JPS58133239A - 照射x線領域モニタ−装置 - Google Patents
照射x線領域モニタ−装置Info
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- JPS58133239A JPS58133239A JP57015900A JP1590082A JPS58133239A JP S58133239 A JPS58133239 A JP S58133239A JP 57015900 A JP57015900 A JP 57015900A JP 1590082 A JP1590082 A JP 1590082A JP S58133239 A JPS58133239 A JP S58133239A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
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- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、被照射体における照射X線領域のモニター装
置に関する。
置に関する。
照射X線領域モニター装置として、従来は、被照射体に
対する照射X線領域を視覚確認できるように、換言すれ
ば、被照射体へ所望領域にX線を照射できるように、例
えば第1図(こ示すように、X線falの照射器(1)
と可視光線fc)の投射器(5)を、それらの照射X線
軸(P)と可視光線軸(Pl)のピッチ(1)に相当す
る距離たけ移動させるようにして、先ず可視光線fcl
をX線被照射体(3)の所望領域に投射し、次に、可視
光線投光器(1)を移動させて、その照射X線軸(1”
)を前記可視光線軸(Pl)が存在1−7l:位置1こ
軸合せし、その状態でX線(3)を照射させる事により
、X線被照射体(3)の所望領域にX線+a)を照射さ
せるようにしている。
対する照射X線領域を視覚確認できるように、換言すれ
ば、被照射体へ所望領域にX線を照射できるように、例
えば第1図(こ示すように、X線falの照射器(1)
と可視光線fc)の投射器(5)を、それらの照射X線
軸(P)と可視光線軸(Pl)のピッチ(1)に相当す
る距離たけ移動させるようにして、先ず可視光線fcl
をX線被照射体(3)の所望領域に投射し、次に、可視
光線投光器(1)を移動させて、その照射X線軸(1”
)を前記可視光線軸(Pl)が存在1−7l:位置1こ
軸合せし、その状態でX線(3)を照射させる事により
、X線被照射体(3)の所望領域にX線+a)を照射さ
せるようにしている。
しかしなから、この手段においては、可視光線fclの
投射とX線fa)の照射に同時性か無く、例えはX線被
照射体(3)として各種金属や鉱石を対& +c、 し
てそれの含有元素を分析するような場合に、可視光線投
射器(5)とX線照射器fl)を位置変更する間に元素
が酸化する等の経時的変化を伴なうような欠点かあり、
しかも、X線ta+の照射領域を変更する度に上述の位
置変更を繰返し行なわねばならず、極めて操作性が劣る
ものであった。
投射とX線fa)の照射に同時性か無く、例えはX線被
照射体(3)として各種金属や鉱石を対& +c、 し
てそれの含有元素を分析するような場合に、可視光線投
射器(5)とX線照射器fl)を位置変更する間に元素
が酸化する等の経時的変化を伴なうような欠点かあり、
しかも、X線ta+の照射領域を変更する度に上述の位
置変更を繰返し行なわねばならず、極めて操作性が劣る
ものであった。
また別の手段として、第2図に示すように、照射X線軸
(P)と可視光線軸(P+)を交差させるように、X線
照射器(1)と=’l視光線投射器(5)をセットする
き共に、その両軸(P)(P+)の交点にX線被照射体
(3)の照射面を位置合せさせるようにして、X線+a
+の照射と可視光線ic)の投射に同時性を持たせる
□と共に、X線1alの照射領域変更の操作性を向上
させる事か考えられるが、この場合、X線被照射体(3
)としてそのX線照射面が平滑のものしか対象にできす
、即ち、同図に拡大図示したように、X線被照射体(3
)のX線照射面が凹凸面である場合には、X線(3)の
照射点と可視光線fclの投射点が位置すれし、可視光
線投射領域から外れた領域にX線ia)の照射が行なわ
れるもので、同時性があってもわ1出鎮域の同一性に欠
けるものであった。
(P)と可視光線軸(P+)を交差させるように、X線
照射器(1)と=’l視光線投射器(5)をセットする
き共に、その両軸(P)(P+)の交点にX線被照射体
(3)の照射面を位置合せさせるようにして、X線+a
+の照射と可視光線ic)の投射に同時性を持たせる
□と共に、X線1alの照射領域変更の操作性を向上
させる事か考えられるが、この場合、X線被照射体(3
)としてそのX線照射面が平滑のものしか対象にできす
、即ち、同図に拡大図示したように、X線被照射体(3
)のX線照射面が凹凸面である場合には、X線(3)の
照射点と可視光線fclの投射点が位置すれし、可視光
線投射領域から外れた領域にX線ia)の照射が行なわ
れるもので、同時性があってもわ1出鎮域の同一性に欠
けるものであった。
史番こは、X線fa)と可視光線fclの交点に対する
X線照射面の極く僅かの位置すれによっても検出領域の
同一性が無くなる欠点があった。
X線照射面の極く僅かの位置すれによっても検出領域の
同一性が無くなる欠点があった。
本発明は、上述の実情に鑑みて成されたもので、検出領
域の同一性、並びに、X線照射の同時性を有する優ねた
機能の照射X線領域モニター装置を提供する事を目的と
する。
域の同一性、並びに、X線照射の同時性を有する優ねた
機能の照射X線領域モニター装置を提供する事を目的と
する。
以下、本発明の実施例を図面に基いて説明する。
第3図において、(1)はX線照射器(例えはX線管)
で、X線fatを平行束にするコリメータ(2)を通し
て、そのX線fa)を各挿金属や鉱石などの試料(X線
被照射体の一例)(3)に照射する。
で、X線fatを平行束にするコリメータ(2)を通し
て、そのX線fa)を各挿金属や鉱石などの試料(X線
被照射体の一例)(3)に照射する。
(4)はエネルギー分散型の螢光X線検出器で、X線i
a)を試料(3)に照射したとき番こ含有元素1こ対応
して放射される螢光X線(b)を検出し、その螢光X線
fb)のエネルギーを基にして試料(3)のX線照射領
域において含有される各元素の種類及び巖度を同時分析
するものである。
a)を試料(3)に照射したとき番こ含有元素1こ対応
して放射される螢光X線(b)を検出し、その螢光X線
fb)のエネルギーを基にして試料(3)のX線照射領
域において含有される各元素の種類及び巖度を同時分析
するものである。
即ち、螢光X線(I))を分光して、そのスペクトルの
波長の帰属を順次決定することによって定性分析を行な
わせ、かつ、螢光X線(b)の強度は各元素の含有M1
こ依存するから、その強度測定によって定址分析を行な
わせるようにしたものである。
波長の帰属を順次決定することによって定性分析を行な
わせ、かつ、螢光X線(b)の強度は各元素の含有M1
こ依存するから、その強度測定によって定址分析を行な
わせるようにしたものである。
この検出器(4)を波長分散型のものに置き換えても定
性分析並びに定切分析を行なう事ができるが、エネルギ
ー分散型のもの1こする事により、多元素同時分析を行
なわせる事ができ、その」−1螢光X線ihlの信号n
;か弱くてもその分析を行なえ、従って、直径の二乗に
比例してX線ta+の信号祉を変化させるコリメータ(
2)を小径にして、X線fatの照射領域を小にしても
試料(3)の組成分析を十分に行なわせる事ができ、微
小領域にお+jる多元素分析番ことって有利である。
性分析並びに定切分析を行なう事ができるが、エネルギ
ー分散型のもの1こする事により、多元素同時分析を行
なわせる事ができ、その」−1螢光X線ihlの信号n
;か弱くてもその分析を行なえ、従って、直径の二乗に
比例してX線ta+の信号祉を変化させるコリメータ(
2)を小径にして、X線fatの照射領域を小にしても
試料(3)の組成分析を十分に行なわせる事ができ、微
小領域にお+jる多元素分析番ことって有利である。
(5)はり視し−ザ光、変調光、単色光などの可視光線
fc)を投射する可視光線投射器、(6)は前記X線f
a)を透過すると共1こ可視光線tc+を反射させるX
線透過鏡で、X 線(alの透過率の商いベリラムやア
ルミニウム等の原子番号の低い金属箔を用いて、少なく
ともその一側面を鏡面仕上げして可視光線反射面として
あり、その可視光線反射面をX線照射方向の下手側に位
置させる状態でかつ前記反射面を照射X線軸(P)に対
して傾斜させる状態でX線照射器(1)とコリメータ(
2)の間に配置しである。
fc)を投射する可視光線投射器、(6)は前記X線f
a)を透過すると共1こ可視光線tc+を反射させるX
線透過鏡で、X 線(alの透過率の商いベリラムやア
ルミニウム等の原子番号の低い金属箔を用いて、少なく
ともその一側面を鏡面仕上げして可視光線反射面として
あり、その可視光線反射面をX線照射方向の下手側に位
置させる状態でかつ前記反射面を照射X線軸(P)に対
して傾斜させる状態でX線照射器(1)とコリメータ(
2)の間に配置しである。
そして、前記可視光線投射器(5)からの可視光線fc
lをl′li+記反射面のX線透過位&(Q)tこ投射
さぜると共に、その可視光線fclの反射光軸(Po’
)を前記照射X線軸CP)と同軸fこあるいはほぼ同軸
に位置させるように、可視光線fc)の反射角度を設定
しである。
lをl′li+記反射面のX線透過位&(Q)tこ投射
さぜると共に、その可視光線fclの反射光軸(Po’
)を前記照射X線軸CP)と同軸fこあるいはほぼ同軸
に位置させるように、可視光線fc)の反射角度を設定
しである。
このように、ハ(1射X線軸(P)と反射光軸(Po)
を同軸に設定する事によって試料(3)Iこ対する可視
光線fclの投射領域1こX線falを照射でき、つま
り、可視光線投射領域が即ち照射XNIXfIlll域
であり、試料(3)に対してX線(3)と可視光線fc
)を同時に同じ領域に照射、投射できる。
を同軸に設定する事によって試料(3)Iこ対する可視
光線fclの投射領域1こX線falを照射でき、つま
り、可視光線投射領域が即ち照射XNIXfIlll域
であり、試料(3)に対してX線(3)と可視光線fc
)を同時に同じ領域に照射、投射できる。
(7)は試料(3)にスポット投射された可視光線fc
)を視覚検出するだめの検出器で、顕微鏡や望遠鏡など
からなり、前記試料(3)iこ対する可視光線投射領域
の検出に基いて試料(3)に対するX線fa)の照射領
域を検出するものである。
)を視覚検出するだめの検出器で、顕微鏡や望遠鏡など
からなり、前記試料(3)iこ対する可視光線投射領域
の検出に基いて試料(3)に対するX線fa)の照射領
域を検出するものである。
この検出器(7)をモニターとして試料(3)の位fA
’を遠隔操作によって変更させる事により、所望の領域
(こX線fatを照射させる事ができて、所望領域の螢
光X線検出を連続的に行なう事が可能となる。
’を遠隔操作によって変更させる事により、所望の領域
(こX線fatを照射させる事ができて、所望領域の螢
光X線検出を連続的に行なう事が可能となる。
(8)はX線ハロ射空間を囲うケースで、機械的強度面
やコスト面から鉄製とし、その肉厚を20調程度としで
あるか、これを肉厚2m程度の鉛製にするも良い。
やコスト面から鉄製とし、その肉厚を20調程度としで
あるか、これを肉厚2m程度の鉛製にするも良い。
尚、実施例では金属や鉱石などの試料をX線被照射体(
3)としたが、その他、気体や液体、スラリー状のもの
など広範囲のものを対象にできる。
3)としたが、その他、気体や液体、スラリー状のもの
など広範囲のものを対象にできる。
そして、気体や液体を対象にする場合には、それらをポ
リエステルやベリリウム等のセルに流したり密閉したり
すれば良(、スラリー状の場合1こは、それらの手段の
外に、X線ta+を下方に向けて照射させるようにして
、その照射X線軸上にスラリー状のものを位置させれば
良い。
リエステルやベリリウム等のセルに流したり密閉したり
すれば良(、スラリー状の場合1こは、それらの手段の
外に、X線ta+を下方に向けて照射させるようにして
、その照射X線軸上にスラリー状のものを位置させれば
良い。
また本発明による照射X線領域モニター装置は、前記し
た螢光X線分析装置のはかX線回折装置。
た螢光X線分析装置のはかX線回折装置。
X線吸収分析装置あるいはX線照射の医療用の装置など
に利用できる。
に利用できる。
以上説明したよう番こ本発明は、X線被照射体に対する
照射X線軸と可視光線の反射光軸を同軸又は略同軸にし
て、X線被照射体の同−領域に同時にX線照射と可視光
線投射を行なわせるもので、X線被照射体のX線照射領
域の面が凹凸の状態であっても、経時的変化を生じさせ
ないで可視光線の投射点に適確にX線を照射させる事が
できるようになり、しかも、X線の照射領域の変更も極
めて簡単かつ操作性の良い状態で行なえ、このことは検
出の連続性に優れるものであり、全体として、極めて簡
単な改良でありながら使用面番こおいて有用な照射X線
領域モニター装置を提供するに至った。
照射X線軸と可視光線の反射光軸を同軸又は略同軸にし
て、X線被照射体の同−領域に同時にX線照射と可視光
線投射を行なわせるもので、X線被照射体のX線照射領
域の面が凹凸の状態であっても、経時的変化を生じさせ
ないで可視光線の投射点に適確にX線を照射させる事が
できるようになり、しかも、X線の照射領域の変更も極
めて簡単かつ操作性の良い状態で行なえ、このことは検
出の連続性に優れるものであり、全体として、極めて簡
単な改良でありながら使用面番こおいて有用な照射X線
領域モニター装置を提供するに至った。
第1図及び第2図は夫々従来装置の説明図、第3図は本
発明による照射X1a鎮域モニター装置の説明図である
。 (1)・・・X線照射器、(3)・・・X線被照射体、
(5)・・・可視光線投射器、(6)・・・X線透過鏡
、(7)・・・可視光線投射領域検出手段、fal・・
・X線、IcI・・・可視光線、(P)・・・照射X線
軸、(P+)・・・可視光線の反射光軸。
発明による照射X1a鎮域モニター装置の説明図である
。 (1)・・・X線照射器、(3)・・・X線被照射体、
(5)・・・可視光線投射器、(6)・・・X線透過鏡
、(7)・・・可視光線投射領域検出手段、fal・・
・X線、IcI・・・可視光線、(P)・・・照射X線
軸、(P+)・・・可視光線の反射光軸。
Claims (1)
- X線照射器とX線盟射被照射体との間に、X線は透過す
るが可視光線は反射するX線透過鏡を、その可視光線反
射面がX線照射方向の下手側(こ位置し且つ照射X線軸
に対し傾斜した状態で設置し、さら番こ、可視光線力i
Ail記反対反射面線透過位置1こ投射され且つその
可視光線の反射光軸と前記照射X線軸とが同軸又は略同
軸となるように可視光線投射器を設置し、さら番こ、前
記X線被照射体に対する可視光線投光器域を検出する手
段を設けである事を特徴とする照射X線領域モニター装
置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57015900A JPS58133239A (ja) | 1982-02-02 | 1982-02-02 | 照射x線領域モニタ−装置 |
US06/459,039 US4521905A (en) | 1982-02-02 | 1983-01-17 | Monitor of an X-ray radiation range |
DE3303146A DE3303146C2 (de) | 1982-02-02 | 1983-01-31 | Röntgenfluoreszenz-Analysegerät mit einer Vorrichtung zur Zielbestimmung von Röntgenstrahlen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57015900A JPS58133239A (ja) | 1982-02-02 | 1982-02-02 | 照射x線領域モニタ−装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58133239A true JPS58133239A (ja) | 1983-08-08 |
Family
ID=11901649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57015900A Pending JPS58133239A (ja) | 1982-02-02 | 1982-02-02 | 照射x線領域モニタ−装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4521905A (ja) |
JP (1) | JPS58133239A (ja) |
DE (1) | DE3303146C2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0325158A2 (en) * | 1988-01-20 | 1989-07-26 | Horiba, Ltd. | X-ray irradiation apparatus provided with irradiation range monitor |
JP2004097471A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 放射線発生装置及び放射線照射方向較正装置 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3239379A1 (de) * | 1982-10-23 | 1984-04-26 | Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen | Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten |
JPH02259515A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-22 | Seiko Instr Inc | ケイ光x線膜厚測定装置 |
JP2853261B2 (ja) * | 1989-05-16 | 1999-02-03 | 三菱マテリアル株式会社 | 金属分析方法および分析装置 |
DE3928282A1 (de) * | 1989-08-26 | 1991-02-28 | Philips Patentverwaltung | Roentgenaufnahmevorrichtung |
JPH0390845A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-16 | Hitachi Ltd | 表面分析方法およびその装置 |
FR2664984B1 (fr) * | 1990-07-18 | 1992-09-25 | Snecma | Appareil de controle non destructif par un rayonnement, comportant une visee laser. |
US5212720A (en) * | 1992-01-29 | 1993-05-18 | Research Foundation-State University Of N.Y. | Dual radiation targeting system |
US6694169B2 (en) | 2001-02-22 | 2004-02-17 | Minrad Inc. | Targeting system and method of targeting |
JP4777539B2 (ja) * | 2001-05-29 | 2011-09-21 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 複合x線分析装置 |
US6779920B2 (en) * | 2002-02-28 | 2004-08-24 | General Electric Company | X-ray localizer light system |
US7023954B2 (en) * | 2003-09-29 | 2006-04-04 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | Optical alignment of X-ray microanalyzers |
DE102004020370B4 (de) * | 2004-04-23 | 2006-11-16 | Sirona Dental Systems Gmbh | Röntgenstrahler und Verfahren zur Erzeugung und Darstellung von Röntgenbildern |
US7620147B2 (en) * | 2006-12-13 | 2009-11-17 | Oraya Therapeutics, Inc. | Orthovoltage radiotherapy |
US7535991B2 (en) * | 2006-10-16 | 2009-05-19 | Oraya Therapeutics, Inc. | Portable orthovoltage radiotherapy |
US7559693B2 (en) | 2006-12-14 | 2009-07-14 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Method and apparatus for x-ray alignment |
US8920406B2 (en) * | 2008-01-11 | 2014-12-30 | Oraya Therapeutics, Inc. | Device and assembly for positioning and stabilizing an eye |
US8363783B2 (en) * | 2007-06-04 | 2013-01-29 | Oraya Therapeutics, Inc. | Method and device for ocular alignment and coupling of ocular structures |
US7801271B2 (en) | 2007-12-23 | 2010-09-21 | Oraya Therapeutics, Inc. | Methods and devices for orthovoltage ocular radiotherapy and treatment planning |
WO2009085204A2 (en) | 2007-12-23 | 2009-07-09 | Oraya Therapeutics, Inc. | Methods and devices for detecting, controlling, and predicting radiation delivery |
KR100850500B1 (ko) * | 2008-01-08 | 2008-08-05 | 주식회사 포스콤 | 작고 가볍게 제작 가능한 x선 촬영 장치 |
CN115389538B (zh) * | 2022-08-09 | 2023-12-29 | 深圳市埃芯半导体科技有限公司 | X射线分析装置及方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5413785A (en) * | 1977-07-04 | 1979-02-01 | Toshiba Corp | Tomograph |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1976179A (en) * | 1930-04-28 | 1934-10-09 | Mannl Rudolf | Adjusting device for x-ray tubes |
US3629594A (en) * | 1970-04-16 | 1971-12-21 | Reese Hospital Michael | Patient-position-monitoring method and system for use during medical diagnostic and therapeutic procedures |
US3628021A (en) * | 1970-05-25 | 1971-12-14 | Angus C Macdonald | X-ray collimator having a fiber optic light source therein for alignment purposes |
DE2054464A1 (de) * | 1970-11-05 | 1972-05-10 | Siemens Ag | Röntgenfluoreszenz-Mikroanaly sator |
DE2449708A1 (de) * | 1974-10-18 | 1976-04-22 | Siemens Ag | Roentgendiagnostikeinrichtung mit einem belichtungsautomaten |
US4167675A (en) * | 1976-05-24 | 1979-09-11 | Siemens Aktiengesellschaft | X-ray collimator comprising light beam localizer with lens system |
US4178513A (en) * | 1978-01-17 | 1979-12-11 | Nuclear Semiconductor | Art object analyzer |
JPS5758300U (ja) * | 1980-09-22 | 1982-04-06 |
-
1982
- 1982-02-02 JP JP57015900A patent/JPS58133239A/ja active Pending
-
1983
- 1983-01-17 US US06/459,039 patent/US4521905A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-01-31 DE DE3303146A patent/DE3303146C2/de not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5413785A (en) * | 1977-07-04 | 1979-02-01 | Toshiba Corp | Tomograph |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0325158A2 (en) * | 1988-01-20 | 1989-07-26 | Horiba, Ltd. | X-ray irradiation apparatus provided with irradiation range monitor |
EP0325158A3 (en) * | 1988-01-20 | 1990-11-28 | Horiba, Ltd. | X-ray irradiation apparatus provided with irradiation range monitor |
JP2004097471A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 放射線発生装置及び放射線照射方向較正装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4521905A (en) | 1985-06-04 |
DE3303146C2 (de) | 1986-09-04 |
DE3303146A1 (de) | 1983-08-18 |
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