JPH1164612A - 銀反射鏡 - Google Patents
銀反射鏡Info
- Publication number
- JPH1164612A JPH1164612A JP22927597A JP22927597A JPH1164612A JP H1164612 A JPH1164612 A JP H1164612A JP 22927597 A JP22927597 A JP 22927597A JP 22927597 A JP22927597 A JP 22927597A JP H1164612 A JPH1164612 A JP H1164612A
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ａｇ層と基板との間に酸化物層を含む下引層
を設けても、短波長側の分光特性に優れている銀反射鏡
を提供すること。 【解決手段】 基板、基板上に形成され酸化物層を含む
複数層からなる下引層、該下引層上に形成されたＳｉＯ
2層および該ＳｉＯ2層上に形成されたＡｇ層からなる銀
反射鏡。
を設けても、短波長側の分光特性に優れている銀反射鏡
を提供すること。 【解決手段】 基板、基板上に形成され酸化物層を含む
複数層からなる下引層、該下引層上に形成されたＳｉＯ
2層および該ＳｉＯ2層上に形成されたＡｇ層からなる銀
反射鏡。
Description
【０００１】
【発明の属する技術の分野】本発明はカメラ、複写機、
プリンター、顕微鏡、望遠鏡等の光学製品に使用される
金属ミラー、特に銀反射鏡に関する。
プリンター、顕微鏡、望遠鏡等の光学製品に使用される
金属ミラー、特に銀反射鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】複写機、プリンター等の光学機器に用い
られる金属ミラーは、ガラス、樹脂等の基体の表面にア
ルミニウム、銅、金、銀等の金属の反射膜を有する構造
をしている。一般的には、可視から近赤外の範囲にわた
って反射率が高い銀が基体上に蒸着され使用されてい
る。しかしながら銀を使用する場合、単層膜では耐付着
性や耐腐食性に劣ると言う問題がある。その問題を解決
するため、基板と銀の間に様々な酸化物層を含む下引層
を挿入し、膜付着性、耐腐食性を付与する技術が知られ
ている。
られる金属ミラーは、ガラス、樹脂等の基体の表面にア
ルミニウム、銅、金、銀等の金属の反射膜を有する構造
をしている。一般的には、可視から近赤外の範囲にわた
って反射率が高い銀が基体上に蒸着され使用されてい
る。しかしながら銀を使用する場合、単層膜では耐付着
性や耐腐食性に劣ると言う問題がある。その問題を解決
するため、基板と銀の間に様々な酸化物層を含む下引層
を挿入し、膜付着性、耐腐食性を付与する技術が知られ
ている。
【０００３】例えば、特開平８−２３４００４号公報に
は、保護層（ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3）／Ｃｒ／Ａｇ／Ｃｒ
／ＳｉＯ2／基板の構成をした金属ミラーが開示されて
いる。Ａｇ層とＳｉＯ2層との間のＣｒ層によってＡｇ
層とＳｉＯ2層との密着性を強化している。また、特開
平５−１２７００５号公報には、保護層（ＳｉＯ2／Ａ
ｌ2Ｏ3／ＳｉＯ2／ＣｒＳ）Ａｇ／ＣｒＳ／ＳｉＯ2／基
板の構成をした表面高反射鏡が開示されている。基板上
に形成される第１下地層ＳｉＯ2によって基板上の積層
膜の剥離による点状欠陥の発生を防止している。
は、保護層（ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3）／Ｃｒ／Ａｇ／Ｃｒ
／ＳｉＯ2／基板の構成をした金属ミラーが開示されて
いる。Ａｇ層とＳｉＯ2層との間のＣｒ層によってＡｇ
層とＳｉＯ2層との密着性を強化している。また、特開
平５−１２７００５号公報には、保護層（ＳｉＯ2／Ａ
ｌ2Ｏ3／ＳｉＯ2／ＣｒＳ）Ａｇ／ＣｒＳ／ＳｉＯ2／基
板の構成をした表面高反射鏡が開示されている。基板上
に形成される第１下地層ＳｉＯ2によって基板上の積層
膜の剥離による点状欠陥の発生を防止している。
【０００４】しかしながら、このように付着性の向上、
腐食防止等のためＡｇ層と基板との間に酸化物層を挿入
すると、短波長側の分光特性が劣化するという問題が生
じる。
腐食防止等のためＡｇ層と基板との間に酸化物層を挿入
すると、短波長側の分光特性が劣化するという問題が生
じる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みなされたもので、Ａｇ層と基板との間に酸化物層を含
む下引層を設けても、短波長側の分光特性に優れている
銀反射鏡を提供することを目的としている。
みなされたもので、Ａｇ層と基板との間に酸化物層を含
む下引層を設けても、短波長側の分光特性に優れている
銀反射鏡を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基板
上に形成され酸化物層を含む下引層、該下引層上に形成
されたＳｉＯ2層および該ＳｉＯ2層上に形成されたＡｇ
層からなる銀反射鏡に関する。
上に形成され酸化物層を含む下引層、該下引層上に形成
されたＳｉＯ2層および該ＳｉＯ2層上に形成されたＡｇ
層からなる銀反射鏡に関する。
【０００７】図１に本発明の銀反射鏡の構成を示してい
る。本発明においては基板１上に設けられた酸化物層を
含む下引層２とＡｇ層４との間にＳｉＯ2層３を挿入す
ることを特徴としている。こうすることにより短波長側
の分光特性を優れたものとすることができる。
る。本発明においては基板１上に設けられた酸化物層を
含む下引層２とＡｇ層４との間にＳｉＯ2層３を挿入す
ることを特徴としている。こうすることにより短波長側
の分光特性を優れたものとすることができる。
【０００８】基板は各光学部品に応じて従来から使用さ
れているものを使用すればよく、例えばガラス基板、ポ
リカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の樹脂基板が使用
可能である。特に本発明においてはガラス、樹脂基板を
用いた光学部品としての銀反射鏡に本発明を適用するこ
とが有用である。
れているものを使用すればよく、例えばガラス基板、ポ
リカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の樹脂基板が使用
可能である。特に本発明においてはガラス、樹脂基板を
用いた光学部品としての銀反射鏡に本発明を適用するこ
とが有用である。
【０００９】上記基板上には酸化物層を含む下引層が形
成される。この下引層はＡｇ層と基板との接着性を向上
させ、基板の影響によるＡｇの腐食を防止する働きをな
す。
成される。この下引層はＡｇ層と基板との接着性を向上
させ、基板の影響によるＡｇの腐食を防止する働きをな
す。
【００１０】下引層としては従来から使用されているＡ
ｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＳｉＯ2及びそ
れらの混合物の単層あるいは複層であってよい。単層の
場合はＡｌ2Ｏ3層を設けることが基板との密着性の観点
から好ましい。複数層を設ける場合は、高屈折率材料、
例えばＡｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5等および
低屈折率材料、例えばＳｉＯ2等を交互に組み合わせた
多層膜構成としてもしてもよい。その場合、基板に接す
る層は、Ａｌ2Ｏ3層とすることが基板との密着性から好
ましく、特に、本発明においては多層下引層を、基板／
Ａｌ2Ｏ3の構成とすることが好ましい。なお、本発明に
おいては下引層は、単層の場合はＳｉＯ2層を含まず、
複数層の場合は、ＳｉＯ2が下引層の最上層（基板から
最も離れている層）に位置する層の構成は除かれる。
ｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＳｉＯ2及びそ
れらの混合物の単層あるいは複層であってよい。単層の
場合はＡｌ2Ｏ3層を設けることが基板との密着性の観点
から好ましい。複数層を設ける場合は、高屈折率材料、
例えばＡｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5等および
低屈折率材料、例えばＳｉＯ2等を交互に組み合わせた
多層膜構成としてもしてもよい。その場合、基板に接す
る層は、Ａｌ2Ｏ3層とすることが基板との密着性から好
ましく、特に、本発明においては多層下引層を、基板／
Ａｌ2Ｏ3の構成とすることが好ましい。なお、本発明に
おいては下引層は、単層の場合はＳｉＯ2層を含まず、
複数層の場合は、ＳｉＯ2が下引層の最上層（基板から
最も離れている層）に位置する層の構成は除かれる。
【００１１】これら下引層の各層は従来からの方法、例
えば、電子ビーム法あるいは抵抗加熱法による蒸着法、
又はスパッタ法等の方法で成膜することができる。下引
層の厚さ（複数層の場合はその各層の厚さ）は通常０．
１λ〜２．０λ（λ：設計主波長）である。特に／Ａｌ
2Ｏ3単層を下引層とする場合は厚さ０．２５〜０．５λ
（λ：設計主波長）に形成することが好ましい。
えば、電子ビーム法あるいは抵抗加熱法による蒸着法、
又はスパッタ法等の方法で成膜することができる。下引
層の厚さ（複数層の場合はその各層の厚さ）は通常０．
１λ〜２．０λ（λ：設計主波長）である。特に／Ａｌ
2Ｏ3単層を下引層とする場合は厚さ０．２５〜０．５λ
（λ：設計主波長）に形成することが好ましい。
【００１２】下引層の上にはＳｉＯ2層が形成される。
このＳｉＯ2層はこの上に形成されるＡｇ層と接した構
成を有する。ＳｉＯ2層は０．１λ〜１．０λ（λ：設
計主波長）、好ましくは０．２５〜０．５λである。こ
の層も下引層と同様に蒸着法、スパッタリング法により
形成できる。
このＳｉＯ2層はこの上に形成されるＡｇ層と接した構
成を有する。ＳｉＯ2層は０．１λ〜１．０λ（λ：設
計主波長）、好ましくは０．２５〜０．５λである。こ
の層も下引層と同様に蒸着法、スパッタリング法により
形成できる。
【００１３】ＳｉＯ2層上にはＡｇ層が形成される。Ａ
ｇ層はＡｇを主成分とする層で、例えばＡｇ金属単独で
も、Ａｇと、ＡｕやＣｕ等との合金からなる層であって
よい。その層は、同様に蒸着法またはスパッタリング法
等で、厚さ１０００−３０００Å、好ましくは１０００
〜２０００Åに成膜される。
ｇ層はＡｇを主成分とする層で、例えばＡｇ金属単独で
も、Ａｇと、ＡｕやＣｕ等との合金からなる層であって
よい。その層は、同様に蒸着法またはスパッタリング法
等で、厚さ１０００−３０００Å、好ましくは１０００
〜２０００Åに成膜される。
【００１４】Ａｌ2Ｏ3層上には本発明の効果を損ねない
範囲で多層膜を設けてもよい。多層膜は通常、誘電体層
と呼ばれる層で構成されており、最上層(基板から最も
離れている層)にはＳiＯ2を使用する構成からなること
が好ましい。Ａｇ反射鏡と同様の成膜方法による保護
膜、さらにはこれらの誘電体多層膜を含むＡｇ反射鏡
は、膜全体を塗料で保護してもよい。
範囲で多層膜を設けてもよい。多層膜は通常、誘電体層
と呼ばれる層で構成されており、最上層(基板から最も
離れている層)にはＳiＯ2を使用する構成からなること
が好ましい。Ａｇ反射鏡と同様の成膜方法による保護
膜、さらにはこれらの誘電体多層膜を含むＡｇ反射鏡
は、膜全体を塗料で保護してもよい。
【００１５】以下、実施例を用いて本発明を説明する。
実施例１ 基板としてガラスを使用し、図２に示したようにＡｌ2
Ｏ3層、ＳｉＯ2層およびＡｇ層をこの順に基板上に形成
した。形成は真空蒸着法を用い、常温下に真空槽を５.
０×１０-5Ｔｏｒｒに排気して行った。この時の各層の
膜圧はＡｌ2Ｏ3層が０．５λ、ＳｉＯ2層が０．２５λ
およびＡｇ層が１５００Åであった。
Ｏ3層、ＳｉＯ2層およびＡｇ層をこの順に基板上に形成
した。形成は真空蒸着法を用い、常温下に真空槽を５.
０×１０-5Ｔｏｒｒに排気して行った。この時の各層の
膜圧はＡｌ2Ｏ3層が０．５λ、ＳｉＯ2層が０．２５λ
およびＡｇ層が１５００Åであった。
【００１６】実施例２ 基板として樹脂を使用し、図３に示したように、ＳｉＯ
2層、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2層およびＡｇ層をこの順に基板
上に形成した。形成は真空蒸着法を用い、常温下に真空
槽を５．０×１０-5Ｔｏｒｒに排気して行った。この時
の各層の膜圧は最下層のＳｉＯ2層が１．５λ、Ａｌ2Ｏ
3層が０．５λ、その上のＳｉＯ2層が０．２５λおよび
Ａｇ層が１５００Åであった。
2層、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2層およびＡｇ層をこの順に基板
上に形成した。形成は真空蒸着法を用い、常温下に真空
槽を５．０×１０-5Ｔｏｒｒに排気して行った。この時
の各層の膜圧は最下層のＳｉＯ2層が１．５λ、Ａｌ2Ｏ
3層が０．５λ、その上のＳｉＯ2層が０．２５λおよび
Ａｇ層が１５００Åであった。
【００１７】基準 基板上にＡｇ層のみを設けた以外は実施例１と同様にし
て銀反射鏡を形成した。
て銀反射鏡を形成した。
【００１８】比較例１ 基板上にＡｌ2Ｏ3層およびＡｇ層をこの順に設けた以外
は実施例１と同様にして銀反射鏡を設けた。
は実施例１と同様にして銀反射鏡を設けた。
【００１９】実施例１および２、基準および比較例１で
得られた銀反射鏡を温度６０℃、湿度９５％の雰囲気下
に２４０時間放置後、波長４００ｎｍの反射率を測定し
た。結果を下記する。
得られた銀反射鏡を温度６０℃、湿度９５％の雰囲気下
に２４０時間放置後、波長４００ｎｍの反射率を測定し
た。結果を下記する。
【００２０】 実施例１：９０％ 実施例２：９０％ 基準：９３％ 比較例：８５％
【００２１】
【発明の効果】本発明の銀反射鏡は銀層の下に酸化物層
からなる下引層を有する構成の反射鏡の反射率、特に低
波長光の反射率を向上する。
からなる下引層を有する構成の反射鏡の反射率、特に低
波長光の反射率を向上する。
【図１】 本発明の銀反射鏡の積層構成図。
【図２】 実施例で得られた銀反射鏡の積層構成図。
【図３】 実施例で得られた銀反射鏡の積層構成図。
１：基板、２：下引層、３：ＳｉＯ2層、４：Ａｇ層
Claims (3)
- 【請求項１】 基板、基板上に形成され酸化物層を含む
下引層、該下引層上に形成されたＳｉＯ2層および該Ｓ
ｉＯ2層上に形成されたＡｇ層からなる銀反射鏡。 - 【請求項２】 酸化物層が、基板上に形成されたＡｌ２
Ｏ３層を含む請求項１に記載の銀反射鏡。 - 【請求項３】 ＳｉＯ2層が０．１λ〜１．０λ（λ：
設計主波長）である請求項１記載の銀反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22927597A JPH1164612A (ja) | 1997-08-26 | 1997-08-26 | 銀反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22927597A JPH1164612A (ja) | 1997-08-26 | 1997-08-26 | 銀反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1164612A true JPH1164612A (ja) | 1999-03-05 |
Family
ID=16889567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22927597A Pending JPH1164612A (ja) | 1997-08-26 | 1997-08-26 | 銀反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1164612A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6535336B2 (en) | 2000-06-02 | 2003-03-18 | Canon Kabushiki Kaisha | High reflection mirror |
| WO2018135124A1 (ja) * | 2017-01-18 | 2018-07-26 | 旭硝子株式会社 | Ｃｓｐミラー、およびｃｓｐミラー用の膜付きガラス基板の製造方法 |
-
1997
- 1997-08-26 JP JP22927597A patent/JPH1164612A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6535336B2 (en) | 2000-06-02 | 2003-03-18 | Canon Kabushiki Kaisha | High reflection mirror |
| WO2018135124A1 (ja) * | 2017-01-18 | 2018-07-26 | 旭硝子株式会社 | Ｃｓｐミラー、およびｃｓｐミラー用の膜付きガラス基板の製造方法 |
| CN108633306A (zh) * | 2017-01-18 | 2018-10-09 | 旭硝子株式会社 | Csp镜以及用于csp镜的具有膜的玻璃基板的制造方法 |
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