JPH10320835A - 光ディスク - Google Patents

光ディスク

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JPH10320835A
JPH10320835A JP9128638A JP12863897A JPH10320835A JP H10320835 A JPH10320835 A JP H10320835A JP 9128638 A JP9128638 A JP 9128638A JP 12863897 A JP12863897 A JP 12863897A JP H10320835 A JPH10320835 A JP H10320835A
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JP
Japan
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groove
optical disk
side wall
groove depth
depth
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JP9128638A
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English (en)
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Madoka Nishiyama
円 西山
Seiji Morita
成二 森田
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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    • G11B7/00557Erasing involving phase-change media
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、ランド・グルーブ記録を行う相変
化型の光ディスクに関し、狭トラックピッチ化の弊害を
解消することを目的とする。 【解決手段】 アモルファスと結晶間の相変化を利用し
て、ランド部とグルーブ部とに記録を行う光ディスクに
おいて、光の波長をλとし、ディスク基板の屈折率をn
としたとき、ランド部とグルーブ部との段差であるグル
ーブ深さを、λ/(3.78n)以上の数値範囲に限定
する。また、グルーブ深さを、λ/(3n),{λ/
(3n)+λ/(2n)},{λ/(6n)+λ/(2
n)}の値付近のいずれかに設定する。さらに、上記の
ようにグルーブ深さを深くしつつ、溝側壁の荒れ幅を5
0nm以下もしくは20nm以下に抑制する。また、溝
側壁のテーパ角を60度以上、80度以上もしくは84
度以上に設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクに関
し、特に、グルーブ深さを適正に設定することによっ
て、消去率などの特性を向上させた光ディスクに関す
る。
【0002】
【従来の技術】光ディスクは、大容量メモリとして民生
用および計算機用などに実用化され、急速に普及しつつ
ある。マルチメディア時代を迎え、情報の増大・多様化
に対応するため、次世代の光ディスクにおいては、さら
なる大容量化、転送速度の高速化、さらにはオーバーラ
イト化などの要求がますます高まっている。
【0003】特に最近では、トラック密度を倍増させて
大容量化を図るため、光ディスクのランド部およびグル
ーブ部の双方に信号を記録する方式(以下、「ランド・
グルーブ記録」という)が注目されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このようなランド・グ
ルーブ記録においては、トラックピッチが従来の半分程
度まで狭くなる。
【0005】そのため、再生時に隣接トラックの信号が
再生信号に混入するクロストークや、消去時に隣接トラ
ックの信号を消してしまうクロスイレーズや、隣接トラ
ックにはみ出して信号を記録してしまうクロスライトな
どの弊害が発生しやすい。特に、記録再生を繰り返す光
ディスクにおいては、クロスイレーズやクロスライトの
影響が累積されるため、上記弊害の影響が大きく現れ
る。
【0006】また、狭トラックピッチ化に伴って、再生
信号の出力自体が低下するため、CNR(キャリア−ノ
イズ比)が低下するという弊害も生じる。さらに、狭ト
ラックピッチ化に伴って、消去特性も低下する。消去特
性の低下の原因としては、記録マークが、狭いトラック
幅いっぱいに、もしくは若干はみ出す程度に書き込ま
れ、オーバーライト時に消し残りを生じるためと考えら
れる。
【0007】上述したような弊害のために、ランド・グ
ルーブ記録を行う光ディスクでは、0.8〜0.7μm
程度のトラックピッチが限界であり、これ以上の狭トラ
ックピッチ化は困難であると考えられていた。そこで、
請求項1〜3に記載の発明では、上述した弊害を解決し
つつ、トラックピッチをさらに狭くすることができる光
ディスクを提供することを目的とする。
【0008】請求項4〜6に記載の発明では、請求項1
の目的と併せて、クロストークを格段に減少させること
ができる光ディスクを提供することを目的とする。請求
項7〜11に記載の発明では、グルーブ深さを従来以上
に深くした際に生じる弊害を解決した光ディスクを提供
することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、アモルファスと結晶間の相変化を利用して、ランド
部とグルーブ部とにそれぞれ記録を行う光ディスクにお
いて、照射光の波長をλとし、ディスク基板の屈折率を
nとしたとき、ランド部とグルーブ部との段差であるグ
ルーブ深さを、λ/(3.78n)以上にしたことを特
徴とする。
【0010】このような構造により、ランド部とグルー
ブ部との間の熱伝搬距離が長くなる。そのため、光の照
射熱は隣接トラックへ伝搬しにくくなり、熱伝搬により
生じるクロスイレーズやクロスライトなどの弊害が軽減
される。また、隣接トラックに熱が伝搬しにくくなるこ
とにより、ランド部およびグルーブ部ともに熱が溜まり
やすくなる。そのため、記録マークを消去する際、アモ
ルファスマークを結晶化温度の近傍に長い時間留まらせ
ることが可能となる。その結果、アモルファスマークの
結晶化効率が向上し、消去率が向上する。
【0011】特に、グルーブ深さをλ/(3.78n)
以上に設定することにより、トラックピッチが0.6μ
m程度の場合に、実用可能なクロスライト耐性Pw/P
p(後述)の値を確保することが可能となる。このよう
な作用により、狭トラックピッチ化の弊害が軽減され、
0.6μm以下の狭トラックピッチ化を図ることが可能
となる。
【0012】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の光ディスクにおいて、トラックピッチが、1.18λ
よりも狭いことを特徴とする。請求項3に記載の発明
は、請求項1または請求項2に記載の光ディスクにおい
て、グルーブ深さが、λ/(3.78n)〜λ/(1.
13n)の範囲にあることを特徴とする。
【0013】請求項4に記載の発明は、請求項1または
請求項2に記載の光ディスクにおいて、グルーブ深さ
が、λ/(3n)であることを特徴とする。このように
ランド−グルーブ間の光路差を設定することにより、隣
接トラックからのクロストークを極小にすることができ
る。請求項5に記載の発明は、請求項1または請求項2
に記載の光ディスクにおいて、グルーブ深さが、{λ/
(3n)+λ/(2n)}であることを特徴とする。
【0014】このようにランド−グルーブ間の光路差を
設定することにより、隣接トラックからのクロストーク
を極小にすることができる。請求項6に記載の発明は、
請求項1または請求項2に記載の光ディスクにおいて、
グルーブ深さが、{λ/(6n)+λ/(2n)}であ
ることを特徴とする。このようにランド−グルーブ間の
光路差を設定することにより、隣接トラックからのクロ
ストークを極小にすることができる。
【0015】請求項7に記載の発明は、請求項1乃至6
のいずれか1項に記載の光ディスクにおいて、溝側壁の
荒れ幅が、50nm以下であることを特徴とする。グル
ーブ深さを深くすることにより、溝側壁の荒れに起因す
る再生ノイズが増加する。そこで、今回実験した結果、
従来150nm以上であった荒れ幅を最大50nmに抑
えることにより、ノイズレベルを低減してCNR45d
Bを確保できることを見いだした。このCNR45dB
の値は、ISO規格などで定められるCNRの規格値4
5dBを満足する値である。
【0016】請求項8に記載の発明は、請求項1乃至6
のいずれか1項に記載の光ディスクにおいて、溝側壁の
荒れ幅が、20nm以下であることを特徴とする。グル
ーブ深さを深くすることにより、溝側壁の荒れに起因す
る再生ノイズが増加する。そこで、今回実験した結果、
荒れ幅を最大20nmに抑えることにより、ノイズレベ
ルを低減してCNR48dBを確保できることを見いだ
した。このCNR48dBの値は、ISO規格などで定
められるCNRの規格値45dBに対して3dB程度の
マージンを確保した値である。
【0017】請求項9に記載の発明は、請求項1乃至6
のいずれか1項に記載の光ディスクにおいて、溝側壁の
テーパ角が、60度以上であることを特徴とする。通
常、溝側壁はテーパ角を持たせて形成される。そのた
め、グルーブ深さを深くするに従って、光ピックアップ
からみた溝側壁の幅が広がる。このとき、両側のトラッ
クからの信号が溝側壁にはみ出して記録されているた
め、溝側壁へのクロスライト分だけクロスライト耐性が
悪化する。
【0018】そこで、今回実験した結果、テーパ角を6
0度以上にすることにより、クロスライト耐性に実用可
能な1以上の値を確保できることを見いだした。請求項
10に記載の発明は、請求項1乃至6のいずれか1項に
記載の光ディスクにおいて、溝側壁のテーパ角が、80
度以上であることを特徴とする。今回実験した結果、テ
ーパ角を80度以上にすることにより、クロスライト耐
性に実用可能な1.1以上の値を十分確保できることを
見いだした。
【0019】請求項11に記載の発明は、請求項1乃至
6のいずれか1項に記載の光ディスクにおいて、溝側壁
のテーパ角が、84度以上であることを特徴とする。今
回実験した結果、テーパ角を84度以上にすることによ
り、クロスライト耐性が急激に向上することを見いだし
た。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明にお
ける実施の形態を説明する。
【0021】図1は、今回作製した相変化型光ディスク
の基本構造(急冷構造)を示す断面図である。図1にお
いて、ディスク基板1は、直径86mm、内径15mm、厚
さ1.2mmからなる円盤状のガラス2P基板(屈折率n
=1.52)であり、その表面には、ランド部とグルー
ブ部とをなす溝がスパイラル状に形成される。このとき
のグルーブ深さは、従来のグルーブ深さ(40〜85n
m)よりも深い値(120nm以上)に設定される。
【0022】このディスク基板1の表面には、保護層
2,記録層3,保護層4,反射層5が順に形成される。
まず、保護層2は、ZnS−SiO2からなる膜厚13
5nmの層である。記録層3は、GeSbTeの合金か
らなる膜厚25nmの層である。保護層4は、ZnS−
SiO2からなる膜厚20nmの層である。反射層5
は、Alからなる膜厚150nmの層である。
【0023】一方、光ディスクの評価測定用に使用した
光ピックアップ(図示せず)は、レーザ光の波長λが6
85nmであり、対物レンズの開口数(NA)が0.6
である。以下、各測定結果ごとに光ディスクの特性を説
明する。 (オーバーライト時の消去率)トラックピッチを0.6
μmに設定し、グルーブ深さを160nmに設定した光
ディスクを対象にして、次の手順に従って消去率を測定
した。
【0024】(1)3Tマークを記録する。 (2)その3Tマークを再生する。 (3)その上に、8Tマークを記録する。 上記の手順(1)〜(3)を1000回繰り返した後、
最終的に3Tマークを記録する。この光ディスクを再生
した際に、再生信号中の8T成分(オーバーライト時の
消し残り)と3T成分との比を測定し、消去率とする。
【0025】図2は、消去パワーを種々に設定した場合
の消去率の値を示した図である。図中の丸印は、従来の
光ディスク(グルーブ深さ=40nm)における消去率
を示し、三角印は、本実施形態の光ディスク(グルーブ
深さ=160nm)における消去率を示す。図2におい
て、本実施形態の光ディスクは、従来の光ディスクに比
べて、消去率が3〜10dBほど全体的に向上してい
る。
【0026】そのため、例えば消去率30dB以上を実
使用範囲と考えると、消去パワーの変動マージンが、従
来の±6%からさらに拡大し、本実施形態においては±
35.5%の変動マージンを確保することができる。以
下、オーバーライト時の消去率が向上する理由につい
て、いくつかの説明を試みる。
【0027】まず、グルーブ深さを深くすることによ
り、ランド部とグルーブ部との間の熱伝搬距離が長くな
る。その結果、光の照射熱は隣接トラックへ伝搬しにく
くなり、熱がトラック内に集中しやすくなる。その結
果、記録時と消去時とにおける熱の広がりがほぼ同一の
範囲に制限され、マーク周辺部などの消し残りが従来に
比べて生じにくくなると考えられる。
【0028】また、ランド部とグルーブ部との間の熱伝
搬距離が長くなることにより、トラック上に熱が溜まり
やすくなる。そのため、記録マークを消去する際、アモ
ルファス部分を結晶化温度の近傍に長い時間留まらせる
ことが可能となる。その結果、アモルファス部分の結晶
化効率が向上し、消去率が向上すると考えられる。以上
のように、グルーブ深さを深くすることにより、消去率
が改善されるので、一層の狭トラックピッチ化や高転送
レート化を図ることが可能となる。
【0029】次に、別の測定結果について説明する。 (クロスライト耐性)次の手順に従って、クロスライト
耐性を測定する。まず、光ディスク全体を結晶構造(消
去状態)にする。この光ディスクのランド上の1トラッ
ク分に対し、線速5m/sec の状態で、0.4μmの長
さの単一周波数記録ビットを記録する。
【0030】このとき、CNRおよび消去率が最適とな
る記録パワーの値を求めて、最適記録パワーPpとす
る。次に、隣接する両側のグルーブ部に対し、それぞれ
数100回程度0.43μmの長さの単一周波数記録ビ
ットを記録する。その後、ランド部に戻ってCNRの測
定を行う。
【0031】このとき、ランド部のCNRが落ちはじめ
る(0.5dBダウン)記録パワーPwの値を求める。
ここで、記録パワーの比Pw/Ppを算出し、クロスラ
イト耐性とする。このクロスライト耐性Pw/Ppが1
未満の場合、最適記録パワーPpで所定トラックを記録
した際に、隣接トラックでは、クロスライトが発生して
CNRが0.5dB以上低下してしまう。そのため、ク
ロスライト耐性Pw/Ppが1未満の場合は、ほぼ実用
に適さない。
【0032】一方、クロスライト耐性Pw/Ppが1以
上の場合、最適記録パワーPpで所定トラックを記録す
る際に、隣接トラックにおけるCNRの低下は、0.5
dB以下に抑えることができる。そのため、クロスライ
ト耐性Pw/Ppが1以上になる範囲が実用可能な範囲
となる。実際には、記録パワーの変動マージンを見込む
ため、クロスライト耐性Pw/Ppは、1.1以上ある
ことが好ましい。
【0033】図3は、トラックピッチとグルーブ深さと
を種々に設定した光ディスクについて、クロスライト耐
性Pw/Ppをそれぞれ測定した結果である。図3に示
すように、グルーブ深さを深くするに従って、クロスラ
イト耐性Pw/Ppが向上する。ここで、トラックピッ
チが0.6μmの場合、グルーブ深さを120nm以上
に設定することにより、クロスライト耐性Pw/Ppに
実用可能な1以上の値を確保することが可能となる。
【0034】すなわち、グルーブ深さを120nm以上
にすることにより、従来可能であったトラックピッチ
0.7μmの限界をさらに越えて、0.6μm以下のト
ラックピッチを実現することができる。このようなグル
ーブ深さの臨界条件120nmを、レーザ光の波長をλ
とし、ディスク基板の屈折率をnとして、光学的に換算
することにより、λ/(3.78n)が求まる。
【0035】図4は、図3と同様の測定結果に基づい
て、トラックピッチとクロスライト耐性Pw/Ppとの
関係を示した図である。図4に示されるように、グルー
ブ深さを160nmに設定した場合には、トラックピッ
チを0.53μmまで狭めつつ、実用可能なクロスライ
ト耐性Pw/Ppを確保することが可能となる。
【0036】さらに、グルーブ深さを200nmに設定
した場合には、トラックピッチを0.5μm以下に狭め
ても、実用可能なクロスライト耐性Pw/Ppを確保す
ることが可能となる。
【0037】次に、別の測定結果について説明する。 (クロストーク)従来、ランド・グルーブ記録方式にお
いて、グルーブ深さをλ/(6n)程度に設定した場
合、隣接トラックからのクロストークを極小にできるこ
とが知られている。
【0038】今回は、グルーブ深さをλ/(3.78
n)以上に設定するに際して、クロストークを極小にす
るポイントを新たに検討した。その結果、グルーブ深さ
dを次の値付近に設定することにより、クロストークが
極小になることを初めて見いだした。 d=λ/(3n) ・・・(1) d=λ/(6n)+λ/(2n) ・・・(2) d=λ/(3n)+λ/(2n) ・・・(3) さらに、光学的計算の結果、クロストークが極小となる
グルーブ深さdの一般値は、 d=λ/(3n)+pλ/(2n) ・・・(4) (ただし、係数p=0,1,2・・・) d=λ/(6n)+mλ/(2n) ・・・(5) (ただし、係数m=0,1,2・・・)と表されること
を初めて見いだした。
【0039】図5は、グルーブ深さとクロストークとの
関係を示す図である。なお、図5に示す黒丸は測定値で
あり、実線は計算値である。図5においては、グルーブ
深さd=135nm,310nm,360nmの付近
で、クロストークが極小になる。これらの値は、上記
(1)〜(3)式から求められる値付近にそれぞれ位置
する。
【0040】このようにグルーブ深さdを設定すること
により、クロストークの発生を効果的に抑制することが
可能となる。図6は、記録パワーの変化に伴ってクロス
トークを測定した結果を示した図である。図6に示す丸
印は、従来通りにグルーブ深さをλ/(6n)に設定し
た場合の測定データであり、図6に示す三角印は、グル
ーブ深さをλ/(3n)に設定した場合の測定データで
ある。
【0041】図6に示されるように、グルーブ深さがλ
/(3n)の場合には、記録パワーが大きく変動して
も、クロストークには変化がほとんど観られない。これ
は、グルーブ深さを深くすることにより、記録マーク幅
のはみ出しが溝側壁で制限されているためと考えられ
る。したがって、上記(1)〜(3)式によるグルーブ
深さdの設定を行うことにより、通常時のクロストーク
抑制に有効なばかりか、光ピックアップ部の記録パワー
が大きく変動するような悪条件下においても、クロスト
ークを強く抑制できることがわかる。
【0042】次に、別の測定結果について説明する。 (溝側壁の荒れ)図7は、スタンパー表面の電子顕微鏡
写真である。図7(a)は、溝側壁の荒れ幅が、150
nm程度の場合である。一方、図7(b)は、溝側壁の
荒れ幅が、20nm以下の場合である。なお、図7
(b)のスタンパーは、既知のマスタリングプロセスに
ついて各因子を試行錯誤的に適正化することにより作製
された。
【0043】図8は、溝側壁の荒れ低減による改善効果
を示す図である。図8に示されるように、溝側壁の荒れ
幅が150nm以上では、再生ノイズのノイズレベルは
(−60dBm)となり、CNRは42dBとなる。一
方、溝側壁の荒れ幅が50nm以下では、再生ノイズの
ノイズレベルは(−63dBm)まで改善され、CNR
は45dBに改善される。
【0044】さらに、溝側壁の荒れ幅を20nm以下に
抑えると、再生ノイズのノイズレベルは(−66dB
m)まで改善され、CNRは48dBに改善される。次
に、別の測定結果について説明する。 (溝側壁のテーパ角)図9は、溝側壁のテーパ角を定義
するための図である。
【0045】ここでは、図9に示すように、溝側壁の面
とディスクの板面とがなす鋭角θをテーパ角と定義す
る。図10は、テーパ角を種々に設定した場合のクロス
ライト耐性Pw/Ppを示した図である。なお、測定に
使用した光ディスクのグルーブ深さは、180nmであ
る。
【0046】図10に示されるように、テーパ角を急峻
(90度に近づける)にするに従って、クロスライト耐
性Pw/Ppは向上する。これは、テーパ角を急峻にす
るに従って、光ピックアップから観た溝側壁の幅が狭く
なり、溝側壁へのクロスライト分が低減するためと考え
られる。特に、テーパ角を60度以上に設定した場合、
トラックピッチ0.5μmにおいても、クロスライト耐
性に実用可能な1以上の値を確保することができる。
【0047】また、テーパ角を80度以上に設定した場
合は、トラックピッチ0.5μmにおいても、クロスラ
イト耐性に実用可能な1.1以上の値を確保することが
できる。さらに、テーパ角を84度以上に設定した場合
には、トラックピッチから観た溝側壁の幅は無視できる
程度となるため、クロスライト耐性は急激に向上する。
なお、上述した実施形態では、急冷構造の光ディスク
(図1)を中心に説明したが、本発明は急冷構造の光デ
ィスクに限定されるものではない。
【0048】例えば、図11に示すように第2の保護層
4を200μm程度に厚膜化したり、もしくは、放熱部
である反射層5を20nm程度に薄膜化することによっ
て、徐冷構造の光ディスクを形成することができる。
【0049】このような徐冷構造の光ディスクにおいて
も、グルーブ深さを深くすることによる作用効果を同様
に得ることができる。例えば、図4に示す白三角印は、
徐冷構造の光ディスクに関する測定データである。この
ような測定データでは、急冷構造の光ディスクとほぼ同
じ傾向のデータが得られる。また、上述した実施形態で
は、ディスク基板1にガラスを使用しているが、この材
質に限定されるものではない。一般的には、耐熱性がよ
く、吸水率が低く、かつ反りが少ないなどの特性を有す
る材質であればよい。例えば、ポリカーボネート、ポリ
メチルメタクリレート、ポリオレフィン系樹脂などを使
用してもよい。
【0050】さらに、上述した実施形態では、保護層
2,4としてZnS−SiO2を使用しているが、この
材質に限定されるものではない。一般的には、透明で熱
的に安定な材質であればよい。例えば、金属や半金属の
酸化物、窒化物、カルコゲン化物、フッ化物、炭化物な
どを使用してもよい。また、上述した実施形態では、記
録層3としてGeSbTeからなる合金を使用している
が、この材質に限定されるものではない。一般的には、
安定なアモルファス状態を室温で保ち、かつアモルファ
ス状態と結晶状態との間で光学的変化が大きい材質であ
ればよい。例えば、InSbTe,InSbTeAg,
GaSb,InGaSb,GeSnTe,AgSbTe
などを使用してもよい。
【0051】さらに、上述した実施形態では、反射層5
にAlを使用しているが、この材質に限定されるもので
はない。一般的には、光を反射する金属膜であればよ
い。例えば、Au,Ti,Ni,Cu,Cr,Siなど
を使用してもよい。また、他層の膜厚や屈折率を調整す
ることにより、反射層5を用いない構造とすることもで
きる。
【0052】また、誘電体保護層4と反射層5との間
に、熱膨張係数の小さいSiO2層を付加した構造の光
ディスクとしてもよい。さらに、誘電体保護層4と反射
層5との間に、SiO2層+ZnS-SiO2等の保護層
を付加した構造の光ディスクでもよい。
【0053】さらには、基板1と誘電体保護層2との間
に、Auなどの反射層を付加した構造の光ディスクでも
よい。また、上述した実施形態では、光ピックアップ部
のレーザ光の波長λを685nmとしているが、この波
長に限定されるものではない。例えば、レーザ光の波長
λを410nm程度に短波長化してもよい。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1〜3に記
載の発明では、グルーブ深さを、λ/(3.78n)以
上に設定するので、ランド部とグルーブ部との間の熱伝
搬距離が長くなる。その結果、光の照射熱は隣接トラッ
クへ伝搬しにくくなり、熱伝搬により生じるクロスイレ
ーズやクロスライトが減少する。
【0055】また、隣接トラックに熱が伝搬しにくくな
ることにより、トラック上に熱が溜まりやすくなる。そ
のため、記録マークを消去する際、アモルファス部分を
結晶化温度の近傍に長時間留まらせることが可能とな
る。その結果、アモルファス部分の結晶化効率が向上
し、消去率が向上する。さらに、今回の測定結果から、
光ディスクのグルーブ深さを深くすることによって、消
去パワーや記録パワーの変動マージンを拡大できること
が明らかになった。
【0056】特に、グルーブ深さをλ/(3.78n)
以上に限定することにより、トラックピッチが0.6μ
mの場合においても、クロスライト耐性Pw/Ppに実
用可能な1以上の値を確保することが可能となる。請求
項4に記載の発明では、グルーブ深さをλ/(3n)に
設定する。このようなにランド−グルーブ間の光路差を
設定することにより、隣接トラックからのクロストーク
を極小にすることができる。
【0057】請求項5に記載の発明では、グルーブ深さ
を{λ/(3n)+λ/(2n)}に設定する。このよ
うにランド−グルーブ間の光路差を設定することによ
り、隣接トラックからのクロストークを極小にすること
ができる。請求項6に記載の発明では、グルーブ深さを
{λ/(6n)+λ/(2n)}に設定する。このよう
にランド−グルーブ間の光路差を設定することにより、
隣接トラックからのクロストークを極小にすることがで
きる。
【0058】請求項7に記載の発明では、溝側壁の荒れ
幅を50nm以下に設定するので、再生ノイズのレベル
を低減してCNR45dB程度を確保することが可能と
なる。このCNR45dBの値は、ISO規格などで定
められるCNRの規格値45dBを満足する値である。
請求項8に記載の発明では、溝側壁の荒れ幅を20nm
以下に設定するので、再生ノイズのレベルを低減してC
NR48dBを確保することが可能となる。このCNR
48dBの値は、ISO規格などで定められるCNRの
規格値45dBに対して3dB程度のマージンを確保で
きる値である。
【0059】請求項9に記載の発明では、溝側壁のテー
パ角を60度以上に設定するので、光ピックアップから
観た溝側壁の幅はそれほど広がらず、クロスライト耐性
に実用可能な1以上の値を確保することができる。請求
項10に記載の発明は、溝側壁のテーパ角を80度以上
に設定するので、光ピックアップから観た溝側壁の幅は
広がらず、クロスライト耐性に実用可能な1.1以上の
値を十分確保することができる。
【0060】請求項11に記載の発明は、溝側壁のテー
パ角を84度以上に設定するので、光ピックアップから
観た溝側壁の幅は無視できる程度となり、クロスライト
耐性を急激に向上させることができる。以上説明したよ
うに、本発明を適用した光ディスクでは、狭トラックピ
ッチ化に伴う弊害を的確に低減することができる。した
がって、従来以上の狭トラックピッチ化が可能となり、
光ディスクの大容量化,小型化などを図ることが可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】相変化型光ディスクの基本構造(急冷構造)を
示す断面図である。
【図2】消去パワーを種々に設定した場合の消去率の値
を示した図である。
【図3】グルーブ深さとクロスライト耐性Pw/Ppと
の関係を示した図である。
【図4】トラックピッチとクロスライト耐性Pw/Pp
との関係を示した図である。
【図5】グルーブ深さとクロストークとの関係を示す図
である。
【図6】記録パワーを種々に設定した場合のクロストー
クを示した図である。
【図7】図面に代わる「スタンパー表面の電子顕微鏡写
真」である。
【図8】溝側壁の荒れ低減による改善効果を示す図であ
る。
【図9】溝側壁のテーパ角を定義する図である。
【図10】テーパ角を種々に設定した場合のクロスライ
ト耐性Pw/Ppを示した図である。
【図11】相変化型光ディスクの基本構造(徐冷構造)
を示す断面図である。
【符号の説明】
1 ディスク基板 2 保護層 3 記録層 4 保護層 5 反射層

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アモルファスと結晶間の相変化を利用し
    て、ランド部とグルーブ部とにそれぞれ記録を行う光デ
    ィスクにおいて、 照射光の波長をλとし、ディスク基板の屈折率をnとし
    たとき、ランド部とグルーブ部との段差であるグルーブ
    深さが、λ/(3.78n)以上であることを特徴とす
    る光ディスク。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光ディスクにおいて、 トラックピッチが、1.18λよりも狭いことを特徴と
    する光ディスク。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の光ディ
    スクにおいて、 前記グルーブ深さが、λ/(3.78n)〜λ/(1.
    13n)の範囲にあることを特徴とする光ディスク。
  4. 【請求項4】 請求項1または請求項2に記載の光ディ
    スクにおいて、 前記グルーブ深さが、λ/(3n)であることを特徴と
    する光ディスク。
  5. 【請求項5】 請求項1または請求項2に記載の光ディ
    スクにおいて、 前記グルーブ深さが、{λ/(3n)+λ/(2n)}
    であることを特徴とする光ディスク。
  6. 【請求項6】 請求項1または請求項2に記載の光ディ
    スクにおいて、 前記グルーブ深さが、{λ/(6n)+λ/(2n)}
    であることを特徴とする光ディスク。
  7. 【請求項7】 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の
    光ディスクにおいて、 溝側壁の荒れ幅が、50nm以下であることを特徴とす
    る光ディスク。
  8. 【請求項8】 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の
    光ディスクにおいて、 溝側壁の荒れ幅が、20nm以下であることを特徴とす
    る光ディスク。
  9. 【請求項9】 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の
    光ディスクにおいて、 溝側壁のテーパ角が、60度以上であることを特徴とす
    る光ディスク。
  10. 【請求項10】 請求項1乃至6のいずれか1項に記載
    の光ディスクにおいて、 溝側壁のテーパ角が、80度以上であることを特徴とす
    る光ディスク。
  11. 【請求項11】 請求項1乃至6のいずれか1項に記載
    の光ディスクにおいて、 溝側壁のテーパ角が、84度以上であることを特徴とす
    る光ディスク。
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