JP2916028B2 - ワークエッジの鏡面研磨方法及び装置 - Google Patents
ワークエッジの鏡面研磨方法及び装置Info
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- JP2916028B2 JP2916028B2 JP3203208A JP20320891A JP2916028B2 JP 2916028 B2 JP2916028 B2 JP 2916028B2 JP 3203208 A JP3203208 A JP 3203208A JP 20320891 A JP20320891 A JP 20320891A JP 2916028 B2 JP2916028 B2 JP 2916028B2
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワークエッジを鏡
面研磨するための方法及び装置に関するものであり、更
に詳しくは、半導体ウエハ、ガラス板、石英板、セラミ
ック基板等の円板形ワークのエッジ部分を鏡面研磨する
ための鏡面研磨方法及び装置に関するものである。
面研磨するための方法及び装置に関するものであり、更
に詳しくは、半導体ウエハ、ガラス板、石英板、セラミ
ック基板等の円板形ワークのエッジ部分を鏡面研磨する
ための鏡面研磨方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えばシリコンウエハ等の半導体ウエハ
の外周のエッジ部分は、その後のプロセスでの汚れの影
響を極力少なくするため、各種の処理が施されてきた。
即ち、チッピング防止のためのダイヤモンド砥石による
面取り加工処理や、面取り加工後の加工歪層を除去する
ためのエッチング処理等である。
の外周のエッジ部分は、その後のプロセスでの汚れの影
響を極力少なくするため、各種の処理が施されてきた。
即ち、チッピング防止のためのダイヤモンド砥石による
面取り加工処理や、面取り加工後の加工歪層を除去する
ためのエッチング処理等である。
【０００３】しかしながら、エッチング処理されたエッ
ジの表面は、波状あるいはウロコ状となって汚れが残り
易く、ウエハの特性を劣化させる原因となっていた。
ジの表面は、波状あるいはウロコ状となって汚れが残り
易く、ウエハの特性を劣化させる原因となっていた。
【０００４】そこで、このような問題点を解決するた
め、本発明者等は、特開昭６４−７１６５６号公報に開
示されているように、ターンテーブル上に保持されて回
転するワークのエッジに回転する研磨リングを押し付
け、該研磨リングでエッジを鏡面加工するようにした加
工装置を提案し、更に、大量のワークを連続的に処理す
るため、特願平１−２５８５０５号（特開平３−２０８
５５０号）により、一定角度づつ間欠的に回転可能なイ
ンデックステーブル上に、ワークを保持する複数のイン
デックスユニットを一定間隔をおいて取り付け、これら
のインデックスユニットに次々に供給されるワークのエ
ッジを、インデックステーブルの中央に位置する研磨ド
ラムに押し付けて研磨するようにした加工装置を提案し
た。
め、本発明者等は、特開昭６４−７１６５６号公報に開
示されているように、ターンテーブル上に保持されて回
転するワークのエッジに回転する研磨リングを押し付
け、該研磨リングでエッジを鏡面加工するようにした加
工装置を提案し、更に、大量のワークを連続的に処理す
るため、特願平１−２５８５０５号（特開平３−２０８
５５０号）により、一定角度づつ間欠的に回転可能なイ
ンデックステーブル上に、ワークを保持する複数のイン
デックスユニットを一定間隔をおいて取り付け、これら
のインデックスユニットに次々に供給されるワークのエ
ッジを、インデックステーブルの中央に位置する研磨ド
ラムに押し付けて研磨するようにした加工装置を提案し
た。
【０００５】しかしながら、これらの加工装置はいずれ
も、図６に示すように、ワーク２０のエッジを研磨リン
グ又は研磨ドラム２１の外周の研磨クロス２２に押し付
けて研磨する方式であるため、研磨リング又は研磨ドラ
ム２１に対するワークの接触長さｍが短く、このため、
ワーク２０の全周を研磨し終るまでかなりの時間を要す
るという問題があった。しかも最近では、ウエハが大径
化する傾向にあって、８インチ径ウエハの製造工程がラ
イン化されるに伴い、歩留まり向上の要求も高まり、加
工時間の短縮が急務となっている。
も、図６に示すように、ワーク２０のエッジを研磨リン
グ又は研磨ドラム２１の外周の研磨クロス２２に押し付
けて研磨する方式であるため、研磨リング又は研磨ドラ
ム２１に対するワークの接触長さｍが短く、このため、
ワーク２０の全周を研磨し終るまでかなりの時間を要す
るという問題があった。しかも最近では、ウエハが大径
化する傾向にあって、８インチ径ウエハの製造工程がラ
イン化されるに伴い、歩留まり向上の要求も高まり、加
工時間の短縮が急務となっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、大径
のウエハであっても短時間で鏡面研磨することができる
鏡面研磨方法及び装置を提供することにある。
のウエハであっても短時間で鏡面研磨することができる
鏡面研磨方法及び装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明における第１の鏡面研磨方法は、内周面に圧
縮性のある研磨クロスを備えた円筒形の研磨ドラムの内
部に、該研磨ドラムの内径より小径で外周のエッジが面
取り加工された円板形のワークを挿入して、該ワークと
研磨ドラムとをそれぞれ中心軸線の回りに回転させなが
ら、該ワーク外周の面取りされたエッジの一部を研磨ド
ラムの内周面の一側において研磨クロスに押し付けるこ
とにより、該ワークエッジを鏡面研磨することを特徴と
するものである。また、本発明の第２の鏡面研磨方法
は、内周面と外周面の両方に圧縮性のある研磨クロスを
備えた円筒形の研磨ドラムを使用して、外周面の研磨ク
ロスで、エッジを面取り加工された円板形ワーク外周の
オリエンテーションフラット部のエッジを研磨し、内周
面の研磨クロスで該ワーク外周のラウンド部のエッジを
研磨することを特徴とするワークエッジの鏡面研磨方
法。
め、本発明における第１の鏡面研磨方法は、内周面に圧
縮性のある研磨クロスを備えた円筒形の研磨ドラムの内
部に、該研磨ドラムの内径より小径で外周のエッジが面
取り加工された円板形のワークを挿入して、該ワークと
研磨ドラムとをそれぞれ中心軸線の回りに回転させなが
ら、該ワーク外周の面取りされたエッジの一部を研磨ド
ラムの内周面の一側において研磨クロスに押し付けるこ
とにより、該ワークエッジを鏡面研磨することを特徴と
するものである。また、本発明の第２の鏡面研磨方法
は、内周面と外周面の両方に圧縮性のある研磨クロスを
備えた円筒形の研磨ドラムを使用して、外周面の研磨ク
ロスで、エッジを面取り加工された円板形ワーク外周の
オリエンテーションフラット部のエッジを研磨し、内周
面の研磨クロスで該ワーク外周のラウンド部のエッジを
研磨することを特徴とするワークエッジの鏡面研磨方
法。
【０００８】一方、本発明の第１の鏡面研磨装置は、内
周面に圧縮性のある研磨クロスを備 えた、中心軸線の回
りを駆動回転自在の円筒形研磨ドラムと、前記研磨ドラ
ムの内径より小径で外周のエッジが面取り加工された円
板形のワークをチャックして、該ワークを前記研磨ドラ
ム内において中心軸線の回りに回転させると共に、該ワ
ーク外周の面取りされたエッジの一部を研磨ドラムの内
周面の一側において前記研磨クロスに押し付けるチャッ
クテーブルとを備えていることを特徴とするものであ
る。また、本発明の第２の鏡面研磨装置は、内周面と外
周面の両方に圧縮性のある研磨クロスを備えた、中心軸
線の回りを駆動回転自在の円筒形研磨ドラムと、エッジ
を面取り加工された円板形ワーク外周のオリエンテーシ
ョンフラット部のエッジを前記研磨ドラムの外周面の研
磨クロスに押し付けて、該ワークをオリエンテーション
フラット部と平行に移動させる手段と、前記ワーク外周
のラウンド部のエッジを前記研磨ドラムの内周面の研磨
クロスに押し付けて、該ワークを中心軸線の回りに回転
させる手段とを備えていることを特徴とするものであ
る。
周面に圧縮性のある研磨クロスを備 えた、中心軸線の回
りを駆動回転自在の円筒形研磨ドラムと、前記研磨ドラ
ムの内径より小径で外周のエッジが面取り加工された円
板形のワークをチャックして、該ワークを前記研磨ドラ
ム内において中心軸線の回りに回転させると共に、該ワ
ーク外周の面取りされたエッジの一部を研磨ドラムの内
周面の一側において前記研磨クロスに押し付けるチャッ
クテーブルとを備えていることを特徴とするものであ
る。また、本発明の第２の鏡面研磨装置は、内周面と外
周面の両方に圧縮性のある研磨クロスを備えた、中心軸
線の回りを駆動回転自在の円筒形研磨ドラムと、エッジ
を面取り加工された円板形ワーク外周のオリエンテーシ
ョンフラット部のエッジを前記研磨ドラムの外周面の研
磨クロスに押し付けて、該ワークをオリエンテーション
フラット部と平行に移動させる手段と、前記ワーク外周
のラウンド部のエッジを前記研磨ドラムの内周面の研磨
クロスに押し付けて、該ワークを中心軸線の回りに回転
させる手段とを備えていることを特徴とするものであ
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照しながら詳細に説明する。図１において、１は円板形
のワーク２を保持するチャックテーブル、３は該ワーク
２の外周のエッジ２ａ（図２参照）を鏡面研磨する円筒
形の研磨ドラムを示している。
照しながら詳細に説明する。図１において、１は円板形
のワーク２を保持するチャックテーブル、３は該ワーク
２の外周のエッジ２ａ（図２参照）を鏡面研磨する円筒
形の研磨ドラムを示している。
【００１０】前記チャックテーブル１は、バキュームチ
ャック等のチャック手段を有するヘッド５を備えてい
て、該ヘッド５によりワーク２を保持するもので、図示
しない移動手段によって基台６上をＸＹ方向に移動する
ように構成されており、前記ヘッド５もまた、駆動手段
により軸線の回りを駆動回転自在、且つ所定角度θだけ
傾動可能に構成されている。
ャック等のチャック手段を有するヘッド５を備えてい
て、該ヘッド５によりワーク２を保持するもので、図示
しない移動手段によって基台６上をＸＹ方向に移動する
ように構成されており、前記ヘッド５もまた、駆動手段
により軸線の回りを駆動回転自在、且つ所定角度θだけ
傾動可能に構成されている。
【００１１】一方、前記研磨ドラム３は支持アーム８に
回転自在に支持され、モータ９により中心軸線の回りを
駆動回転されるようになっており、前記支持アーム８
は、基台６上に立設した支柱１０に昇降自在に取り付け
られている。また、円筒形の研磨ドラム３の内周面には
研磨クロス１２が貼り付けられ、該内周面でワーク２の
エッジ２ａを研磨するようになっている。
回転自在に支持され、モータ９により中心軸線の回りを
駆動回転されるようになっており、前記支持アーム８
は、基台６上に立設した支柱１０に昇降自在に取り付け
られている。また、円筒形の研磨ドラム３の内周面には
研磨クロス１２が貼り付けられ、該内周面でワーク２の
エッジ２ａを研磨するようになっている。
【００１２】前記構成を有する鏡面研磨装置において、
両面外周にそれぞれ面取り加工されたエッジ２ａを有す
るワーク２が、図１の実線位置にあるチャックテーブル
１のヘッド５に供給されると、該チャックテーブル１
は、同図に鎖線で示すように研磨ドラム３の真下に移動
する。続いて、研磨ドラム３が下降してその内部にワー
ク２が挿入されると、該研磨ドラム３及びヘッド５が回
転を開始すると共に、図３及び図４に示すように、チャ
ックテーブル１のヘッド５が傾斜してワーク２の一方の
面のエッジ２ａを研磨ドラム３の内周面に押し付け、該
エッジ２ａの鏡面研磨が行われる。
両面外周にそれぞれ面取り加工されたエッジ２ａを有す
るワーク２が、図１の実線位置にあるチャックテーブル
１のヘッド５に供給されると、該チャックテーブル１
は、同図に鎖線で示すように研磨ドラム３の真下に移動
する。続いて、研磨ドラム３が下降してその内部にワー
ク２が挿入されると、該研磨ドラム３及びヘッド５が回
転を開始すると共に、図３及び図４に示すように、チャ
ックテーブル１のヘッド５が傾斜してワーク２の一方の
面のエッジ２ａを研磨ドラム３の内周面に押し付け、該
エッジ２ａの鏡面研磨が行われる。
【００１３】一定時間が経過すると、研磨ドラム３及び
チャックテーブル１は一旦図１に実線で示す状態に復帰
し、ワーク２が上下反転される。そして、前述した場合
と同様にしてワーク２の反対側の面のエッジ２ａが鏡面
加工される。前記研磨ドラム３とヘッド５とは、互いに
同方向に回転させても逆方向に回転させても良いが、同
方向に回転させる場合は、回転に速度差を持たせること
が必要である。
チャックテーブル１は一旦図１に実線で示す状態に復帰
し、ワーク２が上下反転される。そして、前述した場合
と同様にしてワーク２の反対側の面のエッジ２ａが鏡面
加工される。前記研磨ドラム３とヘッド５とは、互いに
同方向に回転させても逆方向に回転させても良いが、同
方向に回転させる場合は、回転に速度差を持たせること
が必要である。
【００１４】ここで、本発明のようにワークエッジ２ａ
を研磨ドラム３の内周面で研磨する場合と、従来のよう
に研磨ドラム３の外周面で研磨する場合との効果の違い
を、図４（本発明）及び図６（従来例）に基づいて対比
検討する。いま、両者の研磨条件を同じにするため、研
磨ドラムの直径（図４の場合は内径、図６の場合は外
径）を３００ｍｍ、研磨クロスの厚さを１．２５ｍｍ、
ワークの外径を２００ｍｍとして、ワークを押し付ける
ことによって研磨クロスが０．２５ｍｍまで圧縮される
ものと仮定し、分り易くするためワークを研磨ドラム内
周面に直角に押し付けた場合について説明すると、本発
明においてワーク２が研磨クロス１２に接触する接触長
さｎは約３４．７ｍｍ、従来例における接触長さｍは約
１５．５ｍｍであって、本発明の接触長さが従来例のも
のより２倍以上長い。而して通常、ワークの加工時間は
研磨クロスとの接触長さに反比例するので、本発明の方
法によると、従来の２分の１以下の加工時間でワークエ
ッジを鏡面研磨することができる。ワークを傾斜させて
研磨ドラムの内周面に押し付けた場合においても、接触
長さｍ，ｎの関係は前述した場合と実質的に同じである
から、効果においても前述のものと何等変わるところが
ない。
を研磨ドラム３の内周面で研磨する場合と、従来のよう
に研磨ドラム３の外周面で研磨する場合との効果の違い
を、図４（本発明）及び図６（従来例）に基づいて対比
検討する。いま、両者の研磨条件を同じにするため、研
磨ドラムの直径（図４の場合は内径、図６の場合は外
径）を３００ｍｍ、研磨クロスの厚さを１．２５ｍｍ、
ワークの外径を２００ｍｍとして、ワークを押し付ける
ことによって研磨クロスが０．２５ｍｍまで圧縮される
ものと仮定し、分り易くするためワークを研磨ドラム内
周面に直角に押し付けた場合について説明すると、本発
明においてワーク２が研磨クロス１２に接触する接触長
さｎは約３４．７ｍｍ、従来例における接触長さｍは約
１５．５ｍｍであって、本発明の接触長さが従来例のも
のより２倍以上長い。而して通常、ワークの加工時間は
研磨クロスとの接触長さに反比例するので、本発明の方
法によると、従来の２分の１以下の加工時間でワークエ
ッジを鏡面研磨することができる。ワークを傾斜させて
研磨ドラムの内周面に押し付けた場合においても、接触
長さｍ，ｎの関係は前述した場合と実質的に同じである
から、効果においても前述のものと何等変わるところが
ない。
【００１５】本発明において研磨ドラム３の直径（内
径）は、ワーク２の外径、エッジ２ａの面取り角度、ヘ
ッド５の傾斜角度等に応じてそれらに適したものに変更
されることはいうまでもないが、接触長さｍをできるだ
け大きく取るためには、研磨ドラム３の内径をワーク２
の外径にできるだけ近づけることが望ましい。
径）は、ワーク２の外径、エッジ２ａの面取り角度、ヘ
ッド５の傾斜角度等に応じてそれらに適したものに変更
されることはいうまでもないが、接触長さｍをできるだ
け大きく取るためには、研磨ドラム３の内径をワーク２
の外径にできるだけ近づけることが望ましい。
【００１６】なお、前記実施例では、１組のチャックテ
ーブル１と研磨ドラム３とにより、ワーク２を表裏反転
させて両面のエッジ２ａを研磨するようにしたものを示
しているが、２組のチャックテーブルと研磨ドラムとを
設け、まず、一方でワーク２の片面のエッジ２ａを研磨
した後、該ワーク２を表裏反転させて他方で反対側の面
のエッジ２ａを研磨するように構成することもできる。
ーブル１と研磨ドラム３とにより、ワーク２を表裏反転
させて両面のエッジ２ａを研磨するようにしたものを示
しているが、２組のチャックテーブルと研磨ドラムとを
設け、まず、一方でワーク２の片面のエッジ２ａを研磨
した後、該ワーク２を表裏反転させて他方で反対側の面
のエッジ２ａを研磨するように構成することもできる。
【００１７】また、ワーク２に形成されているオリエン
テーションフラット部２ｃのエッジ２ａの研磨は、前記
ラウンド部２ｂにおけるエッジ２ａの研磨とは別の工程
で行っても良いが、ラウンド部２ｂを研磨する際にその
研磨ドラム３を利用して行うこともできる。この場合、
図５に示すように、研磨ドラム３の外周面にも研磨クロ
ス１２ａを貼り付け、ワーク２のラウンド部２ｂを研磨
する前にチャックテーブル１で前記オリエンテーション
フラット部２ｃを研磨ドラム３の外周面に押し付け、ワ
ーク２をオリエンテーションフラットと平行に往復動さ
せながら、研磨ドラム３を回転させて研磨する。その後
で、前述したようにワーク２を研磨ドラム３内に挿入し
てラウンド部２ｂの研磨を行う。ワーク２を反転したと
きも同様である。
テーションフラット部２ｃのエッジ２ａの研磨は、前記
ラウンド部２ｂにおけるエッジ２ａの研磨とは別の工程
で行っても良いが、ラウンド部２ｂを研磨する際にその
研磨ドラム３を利用して行うこともできる。この場合、
図５に示すように、研磨ドラム３の外周面にも研磨クロ
ス１２ａを貼り付け、ワーク２のラウンド部２ｂを研磨
する前にチャックテーブル１で前記オリエンテーション
フラット部２ｃを研磨ドラム３の外周面に押し付け、ワ
ーク２をオリエンテーションフラットと平行に往復動さ
せながら、研磨ドラム３を回転させて研磨する。その後
で、前述したようにワーク２を研磨ドラム３内に挿入し
てラウンド部２ｂの研磨を行う。ワーク２を反転したと
きも同様である。
【００１８】なお、本発明においては、一つの研磨ドラ
ム内に複数のワークを挿入し、これらのワークのエッジ
を該研磨ドラムで同時に研磨加工するように構成するこ
ともできる。
ム内に複数のワークを挿入し、これらのワークのエッジ
を該研磨ドラムで同時に研磨加工するように構成するこ
ともできる。
【００１９】
【発明の効果】このように本発明によれば、円筒形の研
磨ドラムの内周面に圧縮性のある研磨クロスを貼り付
け、円板形ワーク外周の面取りされたエッジを該研磨ド
ラムの内周面の一側において上記研磨クロスに押し付け
て研磨するようにしたので、研磨ドラムの内周面が湾曲
していることと研磨クロスが圧縮性を有することとによ
って該研磨クロスに対するワークエッジの接触長さを非
常に長くすることができ、この結果、大径のウエハであ
っても短時間でワークエッジを鏡面研磨することができ
る。また、内周面と外周面の両方に研磨クロスを貼り付
けた研磨ドラムを使用することにより、外周にオリエン
テーションフラット部を有するワークであっても、その
ラウンド部のエッジは内周の研磨クロスで研磨し、オリ
エンテーションフラット部のエッジは外周の研磨クロス
で研磨することができるため、該ワークの全周にわたっ
てエッジを確実且つ短時間に鏡面研磨することができ
る。
磨ドラムの内周面に圧縮性のある研磨クロスを貼り付
け、円板形ワーク外周の面取りされたエッジを該研磨ド
ラムの内周面の一側において上記研磨クロスに押し付け
て研磨するようにしたので、研磨ドラムの内周面が湾曲
していることと研磨クロスが圧縮性を有することとによ
って該研磨クロスに対するワークエッジの接触長さを非
常に長くすることができ、この結果、大径のウエハであ
っても短時間でワークエッジを鏡面研磨することができ
る。また、内周面と外周面の両方に研磨クロスを貼り付
けた研磨ドラムを使用することにより、外周にオリエン
テーションフラット部を有するワークであっても、その
ラウンド部のエッジは内周の研磨クロスで研磨し、オリ
エンテーションフラット部のエッジは外周の研磨クロス
で研磨することができるため、該ワークの全周にわたっ
てエッジを確実且つ短時間に鏡面研磨することができ
る。
【図１】本発明の研磨装置の一実施例を概略的に示す部
分断面図である。
分断面図である。
【図２】ワークの部分拡大断面図である。
【図３】図１の研磨状態における要部拡大縦断面図であ
る。
る。
【図４】図１の研磨状態における要部拡大横断面図であ
る。
る。
【図５】図１の異なる研磨態様を示す要部拡大横断面図
である。
である。
【図６】従来の研磨方法を示す要部横断面図である。
１ チャックテーブル ２ ワーク ２ａ エッジ ２ｂ ラウンド部 ２ｃ オリエンテーションフラット部 ３ 研磨ドラム １２ 研磨クロス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−107979（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−250776（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−250766（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−79970（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−157779（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−60556（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭63−113563（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭63−64460（ＪＰ，Ｕ)
Claims (4)
- 【請求項１】内周面に圧縮性のある研磨クロスを備えた
円筒形の研磨ドラムの内部に、該研磨ドラムの内径より
小径で外周のエッジが面取り加工された円板形のワーク
を挿入して、該ワークと研磨ドラムとをそれぞれ中心軸
線の回りに回転させながら、該ワーク外周の面取りされ
たエッジの一部を研磨ドラムの内周面の一側において研
磨クロスに押し付けることにより、該ワークエッジを鏡
面研磨することを特徴とするワークエッジの鏡面研磨方
法。 - 【請求項２】内周面と外周面の両方に圧縮性のある研磨
クロスを備えた円筒形の研磨ドラムを使用して、外周面
の研磨クロスで、エッジを面取り加工された円板形ワー
ク外周のオリエンテーションフラット部のエッジを研磨
し、内周面の研磨クロスで該ワーク外周のラウンド部の
エッジを研磨することを特徴とするワークエッジの鏡面
研磨方法。 - 【請求項３】 内周面に圧縮性のある研磨クロスを備え
た、中心軸線の回りを駆動回転自在の円筒形研磨ドラム
と、前記研磨ドラムの内径より小径で 外周のエッジが面取り
加工された円板形のワークをチャックして、該ワークを
前記研磨ドラム内において中心軸線の回りに回転させる
と共に、該ワーク外周の面取りされたエッジの一部を研
磨ドラムの内周面の一側において前記研磨クロスに押し
付けるチャックテーブルと、 を備えていることを特徴とするワークエッジの鏡面研磨
装置。 - 【請求項４】 内周面と外周面の両方に圧縮性のある研磨
クロスを備えた、中心軸線の回りを駆動回転自在の円筒
形研磨ドラムと、 エッジを面取り加工された円板形ワーク外周のオリエン
テーションフラット部のエッジを前記研磨ドラムの外周
面の研磨クロスに押し付けて、該ワークをオリエンテー
ションフラット部と平行に移動させる手段と、 前記ワーク外周のラウンド部のエッジを前記研磨ドラム
の内周面の研磨クロスに押し付けて、該ワークを中心軸
線の回りに回転させる手段と、 を備えていることを特徴とするワークエッジの鏡面研磨
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3203208A JP2916028B2 (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | ワークエッジの鏡面研磨方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3203208A JP2916028B2 (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | ワークエッジの鏡面研磨方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0523959A JPH0523959A (ja) | 1993-02-02 |
| JP2916028B2 true JP2916028B2 (ja) | 1999-07-05 |
Family
ID=16470258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3203208A Expired - Fee Related JP2916028B2 (ja) | 1991-07-19 | 1991-07-19 | ワークエッジの鏡面研磨方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2916028B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2628424B2 (ja) * | 1992-01-24 | 1997-07-09 | 信越半導体株式会社 | ウエーハ面取部の研磨方法及び装置 |
| JPH079322A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-13 | Fujikoshi Mach Corp | ウエハーの研磨装置 |
| US6685539B1 (en) | 1999-08-24 | 2004-02-03 | Ricoh Company, Ltd. | Processing tool, method of producing tool, processing method and processing apparatus |
| US9855871B2 (en) | 2013-12-27 | 2018-01-02 | Ts Tech Co., Ltd. | Vehicle seat |
| CN109333230B (zh) * | 2018-12-06 | 2021-05-07 | 湖南省九嶷山丰利农业开发有限公司 | 一种环保型竹筐生产用去毛刺装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62107979A (ja) * | 1985-11-05 | 1987-05-19 | Mitsubishi Metal Corp | ウエハの面取装置 |
| JPS6360556U (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-22 |
-
1991
- 1991-07-19 JP JP3203208A patent/JP2916028B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0523959A (ja) | 1993-02-02 |
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