JPS5817112A - ポジ型ノボラツクホトレジスト組成物及びその調製物 - Google Patents
ポジ型ノボラツクホトレジスト組成物及びその調製物Info
- Publication number
- JPS5817112A JPS5817112A JP10910282A JP10910282A JPS5817112A JP S5817112 A JPS5817112 A JP S5817112A JP 10910282 A JP10910282 A JP 10910282A JP 10910282 A JP10910282 A JP 10910282A JP S5817112 A JPS5817112 A JP S5817112A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cresol
- mixture
- resin
- resist
- sensitizer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US27570781A | 1981-06-22 | 1981-06-22 | |
| US275883 | 1981-06-22 | ||
| US275707 | 1999-03-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5817112A true JPS5817112A (ja) | 1983-02-01 |
| JPH0454221B2 JPH0454221B2 (ko) | 1992-08-28 |
Family
ID=23053465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10910282A Granted JPS5817112A (ja) | 1981-06-22 | 1982-06-22 | ポジ型ノボラツクホトレジスト組成物及びその調製物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5817112A (ko) |
Cited By (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59162542A (ja) * | 1983-03-04 | 1984-09-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPS59163260A (ja) * | 1983-03-02 | 1984-09-14 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 線条体の巻取装置 |
| JPS59165053A (ja) * | 1983-03-11 | 1984-09-18 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| JPS6042753A (ja) * | 1983-08-17 | 1985-03-07 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型クレゾ−ルノボラツクフオトレジスト組成物 |
| JPS60125841A (ja) * | 1983-12-12 | 1985-07-05 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPS60133446A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-07-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS60158440A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPS60159846A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-21 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPS60189739A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-27 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| JPS61118744A (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
| JPS61141441A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-06-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
| JPS61144644A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-02 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線樹脂組成物 |
| JPS6235349A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
| JPS6235348A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト用組成物 |
| JPS6235347A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
| JPS62136637A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPS62150245A (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-04 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 集積回路作製用ポジ型レジスト |
| JPS62161146A (ja) * | 1986-01-10 | 1987-07-17 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | ホトレジスト組成物 |
| JPS62172341A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-29 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型フオトレジスト用ノボラツク樹脂の製造法 |
| JPS62227144A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-06 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPS62280843A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Nec Corp | 感光剤 |
| JPS632044A (ja) * | 1986-06-23 | 1988-01-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPS63113451A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPS63223637A (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-19 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性平版印刷版 |
| JPS6435558A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-06 | Mitsubishi Chem Ind | Photosensitive planographic printing plate |
| JPH0210348A (ja) * | 1988-03-31 | 1990-01-16 | Morton Thiokol Inc | ポジ型感光性組成物及びレジストパターンの形成方法 |
| JPH0219846A (ja) * | 1988-07-07 | 1990-01-23 | Sumitomo Chem Co Ltd | 集積回路製作用ポジ型レジスト組成物の製造方法 |
| JPH0242443A (ja) * | 1988-04-22 | 1990-02-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
| JPH02139559A (ja) * | 1989-04-21 | 1990-05-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 半導体デバイス用レジストパターンの製造方法 |
| JPH02306245A (ja) * | 1990-05-01 | 1990-12-19 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| JPH06148879A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-05-27 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPH06214384A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-08-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | １，２−キノンジアジドスルホン酸エステルの製造方法 |
| WO1996020430A1 (fr) * | 1994-12-28 | 1996-07-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Composition de resist positif |
| JPH09114094A (ja) * | 1996-10-18 | 1997-05-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | 集積回路製作用ポジ型レジストパターンの形成方法 |
| EP0786699A1 (en) | 1996-01-22 | 1997-07-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photoresist composition |
| US20140007490A1 (en) * | 2012-07-04 | 2014-01-09 | Gleb Vladimirovitch LOKSHIN | Insecticidal cartridge |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2616992A1 (de) * | 1976-04-17 | 1977-11-03 | Agfa Gevaert Ag | Lichtempfindliches material zur herstellung von druckformen und aetzresistagen |
-
1982
- 1982-06-22 JP JP10910282A patent/JPS5817112A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2616992A1 (de) * | 1976-04-17 | 1977-11-03 | Agfa Gevaert Ag | Lichtempfindliches material zur herstellung von druckformen und aetzresistagen |
Cited By (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59163260A (ja) * | 1983-03-02 | 1984-09-14 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 線条体の巻取装置 |
| JPS59162542A (ja) * | 1983-03-04 | 1984-09-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPS59165053A (ja) * | 1983-03-11 | 1984-09-18 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| JPH034896B2 (ko) * | 1983-03-11 | 1991-01-24 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | |
| JPS6042753A (ja) * | 1983-08-17 | 1985-03-07 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型クレゾ−ルノボラツクフオトレジスト組成物 |
| JPS60125841A (ja) * | 1983-12-12 | 1985-07-05 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPH0431104B2 (ko) * | 1983-12-22 | 1992-05-25 | ||
| JPS60133446A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-07-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS60158440A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPS60159846A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-21 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPH042181B2 (ko) * | 1984-01-31 | 1992-01-16 | ||
| JPS60189739A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-27 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| JPH0342657B2 (ko) * | 1984-03-09 | 1991-06-27 | ||
| JPS61118744A (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
| JPS6228457B2 (ko) * | 1984-11-15 | 1987-06-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | |
| JPS61141441A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-06-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
| JPH034897B2 (ko) * | 1984-12-14 | 1991-01-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | |
| JPS61144644A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-02 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線樹脂組成物 |
| JPH042180B2 (ko) * | 1984-12-19 | 1992-01-16 | ||
| JPS6235349A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
| JPS6235348A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト用組成物 |
| JPS6235347A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型ホトレジスト組成物 |
| JPS62136637A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
| JPS62150245A (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-04 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 集積回路作製用ポジ型レジスト |
| JPS62161146A (ja) * | 1986-01-10 | 1987-07-17 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | ホトレジスト組成物 |
| JPS62172341A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-29 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型フオトレジスト用ノボラツク樹脂の製造法 |
| JPS62227144A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-06 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPS62280843A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Nec Corp | 感光剤 |
| JPS632044A (ja) * | 1986-06-23 | 1988-01-07 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPS63113451A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPS63223637A (ja) * | 1987-03-12 | 1988-09-19 | Mitsubishi Kasei Corp | 感光性平版印刷版 |
| JPS6435558A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-06 | Mitsubishi Chem Ind | Photosensitive planographic printing plate |
| JPH0210348A (ja) * | 1988-03-31 | 1990-01-16 | Morton Thiokol Inc | ポジ型感光性組成物及びレジストパターンの形成方法 |
| JPH0242443A (ja) * | 1988-04-22 | 1990-02-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
| JPH0219846A (ja) * | 1988-07-07 | 1990-01-23 | Sumitomo Chem Co Ltd | 集積回路製作用ポジ型レジスト組成物の製造方法 |
| JPH02139559A (ja) * | 1989-04-21 | 1990-05-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 半導体デバイス用レジストパターンの製造方法 |
| JPH02306245A (ja) * | 1990-05-01 | 1990-12-19 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| JPH06148879A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-05-27 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポジ型感放射線性樹脂組成物 |
| JPH06214384A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-08-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | １，２−キノンジアジドスルホン酸エステルの製造方法 |
| WO1996020430A1 (fr) * | 1994-12-28 | 1996-07-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Composition de resist positif |
| US5912102A (en) * | 1994-12-28 | 1999-06-15 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Positive resist composition |
| EP0786699A1 (en) | 1996-01-22 | 1997-07-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photoresist composition |
| JPH09114094A (ja) * | 1996-10-18 | 1997-05-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | 集積回路製作用ポジ型レジストパターンの形成方法 |
| US20140007490A1 (en) * | 2012-07-04 | 2014-01-09 | Gleb Vladimirovitch LOKSHIN | Insecticidal cartridge |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0454221B2 (ko) | 1992-08-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5817112A (ja) | ポジ型ノボラツクホトレジスト組成物及びその調製物 | |
| US4377631A (en) | Positive novolak photoresist compositions | |
| US4529682A (en) | Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins | |
| EP0718693B1 (en) | Photoresist compositions and components | |
| US4863827A (en) | Postive working multi-level photoresist | |
| JP4065746B2 (ja) | ノボラック樹脂中の金属イオンの低減 | |
| JP2693472B2 (ja) | レジスト | |
| JPS617837A (ja) | ポジ型の感放射被覆液 | |
| JPH025060A (ja) | レジストパターンを得る方法 | |
| JPS60159847A (ja) | ポジテイブ写真食刻レジスト組成 | |
| US6852465B2 (en) | Photoresist composition for imaging thick films | |
| US4885232A (en) | High temperature post exposure baking treatment for positive photoresist compositions | |
| JPS62262043A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
| JPS62105137A (ja) | 放射感光性ポジティブ型フォトレジスト組成物及びその製法 | |
| EP0070624B1 (en) | Novolak resin and a positive photoresist composition containing the same | |
| US6043002A (en) | Metal ion reduction in novolak resin solution using an anion exchange resin | |
| TWI271420B (en) | Novolak resin mixtures and photosensitive compositions comprising the same | |
| US5069996A (en) | Process for developing selected positive photoresists | |
| EP1877865B1 (en) | Nanocomposite photoresist composition for imaging thick films | |
| JPH02217855A (ja) | ネガ型電子線レジスト組成物 | |
| JPS63161449A (ja) | 高コントラストなフオトレジスト組成物 | |
| JP3787323B2 (ja) | ポジ型ホトレジスト塗布液及びそれを用いた表示素子用基材 | |
| JPH01104037A (ja) | 感光性１，２‐ナフトキノン‐２‐ジアジド‐４‐スルホン酸モノエステル | |
| JPH09146273A (ja) | 感光性樹脂組成物の硬化方法 | |
| JPS60107644A (ja) | 現像しうる水性ネガレジスト組成物 |