JPH1148109A - ワークエッジの鏡面研磨方法及び装置 - Google Patents

ワークエッジの鏡面研磨方法及び装置

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JPH1148109A
JPH1148109A JP26091797A JP26091797A JPH1148109A JP H1148109 A JPH1148109 A JP H1148109A JP 26091797 A JP26091797 A JP 26091797A JP 26091797 A JP26091797 A JP 26091797A JP H1148109 A JPH1148109 A JP H1148109A
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work
polishing
drums
edge
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JP26091797A
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English (en)
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Shiyunji Hakomori
守 駿 二 箱
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SpeedFam Co Ltd
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ワークの外周エッジを複数点において効率良
く短時間で鏡面研磨することが可能な、加工効率の勝れ
た小形の研磨手段を得る。 【解決手段】 外周に研磨用作業面2aを備えた2つの
円筒形研磨ドラム2,2をワーク7の直径より小さい間
隔を保って配設し、これらの研磨ドラム2,2を所要の
速度で回転させながら、ワーク保持手段3aに保持させ
たワークの外周の面取りされたエッジ7aを両研磨ドラ
ムに同時に押し付けることにより、該エッジ7aを異な
る2点で鏡面研磨する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや磁
気ディスク基板のような実質的に円板形をしたワークの
外周の面取り加工されたエッジ部分を鏡面研磨(ポリッ
シュ)するための方法及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、シリコンワークのような半導体
ウエハは、一般に、エッジのチッピング防止やエピタキ
シャル成長時のクラウン防止等のためにその周縁部に面
取り加工が施される。この面取り加工は、ダイヤモンド
砥石で研削することにより行われるが、研削後に加工歪
層が残り易く、このような加工歪層が残っていると、デ
ィバイスプロセスにおいて熱処理を繰り返した時に結晶
欠陥が発生することがある。このため通常は、上記加工
歪層をエッチングにより除去しているが、エッチング処
理した表面は波状やうろこ状の凹凸になって汚れが残り
易く、この汚れがディバイスプロセスにおいてウエハ全
体に拡散し、特性を劣化させる大きな原因となる。
【0003】そこで、近年では、ウエハの面取り加工し
たエッジを鏡面研磨により平滑化するための技術が、ウ
エハの表面の研磨とは全く別の技術として確立され、本
件出願人も、例えば特開平1−71656号公報に開示
されているように、エッジを研磨するための技術を既に
提案している。この研磨技術は、面取りされたエッジを
外周に有するウエハを回転させながら、その外周エッジ
を回転する研磨ドラムの外周の作業面に押し付けて研磨
するもので、この方法によれば、ウエハのエッジを簡単
且つ確実に研磨することが可能で、上述したような面取
り加工に起因する問題点を全て解消することができる。
【0004】ところが、この種の研磨装置は、ウエハを
研磨ドラムに点接触させて研磨加工するものであるた
め、加工効率が必ずしも良いとは言えず、加工にかなり
の時間がかかることになる。このため現在では、研磨ド
ラムの直径を大きくすることによってウエハとの接触長
をできるだけ長くし、それによって加工時間を短縮する
などの工夫がなされている。
【0005】しかしながら、円筒形の作業面に円形のウ
エハを外接させる方法では、それらの接触長を長くする
にも限度があり、それほど加工時間を短縮することはで
きない。しかも、研磨ドラムの直径を大きくするとその
分設置スペースが広くなるため、装置の大形化が避けら
れなくなる。特に、直径が30〜40cmという大形の
ウエハの需要が予想される今後は、ウエハによる占有ス
ペースも一段と広くなるため、研磨装置は益々大形化し
てしまう。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、ワー
クの外周エッジを複数点において効率良く短時間で鏡面
研磨することができる、加工効率の勝れた小形の研磨手
段を得ることにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、外周面を研磨用の作業面とした複数の円
筒形研磨ドラムをワークの直径より小さい間隔を保って
配置し、これらの研磨ドラムを所要の速度で回転させな
がら、面取りした外周エッジを有する円板形ワークを複
数の研磨ドラムの作業面に同時に接触させることによ
り、その表裏面の外周エッジを異なる複数点で研磨する
ようにしている。
【0008】このような本発明によれば、ワークの外周
エッジを複数点において研磨するためその研磨効率が高
められ、研磨時間も短縮される。しかも、従来よりも格
段に小径の研磨ドラムを使用することができるだけでな
く、隣接する研磨ドラムの間の空間にワークの先端部が
嵌合した状態で研磨が行われるため、研磨時にこれらの
研磨ドラム及びワークが占めるスペースは非常に小さく
て済み、装置は非常に小形化されることになる。
【0009】本発明の1つの具体的な構成態様によれ
ば、2つの研磨ドラムと、第1及び第2の2つのワーク
保持手段と、ワークを表裏反転させる手段とが設けら
れ、ワークの表面側エッジが、第1ワーク保持手段によ
り2つの研磨ドラムの第1側で両研磨ドラムの作業面に
押し付けられて研磨加工されると共に、裏面側エッジ
が、第2ワーク保持手段により上記研磨ドラムの第2側
で両研磨ドラムの作業面に押し付けられて研磨加工され
るようになっている。
【0010】本発明において好ましくは、上記2つの研
磨ドラムが、先端側が相互に接近する方向に傾斜してい
ることであり、これにより両研磨ドラムを、円錐面状を
したエッジに対して直角に接触させることができる。本
発明においてはまた、作業面に対するワークの接触位置
を変えて該作業面の偏摩耗を防止するために、上記研磨
ドラムとワーク保持手段とが相対的に変移自在であるこ
とが望ましい。
【0011】本発明の更に好ましい構成例においては、
上記ワーク保持手段に、ワークを加工中常に一定の圧力
で作業面に接触させるための付勢手段と、2つの研磨ド
ラムに対するワークの位置ずれを矯正して該ワークを両
研磨ドラムに均等に接触させるための調芯手段とが設け
られる。
【0012】
【発明の実施の形態】図1及び図2は本発明に係る研磨
装置の第1実施例を示すもので、この研磨装置は、機体
1と、該機体1上に並んで設けられた2つの円筒形研磨
ドラム2,2と、これらの研磨ドラム2,2を挟んで第
1側と第2側とに対向して配設された第1及び第2の2
つのワーク保持手段3a,3bと、機体1の一方の側に
設けられた未処理ワークを搬入するためのローディング
部4と、機体1の他方の側に設けられた処理済ワークを
搬出するためのアンローデング部5と、ワークをチャッ
クして移送するワーク移送手段6とを有している。
【0013】上記研磨ドラム2,2は、基筒の外面に研
磨パッドを貼り付けることにより、その外周面を研磨の
ための作業面2aとしたもので、同じ構成の2つの研磨
ドラム2,2が、相互間にワーク7の直径より小さい間
隔を保った状態で、先端側が相互に接近する方向に傾斜
させて配設され、それぞれが自身の軸線L2の回りに回
転自在となっている。これらの研磨ドラム2,2のドラ
ム軸10は、モータ等の駆動源に連結され、例えば50
0〜1000r.p.m.程度の速度で互いに同方向又
は逆方向に等速であるいは異なる速度で駆動される。ま
た、上記各ドラム軸10は、機体1に自身の軸線L2方
向に往復動自在なるように支持されて、ボール螺子とそ
れに螺合するナット部材などからなる図示しない揺動手
段に連結されており、これによって各研磨ドラム2,2
が、加工中ゆっくりとした速度で軸線方向に同期的に揺
動できるようになっている。このときの揺動方向は、互
いに同方向であっても、あるいは、一方が前進するとき
他方が後退するといった具合に、互いに逆方向であって
も良い。
【0014】上記2つの研磨ドラム2,2の傾斜角度
は、図3及び図4からも明らかなように、それらの軸線
L2が、前傾状態で研磨されるワーク7の中心軸線L7
と交差する大きさであり、これにより、両研磨ドラム
2,2が、円錐面状をしたエッジ7aに全幅にわたり直
角に接触することとなる。しかし、2つの研磨ドラム
2,2間の間隔が小さく、それらをエッジに直角に近い
角度で前幅にわたり接触させることができる場合は、両
研磨ドラムを傾斜させることなく、相互に平行に設置し
ても良い。図中11は、加工中洗浄液が飛散するのを防
止するカバーである。
【0015】上記第1及び第2のワーク保持手段3a,
3bは、角度θに面取りされた外周エッジ7a,7aを
表裏面に有する円板形ワーク7(図3参照)を保持して
軸線L7の回りに回転させると共に、該ワークの何れか
一方のエッジ7aを上記2つの研磨ドラム2,2の作業
面2a,2aに同時に接触させるためのもので、互いに
同一の構成を有している。
【0016】即ち、上記ワーク保持手段3a,3bは、
ワーク7をバキュームチャックするためのチャックヘッ
ド14と、該チャックヘッド14を回転自在に保持する
第1ボディ15と、該第1ボディ15を支軸17を中心
に傾動自在なるように支持する第2ボディ16と、該第
2ボディ16を研磨ドラム2,2に接離する方向に直線
的に移動自在なるように支持する支持機構13とを有し
ている。この支持機構13は、第2ボディ16が摺動自
在に載置されたスライドテーブル18を有し、該スライ
ドテーブル18が機体1上に、レール19に沿って研磨
ドラム2,2に接離する方向に直線的に移動自在なるよ
うに支持され、シリンダ20等の駆動手段によって移動
させられるようになっている。
【0017】上記チャックヘッド14は、その表面に複
数の吸着穴14aを有していて、これらの吸着穴14a
が、第1ボディ15及び第2ボディ16に設けられたポ
ートや配管チューブ等を介して真空源に接続されている
が、それらの図示は省略されている。このチャックヘッ
ド14は、第1ボディ15内に設けられたモータに連結
され、エッジの研磨加工時に例えば40〜60秒に1回
転程度のゆっくりした速度で駆動される。
【0018】また、上記第1ボディ15は、図2に実線
で示すように、チャックヘッド14が水平を向いてワー
ク7を研磨ドラム2,2から離間させる待機位置と、同
図に鎖線で示すように、チャックヘッド14が傾斜して
ワークのエッジ7aを2つの研磨ドラム2,2に接触さ
せる加工位置との間を傾動する。なお、実際には、上記
待機位置においてワーク保持手段3a,3bは、シリン
ダ20によりもう少し研磨ドラム2,2から離れた位置
に移動させられている。
【0019】一方、上記第2ボディ16には、それから
延出するアーム16aに、スライドテーブル18上のプ
ーリ23に巻き掛けられたワイヤ24の一端が固定さ
れ、このワイヤ24の先端にウエート25が吊り下げら
れており、このウエート25の重力によって第2ボディ
16が、研磨ドラム2,2側に向けて一定の力で付勢さ
れるようになっている。このウエート25は、研磨加工
中ワーク7を常に一定の接触圧で研磨ドラム2,2に押
し付けるための付勢手段を構成するものである。なお、
エッジ7aの研磨が行われていないとき上記第2ボディ
16は、図2に示すように、スライドテーブル18の前
端のストッパ18aに係止し、それ以上の前進が規制さ
れている。
【0020】上記ワーク移送手段6は、軸線L6の回り
を旋回自在及び伸縮自在で且つ表裏反転自在のチャック
アーム29の先端に、ワーク7をバキュームチャックす
るためのチャックヘッド30を有し、このチャックヘッ
ド30によって、ローディング部4から未処理ワークを
第1ワーク保持手段3aのチャックヘッド14に供給す
る動作と、該第1ワーク保持手段3aから表面側エッジ
7aの研磨が終了したワーク7を表裏反転させて第2ワ
ーク保持手段3bに移送する動作と、該第2ワーク保持
手段3bから裏面側エッジ7aの研磨が終了したワーク
7をアンローデング部5に搬出する動作とを行うもので
ある。図中31は、研磨部分に研磨材スラリーを供給す
るためのノズルである。
【0021】上記構成を有する研磨装置において、ロー
ディング部4から未処理ワークが、ワーク移送手段6に
よって待機位置にある第1ワーク保持手段3aのチャッ
クヘッド14に供給されると、第1ボディ15が、図2
に鎖線で示すように支軸17を中心にエッジ7aの面取
り角θによって決まる角度だけ前傾する。そして、シリ
ンダ20の動作によりスライドテーブル18が、レール
19に沿って研磨ドラム2,2の方向に前進し、チャッ
クヘッド14に保持されて回転するワーク7の表面側の
エッジ7aが、回転する2つの研磨ドラム2,2の第1
側において外周の作業面2a,2aに押し付けられて研
磨される。
【0022】上記作業面2aに対するワーク7の接触圧
は、ウエート25の重力によって得られる。即ち、上記
シリンダ20により移動されるスライドテーブル18が
ストロークエンドに達する以前に、ワーク7が研磨ドラ
ム2,2に当接して第2ボディ16はその位置に停止す
るが、そのあともスライドテーブル18は一定距離前進
するため、ワーク7には該第2ボディ16を介してウエ
ート25の重力が作用し、このウエート25の重力によ
って2つの研磨ドラム2,2に加工中常に一定の接触圧
で押し付けられることになる。
【0023】このとき、上記ワーク保持手段3a,3b
には、ワーク7が何れか一方の研磨ドラム2側に偏寄す
ることによって一方の作業面2aに強く片当りするのを
防止するため、その位置ずれを矯正して該ワークを2つ
の研磨ドラム2,2に均等に接触させるための調芯手段
を付設しておくことが望ましい。この調芯手段は、少な
くともチャックヘッド14が支軸17の軸線と平行な方
向、即ち2つの研磨ドラム2,2の中心を結ぶ線と平行
な方向に自由に移動できるようになっていれば良く、例
えば、第1ボディ15を第2ボディ16に対して、図示
しないガイドレールとこれに沿って直線的に摺動自在の
スライダとからなるリニアガイド機構によって、上記2
つの研磨ドラム2,2の方向に移動自在に支持させた構
成のものであっても良い。
【0024】かくしてワーク7の表面側のエッジ7a
は、2つの研磨ドラム2,2の作業面2a,2aに同時
に接触することによって異なる2点で鏡面研磨され、そ
の研磨中2つの研磨ドラム2,2は、自らの軸線L2方
向にゆっくりと往復揺動してワークとの接触位置を変え
る。
【0025】ワーク7の表面側のエッジ7aの研磨が終
了すると、上記第1ワーク保持手段3aはシリンダ20
により後退し、ワーク7が研磨ドラム2,2から離れる
と共に、第1ボディ15が待機位置に復帰してワーク7
を水平に向ける。
【0026】次に、ワーク移送手段6が上記第1ワーク
保持手段3aからワーク7を受け取り、それを表裏反転
させて第2ワーク保持手段3bに供給し、この第2ワー
ク保持手段3bにより裏面側のエッジ7aの研磨が、2
つの研磨ドラム2,2の第2側において上記表面側のエ
ッジを研磨する場合と同様に行われる。
【0027】上記研磨ドラム2,2の作業面2a,2a
は、エッジ7aの研磨時にワーク外周面7bがその幅の
少なくとも半分程度内部に食い込み得るだけの柔軟性を
持っていることが望ましく、これにより、表裏面のエッ
ジ7a,7aを研磨するのと同時に外周面7bも研磨す
ることができる。
【0028】裏面側エッジ7aの研磨が終わると、上記
第2ワーク保持手段が待機位置に移動して、ワーク移送
手段6がこの第2ワーク保持手段3bからワーク7を受
け取り、それをアンローディング部4に搬出する。
【0029】上記第1ワーク保持手段3aによる表面側
エッジ7aの研磨と第2ワーク保持手段3bによる裏面
側エッジ7aの研磨とは、自動工程の中で同期的に行わ
れるものであり、従って、ワーク移送手段6による上記
ワーク7の移送は、それに適応した順序及びタイミング
で行われる。
【0030】なお、上記実施例では、研磨加工時のワー
ク7の接触圧を設定する付勢手段をウエート25で構成
しているが、このウエートに代えて、圧力調節手段付き
のエアシリンダにより構成しても良い。また、図示した
研磨装置では、2つの研磨ドラム2,2と2つのワーク
保持手段3a,3bとを備えた1組の研磨手段しか示さ
れていないが、実際の研磨装置には、例えばワーク移送
手段6を挟んで反対側にもう1組の研磨手段を設けるな
ど、複数組の研磨手段を設けることが望ましい。
【0031】更に、図示した実施例では、2つの研磨ド
ラム2,2とチャックヘッド14とを、それらの軸線を
縦向きにして設置しているが、軸線を横に向けて設置す
ることもできる。即ち、図1を正面図として考えたとき
のように、2つの研磨ドラム2,2を横向きにして上下
に並べて設置すると共に、チャックヘッド14も横向き
に配設し、ワーク7を縦向きに保持して研磨するように
構成しても良い。
【0032】図5は、ワーク保持手段3a,3bを機体
1上に移動自在に支持する支持機構の異なる例を示すも
ので、この支持機構13Aは、第2ボディ16を直接レ
ール19上に摺動自在に載置すると共に、プーリ23を
機体1に取り付け、上記第2ボディ16のアーム16a
を直接エアシリンダ20のロッド20aで研磨ドラム
2,2から離間する方向に押し動かすようにしたもので
ある。図中26は、第2ボディ16を待機位置に停止さ
せるためのストッパである。この支持機構13Aにおい
て、エッジの研磨加工時に図示の待機位置からエアシリ
ンダ20のロッド20aが短縮すると、第2ボディ16
がウエート25の重力によってレール19上を研磨ドラ
ム2,2に接近する方向に移動し、該研磨ドラム2,2
にワーク7が当接した位置で停止するが、そのあともロ
ッド20aが僅かに短縮してアーム16aから離れるた
め、ワーク7はウエート25の重力によって研磨ドラム
2,2に押し付けられることになる。
【0033】図6は本発明の第2実施例を示すもので、
この第2実施例の研磨装置は、三角形の頂点に位置する
ように配設された3つの研磨ドラム32と、隣接する2
つの研磨ドラム32,32の間に位置するように配設さ
れた3つのワーク保持手段33と、各ワーク保持手段3
3に対するワーク7の給排及び表裏反転を行うワーク移
送手段36とを有し、上記3つのワーク保持手段33に
よりそれぞれ、ワーク7の表面側エッジを隣接する2つ
の研磨ドラム32,32に当接させて研磨したあと、該
ワーク7を表裏反転させて裏面側エッジを上記2つの研
磨ドラム32,32に当接させて研磨するように構成さ
れている。
【0034】なお、上記各ワーク保持手段33及びワー
ク移送手段36の構成は上記第1実施例のものと実質的
に同じであるから、必要箇所に第1実施例と同じ符号を
付してそれらの具体的な説明は省略する。また、ローデ
ィング部及びアンローディング部は省略してある。
【0035】この第2実施例においては、3つの研磨ド
ラム32により、3枚のワーク7のエッジを同時に複数
点に接触させて研磨することができるため、研磨効率が
非常に良い。
【0036】図7は本発明の第3実施例を示すもので、
この第3実施例の研磨装置は、四角形の頂点に位置する
ように配設された4つの研磨ドラム42a〜42dと、
隣接する2つの研磨ドラムの間に位置するように配設さ
れた4つのワーク保持手段43a〜43dと、これらの
ワーク保持手段に対するワークの給排及び表裏反転を行
う2つのワーク移送手段46a,46bとを有するもの
である。
【0037】上記4つのワーク保持手段のうち第1及び
第3の2つのワーク保持手段43a及び43cは、ワー
ク7の表面側エッジを隣接する2つの研磨ドラム42
a,42b及び42a,42dに当接させて研磨するた
めのものであり、第2及び第4の2つのワーク保持手段
43b及び43dは、上記第1及び第3のワーク保持手
段43a及び43cで表面側エッジを研磨されたワーク
7の裏面側のエッジを、2つの研磨ドラム42b,42
c及び42c,42dに当接させて研磨するためのもの
である。そして、上記第1ワーク保持手段43aと第2
ワーク保持手段43bとの間に第1ワーク移送手段46
aが配設され、第3ワーク保持手段43cと第4ワーク
保持手段43dとの間に第2ワーク移送手段46bが配
設されている。
【0038】なお、上記各ワーク保持手段42a〜42
d及び各ワーク移送手段46a,46bの構成は上記第
1実施例のものと実質的に同じであるから、必要箇所に
第1実施例と同じ符号を付してそれらの具体的な説明は
省略する。また、ローディング部及びアンローディング
部は省略してある。
【0039】また、図示した実施例では、表面側エッジ
を研磨するための第1ワーク保持手段43aと第3ワー
ク保持手段43c、及び裏面側エッジを研磨するための
第2ワーク保持手段43bと第4ワーク保持手段43d
とがそれぞれ、相互に隣接した位置に設けられている
が、それらは相対向する位置に設けることもできる。
【0040】この第3実施例においては、上記第1実施
例における研磨手段を2組設けた場合と実質的に同じで
あるため、第1実施例の2倍の能率でワークのエッジを
研磨することが可能であり、研磨効率に勝れる。
【0041】
【発明の効果】このように本発明によれば、ワークのエ
ッジを複数の研磨ドラムに同時に接触させることで複数
点において同時に鏡面研磨することができるため、研磨
効率が向上して研磨時間を著しく短縮することができ
る。しかも、従来よりも格段に小径の研磨ドラムを使用
することができるだけでなく、隣接する研磨ドラムの間
にワークの先端部を嵌合させた状態で研磨を行うことが
できるため、研磨時にこれらの研磨ドラム及びワークが
占めるスペースは非常に小さくて済み、装置は非常に小
形化されることになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る研磨装置の第1実施例を示す平面
図である。
【図2】図1の部分破断正面図である。
【図3】図2においけるワークエッジの研磨状態での要
部拡大図である。
【図4】図3をワークの軸線方向から見た図である。
【図5】ワーク保持手段を移動自在に支持する支持機構
の異種構造例を示す要部断面図である。
【図6】本発明に係る研磨装置の第2実施例を示す平面
図である。
【図7】本発明に係る研磨装置の第3実施例を示す平面
図である。
【符号の説明】
2,32,42a〜42d 研磨ドラム 2a 作業面 3a,3b,33,43a〜43d ワーク保持手段 6,36,46a,46b ワーク移送手段 7 ワーク 7a エッジ 25 ウエート

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ワークの直径より小さい間隔を保って位置
    する複数の円筒形研磨ドラムを所要の速度で回転させる
    工程;面取りした外周エッジを表裏面に有する円板形ワ
    ークを所要の速度で回転させながら、表面側のエッジを
    複数の研磨ドラムの外周の作業面に同時に接触させて研
    磨する工程;上記ワークを表裏反転させる工程;反転し
    たワークを所要の速度で回転させながら、裏面側のエッ
    ジを複数の研磨ドラムの作業面に同時に接触させて研磨
    する工程;を有することを特徴とするワークエッジの鏡
    面研磨方法。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の研磨方法において、上記
    研磨ドラムを2つ設け、ワーク表面側のエッジを研磨す
    る工程を2つの研磨ドラムの第1側で行い、裏面側のエ
    ッジを研磨する工程を上記研磨ドラムの第2側で行うこ
    とを特徴とするもの。
  3. 【請求項3】請求項1又は2に記載の研磨方法におい
    て、上記研磨ドラムとワークとを、作業面に対するワー
    クの接触位置を変えるために相対的に移動させる工程を
    含むもの。
  4. 【請求項4】ワークの直径より小さい間隔を保って回転
    自在に配設され、それぞれの外周に研磨用の作業面を備
    えた、ワークの外周エッジを異なる複数点で鏡面研磨す
    るための複数の円筒形研磨ドラム;上記研磨ドラムを回
    転させる手段;面取りした外周エッジを表裏面に有する
    円板形ワークを保持して回転させると共に、該ワークの
    エッジを複数の研磨ドラムの作業面に同時に接触させる
    1つ以上のワーク保持手段;上記ワークを表裏反転させ
    るための手段;を有することを特徴とするワークエッジ
    の鏡面研磨装置。
  5. 【請求項5】請求項4に記載の研磨装置において、2つ
    の研磨ドラムと、これらの研磨ドラムの第1側において
    ワークの表面側エッジを作業面に押し付ける第1ワーク
    保持手段と、上記研磨ドラムの第2側においてワークの
    裏面側エッジを作業面に押し付ける第2ワーク保持手段
    とを有することを特徴とするもの。
  6. 【請求項6】請求項5に記載の研磨装置において、上記
    2つの研磨ドラムが、先端側が相互に接近する方向に傾
    斜していることを特徴とするもの。
  7. 【請求項7】請求項4乃至6の何れかに記載の研磨装置
    において、上記研磨ドラムとワーク保持手段とが、作業
    面に対するワークの接触位置を変えるために相対的に移
    動自在であることを特徴とするもの。
  8. 【請求項8】請求項4乃至7の何れかに記載の研磨装置
    において、上記ワーク保持手段が、ワークを加工中常に
    一定の圧力で作業面に接触させるための付勢手段と、2
    つの研磨ドラムに対するワークの位置ずれを矯正して該
    ワークを両研磨ドラムに均等に接触させるための調芯手
    段とを有することを特徴とするもの。
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