JPH10321134A - プラズマディスプレーパネルの製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレーパネルの製造方法Info
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- JPH10321134A JPH10321134A JP12555997A JP12555997A JPH10321134A JP H10321134 A JPH10321134 A JP H10321134A JP 12555997 A JP12555997 A JP 12555997A JP 12555997 A JP12555997 A JP 12555997A JP H10321134 A JPH10321134 A JP H10321134A
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- Japan
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- phosphor
- film
- glass substrate
- conductive films
- plasma display
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマディスプレーパネルの蛍光体膜を容
易かつ高精度に形成する。 【解決手段】 ガラス基板１１上のセル内面に金属等の
導電膜１３を形成した後、導電膜１３と対向電極となる
金属板とを蛍光体粉末の懸濁液を介して配置し、導電膜
１３と金属板との間に直流電圧を印加して、導電膜１３
上に蛍光体電着層１４を電着した後、焼成して導電膜１
３を非導電化する。
易かつ高精度に形成する。 【解決手段】 ガラス基板１１上のセル内面に金属等の
導電膜１３を形成した後、導電膜１３と対向電極となる
金属板とを蛍光体粉末の懸濁液を介して配置し、導電膜
１３と金属板との間に直流電圧を印加して、導電膜１３
上に蛍光体電着層１４を電着した後、焼成して導電膜１
３を非導電化する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
ーパネルの製造方法に係り、特に、プラズマディスプレ
ーパネルの基板に蛍光体膜を形成するに当り、電着法を
採用することにより容易且つ高精度に蛍光体膜を形成す
る方法に関するものである。
ーパネルの製造方法に係り、特に、プラズマディスプレ
ーパネルの基板に蛍光体膜を形成するに当り、電着法を
採用することにより容易且つ高精度に蛍光体膜を形成す
る方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレー(plasma display)
は、気体放電を利用した画像表示装置であって、通常、
多数の微小な放電セルを縦横（マトリクス状）に配列
し、必要な部分のセルを放電発光させて文字や図形を表
示する。この平面表示パネルはプラズマディスプレーパ
ネル (plasma display panel, ＰＤＰ）と称される。プ
ラズマディスプレーパネルは、構造が簡単で大形化が容
易である；メモリ機能を有する；カラー化が可能であ
る；などの様々な利点を有することから、テレビなどで
用いられているブラウン管よりもはるかに大きく且つ奥
行きが小さいＰＤＰの開発研究が進められている。
は、気体放電を利用した画像表示装置であって、通常、
多数の微小な放電セルを縦横（マトリクス状）に配列
し、必要な部分のセルを放電発光させて文字や図形を表
示する。この平面表示パネルはプラズマディスプレーパ
ネル (plasma display panel, ＰＤＰ）と称される。プ
ラズマディスプレーパネルは、構造が簡単で大形化が容
易である；メモリ機能を有する；カラー化が可能であ
る；などの様々な利点を有することから、テレビなどで
用いられているブラウン管よりもはるかに大きく且つ奥
行きが小さいＰＤＰの開発研究が進められている。
【０００３】図２はプラズマディスプレーパネルの一般
的な構造を示す分解斜視図、図３は図２のガラス基板
１，５を組み立てたときのIII 部の詳細を示す断面の拡
大図である。
的な構造を示す分解斜視図、図３は図２のガラス基板
１，５を組み立てたときのIII 部の詳細を示す断面の拡
大図である。
【０００４】表面ガラス基板１上に、表示電極２、誘電
体層３及びＭｇＯ（酸化マグネシウム）等の保護膜４が
設けられている。背面ガラス基板５上には、隔壁６が所
定間隔で形成されている。この表面ガラス基板１、背面
ガラス基板５及び隔壁６，６で区画形成される微細空間
（放電セル）内に、アドレス用電極７及び膜状の蛍光体
８が形成され、放電ガス９が注入されている。
体層３及びＭｇＯ（酸化マグネシウム）等の保護膜４が
設けられている。背面ガラス基板５上には、隔壁６が所
定間隔で形成されている。この表面ガラス基板１、背面
ガラス基板５及び隔壁６，６で区画形成される微細空間
（放電セル）内に、アドレス用電極７及び膜状の蛍光体
８が形成され、放電ガス９が注入されている。
【０００５】このようなプラズマディスプレーパネルで
は、電極２，２間に電圧を印加して隔壁６，６間に形成
された放電セル内の蛍光体８を選択的に放電発光させる
ことで、文字や図形を表示する。
は、電極２，２間に電圧を印加して隔壁６，６間に形成
された放電セル内の蛍光体８を選択的に放電発光させる
ことで、文字や図形を表示する。
【０００６】従来、この蛍光体８を放電セル内に形成す
る方法としては、スクリーン印刷により直接に膜状蛍光
体８を形成する方法と、スクリーン印刷によりセル内に
蛍光体を充填した後この蛍光体をサンドブラストで掘削
して所定厚みの膜状蛍光体８を形成する方法とが採用さ
れている。
る方法としては、スクリーン印刷により直接に膜状蛍光
体８を形成する方法と、スクリーン印刷によりセル内に
蛍光体を充填した後この蛍光体をサンドブラストで掘削
して所定厚みの膜状蛍光体８を形成する方法とが採用さ
れている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】スクリーン印刷による
膜状蛍光体の直接形成方法においては、画面サイズが大
きくなるに従い印刷位置合わせ、ペーストの印刷特性
（粘度、チクソトロピー性等）の適正化が困難となる。
一方、蛍光体を印刷によりセル内に充填してからサンド
ブラストで掘削する方法においては、３色の蛍光体のブ
ラスト掘削性が異なるために均一な掘削が困難であり、
欠落等の不具合も発生し易い。
膜状蛍光体の直接形成方法においては、画面サイズが大
きくなるに従い印刷位置合わせ、ペーストの印刷特性
（粘度、チクソトロピー性等）の適正化が困難となる。
一方、蛍光体を印刷によりセル内に充填してからサンド
ブラストで掘削する方法においては、３色の蛍光体のブ
ラスト掘削性が異なるために均一な掘削が困難であり、
欠落等の不具合も発生し易い。
【０００８】このように、従来のいずれの蛍光体形成方
法においても、セル内に均一な蛍光体膜を形成すること
が非常に難しい。
法においても、セル内に均一な蛍光体膜を形成すること
が非常に難しい。
【０００９】本発明は上記従来の問題点を解決し、プラ
ズマディスプレーパネルの膜状蛍光体を容易かつ高精度
に形成する方法を提供することを目的とする。
ズマディスプレーパネルの膜状蛍光体を容易かつ高精度
に形成する方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレーパネルの隔壁形成方法は、プラズマディスプレー
パネルのガラス基板上のセル内に蛍光体を膜状に形成す
る工程を有するプラズマディスプレーパネルの製造方法
において、該ガラス基板上のセル内面に導電膜を形成し
た後、該導電膜と対向電極とを蛍光体粉末のスラリーを
介して配置し、該導電膜と対向電極との間に直流電圧を
印加して、該導電膜上に蛍光体を電着し、その後焼成し
て導電膜を消失させるか又は導電膜の導電性を消失させ
ることを特徴とするものである。
プレーパネルの隔壁形成方法は、プラズマディスプレー
パネルのガラス基板上のセル内に蛍光体を膜状に形成す
る工程を有するプラズマディスプレーパネルの製造方法
において、該ガラス基板上のセル内面に導電膜を形成し
た後、該導電膜と対向電極とを蛍光体粉末のスラリーを
介して配置し、該導電膜と対向電極との間に直流電圧を
印加して、該導電膜上に蛍光体を電着し、その後焼成し
て導電膜を消失させるか又は導電膜の導電性を消失させ
ることを特徴とするものである。
【００１１】本発明に従って、電着法で蛍光体を形成す
ることにより、高効率で、位置精度や高さ精度良く膜状
蛍光体を形成することができる。
ることにより、高効率で、位置精度や高さ精度良く膜状
蛍光体を形成することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１３】図１は本発明のプラズマディスプレーパネ
ルの製造方法の実施の形態を示す断面図である。
ルの製造方法の実施の形態を示す断面図である。
【００１４】本発明においては、まず、プラズマディス
プレーパネルのガラス基板（背面ガラス基板）５上に隔
壁６を形成する。次いで、蛍光体膜を形成するセル内面
にのみ導電膜を形成する。この導電膜を形成するには、
蛍光体膜を形成しない面にレジスト膜を付け、次いで導
電膜を全面に付け、その後レジスト膜を除去すれば良
い。レジスト膜を所定パターンに形成するには、有機レ
ジストを膜状に付着させた後、所定パターン通りに露光
し、次いで未露光部を除去する等の通常の方法によれば
良い。
プレーパネルのガラス基板（背面ガラス基板）５上に隔
壁６を形成する。次いで、蛍光体膜を形成するセル内面
にのみ導電膜を形成する。この導電膜を形成するには、
蛍光体膜を形成しない面にレジスト膜を付け、次いで導
電膜を全面に付け、その後レジスト膜を除去すれば良
い。レジスト膜を所定パターンに形成するには、有機レ
ジストを膜状に付着させた後、所定パターン通りに露光
し、次いで未露光部を除去する等の通常の方法によれば
良い。
【００１５】この所定パターンのレジスト膜を形成した
後、スパッタリング、ＣＶＤ、イオンプレーティング、
印刷等の各種手法により金属膜を付着させたり、導電性
高分子膜を真空蒸着法等により付着させる。その後、レ
ジスト膜を溶剤によって溶解除去することにより、蛍光
体膜形成予定部たる内面にのみ導電膜１３が形成され
る。
後、スパッタリング、ＣＶＤ、イオンプレーティング、
印刷等の各種手法により金属膜を付着させたり、導電性
高分子膜を真空蒸着法等により付着させる。その後、レ
ジスト膜を溶剤によって溶解除去することにより、蛍光
体膜形成予定部たる内面にのみ導電膜１３が形成され
る。
【００１６】この導電膜１３を金属膜とする場合、好適
な金属としては、Ｗ（タングステン），Ａｌ（アルミニ
ウム）等が挙げられる。金属膜の厚さは２００〜２００
０Åとりわけ３００〜１０００Åの範囲とするのが好ま
しい。この厚さが２００Å未満では蛍光体粉末を均一に
付着させにくい。又、２０００Åよりも厚いと、後工程
でこの金属膜を酸化させて非導電性とするための処理時
間が徒に長くなる。
な金属としては、Ｗ（タングステン），Ａｌ（アルミニ
ウム）等が挙げられる。金属膜の厚さは２００〜２００
０Åとりわけ３００〜１０００Åの範囲とするのが好ま
しい。この厚さが２００Å未満では蛍光体粉末を均一に
付着させにくい。又、２０００Åよりも厚いと、後工程
でこの金属膜を酸化させて非導電性とするための処理時
間が徒に長くなる。
【００１７】このようにしてセル内面に導電膜１３を形
成した後は、電着法により、導電膜１３上に蛍光体の電
着層を堆積させる。
成した後は、電着法により、導電膜１３上に蛍光体の電
着層を堆積させる。
【００１８】この電着法に用いる蛍光体粉末としては、
次のものが好ましい。
次のものが好ましい。
【００１９】赤色蛍光体としては（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3 ：
Ｅｕ3+やＹ2 Ｏ3 ：Ｅｕ3+などが好ましい。
Ｅｕ3+やＹ2 Ｏ3 ：Ｅｕ3+などが好ましい。
【００２０】青色蛍光体としては（Ｂａ，Ｍｇ）Ａｌ10
Ｏ17：Ｅｕ2+などが好ましい。
Ｏ17：Ｅｕ2+などが好ましい。
【００２１】緑色蛍光体としてはＺｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ
などが好ましい。
などが好ましい。
【００２２】この粉末の平均粒径は２μｍ以下が好まし
い。
い。
【００２３】この粉末を分散させる分散媒としては、イ
ソプロピルアルコール、アセトン等の有機溶媒、あるい
はその混合物が好ましい。
ソプロピルアルコール、アセトン等の有機溶媒、あるい
はその混合物が好ましい。
【００２４】この媒体中に蛍光体粉末を分散させた懸濁
液の濃度は１〜２ｗｔ％が好ましい。
液の濃度は１〜２ｗｔ％が好ましい。
【００２５】本発明においては、このような蛍光体粉末
の懸濁液中に、導電膜１３を形成したガラス基板１１
と、対向電極を、導電膜１３と対向電極とが対向するよ
うに浸漬配置し、導電膜１３と対向電極との間に１００
〜６００Ｖ好ましくは２００〜５００Ｖ程度の直流電圧
（導電膜１３を負とする。）を印加して、導電膜１３上
に蛍光体粉末の電着層１４を形成する。
の懸濁液中に、導電膜１３を形成したガラス基板１１
と、対向電極を、導電膜１３と対向電極とが対向するよ
うに浸漬配置し、導電膜１３と対向電極との間に１００
〜６００Ｖ好ましくは２００〜５００Ｖ程度の直流電圧
（導電膜１３を負とする。）を印加して、導電膜１３上
に蛍光体粉末の電着層１４を形成する。
【００２６】対向電極としては、Ｐｔ，Ａｌ，ＳＵＳ等
が好ましい。この対向電極はメッシュ（有孔）又は板状
であることが好ましい。
が好ましい。この対向電極はメッシュ（有孔）又は板状
であることが好ましい。
【００２７】なお、例えば赤色蛍光体を赤色セルに形成
した後、青色蛍光体を青色セルに形成し、その後緑色蛍
光体を緑色セルに形成するなど、色ごとに蛍光体を順番
に電着させる。ある色の蛍光体を特定のセルに電着させ
るには、そのセルのアドレス電極にのみ電流を流し、他
のセルのアドレス電極には電流を流さないようにする。
した後、青色蛍光体を青色セルに形成し、その後緑色蛍
光体を緑色セルに形成するなど、色ごとに蛍光体を順番
に電着させる。ある色の蛍光体を特定のセルに電着させ
るには、そのセルのアドレス電極にのみ電流を流し、他
のセルのアドレス電極には電流を流さないようにする。
【００２８】すべてのセルに電着層１４が所望の厚みに
形成された後は、ガラス基板を乾燥させた後、焼成す
る。導電膜が金属膜である場合、酸化雰囲気中で焼成
し、金属を酸化させて導電性を消失させる。導電膜が高
分子膜である場合、焼成により熱分解させたりあるいは
酸化消失させることにより導電性を消失（又は導電膜自
体を消失）させる。
形成された後は、ガラス基板を乾燥させた後、焼成す
る。導電膜が金属膜である場合、酸化雰囲気中で焼成
し、金属を酸化させて導電性を消失させる。導電膜が高
分子膜である場合、焼成により熱分解させたりあるいは
酸化消失させることにより導電性を消失（又は導電膜自
体を消失）させる。
【００２９】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
説明する。
【００３０】実施例１ 図１に示す本発明の方法に従って、プラズマディスプレ
ーパネルの蛍光体を形成した。
ーパネルの蛍光体を形成した。
【００３１】まず、高さ１５０μｍの隔壁を７００μｍ
ピッチで設けた５０ｍｍ×７５ｍｍのガラス（ソーダガ
ラス）基板のセル内面以外の面にレジスト膜を形成した
後、レジスト膜間に電着で必要な電極となる金属膜とし
てＡｌ金属膜をスパッタリング法により３００〜４００
Åの厚さに形成した。その後、レジスト膜を溶剤により
剥離して十分に洗浄した。
ピッチで設けた５０ｍｍ×７５ｍｍのガラス（ソーダガ
ラス）基板のセル内面以外の面にレジスト膜を形成した
後、レジスト膜間に電着で必要な電極となる金属膜とし
てＡｌ金属膜をスパッタリング法により３００〜４００
Åの厚さに形成した。その後、レジスト膜を溶剤により
剥離して十分に洗浄した。
【００３２】これとは別に、次の蛍光体を分散させた蛍
光体分散懸濁液を調製した。なお、媒体は全て Ａ：アセトン／ＩＰＡ＝７／３（ｖｏｌ比）と Ｂ：２％Ｍｇ（ＮＯ3 ）2 水溶液とを用い、Ａ １００
０ｍｌに対しＢ １５ｍｌの混合液とした。蛍光体は上
記液に対し１０ｇを懸濁させた。
光体分散懸濁液を調製した。なお、媒体は全て Ａ：アセトン／ＩＰＡ＝７／３（ｖｏｌ比）と Ｂ：２％Ｍｇ（ＮＯ3 ）2 水溶液とを用い、Ａ １００
０ｍｌに対しＢ １５ｍｌの混合液とした。蛍光体は上
記液に対し１０ｇを懸濁させた。
【００３３】 赤色蛍光体懸濁液 蛍光体： 組成 （Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3 ：Ｅｕ 粒径 平均２μｍ 青色蛍光体懸濁液 蛍光体： 組成 （Ｂａ，Ｍｇ）Ａｌ10Ｏ17：Ｅｕ 粒径 平均２μｍ 緑色蛍光体懸濁液 蛍光体： 組成 Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ 粒径 平均２μｍ まず、この赤色蛍光体懸濁液中に、前記ガラス基板と、
６０ｍｍ×８０ｍｍのＰｔ板よりなる対向電極とを、ガ
ラス板のＡｌ金属膜形成面と対向電極とが対面するよう
に配置し、金属板と赤色セルのＡｌ金属膜との間にＡｌ
金属膜が正となるように３００Ｖの直流電圧を印加して
Ａｌ金属膜上に赤色蛍光体粉の電着層を形成した。電着
時間は１分とした。
６０ｍｍ×８０ｍｍのＰｔ板よりなる対向電極とを、ガ
ラス板のＡｌ金属膜形成面と対向電極とが対面するよう
に配置し、金属板と赤色セルのＡｌ金属膜との間にＡｌ
金属膜が正となるように３００Ｖの直流電圧を印加して
Ａｌ金属膜上に赤色蛍光体粉の電着層を形成した。電着
時間は１分とした。
【００３４】以下、同様にして青色セル及び緑色セルに
それぞれ青色蛍光体及び緑色蛍光体を電着させた。
それぞれ青色蛍光体及び緑色蛍光体を電着させた。
【００３５】すべての電着終了後、ガラス板を十分に乾
燥させ、５４０℃×１０ｍｉｎによる焼成を行うことに
より、蛍光体を形成した。その結果、各セルに均等に蛍
光体膜を形成することができた。
燥させ、５４０℃×１０ｍｉｎによる焼成を行うことに
より、蛍光体を形成した。その結果、各セルに均等に蛍
光体膜を形成することができた。
【００３６】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のプラズマデ
ィスプレーパネルの製造方法によれば、プラズマディス
プレーパネルの蛍光体膜を容易かつ効率的に、所望の位
置に、均一に精度良く形成することができる。
ィスプレーパネルの製造方法によれば、プラズマディス
プレーパネルの蛍光体膜を容易かつ効率的に、所望の位
置に、均一に精度良く形成することができる。
【図１】本発明のプラズマディスプレーパネルの製造方
法の実施の形態を示す断面図である。
法の実施の形態を示す断面図である。
【図２】プラズマディスプレーパネルの一般的な構成を
示す分解斜視図である。
示す分解斜視図である。
【図３】図３のIII 部の断面の拡大図である。
【符号の説明】 １ 表面ガラス基板 ２ 表示電極 ３ 誘電体層 ４ 保護膜 ５ 背面ガラス基板 ６ 隔壁 ７ アドレス電極 ８ 蛍光体 ９ 放電ガス １１ ガラス基板 １２ レジスト膜 １３ 導電膜 １４ 電着層
Claims (1)
- 【請求項１】 プラズマディスプレーパネルのガラス基
板上のセル内に蛍光体を膜状に形成する工程を有するプ
ラズマディスプレーパネルの製造方法において、該ガラ
ス基板上のセル内面に導電膜を形成した後、該導電膜と
対向電極とを蛍光体粉末のスラリーを介して配置し、該
導電膜と対向電極との間に直流電圧を印加して、該導電
膜上に蛍光体を電着し、その後焼成して導電膜を消失さ
せるか又は導電膜の導電性を消失させることを特徴とす
るプラズマディスプレーパネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12555997A JPH10321134A (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | プラズマディスプレーパネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12555997A JPH10321134A (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | プラズマディスプレーパネルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10321134A true JPH10321134A (ja) | 1998-12-04 |
Family
ID=14913204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12555997A Pending JPH10321134A (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | プラズマディスプレーパネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10321134A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980085554A (ko) * | 1997-05-29 | 1998-12-05 | 엄길용 | 플라즈마 표시소자의 제조방법 |
| KR19980085551A (ko) * | 1997-05-29 | 1998-12-05 | 엄길용 | 플라즈마 표시소자의 제조방법 |
-
1997
- 1997-05-15 JP JP12555997A patent/JPH10321134A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980085554A (ko) * | 1997-05-29 | 1998-12-05 | 엄길용 | 플라즈마 표시소자의 제조방법 |
| KR19980085551A (ko) * | 1997-05-29 | 1998-12-05 | 엄길용 | 플라즈마 표시소자의 제조방법 |
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