hat−(CH2)n−Hal (V)(式中
    、nは前記意味を有し、Halはハロゲン原子である)
    のアルキレンシバライドと反応させる、ついで所望によ
    り、得られた塩基を生理学的に許容される酸付加塩を形
    成するに適する酸と反応させて酸付加塩を形成する工程
    、または得られた1式のラセミ体化合物を適当な補助酸
    との反応によりそのジアステレオマー塩を形成し、分別
    結晶により分割する工程および所望により得られた塩を
    別の生理学的に許容される酸付加塩に変換する工程を行
    なうことよりなる方法。 3 一般式 〔式中R1は1〜5個の炭素原子を有するアルキル、H
    2C=CH−CH2−1H2C=CH−CH20−1H
    C三C−CH2−0−1HC三C−1HOCH2−1H
    3C〇−1CN−lH3C−CO−1HOOC−1H3
    C−00C−1H2N−Co −1H2N−l02N−
    1F3C−1H3C−CO−NH−1H3C−CO−N
    H−CH2−1 H3C−NH−CO−NH−1 H3C−NH−CO−NH−CH2−1C6H1□−1
    H2N−CH2−lH5C2−CO−1塩素または臭素
    を表わし;そして R2は水素、塩素または臭素原子を表わすか、または R1と馬 とは一緒になって2・3− (CH2)4−12・3−CH=CH−CH=CH−ま
    たは3・4 (CH2)3基を表わし、 R3は水素、塩素または臭素原子を表わし;R4は水素
    を表わし;そして nは1〜ioの整数を表わす〕 の新規なラセミ体または光学活性体のビス−アルカノー
    ルアミン化合物およびそれらの生理学上許容し得る酸付
    加塩の製造方法において、一般式■(式中、R1−R3
    ならびにnは前記意味を有し、Schは水素添加により
    除去されるベンジル基である) の化合物のSch基を水素原子で置換する、ついで所望
    により、得られた塩基を生理学的に許容される酸付加塩
    を形成するに適する酸と反応させて酸付加塩を形成する
    工程、または得られた1式のう1セミ体化合物を適当な
    補助酸との反応によりそのジアステレオマー塩を形成し
    、分別結晶により分割する工程および所望により得られ
    た塩を別の生理学的に許容される酸付加塩に変換する工
    程を行なうことよりなる方法。 4 一般式 〔式中R1は1〜5個の炭素原子を有するアルキル、H
    2C= CH−CH2−1H2C=CH−CH2O−1
    HCヨC−CH2−0−1HC三C−1HOCL、−1
    H5CO−1CN−1H3C−CO−1HOOC−1H
    3C−0OC−1H2N−CO−1H2N−10□N−
    1F3C−1H3C−CO−Nu−1H3C−CO−N
    H−CH2−1 H3C−NH−CO−NH−1 H3C−NH−CO−NH−CH2−1C6H11−1
    H2N−CH2−1H5C2−CO−1塩素または臭素
    を表わし;そして R2は水素、塩素または臭素原子を表わすか、または R1とR2とは一緒になって2・3− (CH2)4−12・3−CH=CH−CH=CH−ま
    たは3・4−(CH2)3基を表わし: R3は水素、塩素または臭素原子を表わし;R4は水素
    を表わし;そして nは1〜10の整数を表わす〕 の新規なラセミ体または光学活性体のビス−アルカノー
    ルアミン化合物およびそれらの生理学上許容し得る酸付
    加塩の製造方法において、一般式■(式中、R1−R4
    およびnは前記意味を有する)の化合物を一般式■ 〔式中、R1−R3は前記意味を有し、2は基または (ここに 〔式中R1は1〜5個の炭素原子を有するアルキル、H
    2C= CH−CH2−1H2C= CH−CH20−
    1HCE C−CH2−0−1HCEC−1HOCH2
    −1H3CO−1CN−1H3C−Co−1HOOC−
    1H3C−0OC−1H2N−Co−1H2N−1:H
    alはハロゲン原子である)を意味する〕の化合物と反
    応させる、ついで所望により、得られた塩基を生理学的
    に許容される酸付加塩を形成するに適する酸と反応させ
    て酸付加塩を形成する工程、または得られた1式のラセ
    ミ体化合物を適当な補助酸との反応によりそのジアステ
    レオマー塩を形成し、分別結晶により分割する工程およ
    び所望により得られた塩を別の生理学的に許容される酸
    付加塩に変換する工程を行なうことよりなる方法。 5 一般式 %式% H2N−CH2−1H5C2C0−1塩素または臭素を
    表わし;そして R2は水素、塩素または臭素原子を表わすか、または R1とR2とは一緒になって2・3− (CH2)4−12・3−CH=CH−CH=CH−ま
    たは3・4 (CH2)3基を表わし: R3は水素、塩素または臭素原子を表わし:R4は水素
    を表わし;そして nは1〜10の整数を表わす〕 の新規なラセミ体または光学活性体のビス−アルカノー
    ルアミン化合物およびそれらの生理学上許容し得る酸付
    加塩の製造方法において、一般式〔式中、R4およびn
    は前記意味を有し、Zはまたは (ここに Halはハロゲン原子である)を意味する〕の化合物を
    一般式xm に相当する。 この式において、R1は1〜5個の炭素原子を有するア
    ルキル、H2C−CH−CH2−1H2C=CH−CH
    20−1HC三C−CH2−0−1HC三C−1HOC
    H2−1H3CO−1CN−1H3C−CO−1HOO
    C−1H3COOC−1H2N−CO−1H2N−1O
    □N−1F3C−1H3C−CO−NH−1H3C−C
    O−NH−CH2−1H3C−NH−CO−NH−1 H3C−NH−CO−NH−CH2−1C6H1□−1
    H2N−CH2−lH5C,、−CO−1C1またはB
    r(式中、R1−R3は前記意味を有する)のフェノー
    ル化合物またはその塩と反応させる、ついで所望により
    、得られた塩基を生理学的に許容される酸付加塩を形成
    するに適する酸と反応させて酸付加塩を形成する工程、
    または得られた1式のラセミ体化合物を適当な補助酸と
    の反応によりそのジアステレオマー塩を形成し、分別結
    晶により分割する工程および所望により得られた塩を別
    の生理学的に許容される酸付加塩に変換する工程を行な
    うことよりなる方法。
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