JPH10503798A - 担持されたイオン性触媒組成物 - Google Patents

担持されたイオン性触媒組成物

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、エチレン性及びアセチレン性不飽和モノマーの付加反応に適する触媒組成物であって、金属酸化物支持体を含み、金属酸化物支持体の表面が金属酸化物の酸素原子を介して直接的に活性剤アニオンに共有結合しており、前記活性剤アニオンが触媒的に活性な遷移金属カチオン化合物にもイオン結合している触媒組成物に関する。本発明は、本発明の触媒組成物の製造方法であって、トリスペルフルオロフェニル硼素のようなルイス酸をシリカ支持体の残留シラノール基と反応させること、好ましくはその後ジエチルアニリンのようなルイス塩基と反応させること、そしてそれによって適当な遷移金属化合物と一緒にされたときそれをプロトン化してイオン性触媒系を形成するシリカと結合したアニオン活性剤を調製することによって例示される方法を含む。アルファ−オレフィンを重合するための本発明の触媒の使用が例示される。

Description

【発明の詳細な説明】 担持されたイオン性触媒組成物 技術分野 本発明は、オレフィン性不飽和モノマーの付加反応、例えば重合、に有用な触 媒組成物に関する。本発明は、特に、オレフィン性不飽和モノマーのスラリー又 は気相重合のような担持された化合物を使用する配位重合プロセスにおいて有用 である。本発明の触媒組成物は、メタロセンカチオン触媒、アニオン性活性剤、 及び金属酸化物支持体から成る。 発明の背景 オレフィン性不飽和モノマーの配位重合は公知であり、ポリエチレン、ポリプ ロピレン、及びエチレンプロピレンゴムのようなエラストマー性及び可塑性組成 物の現代社会においける大規模な拡散をもたらした。初期の開発者は、遷移金属 化合物をアルキルアルミニウムのような活性剤と共に使用していたが、後になっ て、嵩高な配位子(例えば、η5−シクロペンタジエニル)含有遷移金属(メタ ロセン)とアルキルアルモキサンのような活性剤が開発された。最近の発展は、 非配位性アニオンによって活性化されたメタロセンカチオンから成るイオン性触 媒の有効性を示している(例えば、欧州特許公開公報第277,004号及び米国特許 第5,198,401号を参照のこと)。これらの引用例は、アニオン先駆体によりメタ ロセン化合物をプロトン化して安定なイオン性触媒を形成することが記載されて いる。 従来技術のイオン性触媒は、モノマー供給物流れ又は重合プロセス中の再循環 液体流れ中に存在する触媒毒に対する重要な感受性を様々な程度で示し、残留水 分又は極性ヒドロキシル基の一方又は両方を一般に有する不活性酸化物支持体と の使用に関する問題点を提示している。従って、金属酸化物支持体中又は上に保 持されている極性基を除去するか又は中和するために、溶液重合に関して、例え ば、アルキルアルミニウム又はアルモキサンのような触媒毒掃去剤化合物を使用 するプロセスが開発された。例えば、第IIIA族金属掃去剤化合物が記載されて いる米国特許第5,153,157号、類似の化合物を使用する担持技術が記載されてい る 国際公開パンフレットWO-A-91/09882、WO-A-94/00500、及びWO-A-94/03506を参 照のこと。米国特許第5,206,197号には、改善されたスチレンの重合が記載され ており、ここでは、イオン触媒系はヒドロカルビル金属を含み、これは担持され てもよい。全ての引用例は、メタロセン化合物、イオン性活性剤、及び有用な掃 去剤化合物(scavenging compounds)を説明するために引用した。 クロム酸塩又は二クロム酸塩構造[−Cr(−O−M−)2又は(−M−O− Cr−)(O)(−Cr−O−M−)]を生成することが示唆されている金属( M)酸化物とクロモセンとの反応に基づく担持触媒も、溶液、スラリー、又は気 相の商業的プロセスによる線状ポリエチレンに対して特に有用なことが判明した 公知の群の担持メタロセン触媒である。例えば、MacDanielの“Supported Chrom ium Catalysts for Ethylene Polymerization”、Advances in Catalysts 1985 、33、47〜97を参照のこと。シリカは、例えば、燐酸アルミニウムよりも活性が 低いのであまり好ましい支持体ではないが、一般にその他の活性剤を必要とせず 、メタロセンの金属中心はオキソ結合(−O−)を介して支持体の金属/メタロ イドに共有結合する。 さらに、米国特許第5,427,991 号とそれに対応する国際公開WO-A-93/11172に は、ポリアニオン性活性剤を調製するような非配位性アニオン活性剤の支持体へ の化学結合が記載されているが、このポリアニオン性活性剤はメタロセン化合物 と共に使用された場合、金属酸化物支持体上に物理的に吸着したイオン性触媒が 溶液又はスラリー重合において使用されたときに経験される触媒の脱着の問題を 防ぐ。支持体は、不活性なモノマー性、オリゴマー性、ポリマー性、又は金属酸 化物支持体から成るコア成分であり、これは化学的に結合された非配位性アニオ ンを組み込むように調製されたものである。金属酸化物からのポリアニオン性活 性剤の調製の開示(Fig.8)はヒドロキシル化されたシリカ表面とシランカップ リング剤との反応をともない、シランカップリング剤の少なくとも幾らかは、リ チエート化(lithiated)して化学的に結合したアリールリチウム基を形成する ことができるハロアリール部分を含む。これらは、その後、嵩高のメタロイド先 駆体であるトリスペルフルオロフェニル硼素(trisperfluorophenylboron)(B (pfp)3)で処理され、ジメチルアニリニウムヒドロクロリド ([DMAH]+[Cl]-)とのイオン交換反応を施され、[DMAH]+(p fp)3B]-の共有結合した活性剤基を有するシリカ表面を生成する。実施例に は、ヒドロカルビル支持体に基づくポリイオン性触媒系を回分式のオートクレー ブ反応器中で使用するポリプロピレンの塊状重合が説明されている。 支持体上でのイオン性触媒系の調製に対する要望と過剰生産、重合装置の表面 の汚れ、及び工業的規模での効率的なポリマーの生産に適さない悪い形状のポリ マー粒子の望ましくない生成に由来する反応器の不安定さをもたらす重合プロセ ス中の問題にさらされない担持触媒を見出だすことに対する要望が存在する。 発明の開示 本発明は、上述の要望及び後述のその他の要望を解決することに関するもので あり、金属酸化物支持体であって、その表面が金属酸化物の酸素原子を介して直 接的に活性剤アニオンに共有結合している金属酸化物支持体を含み、前記活性剤 アニオンが触媒的に活性な遷移金属カチオン化合物にもイオン結合していること を特徴とする遷移金属触媒組成物である。さらに、本発明は、従来的な適する重 合条件下において配位又はカルボカチオン(arbocationic)重合により重合可能 な1種以上のモノマーを本発明の触媒組成物と接触させることを特徴とする重合 方法を包含する。本発明は、本発明の触媒組成物の製造方法であって、典型的に は、ルイス酸嵩高触媒アニオン源を支持体のヒドロキシル基と、好ましくはルイ ス塩基の存在下に、反応させて支持体に結合したアニオン活性剤を調製すること を含み、前記アニオン活性剤は、適する遷移金属化合物と一緒にされたとき、前 記遷移金属化合物をプロトン化し、それによって遷移金属カチオンと支持体に結 合したアニオンを含むイオン性触媒系を形成する方法を含む。 発明の詳細な説明及び実施例 上述の本発明の触媒組成物は、化学式 (1)[LnL′mM′R′]+[LA−O−M″−]- によって一般的に表すことができ、式中、[LnL′mM′R′]+は触媒的に活 性な遷移金属カチオンであり、[LA−O−M″−]-は金属酸化物支持体に結 合した活性剤アニオンである。より詳細に述べると、この式中において、Lnは M′に共有結合した1つ以上の配位子であり(nはd0−1に等しく、ここでd0 はM′ の最も高い酸化状態である)、L′mはM′に対する供与結合(dative bond)を 有する中性の非酸化性配位子であり(典型的にはmは0乃至3である)、M′は 第4、5、6、9、又は10族の遷移金属であり、R′はM′に対してσ結合を有 する配位子であり、これに対して重合可能なモノマー又はマクロモノマーは配位 重合のために入り込むことができる。LAはアニオン性活性剤を形成することが できるルイス酸であり、Oは酸素であり、、そしてM″−は金属酸化物支持体の 金属/メタロイドである。 本発明の金属酸化物支持体は、非晶質シリカについて観察されるpKa以下の pKa、即ち、約11以下のpKaを示す表面ヒドロキシル基を有する金属/メタロ イド酸化物を含む。好ましい方法による本発明の共有結合されたアニオン性活性 剤の形成において、LAは、シラノール基(これはルイス塩基として作用する) との供与錯体を形成でき、それによって金属酸化物支持体の金属/メタロイドに 結合した形式的に二極性の(双性イオン性の)ブレンステッド酸構造を形成でき るように選択される。従って、脱水処理後ヒドロキシル基を保持する従来的に公 知のシリカ支持体物質は本発明において適している。入手の容易さという理由に より、シリカ及びシリカ含有金属酸化物系支持体、例えば、シリカ−アルミナ、 が好ましい。シリカの粒子、ゲル、及びガラスビーズが最も典型的である。 これらの金属酸化物組成物は、さらに、Al、K、Mg、Na、Si、Ti、 及びZrの酸化物のようなその他の金属の酸化物も含むことができ、熱的及び/ 又は化学的手段によって処理して水及び遊離の酸素を除去するのが好ましい。一 般に、そのような処理は、減圧下において、加熱されたオーブン中において、加 熱された流動床中において行われ、或いは有機シラン、シロキサン、アルキルア ルミニウム化合物、その他のような脱水剤によって行われる。処理の程度は、保 持されている水分と酸素はできるだけ多く除去されるが、化学的にかなりの量の ヒドロキシル官能基が保持されるようなものである。800℃まで、或いは支持体 物質の分解温度の手前の温度までの温度で数時間の焼成が可能であり、そして担 持されたアニオン性活性剤のより高い装填量が望ましい場合、より低い焼成温度 とより短い時間が適している。金属酸化物がシリカである場合、0.1 mmol未満か ら3.0 mmolまで活性剤/gSiO2の装填量が一般に適切であり、例えば、焼 成の温度を200から800℃以上まで変化させることによって達成可能である。Zhur alevらのLangmuir 1987、第3巻、316を参照のこと。そこには、焼成の時間及び 温度と様々な表面積のシリカのヒドロキシル含有率との相関関係が説明されてい る。 本発明において結合部位として利用可能なヒドロキシル基の調節は、前処理に よって、LAの添加の前に、理論量未満の化学的脱水剤を使用して行うこともで きる。遷移金属触媒化合物と結合した活性剤との反応への妨害を最小化するため に、使用されるものは控えめに使用されるのが好ましく、そしてシラノール基と 反応性の配位子を1つ有するもの(例えば、(CH34SiCl)であるか、又 はそうでなければ加水分解可能なものであるのが好ましい。400℃より低い焼成 温度が使用された場合、より穏やかな焼成条件下で存在するシラノール基の水素 結合対を覆うために二官能性のカップリング剤(例えば、(CH33SiCl2 )を使用することができる。例えば、“Investigation of Quantitative SiOH D etermination by the Silane Treatment of Disperse Silica”、Gorskiら、Jou rn.of Colloid and Interface Science、第126巻、No.2、1988年12月を参照の こと。これには、本発明の触媒支持体上のシラノール基の改良にも有効であるシ リカポリマー性充填剤用のシランカップリング剤の効果が議論されている。同様 に、遷移金属化合物との反応に必要な理論量よりも過剰な量のLAの使用は、触 媒の調製又はその後の重合にほとんど悪影響を与えずに過剰のシラノール基を中 和するのに役立つ。 本発明のルイス酸(LA)として役立つ活性剤アニオン中性先駆体は、ヒドロ キシル基の酸素原子の利用可能な電子対を受入れ、シラノール基のプロトンによ って、遷移金属化合物又は第2プロトン受容体のプロトン化を促進するための十 分な酸性度の非配位性アニオン先駆体を含む(以下を参照のこと)。本発明のル イス酸(LA)として役立つ好ましい活性剤アニオン中性先駆体は加水分解不可 能な配位子を有する強いルイス酸であり、加水分解不可能な配位子の少なくとも 1つは、ジメチルジルコノセン(ビスシクロペンタジエニルジルコニウムジメチ ル)からアニオン性断片を引き抜くことが知られているルイス酸のような電子引 き抜き性(electron-withdrawing)のもの、例えば、トリスペルフルオロフェニ ル硼素、である。従って、これらの先駆体は金属酸化物のヒドロキシル基(シラ ノール基プロトン)によってプロトン化できる反応性の配位子を有していてはな らない。例えば、アルキル、ハロ、アルコキシ、及び/又はアミド配位子のみを 有する第13族元素に基づくルイス酸であって、水性媒体中で容易に加水分解され るものは適していない。LAの少なくとも1つの配位子は必要な酸性度を達成す るのに十分なほど電子引き抜き性でなければならず、例えば、トリスペルフルオ ロフェニル硼素である。LAの典型的な金属/又はメタロイド中心は、硼素、ア ルミニウム、アンチモン、ヒ素、燐、及びガリウムを含む。最も好ましいLAは 、ルイス酸酸性度がAICl3以上であるような十分な電子引き抜き性を有する 、第13族メタロイド中心と補完する配位子を含む中性化合物である。例には、ト リスペルフルオロフェニル硼素、トリス(3,5-ジ(トリフルオロメチル)フェニ ル)硼素、トリス(ジ-t-ブチルメチルシリル)ペルフルオロフェニル硼素、及 びその他の高度に弗素化されたトリスアリール硼素化合物である。 さらに、触媒的に活性な遷移金属化合物の立体的な制限を有する安定化配位子 (プロトン化又はアルキル化中にプロトン又はアルキル基によって引き抜かれた り置換されたりしないもの)に加えて支持体の表面の立体的制限の存在のために 、本発明の活性剤アニオンは、従来的な溶液イオン反応条件下に遷移金属に配位 することができるが不安定さも保持しているアニオンを含む。「不安定(labile) 」という用語は本技術分野において認識されている用語であり、重合条件下にお いてアニオンが極ゆるくのみ触媒活性部位に配位し、そのためモノマーの付加の 点において重合可能なモノマーによる置換が可能であることを意味する。本発明 の典型的配位性アニオンのルイス酸先駆体の例には、Al(OSi(C653 3又はAl(OSi(O-t-ブチル)33のような嵩高なアルミニウムシロキシ ド のC4以上の炭素数の置換基であるか又は分子量のより大きい枝分かれ脂肪族、 芳香族、脂肪族置換芳香族、その他である。 触媒的に活性な遷移金属化合物は全て本発明に従って適しており、従来的チー グラー−ナッタ配位重合において有用な公知の遷移金属化合物、並びに配位重合 において有用であることが同様に知られているメタロセン化合物が含まれ、その ような化合物は支持体に結合したアニオン性活性剤によって触媒的に活性になる ことができる。これらは一般に金属がd0酸化状態、即ち、金属が最も高い酸化 数を有し、少なくとも1つの金属配位子を支持体に結合したアニオン性活性剤に よってプロトン化することができ、特に、そのような配位子がヒドリド、アルキ ル、及びシリルを含む、遷移金属化合物を含む。プロトン化可能な配位子及びそ れらを含む遷移金属化合物には、従来技術に開示されているものが含まれ、例え ば、欧州特許公開公報第277,003号、欧州特許公開公報第277,004号、及び米国特 許第5,198,401号を参照のこと。これらの化合物の合成は公開されている文献か ら公知である。さらに、金属配位子が標準条件下でプロトン化できないハロゲン 部分を含む場合(例えば、ビス−シクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド )、それらは、水素化又はアルキル化リチウム又はアルミニウム、アルキルアル モキサン、グリニャール試薬、その他のような有機金属化合物を使用する公知の アルキル化反応によって転化することができる。活性化アニオン化合物の添加の 前の有機アルミニウム化合物とジハロー置換メタロセン化合物の反応については 欧州特許公開公報第0 570 982 号を参照のこと。 プロトン化を経由して引き抜きが可能であり遷移金属カチオンを形成すること ができる少なくとも1つの配位子を含むか又はアルキル化して含むようにするこ とができるメタロセン化合物の追加の説明は、特許文献中、例えば、欧州特許公 開公報第0 129 368号、米国特許第4,871,705号、第4,937,299号、第5,324,800号 、欧州特許公開公報第0 418 044号、欧州特許公開公報第0 591 756号、国際公開 パンフレットWO-A-92/00333及びWO-A-94/01471に見られる。そのようなメタロセ ン化合物は、本発明において、モノ、ビス、又はトリスシクロペンタジエニル置 換第4、5、6、9、又は10族遷移金属化合物と呼ぶことができ、ここでシクロ ペンタジエニル置換基はそれ自身が1つ以上の基で置換されていてもよく、それ ら同志が架橋されていてもよく、或いはヘテロ原子を通して遷移金属と架橋して もよい。シクロペンタジエニル置換基と架橋要素の大きさと構成は本発明のイオ ン性触媒系の製造において重要ではないが、所望の重合活性及びポリマー特性を 改善するために文献に記載されている方法で選択されなければならない。シクロ ペ ンタジエニル(又はインデニル又は置換されたインデニルのような置換されたシ クロペンタジエニル)環は、お互いに架橋された場合、2位において低級アルキ ル置換(C1〜C6)されているのが好ましく、そしてさらにアルキル、シクロア ルキル、アリール、アルキルアリール、及び/又はアリールアルキル置換基を含 むのが好ましく、後者は、例えば、米国特許第5,278,264号及び第5,304,614号の ものような多環構造を含む融合環又はペンダント(pendant)環構造でもよい。そ のような置換基はそれぞれ本質的にヒドロカルビル特性を有し、一般に30個まで の炭素原子を含むが、1〜3個の非水素非炭素原子、例えば、N、S、O、P、 及びSiを含むヘテロ原子でもよい。 線状のポリエチレン又はエチレン含有コポリマー(ここで、コポリマーは少な くとも2種類の異なるモノマーを含むことを意味する)の製造に適するメタロセ ン化合物は、本質的に、本技術分野で公知のもののいずれでもよく、例えば、こ こでも欧州特許公開公報第0 277 004号、国際公開パンフレットWO-A-92/00333、 及び米国特許第5,198,401号、第5,001,205号、第5,324,800号、第5,308,816号、 及び第5,304,614号を参照のこと。アイソタクチック又はシンジオタクチックポ リプロピレンを製造するために使用されるメタロセン化合物の選択及びそれらの 合成は本技術分野において公知であり、特許文献及び学術文献中に記載されてお り、例えば、Journal of Organmetallic Chemistry 369,359-370(1989)を参 照のこと。典型的には、これらの触媒は、立体的に堅く(stereorigid)非対称的 で、キラル(chiral)であるか、又は架橋したキラルなメタロセンである。例えば 、米国特許第4,892,851号、第5,017,714号、第5,296,434号、第5,278,264号、PC T/US92/10066、WO-A-93/19103、欧州特許公開公報第0 577 581号、欧州特許公開 公報第0 578 838号、及び学術文献である“The Influence of Aromatic Substit uents on the Polymerization Behavior of Bridged Zirconocene Catalysts”S paleck,Wら、Organometallics 1994、13、954-963 及び“ansa-Zirconocene Po lymerization Catalysts with Annelated Ring Ligands-Effects on Catalytic Activity and Polymer Chain Lengths”Brinzinger,Hら、Organometallics 199 4、13、964-970、及びそれらに引用されている文献を参照のこと。上述の多くの 文献がアルモキサン活性剤による触媒系に関するもの であるが、類似のメタロセン化合物が活性な配位触媒系に関して本発明の担持さ れた活性剤アニオンにより有用であり、その場合金属のハロゲン含有配位子の少 なくとも1つは(発生する場合)例えば上述のアルキル化反応を経由してプロト ン化可能な配位子で置換され、もう1つはその中にエチレン基−C=C−が入り 込むことができる基であり、例えば、ヒドリド、アルキル、或いは有効性は劣る がシリルである。 代表的なメタロセン化合物には、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニウ ムイソプロポキシド、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリベンジルチタニウ ム、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル-t-ブチルアミドチタニ ウムジクロリド、ペタメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリメチル、ジメ チルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル-t-ブチルアミドジルコニウムジ メチル、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル−ドデシルアミドハ フニウムジヒドリド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル−ドデ シルアミドハフニウムジメチルのようなモノシクロペンタジエニル化合物、ビス (1,3-ブチルメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ペンタメチ ルシクロペンタジエニル−シクロペンタジエニルジルコニウムジメチルのような 未架橋のビスシクロペンタジエニル化合物;ジメチルシリルビス(テトラヒドロ インデニル)ジルコニウムジクロリドのような架橋したビスシクロペンタジエニ ル化合物;ジメチルシリルビスインデニルジルコニウムジクロリド、ジメチルシ リルビスインデニルハフニウムジメチル、ジメチルシリルビス(2-メチルベンズ インデニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビス(2-メチルベンズイ ンデニル)ジルコニウムジメチルのような架橋したビスインデニル化合物;及び 米国特許第5,324,800号及び欧州特許公開公報第0 591 756号に記載されているも ののようなその他のモノ、ビス、及びトリスシクロペンタジエニル化合物が含ま れるがこれらに限定されるものではない。 代表的な従来的チーグラー−ナッタ遷移金属化合物には、テトラベンジルジル コニウム、テトラビス(トリメチルシリルメチル)ジルコニウム、オキソトリス (トリメチルシリルメチル)バナジウム、テトラベンジルハフニウム、テトラベ ンジルチタニウム、ビス(ヘキサメチルジシラジド)ジメチルチタニウム、トリ ス(トリメチルシリルメチル)ニオブジクロリド、トリス(トリメチルシリルメ チル)タンタルジクロリドが含まれる。配位重合に関してそのような組成物の重 要な特徴は、プロトン化により引き抜き可能な配位子とエチレン(オレフィン性 )基を中に挿入させることができる配位子である。これらの特徴は遷移金属化合 物のプロトン化とそれに付随する本発明のイオン性触媒組成物の形成を可能にす る。 本発明の担持イオン性触媒組成物は、例えば、ルイス酸−塩基錯体を形成する ルイス酸として、ルイス酸−塩基ヒドロキシル基錯体からのプロトンによる遷移 金属化合物のプロトン化時に、適切な対アニオンとして作用することができるも のを選択することによって調製することができる。この反応順序は以下の化学反 応式 によって表すことができ、式中、Ln、L′m、M′、R′、LA、O、及びM″ は上記の式(1)に関して定義した通りであり、Hは水素であり、そしてRはプロ トン化によって引き抜き可能な配位子である。この反応は一般に環境温度及び圧 力においてヒドロカルビル溶液(ヘプタン、トルエン、その他)中で行われ、担 持触媒は、例えば、濾過によって分離することができる。 製造方法の好ましい実施態様は、第2のプロトン受容体(LB)をさらに添加 して式(2)及び(3)の反応を促進することである。この反応は以下の化学反応式 によって表すことができ、式中、全ての記号は上で定義した通りである。反応は 本質的に上述したように行うことができる。LBは、式(3a)に示されているよう に、担持されたアニオン性活性剤[LA−O−M″−]-とアンモニウム塩を形 成するジエチルアニリンのようなブレンステッド酸である。LBのその他の例に は、ジメチルアニリン、ジフェニルメチルアミン、トリブチルアミン、ジフェニ ルメチルアミン、トリフェニルホスフィン、及びトリメチルホスフィットが含ま れる。 反応(3a)の生成物は明らかに共有結合しており、従って、WO 91/09882に記載 されているもののような物理的に担持された(即ち、吸着された)イオン性種と は組成において明確に相違する。これは、個々の成分LA及びLBを除去するた めに溶媒で数回洗浄した後でさえ活性な触媒が得られるという観察によって強く 示唆され、固体状態NMRの結果によって明確に示される。より詳細には、反応 (3a)及び(4)の生成物中の好ましい結合構造の存在及び反応(4)の生成物と物理的 に吸着した種(上述したもの)との構造的な差異は、固体マジック・アングル・ スピニング(solid state Magic Angle Spinning)11B NMR分光分析によって 示された。後述の比較例22を参照のこと。 本発明の触媒の11Bスペクトルは -6.6 ppmおける単一のピークから成ったが 、WO 91/09882 の実施例14の教示に従って製造された触媒の11Bスペクトルは - 17 ppmおける単一のピークによって特徴付けられた。11Bの化学シフトにおける 相違は、支持体に対する共有結合を含むイオン性種と本技術分野で公知の原理に 従う物理的に担持されたイオン性種との相違と一致しており、Kidds、R.G.in NM R of Newly Accessible Nuclei; Laszlo,P.,編; アカデミック・プレス(Acade mic Press):ニューヨーク、1983;第2巻、49〜77頁によって説明される。従っ て、本願の教示に従って製造された本発明の触媒種は、WO 91/09882 に開示され ている触媒とは異なる。 触媒の発明が活性な触媒をもたらす場合には幾つかの制約がLBについて設け られなければならない。(a)式(3a)に示されているようにプロトンを引き抜くた めにLBは十分に強いブレンステッド塩基でなければならない。(b)LBは、そ の共役酸が本発明の遷移金属化合物をプロトン化できないほど強いブレンステッ ド塩基であってはならない。即ち、そのpKbH+はRHのものより小さいもの でなければならない。(c)[LA−O−M″−]-[LB−H]+錯体は速度論的 に接近可能なプロトンを有していなければならない。(d)LBは、カチオン性金 属中心における空配位部位に対して重合可能なモノマーと競合しないように、十 分に弱いルイス塩基でなければならない(及び/又は十分な立体的嵩高さを有し ていなければならない)。条件(a)はある程度LAのルイス酸性度に依存するこ とは注意されなければならない。なぜならば、これは(LA)(H−O−M″− )のブレンステッド酸性度を決定するからである。活性な触媒をもたらさない潜 在的なLBの例は、ペルフルオロ(トリブチル)アミン(十分に強いブレンステ ッド塩基ではない)、「プロトンスポンジ(proton sponge)」1,9-N,N,N,N-テト ラメチル-1,8-ナフタレンジアミン(プロトン化形態がLnL′mM′R′Rと反 応しない)、及びキノリン(金属中心M′に配位する強いルイス塩基である)。 これらの調製方法は多数の反応生成物をもたらす。LAのLBをともなう反応 は、高収率(>95%)の中間反応生成物をもたらし、この中間反応生成物は、金 属酸化物支持体に共有結合した活性剤アニオン先駆体種の本質的に全てを有する 不動化された活性剤先駆体組成物である。上述のメタロセン化合物のいずれかと のその後の反応は同様なパーセンテージの不動化された遷移金属触媒組成物をも たらす。そのような純度を確保するために、各々の反応後の十分な洗浄が、好ま しい結合構造を形成するように反応しなかったLA、LB、又は遷移金属組成物 を除去するのに適切であることは当業者には明らかである。 各々の反応を改善するか又は促進するために、RHが反応溶媒から容易に分離 できる気体になるようにRを選択することができる。従って、Rが−H又は−C H3である場合、いずれの製造方法においても、それぞれ水素又はメタンガスを もたらす。 本発明の触媒は、配位重合条件下で重合可能なことが従来的に知られている不 飽和モノマーの配位重合において有用である。そのような条件も公知であり、溶 液重合、スラリー重合、及び低圧気相重合を含む。本発明の担持触媒は、従って 、単独、連続、又は並列式の反応器中で行われる、固定床、移動床、流動床、又 はスラリープロセスを使用する公知の操作態様において有用である。 ホモポリマー及びその他のアルファ−オレフィンモノマー、アルファ−オレフ ィン性及び/又は非共役ジオレフィン、例えば、C3〜C20オレフィン又はジオ レフィンとのコポリマーを含む、高分子量及び超高分子量の、線状ポリエチレ ンが、低圧(一般に50バール未満)及び20〜250℃の典型的温度の反応容器に、 エチレン、及び所望によりその他のモノマーを、ヘプタン又はトルエンの溶媒で スラリー化された本発明の触媒と共に添加することによって製造される。重合熱 は一般的に冷却によって除去される。ポリマーは、反応希釈剤中に通常は不溶性 の粒子として形成する。重合の停止は、一般に、末端オレフィン性不飽和をもた らすベータヒドリド停止によってか、又は連鎖末端飽和をもたらす水素又はアル キルアルミニウムのような連鎖移動剤の添加によって行われる。ポリマーは、即 ち、スラリー反応に関しては、濾過又は遠心分離され、洗浄され、そして乾燥さ れる。上述したように、連鎖末端の不飽和が保持されなければならない場合、連 鎖移動剤は避けなければならない。気相重合は、例えば、2000〜3000 kPa及び60 〜160℃で運転される連続式流動床気相反応器中において、反応改良剤としての 水素(100〜200 ppm)、C4〜C8コモノマー供給物流れ(0.5〜1.2モル%)、及 びC2供給物流れ(25〜35モル%)を使用して行うことができる。米国特許第4,5 43,399号、第4,588,790号、第5,028,670号及び1993年4月26日に出願された米国 特許出願番号08/053,067を参照のこと。 ポリプロピレンは、上述の線状ポリエチレンについて記載したのと本質的に同 様に製造することができる。反応希釈剤は液体のプロピレンモノマーから成るこ とが多く、その中に担持イオン性触媒がスラリー化される。ポリエチレン又はポ リプロピレンコポリマーを製造する場合、その他のモノマー、典型的には低級ア ルファ−オレフィン(例えば、C2〜C10)及び/又は非共役ジオレフィンを反 応希釈剤又は溶媒中に導入することができる。線状ポリエチレン、ポリプロピレ ン、及びポリオレフィンポリマーの全てについての重合反応は、適切な反応器、 例えば、回分式、連続流れ、並列、又は直列反応器中において行うことができる 。 高分子量及び低結晶性のエチレン−α−オレフィン(−ジオレフィン)エラス トマーは、本発明の触媒を使用して、α−オレフィン又はα−オレフィンとその 他のモノマー(重合可能であるか又は不可能なもの)の混合物を本発明の触媒が 懸濁される重合希釈剤として含むスラリー中にエチレンガスを導入することによ って製造することができる。典型的なエチレン圧力は10乃至1000 psig(69〜 6895 kPa)であり、重合希釈剤温度は一般に−10乃至100℃である。このプロセス は、単一の撹拌タンク反応器、又は直列又は並列で運転される1つより多くの反 応器中で行うことができる。脱灰は本技術分野で公知の方法に従って行うことが でき、或いはそれを省きたい場合、1つ以上の固定床又は充填塔反応器(後で説 明する)を使用するプロセスを使用することができる。一般的なプロセス条件と 好ましい遷移金属化合物の選択(遷移金属上にハリド配位子を有する場合、本発 明のイオン性触媒として使用するためには上述したようにアルキル化しなければ ならない)については、米国特許第5,001,205号を参照のこと。 本発明の担持触媒の予備重合(pre-polymerization)を使用して、従来的教示に 従う典型的スラリー又は気相反応プロセスにおいてポリマー粒子の形態をさらに 制御することができる。例えば、これは、C2〜C6アルファ−オレフィンを限ら れた期間予備重合させることによって行うことができ、例えば、エチレンを担持 触媒と−15乃至30℃の温度及び約250 psig(1724 kPa)までのエチレン圧力にお いて75分間接触させて、支持体上に30,000〜150,000の分子量のポリエチレンか ら成るポリマー性コーティングを形成させる。予備重合した触媒をその後上述の 重合プロセスにおいて使用することができる。同様に、予め重合された熱可塑性 ポリマーで被覆された支持体上の活性化触媒をこれらの重合プロセスにおいて使 用することができる。 さらに、供給物流れ、溶媒、又は希釈剤を経由して導入される可能性のある重 合毒の作用を、それらの毒を除去するか又は中和することによって防ぐのが好ま しい。例えば、モノマー供給物流れ又は反応希釈剤を、適切な掃去剤で、前処理 するか又は重合中に現場で処理することができる。一般に、これは、上述の米国 特許第5,153,157号、及びWO-A-91/09882及びWO-A-94/03506の第13族有機金属化 合物を使用するプロセス、及びWO-A-93/14132 のもののような、プロセスにおい て使用される有機金属化合物である。末端不飽和を保持することが望ましい場合 には、重合反応中は掃去剤の量は最小であるか又は全く存在しないのが好ましい 。なぜならば、掃去剤は末端を飽和させる連鎖移動剤として作用するからである 。 上述の特定のモノマーの他にその他のオレフィン性不飽和モノマーも、本発明 の触媒を使用して、配位重合又はカルボカチオン重合によって重合することがで き、例えば、スチレン、アルキル置換スチレン、エチリデンノルボルネン、ノル ボナジエン、ジシクロペンタジエン、シクロペン、及びその他のアルファオレフ ィン性不飽和及び張力のかかった立体構造の環式オレフィン、イソブチレン、イ ソプレン、ブタジエン、ビニルエーテル、ビニルカルバゾール、その他である。 さらに、本発明の触媒的に活性な遷移金属系触媒は高級アルファ−オレフィンを 組み込む能力を有しているので、100マー(mer)単位まで或いはそれ以上のアルフ ァ−オレフィンマクロモノマーを共重合によって組み入れることもできる。得ら れるポリマーはホモポリマー又は1種より多くのモノマーを含むコポリマーであ り、本技術分野の従来的な知識に従うメタロセンカチオン先駆体とモノマーの選 択によりどのような認識されているタクチシティーの形態にも成り得る。例えば 、非配位性の共存可能なアニオンによって活性化された単独のη5−シクロペン タジエニルメタロセン化合物によるシンジオタクチックビニル芳香族ポリマーの 製造に関する米国特許第5,066,741号及び第5,206,197号;立体的堅いメタロセン と非配位性アニオンを使用する低温条件下でのアイソタクチック及びシンジオタ クチックポリプロピレンの製造に関する米国特許第5,278,256号及び第5,304,523 号;及び触媒として特定のメタロセン化合物を使用する環式オレフィン含有コポ リマーの製造に関する米国特許第5,324,801号を参照のこと。これら触媒の各々 は本発明に従って活性化できる。 本発明の重要な産業的貢献は上述の特定の構造に由来する。隣接する金属酸化 物分子の間の配置によりヒドロキシル基は金属酸化物表面上に均一に固定される ので、触媒も同様にその表面上に均一に分配される。従って、重合は全ての表面 (外部及び細孔内部)において比較的均一に起こり、過剰な重合が局所的な過熱 を生じさせる「ホットスポット」に関連する潜在的な問題も防ぐことができる。 ホットスポットを生じさせる早期触媒破砕も防ぐことができ、高活性触媒におい て従来的に経験された微粉の形成及び支持体上への触媒の不均一な吸着も最小化 される。さらに、溶媒、希釈剤、又はモノマーの流体流れによる脱着がほとんど 防がれるので、重合が支持体上で維持され、汚れや及び清掃のための停止時間を もたらす可能性のある反応器の壁やパイプその他への移動が起こらない。この固 定された支持体系は、また、金属酸化物固定床装置を使用して、残留触媒、即ち 、灰分を本質的に含まない炭化水素可溶性ポリマーの簡単な製造を可能にする。 なぜならば、モノマーを供給してポリマを溶媒中に取り出すことができるが、固 定床から触媒が移動して溶媒中に触媒が入り込むことがほとんどないからである 。 本発明の触媒系によって製造されたアルファ−オレフィン系ポリマーは、分子 量、コモノマーが含まれる場合にはコモノマーの組み込みの水準、及び多分散性 (MWD)に従って、それらの従来的で公知の用途において有用性を有する。従 って、溶融加工及びその後の押出し、及び/又は熱成形の公知の方法のいずれか によるフィルム、繊維、及び成形可能な熱可塑性プラスチックは典型的な用途で ある。そのような用途においては、従来的に知られている加工助剤、安定剤、顔 料、充填剤のような添加剤の配合も利用できる。一軸又は二軸に延伸されたフィ ルム及び炭化水素粘着付与剤樹脂のようなその他の成分で改質されたものを含む 、高密度ポリエチレン及びアイソタクチックポリプロピレンフィルムが具体的な 例である。 さらに、多量又は少量のその他の熱可塑性成分の配合は、様々なポリマーブレ ンド及び組成物に関して知られているように有用である。従って、極性のエンジ ニアリング樹脂の耐衝撃性を改善するため、又は同時加硫可能な(co-vulcanizab le)エラストマーブレンド(典型的には、ジオレフィンモノマーを含む場合及び /又は極性モノマーのラジカルグラフト化によってさらに誘導された場合)本発 明のエラストマー性ポリオレフィンの使用は適切である。好ましい誘導体化方法 については、WO-A-93/12148と対応する米国特許第5,424,367号を参照のこと。 ビニリデン末端不飽和を有する低分子量アルファ−オレフィンコポリマーが本 発明の担持触媒を使用して製造された場合、潤滑油添加剤組成物を有利に製造す ることができる。例えば、低分子量のエチレン−プロピレン又はエチレン−ブテ ンコポリマーを、150乃至180℃の典型的温度及び10乃至20バールの圧力でスラリ ー配位重合条件下に製造する事ができる。典型的には、プロピレン及び/又は1- ブテンから成るか又は(例えば、プロパン又はブタン中に)それらを含む液体 流れにエチレンガスを注入する。この流れは、エチレンの添加の前か又は後に、 沸点近くまで過熱され、その後担持触媒を含む固定床又は充填塔反応器に導入さ れる。触媒は、遷移金属反応性の重合のメタセシスヒドリド化に対する比が低い ように選択されたものである。例えば、担持触媒は後述の実施例5に従って製造 できるが、この場合は1,1-ジメチルシリル架橋ビス(4,5,6,7-テトラヒドロイン デニル)ジルコニウムジメチルが遷移金属化合物として使用される。低い分子量 (10,000未満の数平均分子量(Mn))及び末端ビニリデン不飽和を有するエチ レン−プロピレン又はエチレン−ブテンコポリマーを含む流出液流れは、窒素パ ージによって溶媒を除去することができる。 得られるコポリマーは、220℃の温度まで加熱された撹拌タンク中において、 例えば、微粉砕された無水マレイン酸を使用する溶融処理により誘導体化するこ とができる。停止は60℃まで冷却することによって行うことができる。得られる 液体生成物から未反応の無水マレイン酸を除去する。反応生成物の後反応として のイミド化は、上述の反応生成物とテトラエチレンペンタミンのようなポリアミ ンの鉱油溶液中で行うことができる。得られる窒素含有、低分子量、油溶性反応 生成物は、潤滑油組成物中において、分散剤として適している。低分子量アルフ ァ−オレフィンポリマー及び適切な触媒に関するさらに詳細な情報については、 出願中の米国特許出願番号07/992,192及び07/992,690(1992年12月17日出願)及 びそこで言及されている文献を参照のこと。 同様な方法で、しかしながらより高分子量(10,000<Mn<300,000)のアル ファ−オレフィン/ジオレフィンコポリマーであって、油溶性であるほど十分に 低い結晶度(例えば、40%未満の結晶度)を有するコポリマーを製造するのに適 する触媒を使用して、多機能性粘度調整潤滑油添加剤を製造することができる。 米国特許第4,749,505号、第4,772,406号、及びWO-A-93/12148中の潤滑油改良剤 と潤滑油組成物に関する記載を参照のこと。適する遷移金属触媒は、後述の実施 例1に従って担持された、ビス(シクロペンタジエニル)ハフニウムジメチル、 ビス(テトラヒドロインデニル)ハフニウムジメチル、エチレン−ビス(テトラ ヒドロインデニル)ハフニウムジメチル、及びジメチルシラニレン−ビス(テト ラヒドロインデニル)ハフニウムジメチル、ビス(テトラヒドロインデニル)ジ ルコニウムジメチル、エチレン−ビス(テトラヒドロインデニル)ジルコニウム ジメチル、及びジメチルシラニレン−ビス(テトラヒドロインデニル)ジルコニ ウムジメチルの1種以上によって例示される。上述の米国特許第5,001,205号及 び第5,198,401号を参照のこと。 本発明の担持イオン性触媒組成物は上述したように個別に配位重合又はカルボ カチオン重合に使用でき、或いは混合してポリマーブレンドを製造することがで きる。モノマーの選択によって、配位ポリマーのブレンド及びカルボカチオンポ リマーのブレンド、又は両者が、個々の触媒組成物を使用する重合条件に類似の 重合条件下において製造できる。改善された加工性のための広げられたMWDを 有するポリマー及び混合触媒系を使用して製造されたポリマーから得られるその 他の従来的な利点がこのようにして達成できる。 遷移金属化合物の添加の前に本発明の中間体種を形成するシリカ担持されたア ニオン性活性剤をさらに使用してその他の公知の別個の触媒カチオンの触媒特性 を改良することができる。例には、ロジウムのような第9族金属に基づく水素化 触媒、例えば、[Rh(ジエン)(PPh32+及び[Rh(ジフォス)]+; ニッケルに基づくもののようなオレフィン二量体化触媒、例えば、[Ni(L)4 H]+;ロジウムメタロセンに基づくもののようなメタクリレート二量体化触媒 、例えば、[CpRh(L)(アルキル)]+;及びコバルトメタロセンのよう な最近の遷移金属オレフィン重合触媒、例えば、[CpCo(L)(アルキル) ]+が含まれる。上述の式においては、標準的な化学記号が特定の置換基を表す 略号と共に使用されている。Phはフェニルであり、Lは共有基であり、そして Cpはシクロペンタジエニルである。好ましい使用方法は、ルイス酸(LA)を 不動化されたシリカを有する固定床又はイオン交換塔と反応させること、及びそ の後不動化された反応生成物とのイオン交換反応用の溶液中の別個の触媒カチオ ンの塩の導入をともなう。固定床又はイオン交換塔は、その後、行われる反応に 適する反応媒体中のモノマー反応体の導入に利用可能である。例えば、“Compar ison of Migratory Aptitudes of Hydrides and Alkyl Groups in β-Migration Insertion Reactions of Cp*(P(OMe)3Rh(C24)R+(R=−H ,−CH2CH3)”、M.Brookhart及びD.M.Lincoln、J .Am. Chem .Soc, 110,8719-8720(1988)を参照のこと。 以下の実施例を上述の説明を例示するために示す。実施例4、6、8、13、15 、及び16(重合)の結果は、同一の試験を3回行った平均である。全ての部数、 比率、及びパーセンテージは特に指示しない限り重量によるものである。実施例 は本発明の特定の実施態様に関するものであるが、それらは本発明をいかなる意 味においても限定するものではない。これらの実施例においては記載を容易にす るために特定の略号が使用されている。Me=メチル、Et=エチル、Bu=ブ チル、Ph=フェニル、Cp=シクロペンタジエニル、Cp*=ペンタメチルシ クロペンタジエニル、Ind=インデニル、Ti=チタニウム、Hf=ハフニウ ム、Zr=ジルコニウム、及びSi=珪素。「800℃で焼成されたダビソン(Davi son)948」は、グレース・ダビソン・インク(Grace Davison,Inc.)の市販のシリ カ支持体生成物を意味し、乾燥N2流れ中800℃で8〜24時間焼成して、0.2〜0.5 ミリモル(mmol)/gシリカのヒドロキシル含有率にしたものである。実施例1 −触媒Aの調製 磁気撹拌機で撹拌されている500 mlの丸底フラスコ中窒素雰囲気下の25℃の乾 燥トルエン150 ml中において、2.002gのシリカ(800℃で焼成された、ダビソン 948)をスラリー化し、その後0.513gのトリスペルフルオロフェニル硼素(LA )を(固体のまま)少量ずつ添加した。反応体を30分間撹拌し、その後担持され た活性剤を真空濾過によって単離し、50 mlの乾燥トルエンで3回洗浄し減圧下 に短時間乾燥した。担持された活性剤をその後トルエン(150 ml)中で再びスラ リー化し、そして0.323gのシクロペンタジエニル(ペンタメチルシクロペンタ ジエニル)ジルコニウムジメチルを固体として添加して無色のスラリーを得た。 スラリー化を30分間続け、その後担持された触媒を濾過によって単離し、50 ml のトルエンで3回洗浄した。触媒をその後減圧下に一晩乾燥し、1.89gの最終の 触媒を得たが、最終触媒1g当たり0.53ミリモルの遷移金属装填量であった。実施例2 −スラリー相エチレン重合 機械式撹拌機、温度制御用の外部水ジャケット、隔壁入口、及び乾燥窒素とエ チレン用の制御供給装置を備えた1リットルのオートクレーブ反応器中において 重合をスラリー相で行う。反応器を乾燥し、115℃で徹底的に脱ガスする。ヘキ サン(400 cc)を希釈剤として添加し、気密シリンジを使用して、ヘプタン中25 重量%のトリエチルアルミニウムの溶液0.2 ccを掃去剤として添加する。反応器 に60℃で75 psig(5.17バール)のエチレンを充填する。10 ccのステンレス鋼製 ボンベに0.2gの触媒Aを入れ、すえ込み取り付け金具で反応器に固定する。触 媒をその後反応器に導入する。60℃と一定のエチレン流れにより75 psig(5.17 バール)に反応容器を維持しながら、重合を30分間続ける。急速な冷却と排気に よって反応を停止する。その後ポリマーを回収する。比重合活性(specific poly merization activity)を実施例4と同様に計算する。実施例3 −触媒Bの調製 磁気撹拌機で撹拌されている1リットルの丸底フラスコ中窒素雰囲気下の25℃ の乾燥トルエン350 ml中において、50.0gのシリカ(800℃で焼成された、ダビ ソン 948)をスラリー化し、その後0.90 mlのジエチルアニリン(LB)をシリ ンジにより添加した。撹拌を5分間続け、2.8gのトリスペルフルオロフェニル 硼素(LA)を(固体のまま)少量ずつ添加した。反応体を30分間撹拌し、その 後担持された活性剤を真空濾過によって単離し、100 mlの乾燥トルエンで3回洗 浄した。担持された活性剤をその後トルエン(350 ml)中で再びスラリー化し、 そして2.38gのシクロペンタジエニル(1,3-ブチルメチルシクロペンタジエニル )ジルコニウムジメチルをトルエン溶液(約10 mlのトルエン)として添加した 。添加30秒以内に気体の発生が観察され、反応混合物は明るい黄色になった。撹 拌を45分間続け、その後担持された触媒を濾過によって単離し、100 mlのトルエ ンで3回洗浄した。触媒をその後減圧下に一晩乾燥し、54.3gの最終の触媒を得 たが、最終触媒1g当たり0.11ミリモルの遷移金属装填量であった。実施例4 −スラリー相エチレン−ヘキセン重合 機械式撹拌機、温度制御用の外部水ジャケット、隔壁入口、及び乾燥窒素とエ チレン用の制御供給装置を備えた1リットルのオートクレーブ反応器中において 重合をスラリー相で行った。反応器を乾燥し、115℃で徹底的に脱ガスした。ヘ キサン(400 cc)を希釈剤として添加し、気密シリンジを使用して、ヘプタン中 25重量%のトリエチルアルミニウムの溶液0.2 ccを掃去剤として添加し、50 ml のヘキセンをカニューレ(cannula)を経由して添加した。反応器を60℃で75 psig(5.17バール)のエチレンで充填した。10 ccのステンレス鋼製ボンベに0.2 gの触媒Bを入れ、すえ込み取り付け金具で反応器に固定した。触媒をその後反 応器に導入した。60℃と一定のエチレン流れにより75psig(5.17バール)に反応 容器を維持しながら、重合を30分間続けた。急速な冷却と排気によって反応を停 止させた。17.0gのエチレン−ヘキセンコポリマーが回収された。このポリエチ レンは、131,500の重量平均分子量、53,000の数平均分子量、2.5の分子量分布を 有しており、7.5重量%のヘキセンを含んでいた。比重合活性(specific polymer ization activity)は、ポリマーの収量を、触媒に含まれている遷移金属の総重 量、時間単位の時間、及び気圧単位の絶対モノマー圧力で割ることによって得た 。実施例4については、比活性は以下のように計算される。 この例は、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)を製造するための1-ヘキセ ンの組み込みを示している。実施例5 −触媒Cの調製 0.640gのトリスペルフルオロフェニル硼素を8.0 mlのトルエンに溶解し、撹 拌しながら0.20 mlのジエチルアニリンを添加して、ピンクの溶液を得た。磁気 撹拌機で撹拌されている100 mlの丸底フラスコ中窒素雰囲気下の25℃の乾燥トル エン30 ml中の1.00gのシリカ(180℃で減圧下16時間焼成された、ダビソン948 )のスラリーに、この溶液を、ピンクの色が明らかに持続するようになるまで、 滴下して加えた(6.0ml)。この溶液を濾過して、ピンク色の濾液と白色の固体 (担持された活性剤)を得た。担持された活性剤をその後トルエン(10ml)中で 再びスラリー化し、そして0.236gのジメチルジルコノセンを固体として添加し た。気体の発生が観察され、反応混合物は黄色になった。15分間の撹拌の後、担 持された触媒を濾過によって単離し、5 mlのトルエンで3回洗浄した。 触媒をその後減圧下に1時間乾燥し、1.25gの最終の触媒を得たが、最終触媒1 g当たり0.76ミリモルの遷移金属装填量であった。 この例は、高いヒドロキシル濃度のシリカを活性な重合触媒の製造に使用でき たことを示し、また、装填量を最適化するために、ヒドロキシル基が(ピンク色 の)ルイス酸塩基錯体PhEt2N:B(C653で滴定される別の調製方法を 示している。実施例6 −触媒Cを使用するスラリー相エチレン重合 重合を実施例2に従って行った。重合データを第1表にまとめる。この例は、 本発明の触媒による高密度ポリエチレン(HDPE)の製造を示している。実施例7 −触媒Dの調製 この触媒は実施例3の方法に従って製造したが、但し、(1,3-BuMeCp)2 ZrMe2の代わりにMe2Si(Ind)2HfMe2を使用し、以下の各量の反 応体を、適宜増減させた量の溶媒と共に使用した:5.00gのシリカ(800℃で焼 成された、ダビソン 948);0.40 mlのジエチルアニリン;1.28gのトリスペル フルオロフェニル硼素;及び1.09gのMe2Si(Ind)2HfMe2。最終触 媒1g当たり0.28ミリモルの遷移金属装填量であった。この例は、(Zrと比較 して)反応性の低いHf−Me結合のプロトン化による活性な本発明の触媒の製 造を示している。実施例8 −触媒Dを使用するスラリー相エチレン−ヘキセン重合 重合を実施例4と同様に行ったが、但し、45 mlのヘキセンを使用した。重合 データを第1表にまとめる。この例は、非常に低密度のコポリマー(VLDPE )(高いヘキセンの組み込み)を製造するための架橋されたメタロセンの使用を 示す。実施例9 −触媒Dを使用する塊状相プロピレン重合 機械式撹拌機、温度制御用の外部水ジャケット、隔壁入口、及び乾燥窒素とプ ロピレン用の制御供給装置を備えた1リットルのオートクレーブ反応器中におい て重合をスラリー相で行った。反応器を乾燥し、115℃で徹底的に脱ガスした。 プロピレン(400 ml)を添加し、気密シリンジを使用して、ヘプタン中25重量% のトリエチルアルミニウムの溶液0.2 ccを掃去剤として添加した。その後、触 媒をトルエンスラリー(10 mg/ml)として反応器に導入した。初めに3 ml導入 し、15分後にさらに2 ml導入した。反応容器を60℃に維持しながら、重合を45 分間続けた。急速な冷却と排気によって反応を停止させた。重合データを第1表 にまとめる。比重合活性は、ポリマーの収量を、触媒に含まれている遷移金属の 総ミリモル数及び時間単位の時間で割ることによって得た。この例は、アイソタ クチックポリプロピレン(i−PP)を製造するためのキラルな架橋されたメタ ロセンの使用を説明する。実施例10 −触媒Eの調製 この触媒は実施例3の方法に従って製造したが、但し、(1,3-BuMeCp)2 ZrMe2の代わりにMe5CpTiMe3を使用し、以下の各量の反応体を、適 宜増減させた量の溶媒と共に使用した:1.00gのシリカ(800℃で焼成された、 ダビソン 948);0.018 mlのジエチルアニリン;0.58gのトリスペルフルオロフ ェニル硼素;及び0.026gのMe5CpTiMe3。最終触媒1g当たり0.10ミリ モルの遷移金属装填量であった。この例は、モノシクロペンタジエニルチタニウ ム化合物の製造を示している。実施例11 −触媒Eを使用するスラリー相エチレン重合 重合を実施例2と同様に行った。重合データを第1表にまとめる。実施例12 −触媒Fの製造 この触媒は実施例3の方法に従って製造したが、但し、(1,3-BuMeCp)2 ZrMe2の代わりにCpCp*ZrMe2を使用し、以下の各量の反応体を、適 宜増減させた量の溶媒と共に使用した:1.00gのシリカ(800℃で焼成された、 ダビソン 948);0.080 mlのジエチルアニリン;0.256gのトリスペルフルオロ フェニル硼素;及び0.161gのCpCp*ZrMe2。最終触媒1g当たり0.34ミ リモルの遷移金属装填量であった。実施例13 −触媒Fを使用するスラリー相エチレン重合 重合を実施例2と同様に行った。重合データを第1表にまとめる。実施例14 −触媒Gの製造 この触媒は実施例12の方法に従って製造したが、但し、以下の各量の反応体を 、適宜増減させた量の溶媒と共に使用した:1.00gのシリカ(800℃で焼成され た、 ダビソン 948);0.016 mlのジエチルアニリン;0.051gのトリスペルフルオロ フェニル硼素;及び0.032gのCpCp*ZrMe2。最終触媒1g当たり0.09ミ リモルの遷移金属装填量であった。実施例15 −触媒Gを使用するスラリー相エチレン重合 重合を実施例2と同様に行った。重合データを第1表にまとめる。実施例12〜 15は、担持された活性剤(及び従ってイオン性触媒)の最大装填量を決定するの は、LAとLBの量よりもむしろ金属酸化物支持体のヒドロキシル含有量である ことを示している。触媒F(実施例12)における(全体のヒドロキシル基濃度に 比較して)過剰なルイス酸、第2プロトン受容体、及び遷移金属化合物の添加は 、触媒F(実施例13)対触媒G(実施例15)の重合活性をあまり増加させなかっ たが、後者は、本発明において予期されたように、触媒G及びFを製造するため に使用されたシリカについて計算されたヒドロキシル基濃度に対して理論装填量 のLAとLBを有していた。実施例16 −触媒Hの製造 この触媒は実施例3の方法に従って製造したが、但し、(1,3-BuMeCp)2 ZrMe2の代わりに(Me4Cp)2HfMe2を使用し、以下の各量の反応体を 、適宜増減させた量の溶媒と共に使用した:5.00gのシリカ(800℃で焼成され た、ダビソン 948);0.393gのトリブチルアミン(LB);1.075gのトリスペ ルフルオロフェニル硼素;及び0.542gの(Me4Cp)2HfMe2。最終触媒1 g当たり0.2ミリモルの遷移金属装填量であった。実施例17 −触媒Hを使用するスラリー相エチレン−ヘキセン重合 重合を実施例4と同様に行ったが、但し、45 mlのヘキセンを使用した。重合 データを第1表にまとめる。これらのデータは、アルキルアミンが少なくとも置 換されたアニリンを使用して製造された触媒と同様な活性の触媒をもたらすこと を示しており、従って、化学的に結合した活性剤アニオンの(ジエチルアニリン と比較して)酸性度の弱いトリブチルアンモニウム塩を使用して依然としてプロ トン化が起こり、活性な本発明の触媒を与えることを示している。 実施例18−触媒Iの調製 磁気撹拌機で撹拌されている1000 mlの丸底フラスコ中窒素雰囲気下の25℃の 乾燥トルエン400 ml中において、25.01gのシリカ(800℃で焼成された、ダビソ ン 948)をスラリー化し、その後1.56gのジエチルアニリンと5.38gのトリスペ ルフルオロフェニル硼素を添加した。反応体を30分間撹拌し、その後担持された 活性剤を真空濾過によって単離し、100 mlの乾燥トルエンで3回洗浄し、減圧下 短時間乾燥した。担持された活性剤をその後トルエン(400 ml)中で再びスラリ ー化し、そして2.71gのビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ハフニウム ジメチルを固体のまま添加すると黄橙色のスラリーが得られたが、1時間に渡っ て暗色化して赤橙色になった。撹拌を止め、担持された触媒を濾過によって単離 し、100 mlのトルエンで4回洗浄し、その後100 mlのペンタンで1回洗浄した。 触媒をその後減圧下に12時間乾燥して、31.16gの最終の触媒を得た。実施例19 −触媒Jの調製 磁気撹拌機で撹拌されている1000 mlの丸底フラスコ中窒素雰囲気下の25℃の 乾燥トルエン400 ml中において、25.009gのシリカ(800℃で焼成された、ダビ ソン 948)をスラリー化し、その後1.58gのジエチルアニリンと5.38gのトリス ペルフルオロフェニル硼素を添加した。反応体を30分間撹拌し、その後担持され た活性剤を真空濾過によって単離し、100 mlの乾燥トルエンで3回洗浄し、減圧 下短時間乾燥した。担持された活性剤をその後トルエン(400 ml)中で再びスラ リー化し、そして3.59gのビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ハフニウ ムジメチルを固体のまま添加すると黄橙色のスラリーが得られたが、70分間に渡 って暗色化して赤橙色になった。撹拌を止め、担持された触媒を濾過によって単 離し、100 mlのトルエンで4回洗浄し、その後100 mlのペンタンで1回洗浄した 。触媒をその後減圧下に2.5時間乾燥し、350 mlのペンタン中で再びスラリー化 した。このスラリーに、250mlのペンタン中の4.55gのポリパラメチルスチレン (Mw=Mn=2000)(PMS)を添加し、その後(撹拌と対照的に)ロータリ ーエバポレーターを使用してペンタンを減圧下に除去して、35.02gの最終の触 媒を得た。最終の触媒はポリパラメチルスチレンで被覆されていた。実施例20 −触媒Kの調製 この触媒は触媒Jと同様にして製造したが、但し、以下の量を使用した:シリ カ25.03g:ジエチルアニリン1.58g;トリスペルフルオロフェニル硼素5.37g ;ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ハフニウムジメチル2.71g;ポリ パラメチルスチレン4.5g。35.0gの最終の被覆された触媒が得られた。 気相重合実施例 上述の担持触媒I、J、及びKの各サンプルを後述のエチレン/1-ヘキセン共 重合の研究に使用した。300psig(20.7バール)の全圧、14°F(62.8℃)の反 応器温度、及び0.7 ft/s(21 cm/s)の循環ガス速度で運転される連続式流動 床気相反応器を使用して、触媒効率、1-ヘキセンのようなコモノマーを組み込む 能力、及び分子量能力を決定した。トリエチルアルミニウムの溶液(イソペンタ ン中1重量%)を掃去剤として1cm3/hの割合で反応器に供給した。プロセス データの概要を第2表に示す。少なくとも3回の床の回転(bed turnovers)の後 、サンプルを回収し、分析した。 実施例21−別の製造方法 上述の化学反応式(2)、(3)、(3a)、及び(4)は、11B固体マジック・アングル ・スピニングNMR(上を見よ)によって決定して、記載されているように本質 的に定量的なものである(即ち、反応体は本質的に示されている反応生成物種に なる)。比較のために、以下の別の製造方法を行った。 初めに、0.153gのトリスペルフルオロフェニル硼素、0.175gのジエチルアニ リン、及び0.322gのCpCp*ZrMe2を一緒にトルエン中に溶解し、その後 、磁気撹拌機で撹拌されている500 mlの丸底フラスコ中窒素雰囲気下の25℃の乾 燥トルエン200 ml中の3.01gのシリカ(800℃で焼成された、ダビソン 948)の スラリーに添加した。反応体を30分間撹拌し、その後担持された活性剤を真空濾 過によって単離し、50 mlの乾燥トルエンで3回洗浄した。触媒をその後減圧下 に一晩乾燥し、3.47gの最終の触媒を得たが、最終触媒1g当たり0.29ミリモル の遷移金属装填量であった。この物質を上述したようにNMRで評価したところ 、硼素含有種の混合物を含むことが判明した。 実施例4と同様に重合を行った。比活性を計算すると130gPE/mmolZr-h- atmであった。ポリマーは69,600の重量平均分子量、7300の数平均分子量、9.5の 分子量分布(MWD)を有しており、8.0重量%のヘキセンを含んでいた。 低い分子量と広いMWDは、観測された重合活性が本発明の単一の触媒的に活 性な種のみによるものではないことを示唆している。この重合活性は、この製造 方法に由来すると考えられるその他の触媒的に活性な種の圧力に部分的に依存し ているようである。CpCp*ZrMe2とトリスペルフルオロフェニル硼素の反 応による活性なイオン性触媒種[CpCp*ZrMe]+[Me(pfp)3B]- の形成は公知である。さらに、この種は、支持体の極性の官能基との相互作用の ために、多量の芳香族溶媒で洗浄した後も、シリカから容易に除去できないだろ うと予想される。メタンを遊離させるCpCp*ZrMe2とシリカ上のヒドロキ シル基との反応による化学的に結合した遷移金属種の形成も知られている。実施例22 −比較例及びNMR分光分析 WO 91/09882の実施例14に記載された方法に従って、5.0gのトリエチルアルミ ニウム処理されたシリカ、0.160gのN,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペ ンタフルオロフェニル)硼素、及び0.080gのCp2HfMe2を使用し、溶媒量 を同じパーセンテージ分だけ増加させて、比較例の触媒を製造した。本発明の触 媒を上述の実施例1と同様に製造したが、但し、5.0gのシリカ、0.179gのジエ チルアニリン、0.614gのトリスペルフルオロフェニル硼素、及び0.406gのCp2 HfMe2を使用し、溶媒量を同じパーセンテージ分だけ増加させた。高速マジ ック・アングル・スピニング11BNMR分光分析を128.39MHzに調整されたブル カー(Bruker)MSL-400スペクトロメーター上で行った。窒素雰囲気下でサンプル を5又は7mm o.d.の気密円筒状ジルコニアローターに装填し、5〜8kHzの速 度でスピンさせた。スペクトルは1パルス励起(one-pulse excitation)を使用し て得た。全ての11B化学シフトを、ボラックスNa2B O7・10H2Oの最高シ ールディング共鳴(highest-shielding-resonance)に対して決定したが、これに 関して化学シフトはEt2O・BF3と比較して2.0 ppmであり、本明細書中では Et2O・BF3と比較して報告した。全てのスペクトルは、S/N比を増加させ るために適用された25 Hzのライン拡張ファクター(line broadening factor)を 有していた。 本発明を表す以下の請求の範囲において、特定の実施態様、即ち、各々の独立 態様に対する従属態様はその他の従属態様の限定の1つ以上と共に実施可能であ るので、請求の範囲内のその他の実施可能な態様も表すものである。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1996年8月21日 【補正内容】 請求の範囲 1.金属酸化物支持体を含む触媒組成物であって、金属酸化物支持体が、容易に 加水分解可能な配位子を有していないルイス酸から誘導され金属酸化物の酸素原 子を介して支持体の表面に直接的に共有結合している対アニオンを有し、前記ア ニオンが触媒的に活性な遷移金属カチオン化合物にもイオン結合していることを 特徴とする、触媒組成物 2.金属酸化物がシリカを含む、請求項1の組成物。 3.アニオンが、遷移金属化合物の遷移金属に対して非配位性である、請求項1 又は2の組成物。 4.遷移金属が、第4、5、6、9、及び10族の金属から成る群の少なくとも1 種の遷移金属を含む、請求項1乃至3のいずれか1請求項の組成物。 5.遷移金属化合物がメタロセンである、請求項1乃至4のいずれか1請求項の 組成物。 6.遷移金属が、Ti、Zr、又はHfの1種以上である、請求項4の組成物。 7.遷移金属化合物が、モノシクロペンタジエニル配位子含有化合物である、請 求項1乃至6のいずれか1請求項の組成物。 8.適切な重合条件下に、配位重合によって重合可能な1種以上をモノマーを、 金属酸化物支持体を含む触媒組成物であって、金属酸化物支持体が、容易に加水 分解可能な配位子を有していないルイス酸から誘導され金属酸化物の酸素原子を 介して支持体の表面に直接的に共有結合している対アニオンを有し、前記アニオ ンが触媒的に活性な遷移金属カチオン化合物にもイオン結合している組成物と接 触させること含むことを特徴とする、重合方法。 9.接触がスラリー重合条件下において液体希釈剤の存在下に行われる、請求項 8の方法。 10.接触が気相重合条件下において気相反応器中で行われる、請求項8の方法。 11.モノマーが、アルファ−オレフィン、環式オレフィン、非共役ジオレフィン 、アセチレン性不飽和モノマー、オレフィン性不飽和芳香族モノマー、及びC20 〜C100マクロモノマーから成る群の少なくとも1種を含む、請求項8乃至10の いずれか1請求項の方法。 12.モノマーが、エチレン及びC2〜C20のアルファ−オレフィンから成る群の 少なくとも1種を含む、請求項8乃至11のいずれか1請求項の方法。 13.モノマーがプロピレンを含む、請求項8乃至12のいずれか1請求項の方法。 14.金属酸化物支持体と金属酸化物の酸素原子を介して金属酸化物支持体に直接 的に共有結合している少なくとも1種の活性剤アニオン先駆体種を含む触媒活性 剤組成物。 15.金属酸化物支持体を含むルイス酸−塩基錯体であって、金属酸化物の酸素原 子がルイス塩基であり、ルイス酸が複数の加水分解不可能な配位子を含み、前記 配位子の内の少なくとも1つが電子引き抜き性である、ルイス酸−塩基錯体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG), AM,AU,BB,BG,BR,BY,CA,CN,C Z,EE,FI,GE,HU,JP,KG,KR,KZ ,LK,LR,LT,LV,MD,MG,MN,MW, MX,NO,NZ,PL,RO,RU,SG,SI,S K,TJ,TT,UA,UG,US,UZ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.金属酸化物支持体を含む遷移金属触媒組成物であって、金属酸化物支持体の 表面が金属酸化物の酸素原子を介して直接的に活性剤アニオンに共有結合してお り、前記活性剤アニオンが触媒的に活性な遷移金属カチオン化合物にもイオン結 合していることを特徴とする、遷移金属触媒組成物 2.金属酸化物がシリカを含む、請求項1の組成物。 3.アニオンが、遷移金属化合物の遷移金属原子に対して非配位性である、請求 項1又は2の組成物。 4.遷移金属が第4、5、6、9、及び10族の金属から成る群の少なくとも1つ から選択される、請求項1乃至3のいずれか1請求項の組成物。 5.遷移金属化合物がメタロセンである、請求項1乃至4のいずれか1請求項の 組成物。 6.遷移金属が、Ti、Zr、又はHfの1種以上である、請求項5の組成物。 7.遷移金属化合物が、モノシクロペンタジエニル配位子含有化合物である、請 求項1乃至6のいずれか1請求項の組成物。 8.適切な重合条件下に、配位重合によって重合可能な1種以上をモノマーを、 金属酸化物支持体を含む触媒組成物であって、金属酸化物支持体の表面が金属酸 化物の酸素原子を介して直接的に活性剤アニオンに共有結合しており、、前記活 性剤アニオンが触媒的に活性な遷移金属カチオン化合物にもイオン結合している 組成物と接触させることを特徴とする、重合方法。 9.接触がスラリー重合条件下において液体希釈剤の存在下に行われる、請求項 8の方法。 10.接触が気相重合条件下において気相反応器中で行われる、請求項8の方法。 11.モノマーが、アルファ−オレフィン、環式オレフィン、非共役ジオレフィン 、アセチレン性不飽和モノマー、オレフィン性不飽和芳香族モノマー、及びC20 〜C100マクロモノマーから成る群の少なくとも1種を含む、請求項8乃至10の いずれか1請求項の方法。 12.モノマーが、エチレン及びC2〜C20のアルファ−オレフィンから成る群の 少なくとも1種を含む、請求項8乃至11のいずれか1請求項の方法。 13.モノマーがプロピレンを含む、請求項8乃至12のいずれか1請求項の方法。 14.金属酸化物支持体と少なくとも1種の活性剤アニオンを含む触媒活性剤組成 物であって、アニオンが金属酸化物の酸素原子を介して金属酸化物支持体に共有 結合している、組成物。 15.金属酸化物支持体を含むルイス酸−塩基錯体であって、金属酸化物の酸素原 子がルイス塩基であり、ルイス酸が複数の加水分解不可能な配位子を含み、前記 配位子の内の少なくとも1つが電子引き抜き性である、金属酸化物支持体を含む ルイス酸−塩基錯体。
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