JPH08234682A - フラットスクリーンを製造するための電気泳動による発光材料のデポジットにおけるサスペンション - Google Patents
フラットスクリーンを製造するための電気泳動による発光材料のデポジットにおけるサスペンションInfo
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- JPH08234682A JPH08234682A JP7313758A JP31375895A JPH08234682A JP H08234682 A JPH08234682 A JP H08234682A JP 7313758 A JP7313758 A JP 7313758A JP 31375895 A JP31375895 A JP 31375895A JP H08234682 A JPH08234682 A JP H08234682A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D13/00—Electrophoretic coating characterised by the process
- C25D13/02—Electrophoretic coating characterised by the process with inorganic material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/221—Applying luminescent coatings in continuous layers
- H01J9/225—Applying luminescent coatings in continuous layers by electrostatic or electrophoretic processes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は電気泳動によって特に蛍光体であ
る、発光材料のデポジットにおける非水性のサスペンシ
ョンに関する。 【解決手段】 これらのサスペンションは、少なくとも
1つの金属塩と少なくとも1つの植物性タンパク質を溶
剤に含む、ニトロメタンと、メチルアルコールを除く脂
肪族アルコールの混合によって構成される極性の有機の
溶液と、溶液にサスペンションでデポジットされる発光
材料の粉とを含む。これらのサスペンションは第1のカ
ラー(18)、第2のカラー(19)及び第3のカラー
(20)で覆われた導体トラック(15,16,17)
を有するトリカラースクリーンの製造のために使用さ
れ、蛍光体の励起はマイクロチップ(1c)と共に放射
カソードマイクロチップ(1c)を有する電子源(1)
の手段によって実行される。
る、発光材料のデポジットにおける非水性のサスペンシ
ョンに関する。 【解決手段】 これらのサスペンションは、少なくとも
1つの金属塩と少なくとも1つの植物性タンパク質を溶
剤に含む、ニトロメタンと、メチルアルコールを除く脂
肪族アルコールの混合によって構成される極性の有機の
溶液と、溶液にサスペンションでデポジットされる発光
材料の粉とを含む。これらのサスペンションは第1のカ
ラー(18)、第2のカラー(19)及び第3のカラー
(20)で覆われた導体トラック(15,16,17)
を有するトリカラースクリーンの製造のために使用さ
れ、蛍光体の励起はマイクロチップ(1c)と共に放射
カソードマイクロチップ(1c)を有する電子源(1)
の手段によって実行される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は特にフラットスクリ
ーンの製造しようとする電気泳動によって発光材料のデ
ポジットにおける非液体サスペンション(懸濁剤)に関
する。
ーンの製造しようとする電気泳動によって発光材料のデ
ポジットにおける非液体サスペンション(懸濁剤)に関
する。
【0002】特に固定画像又は画素の表示を実現する簡
単なディスプレイに関する。同様にテレビ画素タイプの
ような動画素のディスプレイを実現する、複合、多重さ
れたスクリーンである。
単なディスプレイに関する。同様にテレビ画素タイプの
ような動画素のディスプレイを実現する、複合、多重さ
れたスクリーンである。
【0003】
【従来の技術】マイクロチップ放射陰極電子源を構成す
るフィールド発光励磁陰極ルミネンス表示手段に特に関
する。このタイプの表示手段が仏国特許第2,687,
839号,仏国特許第2,633,763号及び米国特
許第5,231,387号に開示されている。
るフィールド発光励磁陰極ルミネンス表示手段に特に関
する。このタイプの表示手段が仏国特許第2,687,
839号,仏国特許第2,633,763号及び米国特
許第5,231,387号に開示されている。
【0004】図1は絶縁基板1a、抵抗層1b、マイク
ロチップ1c、絶縁層1d及びグリッド1eを有するマ
イクロチップ電子源1を有するタイプの表示を示す。ス
ペース3は、前記マイクロチップ源1を、アノードを形
成する透明層、電気的に導体を供給される電気的に絶縁
する透明基板5から真空分離を形成される。前記アノー
ド上にはマイクロチップ源に面する蛍光体として周知の
陰極ルミネンスの層9が設けられる。
ロチップ1c、絶縁層1d及びグリッド1eを有するマ
イクロチップ電子源1を有するタイプの表示を示す。ス
ペース3は、前記マイクロチップ源1を、アノードを形
成する透明層、電気的に導体を供給される電気的に絶縁
する透明基板5から真空分離を形成される。前記アノー
ド上にはマイクロチップ源に面する蛍光体として周知の
陰極ルミネンスの層9が設けられる。
【0005】電子源が作用されるときマイクロチップ1
cによって放射される電子の衝撃の元で、前記層9は光
11を発し、スクリーン使用者は透明な基板5を介して
観察する。前記スクリーンとともに蛍光体は励起に前記
反対から観察される。マイクロチップフラットスクリー
ンの場合、電子が陰極スクリーンで使用される電圧(2
0〜25kV)で比較される大変低い電圧(数百ボル
ト)で加速される。よって、そのようなスクリーンで、
蛍光体は拡大される表面であり、最小な汚損としなけれ
ばならない。蛍光体グリッドの表面上での薄い層あるい
はフィルムの汚染又は存在は光出力で減少することにな
る。デポジットされる蛍光体層の質は重要なパラメータ
である。
cによって放射される電子の衝撃の元で、前記層9は光
11を発し、スクリーン使用者は透明な基板5を介して
観察する。前記スクリーンとともに蛍光体は励起に前記
反対から観察される。マイクロチップフラットスクリー
ンの場合、電子が陰極スクリーンで使用される電圧(2
0〜25kV)で比較される大変低い電圧(数百ボル
ト)で加速される。よって、そのようなスクリーンで、
蛍光体は拡大される表面であり、最小な汚損としなけれ
ばならない。蛍光体グリッドの表面上での薄い層あるい
はフィルムの汚染又は存在は光出力で減少することにな
る。デポジットされる蛍光体層の質は重要なパラメータ
である。
【0006】フラットなマイクロチップスクリーンの場
合で、蛍光体層のデポジットは透明で、インジウム及び
酸化スズ(ITO)などでコーティングした透明な導体
である絶縁基板上に配置しなければならない。しかしな
がら、カラー表示において、スクリーンは数ダースミク
ロメータの幅の導体トラックの3つのグループを有し、
赤、青及び緑に相当する蛍光体をそれぞれデポジットさ
れる。
合で、蛍光体層のデポジットは透明で、インジウム及び
酸化スズ(ITO)などでコーティングした透明な導体
である絶縁基板上に配置しなければならない。しかしな
がら、カラー表示において、スクリーンは数ダースミク
ロメータの幅の導体トラックの3つのグループを有し、
赤、青及び緑に相当する蛍光体をそれぞれデポジットさ
れる。
【0007】満足な品質を得るために、異なるデポジッ
トされた層は次の特性を有している。基板に良い粘着
性、薄いホモジェナイザー、カラーの複合を得るために
純度の高い度合い、かつデポジットモードに適応される
構成である。更に、デポジット処理は高い量処理効率に
おける実行し、かつ適切にするために簡単に再生されな
ければならない。
トされた層は次の特性を有している。基板に良い粘着
性、薄いホモジェナイザー、カラーの複合を得るために
純度の高い度合い、かつデポジットモードに適応される
構成である。更に、デポジット処理は高い量処理効率に
おける実行し、かつ適切にするために簡単に再生されな
ければならない。
【0008】透明、インジウム及び酸化スズなどの導体
を形成する導体コーティングであって満足されなければ
ならない他の重要な状態は、蛍光体のデポジットの状態
を耐えなければならず、透明度及び電子導体性を保持し
なければならない。電解磁場の作用の元でサスペンショ
ンからデポジットされる蛍光体の粒子によれば、アノー
ドまたはカソードとして機能するように覆う部分をこの
タイプのデポジットを処理するため幅広く使用される処
理は電気泳動である。
を形成する導体コーティングであって満足されなければ
ならない他の重要な状態は、蛍光体のデポジットの状態
を耐えなければならず、透明度及び電子導体性を保持し
なければならない。電解磁場の作用の元でサスペンショ
ンからデポジットされる蛍光体の粒子によれば、アノー
ドまたはカソードとして機能するように覆う部分をこの
タイプのデポジットを処理するため幅広く使用される処
理は電気泳動である。
【0009】仏国特許第2,532,957号には蛍光
体によって蛍光粉のデポジットを実現する非液体サスペ
ンションが開示されている。使用されるサスペンション
の液体化段階は、適切な導体をサスペンションに付与す
るために強酸と強塩基の同様にニトロセルロースによっ
て構成される拡散剤を含むケトンをベースとした溶液に
よって構成される。そのようなサスペンションと共にデ
ポジット時間が約0.3秒である。
体によって蛍光粉のデポジットを実現する非液体サスペ
ンションが開示されている。使用されるサスペンション
の液体化段階は、適切な導体をサスペンションに付与す
るために強酸と強塩基の同様にニトロセルロースによっ
て構成される拡散剤を含むケトンをベースとした溶液に
よって構成される。そのようなサスペンションと共にデ
ポジット時間が約0.3秒である。
【0010】この処理の使用は、導体やデポジット電極
の透明な層の劣化を防ぐことができる。なぜならば、後
者は電極でのH+ イオンの出現を防ぐアノードの位置で
基板を使用する蛍光体によって代わるからである。しか
しながら、デポジット期間が大変短いので、再生、デポ
ジットされた層の同種の厚さを得ることを保証できな
い。そして、スクリーンの光出力は再生されず、かつ出
現は同一でない。
の透明な層の劣化を防ぐことができる。なぜならば、後
者は電極でのH+ イオンの出現を防ぐアノードの位置で
基板を使用する蛍光体によって代わるからである。しか
しながら、デポジット期間が大変短いので、再生、デポ
ジットされた層の同種の厚さを得ることを保証できな
い。そして、スクリーンの光出力は再生されず、かつ出
現は同一でない。
【0011】米国特許第3,714,011号には電気
泳動によって蛍光体をデポジットするための処理が開示
されている。使用されたサスペンションは電極でのH+
イオンの出現と結合される問題を避けるために非液体の
サスペンションである。そのようなサスペンションはア
セトンのような、水−混合、陰極の復極を含む有機溶液
によって構成され得、少量の水と水素化された硝酸マグ
ネシウムのような金属塩基は蛍光体の粒子を電気的に充
電することができ、バインダとしての機能は高い粘着性
のコーティングを得ることができる。有機溶液はイソプ
ロパノールである。
泳動によって蛍光体をデポジットするための処理が開示
されている。使用されたサスペンションは電極でのH+
イオンの出現と結合される問題を避けるために非液体の
サスペンションである。そのようなサスペンションはア
セトンのような、水−混合、陰極の復極を含む有機溶液
によって構成され得、少量の水と水素化された硝酸マグ
ネシウムのような金属塩基は蛍光体の粒子を電気的に充
電することができ、バインダとしての機能は高い粘着性
のコーティングを得ることができる。有機溶液はイソプ
ロパノールである。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】この電気泳動をベース
とするデポジット処理は、基板が透明、電気的に導体の
インジウム及び酸化フィルムを有する場合に満足されな
い。なぜならば、後者は透明度が減りかつその結果とし
てなくなるデポジット状態を維持することができないか
らである。
とするデポジット処理は、基板が透明、電気的に導体の
インジウム及び酸化フィルムを有する場合に満足されな
い。なぜならば、後者は透明度が減りかつその結果とし
てなくなるデポジット状態を維持することができないか
らである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は発光材料、特に
この欠点を解決できる蛍光体の電気泳動によるデポジッ
トにおける非水性サスペンションに関する。
この欠点を解決できる蛍光体の電気泳動によるデポジッ
トにおける非水性サスペンションに関する。
【0014】本発明によれば、電気泳動による発光材料
のデポジットにおけるサスペンションは、 ・少なくとも1つの金属塩と少なくとも1つの植物性タ
ンパク質を溶剤に含み、ニトロメタンと、メチルアルコ
ールを除く脂肪族アルコールの混合によって構成される
極性、有機の溶液と、 ・前記溶液にサスペンションでデポジットされる発光材
料粉とを含む。本発明によれば、発光材料のデポジット
中アルコールをベースとする有機の溶液にニトロメタン
を加えることによって、後者がインジウム及び酸化スズ
(ITO)であるときデポジット基板の透明の減少及び
なくなることを防ぐことができる。
のデポジットにおけるサスペンションは、 ・少なくとも1つの金属塩と少なくとも1つの植物性タ
ンパク質を溶剤に含み、ニトロメタンと、メチルアルコ
ールを除く脂肪族アルコールの混合によって構成される
極性、有機の溶液と、 ・前記溶液にサスペンションでデポジットされる発光材
料粉とを含む。本発明によれば、発光材料のデポジット
中アルコールをベースとする有機の溶液にニトロメタン
を加えることによって、後者がインジウム及び酸化スズ
(ITO)であるときデポジット基板の透明の減少及び
なくなることを防ぐことができる。
【0015】更に、前記ニトロメタン付加によって、同
じ電解漕は使用でき、かつ使用される蛍光体などの発光
材料を問題としないし、ITOの破壊とならない。
じ電解漕は使用でき、かつ使用される蛍光体などの発光
材料を問題としないし、ITOの破壊とならない。
【0016】有機溶液でニトロメタンと共に使用され得
る脂肪族アルコールは異なるタイプである。エチルアル
コール又はイソプロピルアルコールを使用でき、通常は
後者である。
る脂肪族アルコールは異なるタイプである。エチルアル
コール又はイソプロピルアルコールを使用でき、通常は
後者である。
【0017】有機溶液を含むニトロメタンは透明なフィ
ルムの劣化を防ぐために適切でなければならないし、通
常1〜90vol.%である。良い結果は40vol.
%のニトロメタンと60vol.%のイソプロピルアル
コールからなる有機溶液を用いて得られる。
ルムの劣化を防ぐために適切でなければならないし、通
常1〜90vol.%である。良い結果は40vol.
%のニトロメタンと60vol.%のイソプロピルアル
コールからなる有機溶液を用いて得られる。
【0018】またデポジットサスペンションの有機溶液
段階は無機バインダとして少なくとも1つの鉱物塩基を
含み、かつデポジットされた発光材料層の粘着性を改良
するものである。
段階は無機バインダとして少なくとも1つの鉱物塩基を
含み、かつデポジットされた発光材料層の粘着性を改良
するものである。
【0019】この目的のために使用される鉱物塩基は異
なるタイプである。例えば、それらは希土類塩基やアル
カリ土金属塩基の族に属する。またそれはトリウム、ア
ルミニウム及び/又はコバルト塩基を使用することがで
きる。好ましくは、その塩基は例えばMg(NO3 )
2 、6H2 O;La(NO3 )3 、6H2 O;Al(N
O3 )3 、9H2 O;Th(NO3 )4 、xHO及びC
o(NO3 )2 、6H2Oである、水素を化合させるニ
トロアミンの形状である。そして、金属塩基、特に硝酸
塩ではサスペンションの導体性を増加でき、例えば40
V/cmのようにデポジットに必要な電圧を減少するこ
とができる。過度の電圧はブラックインジウムの中にI
TOの還元になるのでこれは特にインジウムと酸化スズ
(ITO)上にデポジットを処理することに影響する。
なるタイプである。例えば、それらは希土類塩基やアル
カリ土金属塩基の族に属する。またそれはトリウム、ア
ルミニウム及び/又はコバルト塩基を使用することがで
きる。好ましくは、その塩基は例えばMg(NO3 )
2 、6H2 O;La(NO3 )3 、6H2 O;Al(N
O3 )3 、9H2 O;Th(NO3 )4 、xHO及びC
o(NO3 )2 、6H2Oである、水素を化合させるニ
トロアミンの形状である。そして、金属塩基、特に硝酸
塩ではサスペンションの導体性を増加でき、例えば40
V/cmのようにデポジットに必要な電圧を減少するこ
とができる。過度の電圧はブラックインジウムの中にI
TOの還元になるのでこれは特にインジウムと酸化スズ
(ITO)上にデポジットを処理することに影響する。
【0020】また金属塩基の存在は、フラット、トリカ
ラースクリーンを製造するとき、異なる層のデポジット
の間の必要とする洗浄動作に耐えるためにもデポジット
された発光材料層の粘着性を改良することとなる。
ラースクリーンを製造するとき、異なる層のデポジット
の間の必要とする洗浄動作に耐えるためにもデポジット
された発光材料層の粘着性を改良することとなる。
【0021】有機溶液中に金属塩基又は塩基を流し込む
ことにおいて、第1に水の大変少ない量で溶かされる。
サスペンションにある金属塩基は通常10-4〜10-6モ
ル/lである。
ことにおいて、第1に水の大変少ない量で溶かされる。
サスペンションにある金属塩基は通常10-4〜10-6モ
ル/lである。
【0022】本発明に係るサスペンションのベース上に
電気泳動によってデポジットされる発光材料層の特性を
改良するために、基板及びその他に発光材料グレインの
粘着性の改良を実現できる植物性蛋白質を加える。
電気泳動によってデポジットされる発光材料層の特性を
改良するために、基板及びその他に発光材料グレインの
粘着性の改良を実現できる植物性蛋白質を加える。
【0023】サスペンションに加えられる植物性蛋白質
又蛋白質はプロラミンの族に属するシンプルな蛋白質で
あり得る。特に、ロイシン及びメチオニンで濃度の高い
トウモロコシ又はコーンのような穀物のシードに含まれ
るプロラミンを使用できる。植物性源を有する適切な蛋
白質の一例として、参考例はコーンから得られるゼイン
に作られる。質的に付加される植物性蛋白質の合計は
0.1g/lと3g/lの間であり得る。
又蛋白質はプロラミンの族に属するシンプルな蛋白質で
あり得る。特に、ロイシン及びメチオニンで濃度の高い
トウモロコシ又はコーンのような穀物のシードに含まれ
るプロラミンを使用できる。植物性源を有する適切な蛋
白質の一例として、参考例はコーンから得られるゼイン
に作られる。質的に付加される植物性蛋白質の合計は
0.1g/lと3g/lの間であり得る。
【0024】サスペンションの中に取り入れる発光材料
の粉は異なるタイプであり得るが、大きな表面に渡って
均等に薄くデポジットの得ることに不利である沈殿現象
を制限するためにサスペンションでの粉の拡散を保証す
るためにグレンサイズを有している。平均的なグレンサ
イズは20μmと等しいかそれ以下、例えば1〜10μ
mである。
の粉は異なるタイプであり得るが、大きな表面に渡って
均等に薄くデポジットの得ることに不利である沈殿現象
を制限するためにサスペンションでの粉の拡散を保証す
るためにグレンサイズを有している。平均的なグレンサ
イズは20μmと等しいかそれ以下、例えば1〜10μ
mである。
【0025】使用される発光材料は特に酸化物、酸化硫
酸及び硫酸の蛍光体、この特性を有する商業的に利用で
きる材料によって構成され得る。
酸及び硫酸の蛍光体、この特性を有する商業的に利用で
きる材料によって構成され得る。
【0026】サスペンションに関係する発光材料粉はワ
イドな大きさの範囲内で可変でき、通常1g/l〜10
0g/lである。
イドな大きさの範囲内で可変でき、通常1g/l〜10
0g/lである。
【0027】以下説明されるサスペンションは特に電気
的に導体、インジウムと酸化スズのフィルムのような透
明フィルムでコーティングされた透明な絶縁基板上に発
光材料をデポジットするために使用される。
的に導体、インジウムと酸化スズのフィルムのような透
明フィルムでコーティングされた透明な絶縁基板上に発
光材料をデポジットするために使用される。
【0028】また、本発明は電気的な導体、透明なフィ
ルムでコーティングされた電気的に絶縁、透明な基板上
の発光材料のデポジットにおける処理に関し、ここに付
与される特徴を有する前記材料の粉のサスペンションか
ら電気泳動によって前記材料のデポジットを実行するこ
とを含み、カソード及び金属アノードとしてコーティン
グされた基板を使用し、アノードとカソードとの間の1
〜40V/cmの電圧を供給することによるものであ
る。
ルムでコーティングされた電気的に絶縁、透明な基板上
の発光材料のデポジットにおける処理に関し、ここに付
与される特徴を有する前記材料の粉のサスペンションか
ら電気泳動によって前記材料のデポジットを実行するこ
とを含み、カソード及び金属アノードとしてコーティン
グされた基板を使用し、アノードとカソードとの間の1
〜40V/cmの電圧を供給することによるものであ
る。
【0029】金属アノードは白金又はステンレス綱であ
る。
る。
【0030】このデポジット処理において、デポジット
段階中電気的なパラメータの制御は透明度及び電気的に
導体の導体特性、透明なフィルムを維持するためにきわ
めて重要である。またアノードとカソードの間の距離を
1〜5cmの範囲で適切なギャップに調整することがで
きる。同じ方法で、電圧は40V/cmを越えないよう
にする。なぜならば、この電圧を越えることはインジウ
ム及び酸化スズのような透明で導体フィルムの劣化とな
るからである。
段階中電気的なパラメータの制御は透明度及び電気的に
導体の導体特性、透明なフィルムを維持するためにきわ
めて重要である。またアノードとカソードの間の距離を
1〜5cmの範囲で適切なギャップに調整することがで
きる。同じ方法で、電圧は40V/cmを越えないよう
にする。なぜならば、この電圧を越えることはインジウ
ム及び酸化スズのような透明で導体フィルムの劣化とな
るからである。
【0031】多種において、電圧はITOを劣化させな
いために40V/cm以下に維持することで一定な電流
で動作する。また、40V/cm以下に維持するがパル
ス性の電流を使用できる。
いために40V/cm以下に維持することで一定な電流
で動作する。また、40V/cm以下に維持するがパル
ス性の電流を使用できる。
【0032】このデポジット処理はフラットでトリカラ
ースクリーン、特にマイクロチップあるいはマイクロド
ットスクリーンに相当する赤、青及び緑3つのカラー有
効なデポジットとして使用できる。この場合で、電気的
に絶縁上で、透明な基板は第1にデポジットされた3つ
のカラーに相当する位置に電気的に導体、透明なトラッ
クを個別に処理される。プリパラートはここで付与され
た特徴を有する3つのサスペンションに配置し、デポジ
ットされた第1のカラーに相当する第1の発光材料を第
1のサスペンションに、かつデポジットされた第2のカ
ラーに相当する第2の発光材料を第2のサスペンション
に、かつ第3のカラーに相当する第3の発光材料を第3
のサスペンションに含むものである。第1のカラーのデ
ポジットについて結合は電流発生器に第1のカラーに相
当するトラックに生じ、そのトラック上でここで開示さ
れた処理を行うことによって第1のカラーをデポジット
され、第1のサスペンションを使用する。この動作は第
2のサスペンションを使用して第2のカラーに相当する
トラックに、そして第3のサスペンションを使用して第
3のカラーに相当するトラックに対して繰り返される。
ースクリーン、特にマイクロチップあるいはマイクロド
ットスクリーンに相当する赤、青及び緑3つのカラー有
効なデポジットとして使用できる。この場合で、電気的
に絶縁上で、透明な基板は第1にデポジットされた3つ
のカラーに相当する位置に電気的に導体、透明なトラッ
クを個別に処理される。プリパラートはここで付与され
た特徴を有する3つのサスペンションに配置し、デポジ
ットされた第1のカラーに相当する第1の発光材料を第
1のサスペンションに、かつデポジットされた第2のカ
ラーに相当する第2の発光材料を第2のサスペンション
に、かつ第3のカラーに相当する第3の発光材料を第3
のサスペンションに含むものである。第1のカラーのデ
ポジットについて結合は電流発生器に第1のカラーに相
当するトラックに生じ、そのトラック上でここで開示さ
れた処理を行うことによって第1のカラーをデポジット
され、第1のサスペンションを使用する。この動作は第
2のサスペンションを使用して第2のカラーに相当する
トラックに、そして第3のサスペンションを使用して第
3のカラーに相当するトラックに対して繰り返される。
【0033】デポジットされたカラーに相当するトラッ
クは通常80μmの大変限定された幅を有し、仏国特許
第2,633,763号に開示されたエッチング処理に
よって製造され得る。
クは通常80μmの大変限定された幅を有し、仏国特許
第2,633,763号に開示されたエッチング処理に
よって製造され得る。
【0034】
【発明の実施の形態】図2では図1において共通の構成
を示すものを同じ参照符号を使用する。この構成では、
アノードは明らかに異なり、蛍光体を支持する電気的に
導体、透明なフィルムは第1のカラー18、第2のカラ
ー19及び第3のカラー20の蛍光体にそれぞれ相当す
る分離したトラック15,16,17によって構成され
る。
を示すものを同じ参照符号を使用する。この構成では、
アノードは明らかに異なり、蛍光体を支持する電気的に
導体、透明なフィルムは第1のカラー18、第2のカラ
ー19及び第3のカラー20の蛍光体にそれぞれ相当す
る分離したトラック15,16,17によって構成され
る。
【0035】その説明はマイクロチップ又はマイクロド
ットスクリーンの対角線で25.4cmを製造するため
に前記個別のトラック上に蛍光体18,19,20のデ
ポジットの製造の付与になる。
ットスクリーンの対角線で25.4cmを製造するため
に前記個別のトラック上に蛍光体18,19,20のデ
ポジットの製造の付与になる。
【0036】そのトラックはインジウムや酸化スズで作
られて80μmの幅を有する従来の方法で備えられてい
る。デポジットを行うために、プリパラートは有機での
3つのサスペンションに代わり、溶液段階では次のよう
な成分を有する。 ・ニトロメタン:40vol.% ・イソプロピレン:60vol.% ・Mg(NO3 )2 ,6H2 O:5・10-4mol/l ・ゼイン:0.8g/l
られて80μmの幅を有する従来の方法で備えられてい
る。デポジットを行うために、プリパラートは有機での
3つのサスペンションに代わり、溶液段階では次のよう
な成分を有する。 ・ニトロメタン:40vol.% ・イソプロピレン:60vol.% ・Mg(NO3 )2 ,6H2 O:5・10-4mol/l ・ゼイン:0.8g/l
【0037】第1のサスペンションは5μmの平均ゲイ
ンサイズを有する蛍光体であるZnS,CuAlの20
g/lを含む。第2のサスペンションは8μmの平均ゲ
インサイズを有する蛍光体としてZnS,Agの粉を、
第3のサスペンションはかつ8μmの平均ゲインサイズ
を有する蛍光体としてZnCdS,Agの粉を有してい
る。
ンサイズを有する蛍光体であるZnS,CuAlの20
g/lを含む。第2のサスペンションは8μmの平均ゲ
インサイズを有する蛍光体としてZnS,Agの粉を、
第3のサスペンションはかつ8μmの平均ゲインサイズ
を有する蛍光体としてZnCdS,Agの粉を有してい
る。
【0038】第1のカラーのデポジットについて行うた
めに、前記第1のトラックに相当するトラック15は電
流発生器に接続され、ほぼ結合されたトラック15をも
ってコーティング基板5は白金アノードを3cmの距離
でのデポジットによってなされ、16mAの大きさで3
0秒間8Vの電圧を前記アノードと導体トラック15と
の間に供給する。これは混合物に使用される同じアルコ
ールですすぐことによってなされる。
めに、前記第1のトラックに相当するトラック15は電
流発生器に接続され、ほぼ結合されたトラック15をも
ってコーティング基板5は白金アノードを3cmの距離
でのデポジットによってなされ、16mAの大きさで3
0秒間8Vの電圧を前記アノードと導体トラック15と
の間に供給する。これは混合物に使用される同じアルコ
ールですすぐことによってなされる。
【0039】これは電流発生器にトラック16を接続す
ることによって第2のカラーのデポジットによってなさ
れ、第2のサスペンションを使用し、かつ上記同様の
(8V,16mAと30秒)条件下でデポジットを実行
される。
ることによって第2のカラーのデポジットによってなさ
れ、第2のサスペンションを使用し、かつ上記同様の
(8V,16mAと30秒)条件下でデポジットを実行
される。
【0040】デポジットの後すすぐ。これは同様な方法
で第3のカラーのデポジットによってなされ、第3のサ
スペンションを使用する。
で第3のカラーのデポジットによってなされ、第3のサ
スペンションを使用する。
【0041】これはカラーの混合無しで良好な一様に薄
い粘着性のあるトリカラースクリーンを付与する。
い粘着性のあるトリカラースクリーンを付与する。
【0042】本発明に係るサスペンションの使用は大変
興味深いものがある。なぜなら、大きなスクリーン(対
角線で数ダースインチ以上のもの)の製造を実現できる
からである。また、スクリーンを大量に製造するために
同じ溶解漕を使用でき、サスペンションの寿命は数か月
である。
興味深いものがある。なぜなら、大きなスクリーン(対
角線で数ダースインチ以上のもの)の製造を実現できる
からである。また、スクリーンを大量に製造するために
同じ溶解漕を使用でき、サスペンションの寿命は数か月
である。
【0043】更に、バインダの質やサスペンションに含
まれる付加物は低電圧で励起される蛍光体の光出力を結
果的に影響しないこととなる。
まれる付加物は低電圧で励起される蛍光体の光出力を結
果的に影響しないこととなる。
【図1】陰極発光スクリーンの断面を示す図である。
【図2】マイクロチップ、トリカラー、陰極発光スクリ
ーンの断面を示す図である。
ーンの断面を示す図である。
15,16,17 トラック 18 第1のカラー 19 第2のカラー 20 第3のカラー
Claims (16)
- 【請求項1】 電気泳動による発光材料のデポジットに
おけるサスペンションにおいて、 少なくとも1つの金属塩と少なくとも1つの植物性タン
パク質を溶剤に含む、ニトロメタンと、メチルアルコー
ルを除く脂肪族アルコールの混合によって構成される極
性の有機の溶液と、 前記溶液にサスペンションでデポジットされる発光材料
の粉とを含むことを特徴とするサスペンション。 - 【請求項2】 脂肪族アルコールがイソプロピルアルコ
ールである請求項1記載のサスペンション。 - 【請求項3】 有機溶液が40vol.%のニトロメタ
ンと60vol.%のイソプロピルアルコールからなる
請求項2記載のサスペション。 - 【請求項4】 金属塩基はアルカリ土金属塩基、希土類
塩基、塩化ナトリウム、塩化アルミニウム及び塩化コバ
ルトの中から選んだ少なくとも1つの金属塩基によって
構成される請求項1記載のサスペンション。 - 【請求項5】 金属塩基が化学式Mg(NO3 )2 ,6
H2 Oの水素を化合させる硝酸マグネシウウムのニトロ
基である請求項1記載のサスペンション。 - 【請求項6】 サスペンションの金属塩基濃度は10-4
〜10-6モル/lである請求項1記載のサスペンショ
ン。 - 【請求項7】 植物性蛋白質はゼインである請求項1記
載のサスペンション。 - 【請求項8】 サスペンションの蛋白質濃度は0.1〜
3g/lである請求項1記載のサスペンション。 - 【請求項9】 発光材料粉は20μm以下の平均ゲイン
サイズを有する請求項1記載のサスペンション。 - 【請求項10】 サスペンションの発光材料粉の濃度は
1〜100g/lである請求項1記載のサスペンショ
ン。 - 【請求項11】 発光材料は蛍光体である請求項1記載
のサスペンション。 - 【請求項12】 40vol.%のニトロメタン、60
vol.%のイソプロピレン、0.8g/lのゼイン、
5・10-4mol/lのMg(NO3 )2 ,H2 O及び
5〜8μmの平均ゲインサイズを有する20g/lの発
光材料粉を含む請求項1記載のサスペンション。 - 【請求項13】 電気的な導体、透明なフィルムでコー
ティングされた電気的に絶縁、透明な基板上の発光材料
のデポジット方法において、 請求項1に記載の前記材料の粉のサスペンションから電
気泳動によって前記材料のデポジットを実行することを
含み、カソード及び金属アノードとしてコーティングさ
れた基板を使用し、アノードとカソードとの間の1〜4
0V/cmの電圧を供給することを特徴とする方法。 - 【請求項14】 電気的な導体、透明なフィルムはイン
ジウム及び酸化スズである請求項13記載の方法。 - 【請求項15】 トリカラー、フラットスクリーンを製
造する方法は、 電気的な導体、透明な基板個別にデポジットされた3つ
のカラーに相当する位置に導体で透明なトラックを生成
し、 第1のカラーの第1の発光材料を第1のサスペンション
に、第2のカラーの第2の発光材料を第2のサスペンシ
ョンに、及び第3のカラーの第3の発光材料を第3のサ
スペンションに含める請求項1による3つのサスペンシ
ョンを準備し、 電流発生器に前記第1のカラーに相当するトラックを接
続することによって、かつ第1のサスペンションを使用
して請求項13による処理を行うことによる第1のカラ
ーを前記トラック上にデポジットすることによって第1
のカラーをデポジットし、 第2のサスペンションを使用して第2のカラーに相当す
るトラック上に、かつ第3のサスペンションを使用して
第2のカラーに相当するトラック上に前記デポジット処
理を繰り返すことからなる製造方法。 - 【請求項16】 導体トラックがインジウム及び酸化ス
ズである請求項15記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9413370 | 1994-11-08 | ||
FR9413370A FR2726581B1 (fr) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | Suspension pour le depot de materiaux luminescents par electrophorese, notamment pour la realisation d'ecrans plats |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08234682A true JPH08234682A (ja) | 1996-09-13 |
Family
ID=9468610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7313758A Withdrawn JPH08234682A (ja) | 1994-11-08 | 1995-11-08 | フラットスクリーンを製造するための電気泳動による発光材料のデポジットにおけるサスペンション |
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US5536383A (ja) |
EP (1) | EP0715004B1 (ja) |
JP (1) | JPH08234682A (ja) |
DE (1) | DE69502005T2 (ja) |
FR (1) | FR2726581B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6563260B1 (en) | 1999-03-15 | 2003-05-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electron emission element having resistance layer of particular particles |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5744907A (en) * | 1996-01-19 | 1998-04-28 | Micron Display Technology, Inc. | Binders for field emission displays |
US5593562A (en) * | 1996-02-20 | 1997-01-14 | Texas Instruments Incorporated | Method for improving flat panel display anode plate phosphor efficiency |
US5830527A (en) * | 1996-05-29 | 1998-11-03 | Texas Instruments Incorporated | Flat panel display anode structure and method of making |
DE19630016C2 (de) * | 1996-07-25 | 2000-10-12 | Daimler Chrysler Ag | Verfahren zur Herstellung einer Leuchtstoffschicht einer Kathodenstrahlröhre |
US5965192A (en) * | 1996-09-03 | 1999-10-12 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Processes for oxide based phosphors |
CA2239288A1 (en) | 1996-09-03 | 1998-03-12 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Oxide based phosphors and processes therefor |
US6169357B1 (en) | 1997-07-28 | 2001-01-02 | Advanced Vision Technologies, Inc. | Electron field-emission display cell device having opening depth defined by etch stop |
US6071633A (en) * | 1996-09-03 | 2000-06-06 | Advanced Vision Technologies, Inc | Oxide based phosphors and processes therefor |
US6015326A (en) * | 1996-09-03 | 2000-01-18 | Advanced Vision Technologies,Inc. | Fabrication process for electron field-emission display |
KR100265859B1 (ko) * | 1996-12-21 | 2000-09-15 | 정선종 | 전계방출 디스플레이용 발광입자 |
US6171464B1 (en) | 1997-08-20 | 2001-01-09 | Micron Technology, Inc. | Suspensions and methods for deposition of luminescent materials and articles produced thereby |
GB0102896D0 (en) * | 2001-02-06 | 2001-03-21 | Univ Greenwich | Improved electrophoretic deposition |
US6864110B2 (en) * | 2002-10-22 | 2005-03-08 | Agilent Technologies, Inc. | Electrophoretic processes for the selective deposition of materials on a semiconducting device |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2982707A (en) * | 1958-07-30 | 1961-05-02 | Vitro Corp Of America | Electrophoretic dispersion |
GB1021548A (en) * | 1965-09-17 | 1966-03-02 | Imp Metal Ind Kynoch Ltd | Method of obtaining an intermetallic compound of niobium and tin in fabricated form |
GB1039730A (en) * | 1963-12-16 | 1966-08-17 | Imp Metal Ind Kynoch Ltd | Method of obtaining an intermetallic compound of niobium and tin in fabricated form |
US3714011A (en) * | 1970-07-17 | 1973-01-30 | Columbia Broadcasting Sys Inc | Method of electrophoretic deposition of cathodoluminescent materials |
JPS6010120B2 (ja) | 1982-09-14 | 1985-03-15 | ソニー株式会社 | 粉体の非水溶液系電着法 |
US4891110A (en) * | 1986-11-10 | 1990-01-02 | Zenith Electronics Corporation | Cataphoretic process for screening color cathode ray tubes |
FR2633763B1 (fr) | 1988-06-29 | 1991-02-15 | Commissariat Energie Atomique | Ecran fluorescent trichrome a micropointes |
US5231387A (en) | 1988-06-29 | 1993-07-27 | Commissariat A L'energie Atomique | Apparatus and method for addressing microtip fluorescent screen |
US5057196A (en) * | 1990-12-17 | 1991-10-15 | General Motors Corporation | Method of forming platinum-silicon-enriched diffused aluminide coating on a superalloy substrate |
FR2687839B1 (fr) | 1992-02-26 | 1994-04-08 | Commissariat A Energie Atomique | Source d'electrons a cathodes emissives a micropointes et dispositif de visualisation par cathodoluminescence excitee par emission de champ utilisant cette source. |
-
1994
- 1994-11-08 FR FR9413370A patent/FR2726581B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-10-19 US US08/545,171 patent/US5536383A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-03 EP EP95402449A patent/EP0715004B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-03 DE DE69502005T patent/DE69502005T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-08 JP JP7313758A patent/JPH08234682A/ja not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6563260B1 (en) | 1999-03-15 | 2003-05-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electron emission element having resistance layer of particular particles |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69502005T2 (de) | 1998-10-15 |
DE69502005D1 (de) | 1998-05-14 |
EP0715004B1 (fr) | 1998-04-08 |
FR2726581B1 (fr) | 1996-12-06 |
US5536383A (en) | 1996-07-16 |
EP0715004A1 (fr) | 1996-06-05 |
FR2726581A1 (fr) | 1996-05-10 |
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---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030204 |