JPS58167442A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents

光フアイバ母材の製造方法

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JPS58167442A
JPS58167442A JP4730182A JP4730182A JPS58167442A JP S58167442 A JPS58167442 A JP S58167442A JP 4730182 A JP4730182 A JP 4730182A JP 4730182 A JP4730182 A JP 4730182A JP S58167442 A JPS58167442 A JP S58167442A
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flame
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JP4730182A
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Shoichi Sudo
昭一 須藤
Hiroyuki Suda
裕之 須田
Motohiro Nakahara
基博 中原
Fumiaki Hanawa
文明 塙
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413Reactant delivery systems
    • C03B37/0142Reactant deposition burners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/04Multi-nested ports
    • C03B2207/06Concentric circular ports
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    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B2207/42Assembly details; Material or dimensions of burner; Manifolds or supports
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、元ファイバ母材の#il造方法に[する。
従来、VAD法では、5iOj、 、 G60j、 I
I/を含むガラス形成原料ガスおよびH,、O,、ムr
◆の火炎用ガスを合成トーチから吹龜出f&:際しては
、はぼ層流状態で前記原料ガスおよび前記火炎用ガスを
吹き出していた。111図(JL)は従来のVAD法に
おける多孔質母材の作製の説明図であり、第1図(0)
は第11i11(L)ムームIにおけるfIk面図であ
る。
第1egにおいて合成トーチ1の内のノスル8およびノ
スル8からは、それぞれ火炎用ガスおよびガラス原料ガ
スが層流状態で吹き出す。このため、火炎用ガスのIl
a焼によって形F!Lされる火炎流1および原料ガスの
火炎加水分解反応によって形成されるガラス微粒子流6
4同様に層流状Iの流れとなる。多孔質母材6は#記火
炎流4および前記微粒子流6の内での微粒子堆積によっ
て形fLされる。
この従来のVAD法において、ガラス微粒子堆積速度の
同上を図るために、ガラス原料供給瀘を増加すると、微
粒子堆積効率が低Fし、結果として、元ファイバ母材の
高速l1lftが困−になるという欠点があった。
本発明は、この欠点な除去するため、合成トーチからガ
ラス原料ガスおよび火炎用ガス【吹禽出スニーシて、ガ
ラス原料ガスおよび火炎用ガス(1)一方または両番を
流体的に回転しながら前記トーチから吹き出すこと七待
徽としたもので、その目的はVAD法における高速母材
1111#をi■#ピにすることにある。
第2図(a)は、本発明の一実施例図、第2図(b)は
第2図(a)のB −B’における断面図であって、2
1は合成トーチ、11Bは火炎用ガスの吹き出し口、2
8は原料ガスの吹き出し口、24は火炎流、25はガラ
ス微粒子流−126は多孔質母材、2フは回転機、18
は回転ファンである。
第8図において、吹自出し口jI8から吹自出すガラス
原料ガスには、回転するファン28によって、流体的回
転連動が与えられるので、火炎流24の内で合成される
ガラス微粒子流においても、rIIL4iiI2bに示
す流体的回転遣−が生じる。このガラス微粒子流の回転
運動は、多孔質母材成長面上への微粒子堆積効率を着し
く向上する効果を有するので、ガラス原料供i量を増加
した場合にも艦粒子堆積効率は低Fせず、母材の高速合
成を容易に実現でaる。
たとえば、第1611の実施例においてガラス原料ガス
として四塩化ゲルマニウム(Ge0j4) tl 0 
moti含む四塩化けい素+ 5iOj、 ) t 、
毎分5iuIL科ガス吹自出し口18から吹8出し、ま
た火炎用ガスとして水素ガスを毎分10ノ、酸素ガスt
m分107.アルゴンガスを毎分8ノ〜大炎用ガス吹自
出し口gsから吹龜出して、多孔質母材26を作製した
と1、回転7アン28の回転数に応じて責lに示すよう
なガラス微粒子堆積盪の増減が兇られた。
11 責lに示すように、ファン回転数を100−   □g
 o o rpmとした場合、ガラス置粒子堆積量はフ
ァン回転数がOの場合に比べて、約8〜4倍撮度向上し
た。つまりファン回転数が0の場合のガラス撤粒子堆積
効率は、約god(ガラス原料中の5i(3j  がす
べて810.になった場合:100%)番 であるのに対して、ファン回転数txoo〜200rp
mとすると、70〜80襲まで#記微粒子堆積効率が向
上し、本発明によって着しい改善効果が見られた。
第1図に示した従来のVAD法、すなわち第2図の本発
明において回転ファン28t6り除いた場合の堆積効率
は、前記と同一の作製条件ドで、約25%であり、ファ
ン回転数が0の場合と同根度であった。
前記実施例のほか、トーチから吹き出す火炎用ガスに前
記実施例と譲似した回転運動を4見なから、多孔質ガラ
ス母材【1lIilIijtシた場合にも、ガラス微粒
子堆積効率は着しく同上した。
以上説明したように本発明の元ファイバ母材の!ll1
11ii方法は、ガラス原料ガスまたは火炎用ガスが合
成トーチから吹き出す際に、前記原料ガスおよび前記火
炎用−ガスの一方または両番に流体的な回転連動を与え
ることによって、ガラス微粒子堆積効率の同ht図るこ
とがで畠るので(待に高速母材合成時に、着しい改善効
果か見られる)、VAD法によるm趨母材製造を容易に
するという利点かある。
さらに微粒子堆積効率が向上するので、光ファイバの低
−俗化を実現し易いという利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(L)は従来のVAD法における多孔質母材の作
−の説明図、1llI1図+1))は第1図(JL)の
ムーム′における断面図、 第2図(a)は本発明の一実施例図、第2図(b)は第
2図(JL)のB −B’における断面図であるO 1・・・合成トーチ、2・・・火炎用ガス吹き出し口、
8・・・ガラス原料吹IN員し口、番・・・火炎流、b
・・・ガラス微粒子流、6・・・多孔質母材、21・・
・合成トーチ、22・・火炎用ガス吹1ml出し口、g
8・・・ガラス原料ガス吹き出し口、24・・・火炎流
、25・・・ガラス微粒子流−126・・・多孔質母材
、27・・・回転機、28・・・回転ファン。 特許出願人 日本電信電話公社 第1図 (a)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L 火炎流内においてガラス微粒子を合成・し、これを
    出発材の軸方向に堆積することによって丸棒状の多孔質
    母材を形成した後、この多孔質母材を高温に加熱、焼結
    して、透明母材【傅る光7アイパ母材のmtT1方法す
    なわち気相軸付は法において、合成トーチから吹き出す
    ガラス形成原料ガスおよび火炎用ガスの一方または11
    11ff者に流体的な回転運動を与えながら、多孔質母
    材を形aすることを特徴とTる光フアイバ母材の11!
    造方法。
JP4730182A 1982-03-26 1982-03-26 光フアイバ母材の製造方法 Expired JPS6055450B2 (ja)

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JP4730182A JPS6055450B2 (ja) 1982-03-26 1982-03-26 光フアイバ母材の製造方法

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JP4730182A JPS6055450B2 (ja) 1982-03-26 1982-03-26 光フアイバ母材の製造方法

Publications (2)

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JPS58167442A true JPS58167442A (ja) 1983-10-03
JPS6055450B2 JPS6055450B2 (ja) 1985-12-05

Family

ID=12771455

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0369527A (ja) * 1989-08-08 1991-03-25 Yazaki Corp 光ファイバ用多孔質母材合成用トーチ
WO2001005719A1 (de) * 1999-07-19 2001-01-25 Linde Gas Aktiengesellschaft Verfahren zur herstellung von hochreinem siliziumdioxid glas und brenner zur durchführung des verfahrens
CN113912279A (zh) * 2020-07-10 2022-01-11 中天科技精密材料有限公司 轴向沉积掺杂装置、粉末棒的制备方法

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CN113912279A (zh) * 2020-07-10 2022-01-11 中天科技精密材料有限公司 轴向沉积掺杂装置、粉末棒的制备方法
CN113912279B (zh) * 2020-07-10 2023-03-31 中天科技精密材料有限公司 轴向沉积掺杂装置、粉末棒的制备方法

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JPS6055450B2 (ja) 1985-12-05

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