JP2001062686A - インデックス式エッジポリッシャー - Google Patents
インデックス式エッジポリッシャーInfo
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- JP2001062686A JP2001062686A JP23863199A JP23863199A JP2001062686A JP 2001062686 A JP2001062686 A JP 2001062686A JP 23863199 A JP23863199 A JP 23863199A JP 23863199 A JP23863199 A JP 23863199A JP 2001062686 A JP2001062686 A JP 2001062686A
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- Japan
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- work
- polishing
- axis
- holding means
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Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 円板形ワークの外周の表裏両面のエッジ部分
を、１つの研磨ドラムにより、該ワークを表裏反転させ
たり研磨作業を中断したりすることなく連続的に研磨す
ることができる、構造が簡単で作業効率の良いインデッ
クス式のエッジポリッシャーを得る。 【解決手段】 第１軸線Ｌ1 の回りを９０度ずつ間欠的
に回転するインデックステーブル１上に、４つのワーク
保持手段３を９０度間隔で配設すると共に、上記インデ
ックステーブル１の中央部に、上記第１軸線Ｌ1 に対し
て傾斜する研磨ドラム４を配設し、上記インデックステ
ーブル１を９０度ずつ間欠的に回転させることにより、
各ワーク保持手段３を、ワークＷの供給及び取り出しの
ためのハンドリング位置Ｈ0 から、上記研磨ドラム４で
表面側の外周エッジＥ1 を研磨する第１加工位置Ｈ1
と、周側面を研磨する第２加工位置Ｈ2 と、裏面側の外
周エッジを研磨する第３加工位置Ｈ3 とに順次移動させ
ることにより、ワークＷの外周エッジを研磨する。
を、１つの研磨ドラムにより、該ワークを表裏反転させ
たり研磨作業を中断したりすることなく連続的に研磨す
ることができる、構造が簡単で作業効率の良いインデッ
クス式のエッジポリッシャーを得る。 【解決手段】 第１軸線Ｌ1 の回りを９０度ずつ間欠的
に回転するインデックステーブル１上に、４つのワーク
保持手段３を９０度間隔で配設すると共に、上記インデ
ックステーブル１の中央部に、上記第１軸線Ｌ1 に対し
て傾斜する研磨ドラム４を配設し、上記インデックステ
ーブル１を９０度ずつ間欠的に回転させることにより、
各ワーク保持手段３を、ワークＷの供給及び取り出しの
ためのハンドリング位置Ｈ0 から、上記研磨ドラム４で
表面側の外周エッジＥ1 を研磨する第１加工位置Ｈ1
と、周側面を研磨する第２加工位置Ｈ2 と、裏面側の外
周エッジを研磨する第３加工位置Ｈ3 とに順次移動させ
ることにより、ワークＷの外周エッジを研磨する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや磁
気ディスク基板あるいは光ディスク基板のような実質的
に円板形をしたワークの、面取り加工された外周部分を
研磨するためのインデックス式エッジポリッシャーに関
するものである。
気ディスク基板あるいは光ディスク基板のような実質的
に円板形をしたワークの、面取り加工された外周部分を
研磨するためのインデックス式エッジポリッシャーに関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種のエッジポリッシャーとしては、
従来より、例えば特公平７−１６８６５号公報や特開平
１１−３３８８８号公報等に記載されているように、各
種構造のものが提案されている。
従来より、例えば特公平７−１６８６５号公報や特開平
１１−３３８８８号公報等に記載されているように、各
種構造のものが提案されている。
【０００３】前者は、一定角度ずつ間欠的に回転する２
つのインデックステーブル上に、それぞれ、ワークを回
転自在に保持する複数のワーク保持手段をテーブルの回
転中心の回りに等角度間隔で配設すると共に、上記テー
ブルの回転中心上に研磨ドラムを配設したもので、上記
インデックステーブルを一定角度ずつ間欠的に回転させ
ながら、各ワーク保持手段に保持されたワークの外周エ
ッジを回転する研磨ドラムの外周面に押し付けて研磨す
ることにより、第１のインデックステーブルにおいてワ
ークの表面側の外周エッジを研磨したあと、該ワークを
表裏反転させて第２のインデックステーブルに移し、こ
こで裏面側の外周エッジを研磨するものである。
つのインデックステーブル上に、それぞれ、ワークを回
転自在に保持する複数のワーク保持手段をテーブルの回
転中心の回りに等角度間隔で配設すると共に、上記テー
ブルの回転中心上に研磨ドラムを配設したもので、上記
インデックステーブルを一定角度ずつ間欠的に回転させ
ながら、各ワーク保持手段に保持されたワークの外周エ
ッジを回転する研磨ドラムの外周面に押し付けて研磨す
ることにより、第１のインデックステーブルにおいてワ
ークの表面側の外周エッジを研磨したあと、該ワークを
表裏反転させて第２のインデックステーブルに移し、こ
こで裏面側の外周エッジを研磨するものである。
【０００４】このエッジポリッシャーは、複数のワーク
の外周エッジを同時にかつ連続的に研磨することができ
るため、非常に効率的であるが、ワークを表裏反転して
研磨する方式であるため、加工時間に反転時間がプラス
されることになる。
の外周エッジを同時にかつ連続的に研磨することができ
るため、非常に効率的であるが、ワークを表裏反転して
研磨する方式であるため、加工時間に反転時間がプラス
されることになる。
【０００５】一方、後者は、ウエハ支持体に支持されて
回転するウエハの外周に研磨ドラムを接触させ、この研
磨ドラムの接触角を変えながら表面側エッジと周側面及
び裏面側エッジを順次研磨するものである。
回転するウエハの外周に研磨ドラムを接触させ、この研
磨ドラムの接触角を変えながら表面側エッジと周側面及
び裏面側エッジを順次研磨するものである。
【０００６】このものは、ウエハを表裏反転させる必要
がないが、研磨中に研磨ドラムの接触角を面取角に合わ
せて変化させなければならないため、装置の構造及び制
御が複雑になる。しかも、一枚のウエハの研磨が終了す
る度に研磨を中断してそれをウエハ支持体から取り出
し、新たなウエハをセットして研磨を再開するという工
程を繰り返す方式のものであるため、作業効率が悪く、
大量のウエハを連続処理するものとしては不向きであっ
た。
がないが、研磨中に研磨ドラムの接触角を面取角に合わ
せて変化させなければならないため、装置の構造及び制
御が複雑になる。しかも、一枚のウエハの研磨が終了す
る度に研磨を中断してそれをウエハ支持体から取り出
し、新たなウエハをセットして研磨を再開するという工
程を繰り返す方式のものであるため、作業効率が悪く、
大量のウエハを連続処理するものとしては不向きであっ
た。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の技術的課題
は、１つの研磨ドラムを使用してワークの表裏面の外周
エッジを、該ワークを表裏反転させることなく、かつ作
業を中断することなく連続的に研磨することができる、
構造が簡単で作業効率の良いインデックス式のエッジポ
リッシャーを提供することにある。
は、１つの研磨ドラムを使用してワークの表裏面の外周
エッジを、該ワークを表裏反転させることなく、かつ作
業を中断することなく連続的に研磨することができる、
構造が簡単で作業効率の良いインデックス式のエッジポ
リッシャーを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明によれば、第１軸線の回りを回転自在のイン
デックステーブル；上記インデックステーブル上に第１
軸線を取り囲んで等角度間隔に配設され、面取りされた
外周エッジを表裏面に有する円板形ワークを上記第１軸
線と平行な第２軸線の回りに回転自在に保持する複数の
ワーク保持手段；上記複数のワーク保持手段の配列中心
位置に、第１軸線に対して傾斜する第３軸線の回りに回
転自在なるように配設された研磨ドラム；上記インデッ
クステーブルを一定角度ずつ間欠的に回転させることに
より各ワーク保持手段を、ワークの供給及び取り出しの
ためのハンドリング位置と、上記研磨ドラムで表裏何れ
か一方の外周エッジを研磨する第１加工位置と、周側面
を研磨する第２加工位置と、他方の外周エッジを研磨す
る第３加工位置とに順次移動させる間欠駆動手段；上記
第１〜第３加工位置においてワークを所要の力で研磨ド
ラムに押し付ける押付手段；上記ハンドリング位置にお
いてワークを研磨ドラムから離間させるための移動手
段；を有することを特徴とするインデックス式エッジポ
リッシャーが提供される。
め、本発明によれば、第１軸線の回りを回転自在のイン
デックステーブル；上記インデックステーブル上に第１
軸線を取り囲んで等角度間隔に配設され、面取りされた
外周エッジを表裏面に有する円板形ワークを上記第１軸
線と平行な第２軸線の回りに回転自在に保持する複数の
ワーク保持手段；上記複数のワーク保持手段の配列中心
位置に、第１軸線に対して傾斜する第３軸線の回りに回
転自在なるように配設された研磨ドラム；上記インデッ
クステーブルを一定角度ずつ間欠的に回転させることに
より各ワーク保持手段を、ワークの供給及び取り出しの
ためのハンドリング位置と、上記研磨ドラムで表裏何れ
か一方の外周エッジを研磨する第１加工位置と、周側面
を研磨する第２加工位置と、他方の外周エッジを研磨す
る第３加工位置とに順次移動させる間欠駆動手段；上記
第１〜第３加工位置においてワークを所要の力で研磨ド
ラムに押し付ける押付手段；上記ハンドリング位置にお
いてワークを研磨ドラムから離間させるための移動手
段；を有することを特徴とするインデックス式エッジポ
リッシャーが提供される。
【０００９】上記構成を有するエッジポリッシャーにお
いて、ハンドリング位置でワークを供給されたワーク保
持手段が、インデックステーブルの間欠回転により第１
加工位置から第２加工位置及び第３加工位置に順次移動
する間に、それぞれの加工位置においてワークの外周部
が、傾斜する研磨ドラムの外周面に異なる接触角で押し
付けられ、表裏一方の外周エッジと周側面と他方の外周
エッジとが順次研磨される。そして、上記ワーク保持手
段がハンドリング位置に移動すると、ここで研磨が終了
したワークが取り出され、新たな未加工ワークが供給さ
れる。
いて、ハンドリング位置でワークを供給されたワーク保
持手段が、インデックステーブルの間欠回転により第１
加工位置から第２加工位置及び第３加工位置に順次移動
する間に、それぞれの加工位置においてワークの外周部
が、傾斜する研磨ドラムの外周面に異なる接触角で押し
付けられ、表裏一方の外周エッジと周側面と他方の外周
エッジとが順次研磨される。そして、上記ワーク保持手
段がハンドリング位置に移動すると、ここで研磨が終了
したワークが取り出され、新たな未加工ワークが供給さ
れる。
【００１０】かくして本発明によれば、１つの傾斜する
研磨ドラムによりワーク表裏面の外周エッジを、該ワー
クを表裏反転させることなく、かつワークの供給及び取
り出しのために研磨作業を中断することなく、連続的に
研磨することができる。従って、反転機構を必要としな
い簡単な構成のエッジポリッシャーによってワーク外周
部を効率良く研磨することができる。
研磨ドラムによりワーク表裏面の外周エッジを、該ワー
クを表裏反転させることなく、かつワークの供給及び取
り出しのために研磨作業を中断することなく、連続的に
研磨することができる。従って、反転機構を必要としな
い簡単な構成のエッジポリッシャーによってワーク外周
部を効率良く研磨することができる。
【００１１】本発明の好ましい具体的な実施形態によれ
ば、上記インデックステーブル上に４つのワーク保持手
段が９０度間隔で配設されると共に、上記研磨ドラムが
第１軸線に対して４５度傾斜した状態に配設され、さら
に上記第１加工位置と第３加工位置とが、第１軸線と第
３軸線とを含む面内の、研磨ドラムを介して互いに１８
０度異なる位置に設けられると共に、第２加工位置及び
ハンドリング位置が、これらの第１加工位置及び第３加
工位置とはそれぞれ９０度異なる位置に設けられてい
る。
ば、上記インデックステーブル上に４つのワーク保持手
段が９０度間隔で配設されると共に、上記研磨ドラムが
第１軸線に対して４５度傾斜した状態に配設され、さら
に上記第１加工位置と第３加工位置とが、第１軸線と第
３軸線とを含む面内の、研磨ドラムを介して互いに１８
０度異なる位置に設けられると共に、第２加工位置及び
ハンドリング位置が、これらの第１加工位置及び第３加
工位置とはそれぞれ９０度異なる位置に設けられてい
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１〜図３は本発明に係るエッジ
ポリッシャーの好ましい一実施形態を示すものである。
このエッジポリッシャーは、図５に示すように、ベベル
角θに面取りされた外周エッジＥ1 ，Ｅ2 を表裏両面に
有する円板形ワークＷの外周部、即ち上記外周エッジＥ
1 ，Ｅ2 とそれらの間の周側面Ｅ3 とを研磨するのに適
するもので、中心を通る鉛直な第１軸線Ｌ1 の回りを回
転自在のインデックステーブル１と、このインデックス
テーブル１の回転軸１ａに連結されて該インデックステ
ーブル１を９０度ずつ間欠的に回転させる間欠駆動手段
２とを有している。
ポリッシャーの好ましい一実施形態を示すものである。
このエッジポリッシャーは、図５に示すように、ベベル
角θに面取りされた外周エッジＥ1 ，Ｅ2 を表裏両面に
有する円板形ワークＷの外周部、即ち上記外周エッジＥ
1 ，Ｅ2 とそれらの間の周側面Ｅ3 とを研磨するのに適
するもので、中心を通る鉛直な第１軸線Ｌ1 の回りを回
転自在のインデックステーブル１と、このインデックス
テーブル１の回転軸１ａに連結されて該インデックステ
ーブル１を９０度ずつ間欠的に回転させる間欠駆動手段
２とを有している。
【００１３】上記インデックステーブル１上には、ワー
クＷを保持して上記第１軸線Ｌ1 と平行な第２軸線Ｌ2
の回りに回転させる４つのワーク保持手段３が、上記第
１軸線Ｌ1 を取り囲んで９０度間隔に配設されると共
に、該インデックステーブル１の中央部に、上記第１軸
線Ｌ1 に対して傾斜する第３軸線Ｌ3 の回りを回転自在
の一つの研磨ドラム４が配設されている。そして、イン
デックステーブル１が９０度ずつ間欠回転することによ
り上記４つのワーク保持手段３が、ワークＷの供給及び
取り出しのためのハンドリング位置Ｈ0 と、上記研磨ド
ラム４でワークＷの表面側の外周エッジＥ1 を研磨する
第１加工位置Ｈ1 と、周側面Ｅ3 を研磨する第２加工位
置Ｈ2 と、裏面側の外周エッジＥ2 を研磨する第３加工
位置Ｈ3 との間を順次移動するようになっている。
クＷを保持して上記第１軸線Ｌ1 と平行な第２軸線Ｌ2
の回りに回転させる４つのワーク保持手段３が、上記第
１軸線Ｌ1 を取り囲んで９０度間隔に配設されると共
に、該インデックステーブル１の中央部に、上記第１軸
線Ｌ1 に対して傾斜する第３軸線Ｌ3 の回りを回転自在
の一つの研磨ドラム４が配設されている。そして、イン
デックステーブル１が９０度ずつ間欠回転することによ
り上記４つのワーク保持手段３が、ワークＷの供給及び
取り出しのためのハンドリング位置Ｈ0 と、上記研磨ド
ラム４でワークＷの表面側の外周エッジＥ1 を研磨する
第１加工位置Ｈ1 と、周側面Ｅ3 を研磨する第２加工位
置Ｈ2 と、裏面側の外周エッジＥ2 を研磨する第３加工
位置Ｈ3 との間を順次移動するようになっている。
【００１４】上記第１加工位置Ｈ1 と第３加工位置Ｈ3
とは、第１軸線Ｌ1 と第３軸線Ｌ3とを含む鉛直面内
の、研磨ドラム４を介して互いに１８０度異なる位置に
設けられ、第２加工位置Ｈ2 及びハンドリング位置Ｈ0
は、これらの第１加工位置Ｈ1及び第３加工位置Ｈ3 と
はそれぞれ９０度異なる位置に設けられている。
とは、第１軸線Ｌ1 と第３軸線Ｌ3とを含む鉛直面内
の、研磨ドラム４を介して互いに１８０度異なる位置に
設けられ、第２加工位置Ｈ2 及びハンドリング位置Ｈ0
は、これらの第１加工位置Ｈ1及び第３加工位置Ｈ3 と
はそれぞれ９０度異なる位置に設けられている。
【００１５】上記各ワーク保持手段３は、互いに同一の
構成を有するもので、その具体的構成は次の通りであ
る。即ち、上記ワーク保持手段３は、ワークＷをバキュ
ームチャックするためのチャックヘッド１０と、該チャ
ックヘッド１０を回転自在に支持するチャックボディ１
１と、該チャックボディ１１をインデックステーブル１
の半径方向即ち研磨ドラム４に接離する方向に移動させ
る移動機構１２とを備えている。
構成を有するもので、その具体的構成は次の通りであ
る。即ち、上記ワーク保持手段３は、ワークＷをバキュ
ームチャックするためのチャックヘッド１０と、該チャ
ックヘッド１０を回転自在に支持するチャックボディ１
１と、該チャックボディ１１をインデックステーブル１
の半径方向即ち研磨ドラム４に接離する方向に移動させ
る移動機構１２とを備えている。
【００１６】上記チャックヘッド１０は、その表面に複
数の吸着孔を有していて、これらの吸着孔が、チャック
ボディ１１に設けられたポートや配管チューブ等を介し
て真空源に接続されているが、それらの図示は省略され
ている。また、このチャックヘッド１０は、チャックボ
ディ１１内に設けられたモータに連結され、ワーク外周
部Ｅ1 ，Ｅ2 ，Ｅ3 の研磨加工時に例えば４０〜６０秒
に１回転程度のゆっくりした速度で駆動される。
数の吸着孔を有していて、これらの吸着孔が、チャック
ボディ１１に設けられたポートや配管チューブ等を介し
て真空源に接続されているが、それらの図示は省略され
ている。また、このチャックヘッド１０は、チャックボ
ディ１１内に設けられたモータに連結され、ワーク外周
部Ｅ1 ，Ｅ2 ，Ｅ3 の研磨加工時に例えば４０〜６０秒
に１回転程度のゆっくりした速度で駆動される。
【００１７】一方、上記移動機構１２は、インデックス
テーブル１の下面に支持杆１４により固定された円環状
の台板１３と、該台板１３上に取り付けられてインデッ
クステーブル１の半径方向に延びるレール１５と、該レ
ール１５に沿って移動自在のスライドベース１６とを有
していて、該スライドベース１６上に上記チャックボデ
ィ１１が、脚杆１７により取り付けられている。
テーブル１の下面に支持杆１４により固定された円環状
の台板１３と、該台板１３上に取り付けられてインデッ
クステーブル１の半径方向に延びるレール１５と、該レ
ール１５に沿って移動自在のスライドベース１６とを有
していて、該スライドベース１６上に上記チャックボデ
ィ１１が、脚杆１７により取り付けられている。
【００１８】また、上記台板１３にはプーリ１８が回転
自在に取り付けられ、該プーリ１８にワイヤー１９が巻
き掛けられている。そして該ワイヤー１９の一端は、ス
ライドベース１６から下向きに延出するアーム１６ａに
固定され、ワイヤー１９の先端にはウエート２０が吊り
下げられ、このウエート２０の重力によってスライドベ
ース１６従ってワーク保持手段３が、レール１５上を研
磨ドラム４側に向けて常時付勢されている。このウエー
ト２０は、ワーク保持手段３を研磨ドラム４に向けて前
進させるための駆動源と、ワーク外周部Ｅ1 ，Ｅ2 ，Ｅ
3 の研磨時にワークＷを研磨ドラム４に一定の接触圧で
押し付けるための押付手段とを構成するものである。
自在に取り付けられ、該プーリ１８にワイヤー１９が巻
き掛けられている。そして該ワイヤー１９の一端は、ス
ライドベース１６から下向きに延出するアーム１６ａに
固定され、ワイヤー１９の先端にはウエート２０が吊り
下げられ、このウエート２０の重力によってスライドベ
ース１６従ってワーク保持手段３が、レール１５上を研
磨ドラム４側に向けて常時付勢されている。このウエー
ト２０は、ワーク保持手段３を研磨ドラム４に向けて前
進させるための駆動源と、ワーク外周部Ｅ1 ，Ｅ2 ，Ｅ
3 の研磨時にワークＷを研磨ドラム４に一定の接触圧で
押し付けるための押付手段とを構成するものである。
【００１９】上記台板１３の下面にはエアシリンダー２
２が取り付けられ、該エアシリンダー２２のロッド２２
ａの先端が上記アーム１６ａの側面に対向するように延
びている。そして、ワーク外周部Ｅ1 ，Ｅ2 ，Ｅ3 の研
磨時には、図２に示すように該ロッド２２ａが短縮し、
その先端が上記アーム１６ａから若干離間することによ
ってウエート２０でワークＷが研磨ドラム４に押し付け
られ、非研磨時には、図３の右側のワーク保持手段３に
示すようにロッド２２ａが伸長し、その先端で上記アー
ム１６ａを押すことによってワーク保持手段３をインデ
ックステーブル１の外周側へ後退させ、ワークＷを研磨
ドラム４から離間させるようになっている。
２が取り付けられ、該エアシリンダー２２のロッド２２
ａの先端が上記アーム１６ａの側面に対向するように延
びている。そして、ワーク外周部Ｅ1 ，Ｅ2 ，Ｅ3 の研
磨時には、図２に示すように該ロッド２２ａが短縮し、
その先端が上記アーム１６ａから若干離間することによ
ってウエート２０でワークＷが研磨ドラム４に押し付け
られ、非研磨時には、図３の右側のワーク保持手段３に
示すようにロッド２２ａが伸長し、その先端で上記アー
ム１６ａを押すことによってワーク保持手段３をインデ
ックステーブル１の外周側へ後退させ、ワークＷを研磨
ドラム４から離間させるようになっている。
【００２０】また、上記研磨ドラム４は、硬質素材から
なる円筒形の基筒の外周面に、研磨加工時にワークＷの
外周形状に倣って必要量窪み得る程度の柔軟性を備えた
研磨パッドを貼り付けることにより、該外周面を研磨用
の作業面としたもので、ドラム支持機構２５に支持され
ることにより、第１軸線Ｌ1 に対する傾斜角αをほぼ４
５度に保った状態に配設されている。
なる円筒形の基筒の外周面に、研磨加工時にワークＷの
外周形状に倣って必要量窪み得る程度の柔軟性を備えた
研磨パッドを貼り付けることにより、該外周面を研磨用
の作業面としたもので、ドラム支持機構２５に支持され
ることにより、第１軸線Ｌ1 に対する傾斜角αをほぼ４
５度に保った状態に配設されている。
【００２１】このように、研磨ドラム４の作業面に柔軟
性を持たせると共にその軸線Ｌ3 を４５度の角度に傾斜
させることにより、図４に示すように、ワーク保持手段
３が上記第１加工位置Ｈ1 に周回してきたときに、保持
したワークＷの表面側の外周エッジＥ1 が研磨ドラム４
に接触し、第３加工位置Ｈ3 に周回したときに裏面側の
外周エッジＥ2 が研磨ドラム４に接触して研磨されるこ
とになる。なお、図４には示されていないが、ワークが
第２加工位置Ｈ2 に周回したときには、周側面Ｅ3 が研
磨ドラム４に接触する。
性を持たせると共にその軸線Ｌ3 を４５度の角度に傾斜
させることにより、図４に示すように、ワーク保持手段
３が上記第１加工位置Ｈ1 に周回してきたときに、保持
したワークＷの表面側の外周エッジＥ1 が研磨ドラム４
に接触し、第３加工位置Ｈ3 に周回したときに裏面側の
外周エッジＥ2 が研磨ドラム４に接触して研磨されるこ
とになる。なお、図４には示されていないが、ワークが
第２加工位置Ｈ2 に周回したときには、周側面Ｅ3 が研
磨ドラム４に接触する。
【００２２】しかし、上記研磨ドラム４の傾斜角は４５
度以外であっても良く、例えば、第１加工位置Ｈ1 及び
第３加工位置Ｈ3 にあるワークＷの外周エッジＥ1 及び
Ｅ2と平行か又は平行に近い角度になるように傾斜させ
ることもできる。この場合、ベベル角θの異なるワーク
を研磨するときは、そのベベル角θに合わせて研磨ドラ
ム４の傾斜角が調整される。
度以外であっても良く、例えば、第１加工位置Ｈ1 及び
第３加工位置Ｈ3 にあるワークＷの外周エッジＥ1 及び
Ｅ2と平行か又は平行に近い角度になるように傾斜させ
ることもできる。この場合、ベベル角θの異なるワーク
を研磨するときは、そのベベル角θに合わせて研磨ドラ
ム４の傾斜角が調整される。
【００２３】上記ドラム支持機構２５は、エッジポリッ
シャーの機体に固定されたベース部材２６と、このベー
ス部材２６上に傾斜状態に取り付けられてその傾斜角度
を調節自在の支持フレーム２７とを有している。この支
持フレーム２７上には、レール２８が該支持フレーム２
７と同じ傾斜角度を保つように取り付けられていて、該
レール２８にスライドベース２９が摺動自在に取り付け
られ、該スライドベース２９上にはモーター３０が取り
付けられ、このモーター３０から延びる駆動軸３０ａの
先端に上記研磨ドラム４が連結されており、このモータ
ー３０により研磨ドラム４が、ワークＷより速い速度で
駆動回転されるように構成されている。また、上記支持
フレーム２７の裏面には、モーター３２と、該モーター
３２により駆動回転される螺子杆３３と、該螺子杆３３
に螺合するナット部材３４とを備えた移動機構３１が取
り付けられ、上記ナット部材３４が上記スライドベース
２９に固定されている。そして、上記モーター３２で螺
子杆３３を正逆回転させることにより、ナット部材３４
が該螺子杆３３に沿って往復動し、研磨ドラム４が第３
軸線Ｌ3 に沿ってゆっくりした速度で往復動するように
構成されている。
シャーの機体に固定されたベース部材２６と、このベー
ス部材２６上に傾斜状態に取り付けられてその傾斜角度
を調節自在の支持フレーム２７とを有している。この支
持フレーム２７上には、レール２８が該支持フレーム２
７と同じ傾斜角度を保つように取り付けられていて、該
レール２８にスライドベース２９が摺動自在に取り付け
られ、該スライドベース２９上にはモーター３０が取り
付けられ、このモーター３０から延びる駆動軸３０ａの
先端に上記研磨ドラム４が連結されており、このモータ
ー３０により研磨ドラム４が、ワークＷより速い速度で
駆動回転されるように構成されている。また、上記支持
フレーム２７の裏面には、モーター３２と、該モーター
３２により駆動回転される螺子杆３３と、該螺子杆３３
に螺合するナット部材３４とを備えた移動機構３１が取
り付けられ、上記ナット部材３４が上記スライドベース
２９に固定されている。そして、上記モーター３２で螺
子杆３３を正逆回転させることにより、ナット部材３４
が該螺子杆３３に沿って往復動し、研磨ドラム４が第３
軸線Ｌ3 に沿ってゆっくりした速度で往復動するように
構成されている。
【００２４】また、上記ハンドリング位置Ｈ0 には、ワ
ークＷの供給及び取り出しを行うためのハンドリング手
段３７が設けられている。このハンドリング手段３７
は、ワークＷをバキュームチャックするためのチャック
ヘッド３８を先端に備えた伸縮自在のチャックアーム３
９を有していて、未加工ワークを図示しないローダー部
からワーク保持手段３に供給したり、加工済ワークをワ
ーク保持手段３からアンローダー部に取り出したりする
ものである。
ークＷの供給及び取り出しを行うためのハンドリング手
段３７が設けられている。このハンドリング手段３７
は、ワークＷをバキュームチャックするためのチャック
ヘッド３８を先端に備えた伸縮自在のチャックアーム３
９を有していて、未加工ワークを図示しないローダー部
からワーク保持手段３に供給したり、加工済ワークをワ
ーク保持手段３からアンローダー部に取り出したりする
ものである。
【００２５】上記構成を有するエッジポリッシャーにお
いて、ハンドリング位置Ｈ0 で未加工ワークＷを供給さ
れたワーク保持手段３は、インデックステーブル１が９
０度ずつ間欠回転することによって第１加工位置Ｈ1 と
第２加工位置Ｈ2 及び第３加工位置Ｈ3 に順次送られ、
各加工位置において、回転するワークＷの外周エッジＥ
1 ，Ｅ2 と周側面Ｅ3 とが、傾斜状態で回転する研磨ド
ラム４の外周の作業面に押し付けられて順次研磨され
る。すなわち、上記第１加工位置Ｈ1 では、図２の右側
のワーク保持手段３に示すように、ワークＷの表面側の
外周エッジＥ1 が研磨ドラム４に接触して研磨され、第
２加工位置Ｈ2 では、図３の左側のワーク保持手段３に
示すように、ワークＷの周側面Ｅ3 が研磨ドラム４に接
触して研磨され、第３加工位置Ｈ3 では、図２の左側の
ワーク保持手段３に示すように、ワークＷの裏面側の外
周エッジＥ2 が研磨ドラム４に接触して研磨される。
いて、ハンドリング位置Ｈ0 で未加工ワークＷを供給さ
れたワーク保持手段３は、インデックステーブル１が９
０度ずつ間欠回転することによって第１加工位置Ｈ1 と
第２加工位置Ｈ2 及び第３加工位置Ｈ3 に順次送られ、
各加工位置において、回転するワークＷの外周エッジＥ
1 ，Ｅ2 と周側面Ｅ3 とが、傾斜状態で回転する研磨ド
ラム４の外周の作業面に押し付けられて順次研磨され
る。すなわち、上記第１加工位置Ｈ1 では、図２の右側
のワーク保持手段３に示すように、ワークＷの表面側の
外周エッジＥ1 が研磨ドラム４に接触して研磨され、第
２加工位置Ｈ2 では、図３の左側のワーク保持手段３に
示すように、ワークＷの周側面Ｅ3 が研磨ドラム４に接
触して研磨され、第３加工位置Ｈ3 では、図２の左側の
ワーク保持手段３に示すように、ワークＷの裏面側の外
周エッジＥ2 が研磨ドラム４に接触して研磨される。
【００２６】研磨中上記研磨ドラム４は、第３軸線Ｌ3
に沿ってゆっくりと往復動し、ワークＷとの接触位置が
変えられる。
に沿ってゆっくりと往復動し、ワークＷとの接触位置が
変えられる。
【００２７】また、インデックステーブル１の回転中
は、エアシリンダー２２のロッド２２ａが伸長して各ワ
ーク保持手段３をインデックステーブル１の外周側へ後
退させることにより、ワークＷは研磨ドラム４から離間
している。そして、インデックステーブル１が９０度回
転して各ワーク保持手段３がそれぞれの加工位置に停止
すると、上記ロッド２２ａがアーム１６ａから若干離間
する位置まで短縮することにより、ワークＷがウエート
２０の重力による一定の接触圧で研磨ドラム４に押し付
けられて研磨される。
は、エアシリンダー２２のロッド２２ａが伸長して各ワ
ーク保持手段３をインデックステーブル１の外周側へ後
退させることにより、ワークＷは研磨ドラム４から離間
している。そして、インデックステーブル１が９０度回
転して各ワーク保持手段３がそれぞれの加工位置に停止
すると、上記ロッド２２ａがアーム１６ａから若干離間
する位置まで短縮することにより、ワークＷがウエート
２０の重力による一定の接触圧で研磨ドラム４に押し付
けられて研磨される。
【００２８】第３加工位置Ｈ3 で全ての外周研磨が終了
したワークＷは、インデックステーブル１がさらに９０
度間欠回転することによりハンドリング位置Ｈ0 に送ら
れ、この位置でハンドリング手段３７によりワーク保持
手段３から取り出され、そのあとに未加工ワークが供給
されて上述した研磨工程が繰り返される。
したワークＷは、インデックステーブル１がさらに９０
度間欠回転することによりハンドリング位置Ｈ0 に送ら
れ、この位置でハンドリング手段３７によりワーク保持
手段３から取り出され、そのあとに未加工ワークが供給
されて上述した研磨工程が繰り返される。
【００２９】かくして上記エッジポリッシャーは、一定
角度傾斜する一つの研磨ドラム４を使用し、その回りを
ワーク保持手段３に間欠的に周回させることにより、ワ
ークＷの表裏両面の外周エッジＥ1 ，Ｅ2 と周側面Ｅ3
とを、該ワークＷを表裏反転させたり、加工中に研磨ド
ラム４の接触角を変化させたりすることなく、またワー
クの供給及び取り出しのために研磨作業を一時中断する
こともなく、連続的に研磨することができる。従って、
反転機構を必要としない簡単な構成のエッジポリッシャ
ーにより、ワークＷ外周部を効率良く研磨することがで
きる。
角度傾斜する一つの研磨ドラム４を使用し、その回りを
ワーク保持手段３に間欠的に周回させることにより、ワ
ークＷの表裏両面の外周エッジＥ1 ，Ｅ2 と周側面Ｅ3
とを、該ワークＷを表裏反転させたり、加工中に研磨ド
ラム４の接触角を変化させたりすることなく、またワー
クの供給及び取り出しのために研磨作業を一時中断する
こともなく、連続的に研磨することができる。従って、
反転機構を必要としない簡単な構成のエッジポリッシャ
ーにより、ワークＷ外周部を効率良く研磨することがで
きる。
【００３０】上記実施例では、インデックステーブル１
をロータリー式に一方向だけに９０度ずつ間欠回転させ
るようにしているが、図６Ａ〜Ｅに示すように、一方向
に９０度ずつ３回（２７０度）間欠的に回転させたあ
と、逆方向に２７０度回転させて原位置に復帰させると
いう工程を繰り返すようにしても良い。
をロータリー式に一方向だけに９０度ずつ間欠回転させ
るようにしているが、図６Ａ〜Ｅに示すように、一方向
に９０度ずつ３回（２７０度）間欠的に回転させたあ
と、逆方向に２７０度回転させて原位置に復帰させると
いう工程を繰り返すようにしても良い。
【００３１】この反転式の研磨方法では、図６Ａに示す
ように、ハンドリング位置Ｈ0 で第１ワーク保持手段３
ａにワークＷが供給されると、インデックステーブル１
が正方向に９０度回転して、図６Ｂに示すように第１ワ
ーク保持手段３ａが第１加工位置Ｈ1 に移動し、この位
置でワークの表面側の外周エッジＥ1 が研磨される。こ
のとき、ハンドリング位置Ｈ0 にある第２ワーク保持手
段３ｂには、加工済ワークが取り出されて新たな未加工
ワークが供給される。
ように、ハンドリング位置Ｈ0 で第１ワーク保持手段３
ａにワークＷが供給されると、インデックステーブル１
が正方向に９０度回転して、図６Ｂに示すように第１ワ
ーク保持手段３ａが第１加工位置Ｈ1 に移動し、この位
置でワークの表面側の外周エッジＥ1 が研磨される。こ
のとき、ハンドリング位置Ｈ0 にある第２ワーク保持手
段３ｂには、加工済ワークが取り出されて新たな未加工
ワークが供給される。
【００３２】一定の研磨時間が経過すると、インデック
ステーブル１が正方向にさらに９０度回転し、図６Ｃに
示すように、第１ワーク保持手段３ａが第２加工位置Ｈ
2 に移動すると共に第２ワーク保持手段３ｂが第１加工
位置Ｈ1 に移動し、それぞれの加工位置でワークＷの周
側面Ｅ3 と表面側外周エッジＥ1 とが研磨される。この
とき、ハンドリング位置Ｈ0 にある第３ワーク保持手段
３ｃには、加工済ワークが取り出されて未加工ワークＷ
が供給される。
ステーブル１が正方向にさらに９０度回転し、図６Ｃに
示すように、第１ワーク保持手段３ａが第２加工位置Ｈ
2 に移動すると共に第２ワーク保持手段３ｂが第１加工
位置Ｈ1 に移動し、それぞれの加工位置でワークＷの周
側面Ｅ3 と表面側外周エッジＥ1 とが研磨される。この
とき、ハンドリング位置Ｈ0 にある第３ワーク保持手段
３ｃには、加工済ワークが取り出されて未加工ワークＷ
が供給される。
【００３３】さらに一定の研磨時間が経過すると、上記
インデックステーブル１が正方向にさらに９０度回転
し、図６Ｄに示すように、第１ワーク保持手段３ａが第
３加工位置Ｈ3 に移動すると共に、第２ワーク保持手段
３ｂが第２加工位置Ｈ2 に移動し、かつ第３ワーク保持
手段３ｃが第１加工位置Ｈ1 に移動し、それぞれの加工
位置でワークＷの裏面側外周エッジＥ2 と周側面Ｅ3 及
び表面側外周エッジＥ1が研磨される。このとき、ハン
ドリング位置Ｈ0 にある第４ワーク保持手段３ｄには、
加工済ワークが取り出されて未加工ワークＷが供給され
る。
インデックステーブル１が正方向にさらに９０度回転
し、図６Ｄに示すように、第１ワーク保持手段３ａが第
３加工位置Ｈ3 に移動すると共に、第２ワーク保持手段
３ｂが第２加工位置Ｈ2 に移動し、かつ第３ワーク保持
手段３ｃが第１加工位置Ｈ1 に移動し、それぞれの加工
位置でワークＷの裏面側外周エッジＥ2 と周側面Ｅ3 及
び表面側外周エッジＥ1が研磨される。このとき、ハン
ドリング位置Ｈ0 にある第４ワーク保持手段３ｄには、
加工済ワークが取り出されて未加工ワークＷが供給され
る。
【００３４】上述した図６Ｄまでの工程はロータリー式
の研磨方法と全く同じであるが、反転式の研磨方法で
は、上記工程が終了すると、図６Ｅに示すように、イン
デックステーブル１が逆方向に連続して２７０度回転
し、第１ワーク保持手段３ａがハンドリング位置Ｈ0 に
復帰する。このとき、第２ワーク保持手段３ｂは第３加
工位置Ｈ3 に移動し、第３ワーク保持手段３ｃは第２加
工位置Ｈ2 に移動し、第４ワーク保持手段３ｄは第１加
工位置Ｈ1 に移動している。この状態は図６Ａの状態と
同じであって、ロータリー式の研磨方法において、第１
ワーク保持手段３ａが第３加工位置Ｈ3 にある上記図６
Ｄの状態からインデックステーブル１がさらに正方向に
９０度回転した場合と同じである。
の研磨方法と全く同じであるが、反転式の研磨方法で
は、上記工程が終了すると、図６Ｅに示すように、イン
デックステーブル１が逆方向に連続して２７０度回転
し、第１ワーク保持手段３ａがハンドリング位置Ｈ0 に
復帰する。このとき、第２ワーク保持手段３ｂは第３加
工位置Ｈ3 に移動し、第３ワーク保持手段３ｃは第２加
工位置Ｈ2 に移動し、第４ワーク保持手段３ｄは第１加
工位置Ｈ1 に移動している。この状態は図６Ａの状態と
同じであって、ロータリー式の研磨方法において、第１
ワーク保持手段３ａが第３加工位置Ｈ3 にある上記図６
Ｄの状態からインデックステーブル１がさらに正方向に
９０度回転した場合と同じである。
【００３５】上記図６Ａ〜Ｅの工程を繰り返すことによ
り、ワークＷの外周エッジの研磨加工を行うことができ
る。そして、このようにインデックステーブル１を逆転
させる反転式の研磨方法では、各ワーク保持手段３ａ〜
３ｄのチャックヘッドに真空ポンプからのエア配管を接
続する場合に、ロータリー式の研磨方法では必要なロー
タリージョイントを介する必要がないため、装置の構成
が簡単になる。
り、ワークＷの外周エッジの研磨加工を行うことができ
る。そして、このようにインデックステーブル１を逆転
させる反転式の研磨方法では、各ワーク保持手段３ａ〜
３ｄのチャックヘッドに真空ポンプからのエア配管を接
続する場合に、ロータリー式の研磨方法では必要なロー
タリージョイントを介する必要がないため、装置の構成
が簡単になる。
【００３６】なお、上記各実施例では、外周エッジが平
面状に面取り加工されたワークを研磨する場合について
説明したが、円弧状に面取り加工されたワークであって
もその外周部を同様に研磨することができる。即ち、図
７に示すように、研磨ドラム４の外周に、ワークＷの外
周形状に倣って窪むことができる柔軟な研磨パッドを貼
着すると共に、該研磨ドラム４の傾斜角やウエートによ
る押付力等を、第１加工位置Ｈ1 ではワーク外周の表面
側のエッジ部分Ｗ1 が研磨パッドと接触し、反対側の第
３加工位置Ｈ3 では裏面側のエッジ部分Ｗ2 が研磨パッ
ドと接触し、中間の第２加工位置Ｈ2 （図示せず）では
周側面Ｗ3 が研磨パッドと接触するように設定すれば良
い。
面状に面取り加工されたワークを研磨する場合について
説明したが、円弧状に面取り加工されたワークであって
もその外周部を同様に研磨することができる。即ち、図
７に示すように、研磨ドラム４の外周に、ワークＷの外
周形状に倣って窪むことができる柔軟な研磨パッドを貼
着すると共に、該研磨ドラム４の傾斜角やウエートによ
る押付力等を、第１加工位置Ｈ1 ではワーク外周の表面
側のエッジ部分Ｗ1 が研磨パッドと接触し、反対側の第
３加工位置Ｈ3 では裏面側のエッジ部分Ｗ2 が研磨パッ
ドと接触し、中間の第２加工位置Ｈ2 （図示せず）では
周側面Ｗ3 が研磨パッドと接触するように設定すれば良
い。
【００３７】また、上記各実施例では、インデックステ
ーブル１を反時計方向に間欠回転させているが、その回
転方向は時計方向であっても良い。この場合には、第１
加工位置Ｈ1 と第３加工位置Ｈ3 とが上記実施例の場合
は逆の配置になる。即ち、第１加工位置Ｈ1 でワークの
裏面側の外周エッジＥ2 ，Ｗ2 が研磨され、第３加工位
置Ｈ3 で表面側の外周エッジＥ1 ，Ｗ1 が研磨されるこ
とになる。
ーブル１を反時計方向に間欠回転させているが、その回
転方向は時計方向であっても良い。この場合には、第１
加工位置Ｈ1 と第３加工位置Ｈ3 とが上記実施例の場合
は逆の配置になる。即ち、第１加工位置Ｈ1 でワークの
裏面側の外周エッジＥ2 ，Ｗ2 が研磨され、第３加工位
置Ｈ3 で表面側の外周エッジＥ1 ，Ｗ1 が研磨されるこ
とになる。
【００３８】
【発明の効果】このように本発明によれば、一定角度傾
斜する一つの研磨ドラムを使用し、その回りをワーク保
持手段に間欠的に周回させることにより、ワークの表裏
両面の外周エッジと周側とを、該ワークを表裏反転させ
たり、加工中に研磨ドラムの接触角を変化させたりする
ことなく、またワークの供給及び取り出しのために研磨
作業を中断することもなく、連続的に研磨することがで
きる。従って、反転機構を必要としない簡単な構成のエ
ッジポリッシャーにより、ワーク外周部を効率良く研磨
することができる。
斜する一つの研磨ドラムを使用し、その回りをワーク保
持手段に間欠的に周回させることにより、ワークの表裏
両面の外周エッジと周側とを、該ワークを表裏反転させ
たり、加工中に研磨ドラムの接触角を変化させたりする
ことなく、またワークの供給及び取り出しのために研磨
作業を中断することもなく、連続的に研磨することがで
きる。従って、反転機構を必要としない簡単な構成のエ
ッジポリッシャーにより、ワーク外周部を効率良く研磨
することができる。
【図１】本発明に係るエッジポリッシャーの主要な構成
部分を示す平面図である。
部分を示す平面図である。
【図２】図１におけるII−II線に沿った断面図である。
【図３】図１におけるIII −III 線に沿った断面図であ
る。
る。
【図４】研磨ドラムとワークとの接触状態を示す要部拡
大図である。
大図である。
【図５】ワークの要部断面図である。
【図６】（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ），（Ｅ）は、
異なる研磨方法を工程順に示す平面図である。
異なる研磨方法を工程順に示す平面図である。
【図７】本発明の他の実施例を示す要部側面図である。
Ｗ ワーク Ｅ1 エッジ Ｅ2 エッジ Ｅ3 周側面 Ｗ1 エッジ Ｗ2 エッジ Ｗ3 周側面 Ｌ1 第１軸線 Ｌ2 第２軸線 Ｌ3 第３軸線 Ｈ0 ハンドリング位置 Ｈ1 第１加工位置 Ｈ2 第２加工位置 Ｈ3 第３加工位置 θ ベベル角 １ インデックステーブル ２ 間欠駆動手段 ３，３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ ワーク保持手段 ４ 研磨ドラム １２ 支持機構 ２０ 押付手段であるウエート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水 野 憲 明 神奈川県綾瀬市早川2647 スピードファ ム・アイペック株式会社内 Ｆターム(参考） 3C049 AA03 AA11 AA16 AB06 AB08 CB03
Claims (2)
- 【請求項１】第１軸線の回りを回転自在のインデックス
テーブル；上記インデックステーブル上に第１軸線を取
り囲んで等角度間隔に配設され、面取りされた外周エッ
ジを表裏面に有する円板形ワークを上記第１軸線と平行
な第２軸線の回りに回転自在に保持する複数のワーク保
持手段；上記複数のワーク保持手段の配列中心位置に、
第１軸線に対して傾斜する第３軸線の回りに回転自在な
るように配設された研磨ドラム；上記インデックステー
ブルを一定角度ずつ間欠的に回転させることにより各ワ
ーク保持手段を、ワークの供給及び取り出しのためのハ
ンドリング位置と、上記研磨ドラムで表裏何れか一方の
外周エッジを研磨する第１加工位置と、周側面を研磨す
る第２加工位置と、他方の外周エッジを研磨する第３加
工位置とに順次移動させる間欠駆動手段；上記第１〜第
３加工位置においてワークを所要の力で研磨ドラムに押
し付ける押付手段；上記ハンドリング位置においてワー
クを研磨ドラムから離間させるための移動手段；を有す
ることを特徴とするインデックス式エッジポリッシャ
ー。 - 【請求項２】請求項１に記載のエッジポリッシャーにお
いて、上記インデックステーブル上に４つのワーク保持
手段が９０度間隔で配設されると共に、上記研磨ドラム
が第１軸線に対して４５度傾斜した状態に配設され、さ
らに上記第１加工位置と第３加工位置とが、第１軸線と
第３軸線とを含む面内における、研磨ドラムを介して互
いに１８０度異なる位置に設けられると共に、第２加工
位置及びハンドリング位置が、これらの第１加工位置及
び第３加工位置とはそれぞれ９０度異なる位置に設けら
れていることを特徴とするもの。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23863199A JP2001062686A (ja) | 1999-08-25 | 1999-08-25 | インデックス式エッジポリッシャー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23863199A JP2001062686A (ja) | 1999-08-25 | 1999-08-25 | インデックス式エッジポリッシャー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001062686A true JP2001062686A (ja) | 2001-03-13 |
Family
ID=17033022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23863199A Withdrawn JP2001062686A (ja) | 1999-08-25 | 1999-08-25 | インデックス式エッジポリッシャー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001062686A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001082353A1 (fr) * | 2000-04-24 | 2001-11-01 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Dispositif et procede de polissage du chanfrein peripherique d'une tranche de silicium |
| JP2006198734A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Honda Motor Co Ltd | 研削方法 |
| CN105033805A (zh) * | 2015-08-14 | 2015-11-11 | 苏州听毅华自动化设备有限公司 | 去毛刺装置 |
| JP2018001406A (ja) * | 2013-10-04 | 2018-01-11 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨装置及び研磨方法 |
| CN114952592A (zh) * | 2021-02-26 | 2022-08-30 | 海成帝爱斯株式会社 | 基板表面研磨装置 |
| CN116604463A (zh) * | 2023-06-20 | 2023-08-18 | 苏州博宏源机械制造有限公司 | 一种提高晶圆片边缘平坦度的抛光装置及方法 |
-
1999
- 1999-08-25 JP JP23863199A patent/JP2001062686A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001082353A1 (fr) * | 2000-04-24 | 2001-11-01 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Dispositif et procede de polissage du chanfrein peripherique d'une tranche de silicium |
| JP2006198734A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Honda Motor Co Ltd | 研削方法 |
| JP2018001406A (ja) * | 2013-10-04 | 2018-01-11 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨装置及び研磨方法 |
| CN105033805A (zh) * | 2015-08-14 | 2015-11-11 | 苏州听毅华自动化设备有限公司 | 去毛刺装置 |
| CN114952592A (zh) * | 2021-02-26 | 2022-08-30 | 海成帝爱斯株式会社 | 基板表面研磨装置 |
| CN116604463A (zh) * | 2023-06-20 | 2023-08-18 | 苏州博宏源机械制造有限公司 | 一种提高晶圆片边缘平坦度的抛光装置及方法 |
| CN116604463B (zh) * | 2023-06-20 | 2023-12-15 | 苏州博宏源机械制造有限公司 | 一种提高晶圆片边缘平坦度的抛光装置及方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061107 |