JPH11121686A - 多層チップの組み立て方法 - Google Patents

多層チップの組み立て方法

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JPH11121686A JP9288279A JP28827997A JPH11121686A JP H11121686 A JPH11121686 A JP H11121686A JP 9288279 A JP9288279 A JP 9288279A JP 28827997 A JP28827997 A JP 28827997A JP H11121686 A JPH11121686 A JP H11121686A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 多層チップの組み立て作業を効率よく進める
ことができるとともに、接続不良により廃棄されるべき
チップ単体の個数を最小限にとどめることができる方法
を提供する。 【解決手段】 複数のチップ単体1〜4を多段積層化し
た構造を有する多層チップAの組み立て方法であって、
上記複数のチップ単体1〜4のうち、接合面間で導通接
続されるチップ単体を取り合わせて導電接合する工程を
先行工程とし、その後、導電接合により一体化された各
チップ複合体A1,A2を取り合わせて接合することに
より、上記複数のチップ単体1〜4を多段積層化するこ
とを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本願発明は、複数のチップ単
体を多段積層化した構造を有する多層チップの組み立て
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ICやLSIといった半導体チッ
プは、テープキャリアや樹脂基板上に単体で実装されて
いるのが一般的である。その実装構造としては、テープ
・オートメイテッド・ボンディング(TAB)方式やチ
ップ・オン・ボード(COB)方式によって実装された
構造があり、いろんな要因を勘案して最適な構造が選定
されている。
【0003】このような実装構造の半導体チップに対し
て、チップ上に他のベアチップを積層するようにして接
合する、いわゆるチップ・オン・チップ方式(以下、略
称してCOCという)により組み立てられた積層構造が
あり、このようなCOCによる積層構造によれば高密度
化を容易に達成できることから、今後このようなCOC
による積層構造が小型電子機器や薄型の携帯端末、ある
いはICカードといった各種のものに採用されることが
考えられる。
【0004】さらに、そのようなCOCによる積層構造
を発展させたものとして、3個以上のチップ単体を積層
化することにより多段積層構造とした多層チップという
ものが提案されている。このような多層チップの最下層
のチップ単体は、通常、テープキャリアや樹脂基板に接
合されることから、多層チップの組み立て方法として
は、最下層のチップ単体から最上層のチップ単体へと順
に組み立てていくのが一般的な方法と考えられる。この
ような組み立て方法において各チップ単体を互いに接合
するには、異方性導電接着フィルム(以下、略称してA
CFという)あるいは異方性導電接着ペーストを接着媒
体として、接合面上のバンプを介して導通接続させた状
態で導電接合する形態があり、一方、接合面間を導通さ
せることなく、単に非導電性の接着剤によって接合する
形態もある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の多
層チップの組み立て方法では、各チップ単体を最下層か
ら最上層へと接合するに際し、接合面間を導通接続とし
た導電接合と非導通接続とした接合とがあり、そのよう
な異なる種類の接合工程が交互に繰り返されると、組み
立て作業性としては能率が悪く、煩雑な組み立て作業と
なってしまうという不具合があった。また、先の工程で
接合面間を非導通接続により接合し、その接合により一
体化されたチップ複合体に対して別のチップ単体を導電
接合した場合、少なくとも3個のチップ単体が多段積層
化されることとなる。このような多段積層化された多層
チップに対して測定検査を行い接続不良と判定される
と、多段積層構造を構成するすべてのチップが不良であ
るとみなされ廃棄される。したがって、導電接合に関与
しないチップまでもが接続良否の判定結果によっては不
良品として廃棄処分されるので、多層チップを構成する
チップに無駄が生じるという不具合があった。
【0006】そこで、本願発明は、上記した事情のもと
で考え出されたものであって、多層チップの組み立て作
業を効率よく進めることができるとともに、接続不良に
より廃棄されるべきチップ単体の個数を最小限にとどめ
ることができる多層チップの組み立て方法を提供するこ
とをその課題とする。
【0007】
【発明の開示】上記課題を解決するため、本願発明で
は、次の技術的手段を講じている。
【0008】すなわち、本願発明により提供される多層
チップの組み立て方法は、複数のチップ単体を多段積層
化した構造を有する多層チップの組み立て方法であっ
て、上記複数のチップ単体のうち、接合面間で導通接続
されるチップ単体を取り合わせて導電接合する工程を先
行工程とし、その後、導電接合により一体化された各チ
ップ複合体を取り合わせて接合することにより、上記複
数のチップ単体を多段積層化することを特徴としてい
る。
【0009】上記技術的手段が講じられた本願発明によ
り提供される多層チップの組み立て方法では、先に行わ
れる先行工程において、多層チップの構成に必要な複数
のチップ単体のうち、接合面間で導通接続されるチップ
単体が取り合わされて導電接合される。このような導電
接合工程を経て接合された各チップ複合体は、複数のチ
ップ単体が一体化された構造のものである。たとえば、
各チップ複合体については、接続良否の判定を行うこと
ができる。このような判定により接続不良と判定された
場合、チップ複合体を構成する複数のチップ単体、すな
わち導電接合に関与するチップのみが廃棄処分などされ
ることとなる。さらに、上記導電接合工程の後、たとえ
ば接続良否の判定に合格した各チップ複合体は、互いに
取り合わされて接合される。これにより、必要とされる
すべてのチップが多段積層化され、チップ単体の接合に
よる組み立てが完了することとなる。
【0010】したがって、本願発明により提供される多
層チップの組み立て方法によれば、接合面間を導通接続
とした導電接合工程を行った後、その導電接合により一
体化されたチップ複合体が互いに接合されるので、チッ
プ単体、チップ複合体、および多層チップといった一連
の順に同種の接合工程が行われることから、多層チップ
の組み立て作業を効率よく進めることができる。その
上、導電接合工程後、導電接合された複数のチップ単体
からなるチップ複合体について接続良否の判定を行うこ
とができるので、仮にその時点で接続不良と判定されて
も導電接合にのみ関与するチップが不良品として廃棄処
分などされることから、多層チップを構成するチップに
無駄が生じることなく、接続不良により廃棄されるべき
チップ単体の個数を最小限にとどめることができる。
【0011】なお、チップとしては、メモリ機能を有す
るROMやRAM、または演算・制御機能を有するCP
Uなどの半導体チップが適用可能であるが、とくにその
ような機能の半導体チップに限ることはなく、他の機能
を有する半導体チップ、あるいは各種機能を複合的に有
するような半導体チップであってもよいことはいうまで
もない。
【0012】導電接合の形態としては、各チップ単体の
接合面に形成されたバンプを対峙させた状態で、ACF
や異方性導電接着ペーストを接合面間に挟んで圧着させ
る形態が好適であるが、その他ピン結合やはんだ融着に
よる接合形態などであってもよい。さらには、チップ単
体の両方または一方がウエハ状態で導電接合してもよ
い。この場合、ウエハ自体をスクライブ加工することに
よって導電接合された状態のチップ複合体を切り出すこ
とができる。
【0013】本願発明のその他の特徴および利点は、添
付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より
明らかとなろう。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の
形態について、図面を参照して具体的に説明する。
【0015】図1ないし図4は、本願発明にかかる多層
チップの組み立て方法の一実施形態において、各工程に
おける断面を示した工程断面図、特に、図4は、最終的
に組み立て完成された状態における多層チップの断面構
造が示されている。
【0016】図4によく示されるように、本実施形態に
よって組み立て完成される多層チップAは、4個の半導
体ベアチップの単体1〜4(以下、第1ないし第4のチ
ップ単体という)を多段積層化した、いわゆるCOCに
よる積層構造を有するものである。このような多層チッ
プAは、最終的にポリイミドフィルムなどでできたテー
プキャリア5に搭載接合された状態とされる。また、各
チップ単体1〜4は、他のチップ単体あるいはテープキ
ャリア5上のリード端子5aと導通接続されることか
ら、一方の接合面には、接続端子となるバンプ1a〜4
aがエッチング処理などによって形成されている。この
ようなバンプ1a〜4aが形成された接合面を導電接合
面という。これに対し、導電接合面の反対面は、他のチ
ップ単体などと導通することなく接合されることから、
単純接合面という。
【0017】上記したような多層チップAを組み立てる
方法は、図1に示すように、第1および第2のチップ単
体1,2を取り合わせて導電接合させることにより、一
体化された第1のチップ複合体A1を作製する第1の導
電接合工程、図2に示すように、上記第1の導電接合工
程と同様にして、第3および第4のチップ単体3,4を
取り合わせて第2のチップ複合体A2を作製する第2の
導電接合工程、図3に示すように、第1および第2のチ
ップ複合体A1,A2を互いに導通させることなく接合
して多層チップAを完成させる単純接合工程、および、
図4に示すように、ワイヤ・ボンディングによって所定
の端子をワイヤ接続するワイヤ・ボンディング工程を具
備して概略構成されている。
【0018】各工程順にしたがって詳細に説明すると、
図1に示す第1の導電接合工程においては、第1のチッ
プ単体1は、その単純接合面を真空吸着コレット6に吸
着された状態で、導電接合面が第2のチップ単体2の導
電接合面に向かい合う姿勢をもって位置合わせされる。
この際、両接合面上の所定のバンプ1a,2aは、互い
に対峙するように位置合わせされる。また、第2のチッ
プ単体2の中央付近には、その中央寄りのバンプ2aを
覆い隠すような状態であらかじめACF7aが仮圧着さ
れている。このACF7aとは、熱硬化性や熱可塑性、
あるいはこれら混合系の樹脂を母材とする接着剤中に金
属粒子を分散混入して薄膜化したものである。さらに、
第2のチップ単体2は、図示しない搬送テーブルなどに
載置された状態とされている。このようにして位置合わ
せされた状態から、第1および第2のチップ単体1,2
は、互いの導電接合面間にACF7aを挟んだ状態で熱
圧着される。これにより、ACF7aを接着媒体として
第1および第2のチップ単体1,2が一体化され、これ
ら第1および第2のチップ単体1,2よりなる積層構造
の第1のチップ複合体A1が作製される。そして、第1
および第2のチップ単体1,2の導電接合面間に挟まれ
た状態のACF7aは、その電気的な特性として、導電
接合面間の厚み方向、つまり両チップ単体1,2のバン
プ1a,2a間にのみ導通性を有し、その導通接合面に
対して水平方向には絶縁性を保つ。これにより、第1お
よび第2のチップ単体1,2は、導電接合面間でバンプ
1a,2aを介して導通接続された状態となっている。
【0019】次に、図2に示す第2の導電接合工程にお
いては、上記第1の導電接合工程と同様にして第2のチ
ップ複合体A2が作製される。すなわち、第3のチップ
単体3は、その単純接合面を真空吸着コレット6に吸着
された状態で、導電接合面が第4のチップ単体4の導電
接合面に向かい合う姿勢をもって位置合わせされる。こ
の際、両接合面上の所定のバンプ3a,4aは、互いに
対峙するように位置合わせされ、第4のチップ単体4の
中央付近には、その中央寄りのバンプ4aを覆い隠すよ
うな状態であらかじめACF7bが仮圧着されている。
このACF7bは、上記第1の導電接合工程において用
いられたACF7aと同様のものである。また、第4の
チップ単体4は、図示しない搬送テーブルなどに載置さ
れた状態とされている。このようにして位置合わせされ
た状態から、第3および第4のチップ単体3,4は、互
いの導電接合面間にACF7bを挟んだ状態で熱圧着さ
れる。これにより、ACF7bを接着媒体として第3お
よび第4のチップ単体3,4が一体化され、これら第3
および第4のチップ単体3,4よりなる積層構造の第2
のチップ複合体A2が作製される。これにより、第3お
よび第4のチップ単体3,4は、導電接合面間でバンプ
3a,4aを介して導通接続された状態となっている。
【0020】このような第1および第2の導電接合工程
を経て作製された第1および第2のチップ複合体A1,
A2については、さらに次の工程である単純接合工程前
に、接続良否の判定検査が個別に行われる。この判定検
査では、従来より周知の接続検査装置を使用して行われ
るため、特に図示しない。この判定検査によりいずれか
のチップ複合体A1,A2が接続不良と判定された場
合、次の単純接合工程に先だって、該当するチップ複合
体A1,A2が廃棄処分されることとなる。これによ
り、導電接合に関与したチップ、たとえば第1のチップ
複合体A1のみが接続不良と判定された場合、第1およ
び第2のチップ単体1,2のみが廃棄されることとな
り、他の第2のチップ複合体A2については、そのまま
次の工程処理へと進められる。
【0021】そうして、接続良否の判定にともに合格し
た第1および第2のチップ複合体A1,A2は、さらに
次の図3に示す単純接合工程へと導かれて互いに接合さ
れる。この単純接合工程においては、第1のチップ複合
体A1は、上部一体となった第1のチップ単体1の単純
接合面を真空吸着コレット6に吸着された状態とされ
る。そして、第1のチップ複合体A1において下部一体
となった第2のチップ単体2の単純接合面が第2のチッ
プ複合体A2に向かい合う姿勢をもって位置合わせされ
る。この際、第1および第2のチップ複合体A1,A2
の単純接合面が互いに対面した姿勢とされるが、両単純
接合面間は導通接続されないことから、上記した導電接
合に比べて位置合わせ精度が高精度に要求されることは
ない。また、第2のチップ複合体A2は、図示しない搬
送テーブルなどに載置された状態とされている。さら
に、第1のチップ複合体A1は、第2のチップ複合体A
2において上部一体となった第3のチップ単体3の単純
接合面に対して位置合わせされることとなる。その後、
位置合わせされた状態から、第1および第2のチップ複
合体A1,A2は、互いの単純接合面間に図示しない非
導電性の接着剤を挟んだ状態で接合される。これによ
り、必要とされるすべてのチップ単体1〜4が多段積層
化され、多層チップAが完成されることとなる。
【0022】最終的に、図4に示すワイヤ・ボンディン
グ工程において、多層チップAは、テープキャリア5上
に搭載接合された状態で、そのテープキャリア5のリー
ド端子5aにワイヤ8を介して導通接続される。すなわ
ち、先の導電接合工程においてその導電接合に関与しな
かったバンプ、図に示す状態では、第4のチップ単体4
の導電接合面において端寄りに形成されたバンプ4aと
リード端子5aとがワイヤ8を介して接続されることと
なる。これにより、第2のチップ複合体A2がワイヤ8
およびリード端子5aを介してチップ外部と導通接続さ
れた状態となる。また、多層チップAにおける第1のチ
ップ複合体A1は、それ自体単独ではチップ外部と導通
接続されないことから、ワイヤ9を介して第2のチップ
複合体A2に導通接続される。すなわち、先の導電接合
工程においてその導電接合に関与しなかったバンプ、図
に示す状態では、第2のチップ単体2の導電接合面にお
いて端寄りに形成されたバンプ2aと、上記第4のチッ
プ単体4のバンプ4aと同様ではあるが、別位置にあっ
て図示されないバンプとがワイヤ9を介して接続されて
いる。これにより、第1のチップ複合体A1は、第2の
チップ複合体A2の内部回路などを介してチップ外部と
導通接続された状態となる。
【0023】次に、上記構成を有する多層チップAの組
み立て方法における要点について、図面を参照しつつ説
明する。
【0024】図1および図2に示すように、多層チップ
Aを完成させるに際し、先に行われる先行工程として、
第1および第2の導電接合工程があり、これらの工程に
よって多層チップAの構成に必要な4個のチップ単体1
〜4のうち、導電接合面を互いに導電接合される第1お
よび第2のチップ単体1,2の組と、第3および第4の
チップ単体3,4の組とが個別に導電接合される。
【0025】そうして、導電接合により得られた第1お
よび第2のチップ複合体A1,A2については、次の図
3に示す単純接合工程前に接続良否の判定を行うことが
できる。このような判定により接続不良と判定された場
合、チップ複合体を構成する複数のチップ単体、たとえ
ば、第1のチップ複合体A1が接続不良とすると、第1
および第2のチップ単体1,2のみが廃棄処分などされ
ることとなる。
【0026】さらに、上記導電接合工程の後、接続良否
の判定に合格した各チップ複合体A1,A2は、互いに
取り合わされて接合される。これにより、必要とされる
4個すべてのチップ単体1〜4が多段積層化され、第1
および第4のチップ単体1〜4の接合による組み立てが
完了することとなる。
【0027】したがって、本実施形態にかかる多層チッ
プAの組み立て方法によれば、導電接合面間を導通接続
とした導電接合工程を行った後、その導電接合により一
体化された第1および第2のチップ複合体A1,A2が
互いに接合されるので、チップ単体1〜4、チップ複合
体A1,A2、および多層チップAといった一連の順に
同種の接合工程が行われることから、多層チップAの組
み立て作業を効率よく進めることができる。
【0028】その上、導電接合工程後、導電接合された
2個のチップ単体からなるチップ複合体A1,A2につ
いて個別に接続良否の判定を行うことができるので、仮
にその時点で接続不良と判定されても導電接合にのみ関
与するチップが不良品として廃棄処分などされることか
ら、多層チップAを構成するチップに無駄が生じること
なく、接続不良により廃棄されるべきチップ単体の個数
を最小限にとどめることができる。
【0029】なお、本実施形態においては、4個のチッ
プ単体1〜4によって多層チップAを構成するとした
が、特に4個に限るものではなく、少なくとも3個以上
のチップ単体によって多層チップを構成するものであれ
ばよい。
【0030】また、単純接合工程においては、上下のチ
ップを導通接続することなく互いに接合させるとした
が、これら上下のチップの基板電位を同一とするとき、
その基板面となる互いの接合面を導通させた状態であっ
てもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明にかかる多層チップの組み立て方法の
一実施形態において、第1の導電接合工程における断面
を示した工程断面図である。
【図2】図1に示す工程に続いて、第2の導電接合工程
における断面を示した工程断面図である。
【図3】図2に示す工程に続いて、単純接続工程におけ
る断面を示した工程断面図である。
【図4】図3に示す工程に続いて、ワイヤ・ボンディン
グ工程における断面を示した工程断面図である。
【符号の説明】
1 第1のチップ単体 2 第2のチップ単体 3 第3のチップ単体 4 第4のチップ単体 1a〜4a バンプ 7a,7b 異方性導電接着フィルム(ACF) 8,9 ワイヤ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のチップ単体を多段積層化した構造
    を有する多層チップの組み立て方法であって、 上記複数のチップ単体のうち、接合面間で導通接続され
    るチップ単体を取り合わせて導電接合する工程を先行工
    程とし、その後、導電接合により一体化された各チップ
    複合体を取り合わせて接合することにより、上記複数の
    チップ単体を多段積層化することを特徴とする、多層チ
    ップの組み立て方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2001035994A (ja) * 1999-07-15 2001-02-09 Toshiba Corp 半導体集積回路装置およびシステム基板
FR2873853A1 (fr) * 2004-07-27 2006-02-03 St Microelectronics Sa Dispositif electronique comprenant plusieurs plaquettes de circuits empilees et procede de realisation d'un tel dispositif
JP2009038266A (ja) * 2007-08-03 2009-02-19 Spansion Llc 半導体装置及びその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001035994A (ja) * 1999-07-15 2001-02-09 Toshiba Corp 半導体集積回路装置およびシステム基板
FR2873853A1 (fr) * 2004-07-27 2006-02-03 St Microelectronics Sa Dispositif electronique comprenant plusieurs plaquettes de circuits empilees et procede de realisation d'un tel dispositif
JP2009038266A (ja) * 2007-08-03 2009-02-19 Spansion Llc 半導体装置及びその製造方法

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