JPS58122411A - 基板上の被覆における不規則を検出する方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、基板上の′１／１ｓｌにおける不規則を検出
するための方法及び装置に関する。　ＩＪ！に詳しくは
本発明は、金属製ねじキャップ及びラグキャップ等を含
む容器蓋の表面の如き塗装された或いはラッカ塗布され
ｔ表面の検査に関する。かような検査は、物理的損傷及
び汚染の検出のために遂行されるう 近時、容器蓋製造プロセスにおいては、各容器蓋に表面
被覆欠陥及び汚染が存在しないか否かの検査に相当な努
力がなされている。被覆は、一般に、透明キャリアと入
射光ｔｔｔせしめる顔料粒子とを含んでいる。被覆の典
型例としては、エナメル、ラテックス塗料、エポキシ被
覆及びラッカ郷を挙ける仁とができる。これらＯ被覆は
、一般に、固溶体及び混合物と称することができる。

被覆欠陥は、しみ及び残留シール材等の異物の存在、ひ
りかき或いは擦過による物理的損傷、並びにピンホール
を含み得る。容器蓋の美的及び機能的特性は、保護被覆
における異物或いは犠によって悪影響を受は得る。被覆
の損傷Ｆｉ各器薔の基板を露呈せしめ、これによって基
板の腐食を招くこと力４る。

高製品品質を維持する友めには、良好な容器賑から欠陥
客器１ｉｔ−分離する必要がある。上記欠陥のうちの、
ピンホールの如き幾つかのものは着しく小さい故に５肉
眠検査では不充分であり能率が悪い、ｉた、容器蓋は、
一般に、検査者が無視しなければならないエンボス構造
（浮彫構造）會含んでいる。容器蓋の欠陥領域と良好な
領域との閣のコントラスト差に基く光字的技法は、上記
エンボス構造もコントラスト差を生成する故に、上記エ
ンボス構造を誤認してしまう。

従って、基板上の被覆を検査して不規則を検出するため
の簡潔で、低価で且つ信頼性のある方法及び装置が望ま
れている。

表面の検査に偏光を使用すること自体は、新しいことで
はない０例えば、アール・シー・クラスの米Ｗ％許第２
，９４７，２１２号には、筋付（ｓｔｒｉａｔｅｄ）金
属シートを筋と平行に移動せしめてその表面を偏光に露
呈せしめる検査方法が開示されている。

金属表面における極めて微細な山と谷とから成る筋は、
検出器に非鏡面反射光を反射せしめる５反射光はフィル
タされて偏光のみが透過される０反射ビームの強度変化
は箭の変化を示す。

ギーの米国特許第３，９０４，２９３号においては、偏
光が道路表面に投射される１反射光は、道路の表面形ａ
ｔ−示す特定度合の偏光解消（ｄｅｐｏｌａｒｉｚａｔ
ｉｏｎ）を有する。

’シーｙ　−＝？　７　スｏ米ｗＡ％許ＩＫ４，０１５
，１２７号においては、金属基板上の被覆に非偏光赤外
放射ビームをブルースタ角で投射し、被覆の上面で反射
され九場合にはビームが平面偏光（ｐｌａｎｅ−ｐｏｌ
ａｒｉｚｅ　）されるようにせしめている。被覆の上面
で反射されなかった放射・ビームは被５ｉｔ−透過し、
一部Ｆｉ被積に吸収され一部は被覆と基板との境界面で
反射される０反射ビームはフィルタされて偏光が除去さ
れ、入射ビームのうちの、被覆の上面で反射された部分
を含まない、被覆を透過し次部分の強度が監視される。

被覆に吸収式れることに起因する光線強度の減衰を被覆
厚さに相関せしめることによって被覆厚さが測定される
。また、上記米国特許第４，０１５，１２７号には、偏
光フィルタとブルースタ角の適用との他の組合せによっ
て望ましくない偏光反射ビームを除去することも開示さ
れている。

而して、上述した先行特許のいずれも、被覆における不
規則の存在ｔｓｉｉ＋するための本発明の簡潔な方法及
び装置を教示するものではない、特Ｋ。

上述した先行特許のいずれも、折畳のエンボスを無視し
て表面汚染を検出することｔ教示するものではない。

本発明によれば、基板上の、光学的散乱中心を言むＵＳ
における不規則を検出する方法にして、偏光電磁放射ａ
ｔ該被被覆照射し、該基板に入射した放射線は蟲初の偏
光で反射され、骸散乱中心に入射した放射線は散乱され
て偏光解消されるようにせしめる照射工程と、反射放射
線及び散乱放射縁ｔ１反射放射ａｔ除去する＊＊１通し
て伝送する伝送１租と、伝送された散乱放射線を受ける
受は工程と、受は友散乱放射ａｔ解析して、伝送された
散乱放射線の強度の極小を検出することに−よって皺被
覆における不規則の存在を検出する解析工程と、を含む
ことｒｅ徴とする方法が提供される。

反射放射ｍｅ線除去る上記要素は、反射放射線の電界ベ
クトルの軸線に実質上垂直な通過軸線１有するポラシイ
ドフィルタであるのが好ましい。

−具体例にお°いては、上記解析１龜は、伝送された散
乱放射線の強を倉渕定することと、測定されｔ強ｌｉ＆
被覆の種々の領域に相関せしめることｔ含む。

他の具体例においては、上記照射工程は、偏光電磁放射
線によって普ａｔ所定パターンで走査することを含む、
この具体例において社、上記解析工程は、伝送され比散
乱放射線の強ｆｔｌ＃Ｉ２することと、被覆會走査する
際の一定され九強度における不連続変動を検出すること
によって不規則の存１！Ｅｔｓ％ｉすることを含むこと
ができる。上記照□　射工程は、レーザ光によって稙ｓ
ｎ照射することを含むことかで１、上記伝送工１ｍは、
伝送される放ＨＩＩＡｔフィルタしてレーず光の周波数
帯域の放射線のみを通過せしめること倉含むことができ
る。

史に、上記伝送工１１は、伝送される放射線を拡散する
ことｔ含むことができる。

螺旋パターン、ラスター走査パターン、被覆の中心の周
りの極座標走査パターンを含む多数のノ（ターンのうち
の任意のパターンで被４！１を走査することができる。

いずれのパターンが使用されるにしても、上記解析工程
は、測定される強度を所定走査パターンに相関せしめる
ことｔ含むことができる。基板が非平面であっても上記
解析工１ｉにおいて非平面が不規則とＩｌ議されること
はない。

他の具体例においては、被覆は偏光電磁放射線によって
実質上連続して且つ実質上均一に照射場れる。この具体
例においては、上記解析工程は、伝送嘔れた散乱放射ａ
ｔビデオカメラに導入することｔ含む、そしてまた、上
記解析工場は、ビデオカメラの出力信号を検出して、不
規則を示すビデオ信号レベルの急激な変化を検出するこ
とを含む。

本発明によれば、更に、上述し友方法倉遂行するのに適
した俟章も提供される。

以下、添付図ｒｒｉを参照して更に評細に説明する。

本発明は、入射偏光ビームの散乱及び偏光解消を利用し
て、Ｉｋ懐され九或いはラッカ塗布され九表面が許容し
得るものであるか否かを評価する。

入射光の偏光解消は、第１図に図示する如く、塗俟或い
はラッカ被覆ｌＯ中０１ｓ料粒子と入射漏光ビーム１１
との相互作用によって生ずる。偏光ビーム１１が被覆ｌ
Ｏ上に入射されると、その一部１４は最上１１１２で反
射されるが、残りの光１６は被覆ｌＯ内に透過して被覆
１０内でｍ１ｌｌ料Ｆ／Ｘ質と相互作用する。被＠１０
のラッカ或いは塗装キャリア基材は一般に明澄（ｃｌ軸
ｒ’ＦＭ　Ｔｏるので、光ビームを若干吸収するのみで
あり、光ビームに対する作用はほぼ無視することができ
る。

しかしながら、顔料粒子２（１、塗装の色に帰着すると
ころの特定の波長帯域の選択的吸収によって、光ビーム
に大きな影響を及ばず、しかし表から、本発明によって
更に重畳な点は、顔料粒子が入射光を散乱せしめること
である。散乱プロセスにおいては、光エネルギが吸収さ
れ、次いで各散乱中心から球面波として放射される。入
射光の波長に対する顔料粒子２００寸法に起因して、各
顔料粒子２０ｉｊ多数の潜在（ｐｏｔｅｎｔｌｍｌ）　
ｌｌｋ乱中心を含んでいる。第１図に図示する如く、正
味の結果として、入射ビームの方向及び偏光状１１ｉＫ
対して、散乱中心から放射されるビームの方向及び偏光
状態が異なる。

第１図に図示する如く、塗装の最上面で反射される光ビ
ーム部分１４は当初の偏光を維持し、同様に、第２図に
図示する如く、露呈した金属基板２６で反射される光ビ
ーム部分２６も当初の偏光を維持する。これらの鏡面反
射（正反射）部分は、入射角−１と反射角０ｒとが等し
い光学反射法則に従う、入射光に対して着＠１０１遁蔽
する異物２８が存在する場合、異物２８Ｆｉ光ｔ！ｌ収
し或いは入射光ビームと同一の偏光を有する反射光ビー
ム３４として光を反射する。光ビームは不透明異物倉透
過しない故に、散乱されろことなく吸収或いは反射され
る。

上記の通りであるので、表面ｌＯからの光は、反射光ビ
ーム１４．２４及び３４並びに散乱光ビーム２２【含ん
でいる０反射光ビーム１４．２４及び３４は特定の角＊
　ａｒｔｃ集中するが、散乱光ビーム２２は広角度範囲
に渡って散乱される故に、一般に、番器蓋表面の全ての
部分からの光が肉眼で見られる。

散乱光ビーム２２は入射光ビームと同一の偏光【有さな
いが、反射光ビーム１４．２４及び３４は入射光ビーム
と同一の偏光【有する。第３図に図示する如く、ポ２ａ
イド要素３６１通して表面を見る場合、ポラロイド要素
３６ｔ−％定角度位置まで回転せしめると、偏光反射光
ビーム１４．２４及び３４は遮蔽される。この位置にお
けるポラロイド要素３６の通過軸線は、入射偏光の電界
ベクトルの軸重に対して垂直である。ポラロイド要素３
６を通して見た場合、散乱顔料粒子によって適切に覆わ
れた表面領域のみが割るい。汚染物によって援われ、或
いは被１１にピンホール又はひっかき傷が存在する等に
よって、被覆された表面に不規則が存在すると暗くなる
。被覆に不規則が存在しない領域は、散乱光が広角度範
ｓＫ渡って放射される故に明るい、これは、第３図に図
示する如く、基板の非平面部上の被覆の湾−領域におい
ても当てはまる。かかる事実は、はとんどの容器蓋が強
ＩＩを増大せしめるため及び密封用ライナを保持するｔ
め等のエンボス構造【含んでいる故に、重畳な特性であ
る、 上記の通りで−あるので、保護ラッカ又は塗装が異物に
覆われ或いはピンホール、ひつかき又は擦過によって損
傷されている等の欠陥が存在しない限り、エンボス構造
を含む容器蓋の全表面は、観察者に明るく見える。

容ａｉｉの検査に関連して、本発明は、被覆上の汚染或
いは被覆におけるピンホール又はひっかき傷の存在の検
出に有用である０通常の適切に？１１され九答器蓋表面
は入射偏光ビームを散乱し大幅に偏光解消するが、欠陥
領域は偏光【少ししか変化させずに入射偏光ビーム１反
射又は吸収する。

上述した光学原理を使用した本発明の一具体例を第４図
に図示する。以下、この好適具体例について詳述するが
、本発明はかかる具体例に限定されるものではなく、上
述した光学原ｌｌヲ使用する他の具体例も本発明に含ま
れることは多１ｉｉｒｔ［’Ｌない。

第４図における照射源は、偏光ヘリウム−ネオ／レーザ
４０である。これに代えて、非偏光レーザ、タング１ス
テンランプ及びアークランプの如き照射−と、特定の光
軸を有する偏光ビームを生成する偏光要素と１用いるこ
ともできる。第４図に図示する如く、光軸は矢印４２で
示す通り紙面において上下方向でめる。照射源４０の波
長帯域は、檜々の波長帯域でよいが、可視光が特に好都
合である。

レーザ４０の出力ビームは、螺旋走査ＩＮＫ：導かれる
。走査器４４は容器蓋の全領域に渡って偏光ビームを走
査する。走査ビームはレンズ４５及びビームスプリッタ
４６′に過ってＩＩ器蓋５０に至る。

容器蓋５０からの反射放射は、ビームスプリッタ４６に
反射されて集電レンズ４９、ポラロイドフィルタ５２、
レーザフィルタ５４及び拡散板５６を通って光学検出器
５８に至る。ビームスプリッタ４６は、偏光］感度を有
さない通常の部分的に鍋（クロム又はアルミニウム）が
塗られ次ガラス板、或いは偏光方向に従って光を選択的
に反射又は透過する特殊な多層誘導体薄層でよい、照射
源からの光軸は、ビームスプリッタ４６の平面に対して
平行又は−直であって透過光の偏光に干渉しないのが好
ましい。

容器蓋５０からの光のうちの鏡面反射（正反射）部分の
偏光は、照射源からの光の偏光と同一である。フィルタ
ｓ２の光学的通過軸線は紙面に垂直であり反射光の偏光
成分の光−４２に垂直である。

従って、フィルタ５２はビームの反射部分【遮蔽し、非
偏光散乱部分を通過せしめる。

レーザフィルタ５４ｔｉ、レーザ波長周囲の狭スペクト
ル帯域を通過せしめるように同調されていて、）１ｉｄ
ｉ！ｌの光から光学検出器５８ｔＪ１１蔽し、かくして
検出器５８の信号対雑音率を増大せしめる。

検出器５８は、直後的に又は高域フィルタ６０１通して
オシロスコープ６１に適用するこ・とができる電気的信
号に光を変換する聾のものでよい、艶消ガラス又はマイ
ラーフィルムの簡潔なシートでよい光学的拡散部５６は
、検出器５８の全面に渡って光を均一に分布せしめ、各
器薔の走査領域にかかわらず一層均一な信号を生成せし
めるととｔ可Ｗ＠にする。フィルタ５２による偏光成分
の除去により検出器５８は容器★５０の良好な表面領域
からの光のみを受ける。容器蓋からの散乱は広立体角Ｋ
ａつて分布される故に、円滑乃至平担でない表面を有す
るエンボス領域を含む容器蓋の良好な全領域に対して検
出器５８は実質上均一に応答する。偏光フィルタ５２が
ないと、容器蓋の非平担領域が欠陥領域から区別され得
ない。

第５図は、螺旋走査パターン即ち容儀＠５０の表面上で
のビーム移動経路４８を簡略に図示している。第４図及
゛び第５図に＃′ｉ螺旋走査を図示しているが、ａｒ−
ｙｌｉ標ラスう−走査或いは容器蓋の中心の周りに線走
査を回転せしめる極座標走査の如き他の同様に有効な走
査パターンでもよい、走査器は、表面欠陥又は汚染の検
出の几めに容器蓋の全表面領域ｔ−［Ｋ或いは数置に渡
って照射する。

勿論、容器蓋を走査するのに要する時間は、走査ビーム
及び容器蓋の寸法並びにビームの移動速［Ｋ関連する。

ビームの寸法は、短走査時間が好ましいか高解ｇ１度が
好ましいかに従って選定される。充分に強い出力信号を
生成する究めに必要な最小ビーム寸法が存在することは
多言ｋｌ！Ｌない。

典型例を挙げれば、直径がｏ、ｏｏｓ乃至Ｑ、Ｑ　ｌ　
１ｎｃｈ（０，０１２７乃至０．０２５４ｍ）のビーム
寸法で、走査時間は移器ｉ１１個当り０．１乃至０．２
５秒程度である。

容易に通解される如く、ビームが容器蓋の良好な領域を
走査している限り、強度が比較的均一な非偏光ビームが
散乱され検出される。走査入射ビームが不規則に出合う
と、極く僅かの光或いはほとんど偏光のみＯ光が反射さ
れる。そして、いずれの場合も検出器５８０強度は極小
になり、かかる極小が不規則と認識され得る。

第６図及び第７図は、良好な容器蓋を走査することによ
って生成された信号を示している。

第８図及び第９図は、ひっかき傷に応答して生成された
信号を示している。第１θ図及び第１１図は、異物汚染
に応答して生成された信号を示している。鶴１２図及び
第１３図は、ピンホールに応答して生成されｔ信号を示
している。

第６図、第８図、第１０図及び第１２図は、光学的検出
器５８からの典型的な信号を示し、第７図、第９図、第
１１図及び第１３図は、検出器５８の出力が供給される
高周波通過フィルタ６０によってフィルタされた夫々対
応する信号を示している。螺旋走査の場合、容器蓋表面
からの散乱における着千の変動によって低周波交流信号
が生成され、直流信号レベルは容器蓋の走査領域が周縁
部になると減少する。低風波信号は高周波通過フィルタ
によって除去され、欠陥信号のみが残される。

第６図、第８１１．第１０ａｌ！及び第１２図に図示す
る信号においては、直流信号レベルは上方へ変位し、レ
ーずビームが容器蓋ｃｎｔ脱れると信号は、零に壜る。

第７図、第９１１．第１１ＷＪ及び第１３図に図示する
如く、高馬１練通過処ｌｌｔ施すと、低周波交流及び直
流成分−除去され、容器ｔｉｅ面の欠陥を自動的に表示
するｔめの比砿器に適用することができる高周波欠陥信
号のみが残される。

検査の友めに光学的偏光解消の基本原理を用いる他の方
法として、飛点走査方法の使用とカメラを用いるビデオ
システムの使用とを含む方ａｔ挙げることができる。第
１４図はビデオシステムの一例を示している。容器蓋６
２の全体は均−偏光源６４によって照射される。既に言
及しｔ通り、容器蓋上の被機の顔料に入射されると、入
射光は散乱され偏光解消される。被覆上の汚染物或いは
ひっかき傷又はピンホールに入射された光は、吸収され
或いは当初の偏光ｔｍ持して鏡面反射（正反射）される
、同様に１被榎の最上面からの鏡面反射（正反射）も当
初の偏光を維持する。角度θ１に沿った偏光成分はポラ
ロイド要素６６によってフィルタされ、被覆中の散乱中
心からの偏光解消された光の゛みが残されてポラロイド
要素６６１通してビデオカメラ６８に伝送される。

ビデオカメラ６８は通常のテレビジョンモードで作用し
、し／ズ７０ｔ−通った光が感光面に入射される。感光
面は到達した光の量に対応して１を釘を生成し、カメ１
うは所定のシーケンスに従って感光面の種々の部分に遂
次信号を生成する。完全に均一な儂に対しては出力信号
は定レベルであるが、儂に不連続部がある時には信号レ
ベルが急激に変化する。上記不連続は、容器蓋における
ピンホール、ひっかき傷、汚染或いはその他の欠陥に起
因する。Ｉ！つて、上記不連続に起因するところのビデ
オカメラからの出力信号のレベルの急激な変化は、欠陥
容器蓋を示す。

容ｓｉｉの縁に起因する不連続は、検査すべき各器蓋【
常に同一の背景で同一の位掻に存在せしめて常に同一の
縁不連続が存在するようにせしめるととによって無視さ
れ得る。ビデオカメクロ８の出力が適用される信号処理
モジュール７２は、上述した予期される縁不連続を当業
者には周知の方式によって無視するようにプログラムす
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、偏光に露呈された基板を示す簡略
部分断面図。 第３図は、偏光に露Ｍｉ５れたエンボス構造を示す簡略
部分図。 第４図は、本発明に従って＊Ｆｌｔ、された装置の一其
体伺を示す簡略図。 第５図は、走査パターンの一つを示す容器蓋の簡略平面
図。 第６図乃至第１３図は、種々の状態下にて第４図のＶ＆
置によって生成される信号を示す線図。 第１４図は、本発明に従って構成された装置の他の具体
例を示す簡略図。 １０・・・・・・被　覆 １１・・・・・・偏光ビーム １４．２４及び３４・・・・・・反射光ビーム２２・・
・・・・散乱光ビーム ３６・・・・・−ポラロイド要素 ＦＩＧ、　６ ＦＩＧ、　１３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上の、光学的散乱中心を含む被覆における不規
   則を検出する方法にして、 偏光電磁放射−を該被覆に照射し、該基板に入射した放
   射線は当初Ｏ偏光で反射され、該散乱中心に入射した放
   射線は散乱されて偏光解消されるようにせしめる照射工
   程と、 反射放射線及び散乱放射巌ｔ１反射放射線を除去する要
   素を通して伝送する伝送工程と、伝送された散乱放射線
   を受ける受は工程と、受けた散乱放射線を解析して、伝
   送され友散乱放射崗の強［０極小を検出することによっ
   て該被蝋における不規則の存ａｔ検出する解析工程と、 倉含むことｔ−特徴とする方法。 ２、反射放射線の電界ベクトルの軸線に実質上垂直な通
   過軸線を有するポラロイドフィルタに、伝送される反射
   放射ｌｌｌＶｔ通すことによって、反射放射線を除去す
   る、特ｆｆ１ｓ求の範囲第１］Ｊｋ＆載の方法。 ３、咳照射工程は、該偏光電磁放射線によって該被覆を
   所定パターンで走査すること金含む、特許請求の範囲第
   １項記載の方法。 ４、該解析工程は、伝送された散乱放射線の強度を測定
   することと、該被覆を走査する際の測冗された強度にお
   ける不連続変動を検出することによって不規則の存在【
   確認することを含む、特許請求の範囲第３項記載の方法
   。 ５、該照射工程は、レーザ光によって該被ａ會照射する
   とと【含み、該伝送工程は、伝送烙れる放射＋ｌｌｔフ
   ィルタして該レーザ光の周波数帯域の放射線のみｔ通過
   せしめるととｔ含む、％許饋求の範自第３項記載の方法
   。 ６、該伝送工程は、伝送される放射ａｔ拡散すること【
   含む、特許請求の範囲第４項記載の方法。 ７、＃パターンは螺旋パターンである、特許請求の範囲
   第６項記軌Ｏ方法。 ８、該パターンはラスター走査パターンである、特許請
   求の範囲第６項記載の方法。 ９、誼パターンは極座標走査パターンである、特許請求
   の範囲第６項記載の方法。 １０、　　該基板は、走査の結果として該解析工程にお
   いて測定される強度に連続的な変動のみｔ生成するとこ
   ろの非平面部を有する、特許請求の範囲第７積から第９
   項までのいずれかに１載の方法。 １１、　　該照射工程は、叔偏光電磁放射−によって該
   被覆を実質上連続して且つ実質上均一に照射することｔ
   含む、特許請求の範囲第１ｍ記載の方法。 １２、　　該解析工＠Ｕ、伝送式れた散乱放射線ｔビデ
   オカメラに導入することを含む、特許請求の範囲第１１
   項記載の方法。 １３、　　該％析工楊は、該ビデオカメラの出力信号を
   検出して、不規則を示すビデオ信号レベルの急激な変化
   を検出することｔ含む、特許請求の範囲第１２項記載の
   方法。 １４、該照射工程は、該偏光電磁放射ａｔ所定入射角で
   該被覆に照射して、該反射放射線が所定反射角で反射さ
   れるようＫせしめることを含み、該伝送工程は、該反射
   放射ａｔ該所定反射角で、該反射放射線を除去する咳要
   素に伝送することｔ含む、特許請求の範Ｓ第１項記載の
   方法。 １５、　　該偏光電磁放射線は可視光である、特許請求
   の範囲第１項記載の方法。 １６、　　該照射工程は、該被覆上の汚染物を照射し、
   該汚染物に入射し几放射線は尚初の偏光で反射されるよ
   うＫせしめることを含み、該伝送工Ｓは、骸汚染物から
   の反射放射縁を１反射放射ＩＩｒｒ除去する該要素を通
   して伝送して、該汚染物からの反射放射線【除去するこ
   とｔ含む、特許請求の範囲第１項記載の方法う １７、　　基板上の、光学的散乱中心を含む被ａＫおけ
   る不規則を検出する装置にして、 偏光電磁放射線を該被覆に照射し、該基板に入射した放
   射ＩＩＦｉｍ初Ｏ偏光で反射され、骸歓乱中心に入射し
   友放射纏は散乱されて偏光解消されるようにせしめる照
   射手段と、 反射放射線及び散乱放射線から偏光反射放射線を除去し
   て非偏光散乱放射線を伝送する偏光反射放射線除去手段
   と、 伝送された散乱放射ａｔ受ける受は参段と、受けた散亀
   放射ｍｅ解析して、伝送された散乱放射１１０強度の極
   小を検出することによって該被覆における不規則の存在
   を検出する解析手段と、を具備すること１０黴とする装
   置。 】８．鍍偏光反射放射線除去手段は、偏光反射放射線の
   電界ベクトルの軸１１に実質上垂直な通過軸１ｍ１に有
   するポラロイドフィルタである、特許請求の範囲第１７
   項記載Ｏ懐装。 １Ｇ、　　＃照射手段は、偏光電磁放射＠によって該被
   曖を所定パターンで走査する手段【含む、特許請求の範
   囲第１７項記載の装置。 ２０、　　＊解析手段は、伝送された散乱放射線のｇ度
   ｒ測定し、該被覆を走査する際の渕定された強紋におけ
   る不連続変動を検出することによって不規則の存在ｔｉ
   Ｉ認する手段を含む、特許請求の範囲第１９項記載の装
   置。 ２１、＃照射手段は、レーザ光によって該被覆を照射す
   る手段を含み、そして、受けた放射線ｔフィルタして該
   レーザ光の周波数に近偏し九周波数帯域の放射線のみｔ
   通過せしめる手段が設けられている、特許請求の範囲第
   １９項記載の装置。 ２２、受けｔ放射線を拡散せしめる手段が設けられてい
   る、特許請求の範囲第２１項記載の装置。 ２３、該パターンは螺旋パターンである、特許請求の範
   囲第１９項記載ＯＳ装。 ２４、該パターンはラスター走査パターンである、特許
   請求の範囲第１９項記載の装置。 ２５、該パターンは極座標走査パターンである、特許請
   求の範囲第１９項記載の装置。 ２６、該基板は、走査の結果として該解析手段によ゛っ
   て測定される強度に連続的な変動のみを生成するところ
   の非平面部を有する、特許請求の範囲第２３項から第２
   ５項までのいずれか［ｅ載の装置。 ２７、該照射手段は、偏光電磁放射線によって該被覆を
   実質上連続して且つ実質上均一に照射する、特許請求の
   範−第１７項記載の装置。 ２８、該解析手段はビデオカメラ【含む、特許請求の範
   囲第２７項記載の装置。 ２９、該解析手段は、該ビデオカメラの出力信号音検出
   して、不規則を示すビデオ信号レベルの急激な変化を検
   出する手段ｔ−ｔむ、特許請求の範囲第２８項記載の装
   置。 ３０、＃照射手段は、該普４！１を所定入射角で照射し
   て、反射放射線が所定反射角で反射されるようにせしめ
   る手段を含み、該偏光反射放射線除去手段は該所定反射
   角に方向付けられている、特許請求の範囲第１７］ｊ１
   記載の装置。 ３１、該照射手段は該被覆に可視光を特徴する特許請求
   の範囲第１７項記載の装置