JP2921597B2 - 全反射スペクトル測定装置 - Google Patents
全反射スペクトル測定装置Info
- Publication number
- JP2921597B2 JP2921597B2 JP2312463A JP31246390A JP2921597B2 JP 2921597 B2 JP2921597 B2 JP 2921597B2 JP 2312463 A JP2312463 A JP 2312463A JP 31246390 A JP31246390 A JP 31246390A JP 2921597 B2 JP2921597 B2 JP 2921597B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- total reflection
- ray
- measurement sample
- reflection spectrum
- measuring apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
連続的に回転させながら全反射スペクトルを同時に測定
する装置に関する。
晶として曲結晶を用いた実験室系の装置(テクノス社製
等)が実用化されている。光源として放射光を用いる場
合には、1つのチャンネルカット分光結晶を用いた高分
解能装置が得られるが、実験室に入手可能な強力光源
(回転対陰極)を用いる限り、感度を落とさずに高分解
能を達成することは実現していない。
イスで必須な薄膜の構造解析、およびその場観察の技術
として最適のものである。この計測装置においては、薄
膜に入射するX線光束のエネルギーを変化させながら、
各エネルギーごとに、基板上の薄膜に対する入射X線光
束の入射角を連続的に変化させ反射率を測定することに
なる。
薄膜方位(θ)を0〜60分程度走査し反射率の測定を行
なうことになり、また次の走査に移る前に初期のθ=0
に戻さなければならないので、放射光源(シンクロトロ
ン放射)などの高輝度のX線源を用いないかぎり、測定
に非常な長時間を必要とするため実現困難である。
線源を用いた実験室系装置で、全反射を用いた薄膜計測
を短時間で測定出来るようにする全反射スペクトル測定
装置を提供することを目的とする。
板上の測定試料表面に照射し、その吸収、反射あるいは
回折スペクトルを測定することにより基板上の測定試料
の構造評価を行なう全反射スペクトル測定装置であっ
て、X線源から放出された光束を白色光のまま平行光と
して測定試料表面で全反射を起こすように該測定試料表
面に照射させるコリメータ系と、該X線の入射角と等し
いX線取り出し角となるように配置され、測定試料面か
らの反射光束の全エネルギーを各単色光成分ごとに検出
する分光検出手段と、測定試料面のX線光束に対する入
射角を連続的に変化させる機構とを有することを特徴と
する全反射スペクトル測定装置が提供される。
系により白色光のまま平行光として測定試料面に照射さ
れ、前記機構により測定試料面が傾けられながら、分光
検出手段が測定試料面からの反射光束の全エネルギーを
一挙にマルチチャンネル検出する。したがって、1回の
θ走査で計測が行なえるようになり、測定時間が大幅に
短縮される。
射スペクトル測定装置の説明を行なう。同図において1
はX線源、2は分光結晶、4は試料系、5は基板、6は
薄膜試料、9は検出器、10はビームストッパー、S1〜S3
はスリット系を示す。X線源1より射出された白色X線
は、スリット系S1により整形され、例えばSiなどの完全
に近い単結晶よりなる分光結晶2に入射する。分光結晶
2は、所定の結晶面(例えば、(111))を入射X線光
束に対し所定の方位にセットされ、分光結晶2により所
定のエネルギーのX線がブラッグ反射を起こし射出され
るようになっている。こうして、スリット系S2を通過し
たX線光束は単色化される。分光結晶2にはチャンネル
カット結晶や複数の結晶を組み合わせたものが用いられ
る。スリットS2を通過後の単色、平行のX線光束は、測
定すべき薄膜試料6表面に入射され、薄膜試料6表面か
らの反射光束がスリット系S3を介して検出器9に入り、
反射X線強度が測定される。薄膜試料6表面からのX線
反射率はX線光束の入射角度に依存するので、入射角を
変化させながら測定が行なわれる。すなわち、薄膜試料
6表面へのX線光束の入射角がθのとき、検出器9の方
位は2θとなるように、薄膜試料6表面のX線光束入射
点(ナイフエッジの位置(第2図の8))を中心に連動
回転を行なう。
このような測定を複数エネルギーのX線光束に対して繰
り返す必要がある。第3図には3種類のエネルギーE1,E
2,E3の場合を示してあるが、分解能を更に向上させるた
めにはより多くのエネルギーのX線光束について測定を
繰り返さなければならず、これには莫大な時間がかかる
ため改善の余地があった。
射スペクトル測定装置の一実施例の概念図である。同図
において、11はX線源、12は試料系、13は基板、14は測
定すべき薄膜試料、15は薄膜試料14表面へのX線光束入
射点、16はビームストッパ、17は分光結晶、18は位置敏
感型X線検出器、S11〜S12はスリット系を示す。
色X線はスリット系S11,S12により平行光束に整形され
た後、白色光のまま薄膜試料14表面に入射する。薄膜試
料14表面に対する白色X線光束の入射角θと反射された
白色X線光束を検出すべき検出系の方位2θは周知の技
術で容易に構成しうる機構(図示せず)により連動回転
される。なお、実際はθは数十分程度の微小角であるの
で回転させる必要はない場合も多い。薄膜試料14表面よ
り反射された白色X線光束は、分光結晶17により分光さ
れ、位置敏感型X線検出器18により受光される。この位
置敏感型X線検出器18は単色光成分ごとにその各受光部
位(チャンネル)に検出しうる構成となっているため、
全エネルギースペクトルが同時に検出される。したがっ
て、本装置によれば、同時に各エネルギーに対し薄膜試
料14表面よりの反射率を測定していることになるので、
短時間に測定を行なうことが可能となる。
エネルギーを各単色光成分ごとに検出する手段として、
分光結晶17と位置敏感型X線検出器18との組合せを用い
たが、これに代えてエネルギー分解能を有する半導体固
体素子検出器(SSD)を用いることもできる。
の回折を用いているが、反射型(ブラッグケース)の回
折を用いることもできる。
が得られる。
全反射スペクトルを複数のエネルギーに対して測定する
ことが短時間にできるようになる。従来技術では、莫大
な時間を要することになり、同等のデータを得ることは
事実上不可能であるが、本装置によれば、ただ1回の薄
膜試料方位スキャンにより同時の各エネルギーに対する
反射率データが得られるので、各エネルギーごとにスキ
ャンを繰り返し行なった場合に比べて、角度の誤差が全
く生じない点で優れている。
同時に検出することができるので、従来莫大な時間を要
していた反射スペクトルの測定がほとんど瞬時に出来る
ようになる。
の概念図、第2図は本発明者が先に提案した全反射スペ
クトル測定装置の概念図、第3図は従来の全反射スペク
トル測定の説明図である。 11……X線源 14……薄膜試料 17……分光結晶 18……位置敏感型X線検出器 S11,S12……スリット系
Claims (3)
- 【請求項1】X線を基板上の測定試料表面に照射し、そ
の吸収、反射あるいは回折スペクトルを測定することに
より基板上の測定試料の構造評価を行なう全反射スペク
トル測定装置であって、 X線源から放出された光束を白色光のまま平行光として
測定試料表面で全反射を起こすように該測定試料表面に
照射させるコリメータ系と、 該X線の入射角と等しいX線取り出し角となるように配
置され、測定試料面からの反射光束の全エネルギーを各
単色光成分ごとに検出する分光検出手段と、 測定試料面のX線光束に対する入射角を連続的に変化さ
せる機構とを有することを特徴とする全反射スペクトル
測定装置。 - 【請求項2】該分光検出手段は、分光結晶と位置敏感型
検出器の結合であることを特徴とする請求項1に記載の
全反射スペクトル測定装置。 - 【請求項3】該分光検出手段は、エネルギー分解能を有
する半導体固体素子検出器(SSD)であることを特徴と
する請求項1に記載の全反射スペクトル測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2312463A JP2921597B2 (ja) | 1990-11-17 | 1990-11-17 | 全反射スペクトル測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2312463A JP2921597B2 (ja) | 1990-11-17 | 1990-11-17 | 全反射スペクトル測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04184155A JPH04184155A (ja) | 1992-07-01 |
JP2921597B2 true JP2921597B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=18029504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2312463A Expired - Lifetime JP2921597B2 (ja) | 1990-11-17 | 1990-11-17 | 全反射スペクトル測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2921597B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1739023B (zh) * | 2003-03-27 | 2012-01-04 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置 |
GB2476255B (en) * | 2009-12-17 | 2012-03-07 | Thermo Fisher Scient Ecublens Sarl | Method and apparatus for performing x-ray analysis of a sample |
DE102016014213A1 (de) * | 2015-12-08 | 2017-07-06 | Shimadzu Corporation | Röntgenspektroskopische analysevorrichtung und elementaranalyseverfahren |
-
1990
- 1990-11-17 JP JP2312463A patent/JP2921597B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04184155A (ja) | 1992-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7600916B2 (en) | Target alignment for X-ray scattering measurements | |
US6359964B1 (en) | X-ray analysis apparatus including a parabolic X-ray mirror and a crystal monochromator | |
US6577705B1 (en) | Combinatorial material analysis using X-ray capillary optics | |
KR920003050A (ko) | 단결정 소재의 외부상 침전물의 검사방법 | |
JP2921597B2 (ja) | 全反射スペクトル測定装置 | |
JP3968350B2 (ja) | X線回折装置及び方法 | |
JP2005140777A (ja) | サンプル検査方法、その装置、マイクロエレクトロニクス装置製造用クラスタツール、マイクロエレクトロニクス装置製造用装置 | |
JP2000504422A (ja) | 2つのコリメータマスクを有するx線分析装置 | |
US6285736B1 (en) | Method for X-ray micro-diffraction measurement and X-ray micro-diffraction apparatus | |
JPH05196583A (ja) | 全反射x線分析装置 | |
EP0697109B1 (en) | X-ray spectrometer with a grazing take-off angle | |
US6546069B1 (en) | Combined wave dispersive and energy dispersive spectrometer | |
JPH0915392A (ja) | X線解析装置 | |
SU1257482A1 (ru) | Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов | |
JPH1151883A (ja) | 蛍光x線分析装置および方法 | |
JP3590681B2 (ja) | X線吸収微細構造分析方法およびその装置 | |
JP2002333409A (ja) | X線応力測定装置 | |
JPH09257726A (ja) | X線分析装置および蛍光x線分析用アタッチメント | |
JPH06160312A (ja) | X線評価装置 | |
JP6862710B2 (ja) | X線回折装置 | |
JPH04329347A (ja) | 薄膜試料x線回折装置 | |
SU918827A1 (ru) | Рентгеновский спектрометр | |
JPH05296946A (ja) | X線回折装置 | |
RU2216010C2 (ru) | Многоканальный рентгеновский дифрактометр | |
RU2166184C2 (ru) | Рентгеновский рефлектометр |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080430 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100430 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100430 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110430 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110430 Year of fee payment: 12 |