JPH10249195A - 吸水性樹脂及びその製造方法 - Google Patents
吸水性樹脂及びその製造方法Info
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- JPH10249195A JPH10249195A JP415198A JP415198A JPH10249195A JP H10249195 A JPH10249195 A JP H10249195A JP 415198 A JP415198 A JP 415198A JP 415198 A JP415198 A JP 415198A JP H10249195 A JPH10249195 A JP H10249195A
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Abstract
に適した吸水性樹脂及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 イオン基が導入された高分子材料を主体
とし、安定化剤を含有する吸水性樹脂が開示される。こ
の吸水性樹脂は、予めイオン基が導入された高分子材料
に安定化剤を添加することにより製造される。あるいは
安定化剤を含有する高分子材料を加水分解処理し、イオ
ン基を導入することにより製造される。酸化防止剤や光
安定化剤のような安定化剤を含有させることで、熱安定
性や光安定性に優れたものとなり、吸水性樹脂の耐候性
が大幅に改善される。また、特に、使用済み樹脂廃材
(一般に、これら使用済み樹脂廃材は、安定化剤を含有
する。)を原料として利用することにより、資源の有効
利用が可能となる。
Description
る吸水性樹脂、及びその製造方法に関するものである。
野、食品流通分野、土木建築分野、化粧品やトイレタリ
ー分野、医療分野、電気電子分野、塗料接着剤分野等、
種々の分野において利用され、生活の必需品となってき
ている。
全への応用に関する検討も活発に行われている。
い、要求される性能も厳しくなってきており、従来のも
ののように、単に吸水効果が高いだけでは満足されない
ようになってきている。例えば、衛生品の分野では、い
わゆるドライタッチの向上や、漏れ率の低減が求めら
れ、吸水倍率よりもゲル化率の高い吸水性樹脂が求めら
れている。
が積極的に進められている。
で、吸水性樹脂の用途として期待される農業園芸分野、
土木建築分野等における屋外での使用を考えたとき、光
や温度等、過酷な条件変化に対応可能な吸水性樹脂が求
められている。
から、砂漠の緑化等に利用できる吸水性樹脂のニーズが
高まっており、かかる吸水性樹脂を安価に、且つ大量に
供給する必要が生じている。
れたものであって、屋外使用での経時安定性に優れる吸
水性樹脂及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
を克服せんものと鋭意研究を重ねた結果、吸水性樹脂に
安定化剤を含有させることで、光や熱等による経時変化
を大幅に抑えることができるとの知見を得るの至った。
たものである。すなわち、本発明の吸水性樹脂は、イオ
ン基が導入された高分子材料を主体とし、安定化剤を含
有することを特徴とするものである。
が導入された高分子材料に安定化剤を添加することを特
徴とするもの、あるいは安定化剤を含有する高分子材料
を加水分解処理し、イオン基を導入することを特徴とす
るものである。
を含有させることで、熱安定性や光安定性に優れたもの
となり、吸水性樹脂の耐候性が大幅に改善される。
これら使用済み樹脂廃材は、安定化剤を含有する。)を
原料として利用することにより、資源の有効利用が可能
となり、地球環境保全の点でも好ましい。
て詳細に説明する。
れた高分子材料を主体とし、安定化剤を含有してなるも
のである。
イオン基が導入された高分子材料としては、以下のもの
を挙げることができる。
はこれら両者の架橋ポリマー。例えば次のような方法に
より得られる。 アクリル酸ナトリウム+架橋剤(架橋モノマー)→重合
→乾燥
アクリル酸、その塩、アクリロニトリルをグラフト重合
したポリマー。例えば次のような方法により得られる。 a.デンプン+アクリル酸+架橋剤→グラフト重合→中
和→乾燥 b.デンプン+アクリロニトリル→グラフト重合→加水
分解→中和→乾燥
次のような方法により得られる。 アクリロニトリル+アクリル酸+N−メチロールアクリ
ルアミド→重合→紡糸→加水分解→乾燥
ー。例えば次のような方法により得られる。 ポリビニルアルコール→架橋(オルトリン酸、放射線
等)→乾燥
応じてスチレン、共役ジエンを含有するポリマーの加水
分解物(酸処理物)。
として、アクリロニトリルユニットを含有するため、イ
オン基が導入されても水溶性を示すことがない。アクリ
ロニトリルユニットを含有する高分子材料は、イオン基
の導入の際にアクリロニトリルのニトリル部分が加水分
解されることにより、改質物が吸水性を示すことにな
る。
アクリロニトリルユニットの含有量は、2〜95モル
%、好ましくは10〜60モル%、より好ましくは20
〜50%である。
と、吸水効果が低下するとともに、イオン基の導入後得
られる吸水性樹脂が水溶性を示すことになり、吸水性樹
脂として使用することが不可能となってしまう。
ると、高分子材料自体が硬くなるために、粉砕し難くな
り、改質反応が困難になったりする。また、アクリロニ
トリルの含有量が多すぎると、他の構成ユニットである
スチレンや共役ジエンの含有量が少なくなるために、溶
媒やスルホン化剤等の酸に対して膨潤し難くなり、イオ
ン基の導入が難しくなる。このため、吸水樹脂として実
用上の必要条件となる電解質水溶液に対する吸水効果が
低下してしまう。
以外の構成ユニットとしては、スチレン、共役ジエン
(ブタジエン、イソプレン等)が挙げられる。これらの
構成ユニットには、イオン基導入操作(酸処理又はアル
カリ処理を行う)によりイオン基(酸性基又はアルカリ
基)が導入され、吸水性を向上させる。
有量としては、スチレン、共役ジエンの少なくとも1種
類以上を5〜95モル%以上、好ましくは20〜95重
量%、より好ましくは40〜85モル%、より好ましく
は50〜80モル%である。
ルの他に、スチレン、共役ジエンが含有されていれば、
さらに、別の構成ユニットが含有されていてもよい。こ
れら他の構成ユニットとしては、無水マレイン酸、無水
イタコン酸、α−メチルスチレン、(メタ)アクリルア
ミド、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステ
ル(炭素数:1〜10の飽和及び不飽和炭化水素 )、
酢酸ビニル、塩化ビニル、エチレン、プロピレン、ブチ
レン、ビニルピロリドン、ビニルピリジン等が挙げられ
る。
料の重量平均分子量(Mw)としては、1000〜20
000000、さらには、10000〜1000000
が一般的である。分子量が1000より小さい場合に
は、改質処理をした際に水溶性を示すことになり、所望
の吸水性樹脂が得られない。一方、分子量が20000
000より大きい場合には、改質処理が難しくなる。た
だし、高分子材料が廃材である場合には、樹脂間に架橋
が形成されている場合があるため、特に分子量に限定さ
れない。
リルを含有する高分子材料としては、ABS樹脂(アク
リロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂)、SAN樹
脂(スチレン−アクリロニトリル樹脂)、ASA樹脂
(アクリロニトリル−スチレン−アクリレート樹脂)、
ACS樹脂(アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−
スチレン樹脂)、AAS樹脂(アクリロニトリル−アク
リル−スチレン樹脂)、NBR(アクリロニトリル−ブ
タジエンゴム)等が挙げられる。
を阻害しない樹脂であれば、他の異なる樹脂が混合され
いてもよい。異なる樹脂としては、例えば、ポリフェニ
レンエーテル、ポリカーボネート、ポリフェニレンスル
フィド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、ナイロン、ポリアミド、ポリエステル等
が挙げられる。なお、これらの樹脂は、高分子材料全体
に対して60重量%以下の割合で混合されることが望ま
しい。これは、これら異なる樹脂の含有量が60重量%
を越えると、イオン基の導入反応が阻害される虞がある
ためである。
されたバージン材であってもよいし、樹脂原料や成形品
の生産過程での排出品(半端品)や、各種用途のカバー
やケース、電化製品や自動車等に使用された筐体や各種
部品材料、チューブやホース、各種緩衝材等の、ある特
定の用途を目的として成型された使用済みの樹脂である
廃材であってもよい。又は、使用済み樹脂である廃材と
バージン材との混合物であってもよい。排出場所として
は、工場、販売店、過程等のいずれであってもよいが、
家庭からの一般廃棄物より工場や販売店等から回収され
たものの方が、比較的組成がそろったものが多いためよ
り好ましい。
分けて、埋め立て、焼却、再溶融の3種類の手法にて処
理されている。この中でも、国内では、埋め立てと焼却
が全体の約90%を占め、ほとんどリサイクルされてい
ないのが現状である。
溶融し再成形する(但し、熱可塑性樹脂のみ)すること
が行われている。しかしながら、熱による品質の劣化
(分子量低下、樹脂の酸化等)や、ゴミ等の異物の混
入、または種々の着色剤、補強剤となる無機顔料、金属
粉顔料を含有した樹脂が混入することにより色合わせが
必要になる等、多くの問題があった。このように、廃材
を加熱溶融によりリサイクルする場合、処理技術や処理
コストが大きな障害となっていた。
源の有効利用につながり、地球の環境保全に貢献するこ
とができる。
剤、可塑剤、充填剤、その他補助剤等の添加剤を含んで
いてもよい。
有する高分子材料は、改質反応の際に同顔料が同材料表
面からはずれ易くなり、ポーラス状の表面が発生し反応
表面積が増加することから、改質反応が促進される。引
き続いて、このポーラス状の表面は、改質反応が活発化
することで軟化状態となる。そのため、さらに深部に存
在する顔料までが同材料から脱離されることになり、改
質反応はより加速化されることになる。
材料は、改質反応の促進が図られ、改質後の高分子材料
の表面は、深部までがポーラスな状態となる。したがっ
て、この高分子材料から得られる吸水性樹脂は、吸水面
積が多くなることから、吸水倍率、吸収速度の点から飛
躍的に向上する。
含有量は、0.01〜20重量%、好ましくは0.05
〜10重量%である。
の改質反応に対する促進効果が低くなる。一方、顔料の
含有量が多くなりすぎると、経済的に不利になったり、
改質反応のコントロールが困難になる。
上述した高分子材料に対して分散性の良好であるものが
好ましく、カーボンブラック、鉄黒、酸化チタン、亜鉛
華、ベンガラ、群青、紺青、コバルトブルー、リトポ
ン、硫化亜鉛、酸化アンチモン、黄色酸化鉄、アンバ
ー、シエンナー、オーカー、ビリジアン、アルミニウム
粉、真鍮粉、ブロンズ粉等が挙げられる。特に、カーボ
ンブラック、酸化チタンが好ましい。
ーネス法、サーメル法のいずれの方法によって製造され
たものでもよく、それぞれの単独又は複数の併用で用い
てもよい。なお、平均粒子径としては、5〜500μ
m、好ましくは10〜50μmである。
長微粒子チタンのいずれのタイプでもよく、それぞれの
単独又は複数の併用で用いてもよい。なお、平均粒子径
としては、0.01〜50μmであり、好ましくは0.
05〜10μmである。
料中に単独で含有されていてもよいし、2種類以上混合
して含有されていてもよい。
水性樹脂を製造することを目的として、上述した高分子
材料に添加してもよいし、着色剤、隠ぺい剤、補強剤、
電気伝導性付与剤として他の目的で添加されたものであ
ってもよいし、両方の目的であってもよい。通常、上述
の使用済み樹脂廃材は、これら無機顔料や金属粉顔料等
の顔染料を含んでおり、さらには後述の安定化剤も含ん
でいるので、新たにこれらを添加する必要がなく、この
点でも有利である。
ン基としては、スルホン酸基、スルホン酸塩、クロロメ
チル化アミン基、カルボキシル基(カルボン酸基)、カ
ルボン酸塩、−PO(OH)2、−PO(OH)2塩、−
CH2PO(OH)2、−CH2PO(OH)2塩、−NO
2が挙げられる。このなかでも、スルホン酸基、スルホ
ン酸塩、クロロメチル化アミン基、カルボン酸塩が好ま
しい。これらイオン基は、単独であっても、2種類以上
導入されていてもよい。
して、5〜95モル%、好ましくは10〜70モル%で
ある。
料の改質物が水溶性を示してしまい、吸水性樹脂として
使用できなくなってしまう。一方、イオン基の導入量が
少ないと、吸水効果が低下してしまい、特に電解質水溶
液に対する吸水性効果が低下してしまう。
料を加水分解処理(酸処理)することにより行われる。
好ましい。無機酸としては、濃硫酸、無水硫酸、発煙硫
酸、クロルスルホン酸等のスルホン化剤や、硝酸、発煙
硝酸、燐酸、塩化燐、酸化燐等が挙げられる。これらの
中では、濃硫酸、無水硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン
酸が好ましく、特に濃度70重量%以上の濃硫酸が好ま
しい。
ることにより、アクリロニトリル部は加水分解を受け、
アミド基やカルボキシル基が導入される。一方、スチレ
ン部や共役ジエン部には、スルホン酸や−PO(OH)
2、−CH2PO(OH)2、ニトロ基等のイオン基が導
入されることになる。
化剤を用いる場合、ルイス塩基を併用してもよい。この
ルイス塩基としては、アルキルフォスフェート(トリエ
チルフォスフェート、トリメチルフォスフェート)、ジ
オキサン、無水酢酸、酢酸エチル、パルミチン酸エチ
ル、ジエチルエーテル、チオキサン等が挙げられる。こ
の酸処理において、併用されるルイス塩基の添加量は、
高分子材料中のモノマーユニット全体に対して1〜20
0モル%とされ、好ましくは、2〜100モル%とされ
る。この酸処理において、ルイス塩基の添加量が上述し
た範囲より少ないと、反応中にゲル化物が発生し易くな
り好ましくない。また、ルイス塩基の添加量が上述した
範囲より多いと、スルホン化反応が進行し難くなってし
まい好ましくない。
大きく影響を受けるが、概ね高分子材料の重量に対し
て、1〜500倍、好ましくは5〜200倍である。
役ジエンへのイオン基の導入率及びアクリロニトリルの
加水分解率が低下することになり、吸水性樹脂としての
性能(吸水性)が低下してしまう。一方、酸の仕込量が
多すぎると、過剰分の酸を水洗及び中和することが必要
になり、経済的にも作業的にも不利になる。
種類以上併用してもよい。併用する場合は、混合しても
よいし、逐次添加してもよい。例えば、濃硫酸で処理し
た後に、無水硫酸で処理してもよい。
に行われる。
はクロルスルホン酸のいずれか一方を添加し、次に、無
水硫酸又は発煙硫酸のいずれか一方を添加することが好
ましい。この手法では、先ず、濃硫酸又はクロルスルホ
ン酸のいずれか一方が添加されることによって、高分子
材料中のスチレンや共役ジエン部にスルホン基が導入さ
れる。そして、次に、無水硫酸又は発煙硫酸のいずれか
一方が添加されることによって、同高分子材料がスルホ
ン架橋されることとなる。このため、この手法によれ
ば、架橋度の高い吸水性樹脂を得ることができる。した
がって、この手法によれば、水系で優れた形状安定性を
有する機能性樹脂を得ることができる。
硫酸、発煙硫酸、クロルスルホン酸、濃硫酸等)と高分
子材料とを反応させることによって、高分子材料中にス
ルホン基を導入することができる。または、溶媒中にn
−ブチルリチウムを添加し、さらにドライアイスと反応
させることによって、高分子材料中にカルボキシル基を
導入することができる。または、溶媒中に三塩化燐を添
加し、さらに加水分解することによって、高分子材料中
に−PO(OH)2 基を導入することができる。
は、クロロメチルエーテルとルイス酸とによりクロロメ
チル化し、さらにアンモニアや各種アミン化合物と反応
させるおとによって、樹脂に3級又は4級アミン塩をイ
オン基として導入することができる。ポリスチレン系樹
脂をクロロメチル化物と三塩化燐と反応させ、さらに加
水分解することによって、ポリスチレン系樹脂に−PO
(OH)2 基を導入することができる。
とによりポリマーに−NO2 基を導入することができ
る。
もよいが、有機溶媒を用いた系で行ってもよい。
1〜2の脂肪族ハロゲン化炭化水素(好ましくは1,2
−ジクロロエタン、クロロホルム、ジクロロメタン、
1,1−ジクロロエタン)、脂肪族環状炭化水素(好ま
しくは、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シク
ロペンタン)、ニトロメタン、ニトロベンゼン、二酸化
イオウ、炭素数1〜7のパラフィン系炭化水素、アセト
ニトリル、二硫化炭素、テトラヒドロフラン、テトラヒ
ドロピラン、1,2−ジメトキシエタン、アセトン、メ
チルエチルケトン、チオフェン等が挙げられる。好まし
くは、炭素数1〜2の脂肪族ハロゲン化炭化水素、脂肪
族環状炭化水素、ニトロメタン、ニトロベンゼン、二酸
化イオウである。これら溶媒は、そのもの単体で用いて
もよいし、複数混合して用いてもよい。上述した溶媒内
での混合比率は、特に限定されない。
量に対して約200倍未満であることが好ましい。有機
溶媒の添加量がこの範囲より多い場合には、改質処理の
反応率が低くなるとともに、経済的にも不利である。
有機溶媒は、反応終了後回収してそのまま、あるいは抜
き取りや蒸留等の手法により回収して再度反応に使用し
てもよい。
なる高分子材料の粒径を細かしておくことが好ましい。
高分子材料の表面積を増加させることにより、改質処理
される部分を増加させることになり、高分子材料に対す
るイオン基の導入率を向上させることができる。
ためには、高分子材料の塊を粉砕機等により粉砕し、こ
の粉砕物を振るい分けするといった手法が挙げられる。
高分子材料にゴム成分が含有されている場合には、低温
で廃材を凍結させた後に粉砕処理を行うことが好まし
い。
子材料をの粒径を細かくするためには、高分子材料を加
熱溶融し、加熱溶融した高分子材料を微小な粒子状にす
るといった手法を用いることもできる。
率を向上させるためには、高分子材料の小片サイズを
3.5メッシュ以上のメッシュサイズを通過するものと
することが好ましい。高分子材料の小片サイズがこれよ
り大きくなると、被反応物の表面積が小さくなり改質処
理されにくくなるため、反応時間がかかり実用的でにと
ともに、吸水性樹脂として性能(吸水性)が大幅に低下
することになる。
導入反応では、イオン基を導入する際に、反応系に分散
剤を添加してもよい。これによって、高分子材料は、反
応系において良好に分散することとなり、イオン基の導
入率が向上したものとなる。
使用する酸の種類、有機溶媒の使用の有無で大きく異な
るが、0〜200℃とされ、好ましくは、30〜150
℃とされる。温度が低くすぎると、反応速度が遅くなり
実用的でないとともに、イオン基の導入率が低下して良
好な吸水効果が得られなくなる。一方、温度が高すぎる
と、熱分解により高分子材料の分子鎖が切断されやすく
なり、樹脂が水溶性を示してしまい、吸水性樹脂として
使用できなくなる。
く異なるが、概ね1分〜80時間とされ、好ましくは、
5分〜20時間とされる。反応時間が短すぎると、反応
が十分に進行しない。一方、反応時間が長すぎると、生
産効率が悪くなってしまう。
反応物は、反応系全体を多量の水で洗浄するか、逆性の
水溶液で中和するとよい。
は、多量の水や塩基性水溶液に反応液をそのまま加える
か、もしくは反応系から反応物を先ずフィルター等でろ
過し、これを多量の水や塩基性水溶液に投入する等の方
法が挙げられる。このとき、高分子材料中のニトリル基
は、アミド基もしくはカルボキシル基(またはその塩)
に転換される。
は、アルカリ金属(ナトリウム、リチウム、カリウム
等)やアルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム
等)の酸化物、水酸化物、炭酸塩、酢酸塩、硫酸塩、リ
ン酸塩等や、アンモニアや各種(1〜3級)アミン化合
物等が挙げられ、これらをそのまま、もしくは水溶液の
状態で反応系中に徐々に添加していき中和処理を完結さ
せる。
ためには、中和せずに水洗のみを行うことが望ましい。
状であるために、天日、加熱、減圧、遠心及びプレス等
の乾燥処理が施され、イオン基が導入された高分子材料
(5)となる。
入された高分子材料(1)〜(5)を主体とし、さらに
安定化剤を含有するものである。
が、例えば酸化防止効果を有するものとしては、以下に
示すフェノール系、イオウ系、リン系、その他のものを
挙げることができる。
−P−クレゾール(BHT)、ブチル化ヒドロキシアニ
ゾール(BHA)、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチ
ルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テト
ラキス[メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、
2,2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス−(4−
エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4−チオビ
ス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4、
4′−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−
[β−(3−t−ブチル4−ヒドロキシ−5−メチルフ
ェニル)プロピオニルオキシ]エチル]2,4,8,1
0−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、1,
1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−
t−ブチルフェニル)ブタン、1、3,5−トリメチル
−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ビス[3,3′−ビス
−(4′−ヒドロキシ−3′−t−ブチルフェニル)ブ
チリックアシッド]グリコールエステル、1,3,5−
トリス(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキ
シベンジル)−S−トリアジン−2,4,6−(1H,
3H,5H)トリオン、トリエチレングリコール−ビス
−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)プロピオネート]、α−トコフェロール
(ビタミンE)、ノルジヒドログアヤレチック酸、ブチ
ルヒドロキシアニソール、没食子酸プロピル、2,4,
6−トリ−t−ブチルフェノール、シクロヘキシルフェ
ノール、2,6−ビス(2′−ヒドロキシ−3′−t−
ブチル−5′−メチルベンジル)4−メチルフェノー
ル、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)イソシアヌレート。
ジプロピオネート、ジミリスチル−3,3′−チオジプ
ロピオネート、ジステアリル−3,3′−チオジプロピ
オネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウ
リルチオプロピオネート)。
フェニルイソデシルホスファイトフェニルイソデシルホ
スファイト、4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル
−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシル)ホスファ
イト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オク
タデシルホスファイト)、トリス(ノリルフェニル)ホ
スファイト、トリス(モノ及び/又はジノリルフェニ
ル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトール
ジホスファイト、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−1
0−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、10
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスフ
ァフェナンスレン−10−オキサイド、10−デシロキ
シ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファ
フェナンスレン、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェ
ニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトレ
イルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファ
イト、サイクリックネオペンタンテトレイルビス(2,
6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイ
ト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフ
ェニル)オクチルホスファイト、ジステアリルペンタエ
リスリトールジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレン−ジ
ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホ
スファイト。
酸ソーダ、クエン酸イソプロピル。
は、以下に示すベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール
系、ヒンダードアミン系、シアノアクリレート系、サリ
シレート系、オキザリックアシッドアニリド系のものを
挙げることができる。
ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−メトキシベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−オクトキシベンゾフェノン、2
−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スル
ホン酸、2−ヒドロキシ−4−n−ドデシルオキシベン
ゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベン
ゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジ
メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−
4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニル)メタン。
ドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−[2′−ヒドロキシ−3′,5′−ビス(α,
α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒド
ロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキ
シ−3′,5′−ジ−t−アミル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブ
チルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−
(2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2,2′−メチレンビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2N
−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−
(2′−ヒドロキシ−5′−t−ブチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール。
称されるもの。)>ビス−[2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル]セバケート、ビス−[N−メチ
ル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル]
セバケート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラ
カルボキシレート、ビス−(1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル)−2−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)2−n−ブチルマロ
ネート、テトラキス−(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテト
ラカルボキシレート、(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル/トリデシル混合)−1,2,3,4
−ブタンテトラカルボキシレート、(1,2,2,6,
6−ペンタメチル−4−ピペリジル/トリデシル混合)
−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、
{2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル/
β,β,β′,β′−テトラメチル−3,9−[2,
4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカ
ン]ジエチル混合}1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、{1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジル/β,β,β′,β′−テトラメチル−
3,9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ
(5,5)ウンデカン]ジエチル混合}1,2,3,4
−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ[(6−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5
−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレ
ン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)イミノール]。
アノ−3,3′−ジフェニルアクリレート、2−エチル
ヘキシル−2−シアノ−3,3′−ジフェニルアクリレ
ート。
ト、4−t−ブチルフェニルサリシレート、4−オクチ
ルフェニルサリシレート。
エトキシ−2′−エチルオキザリックアシッドビスアニ
リド。
含まれていてもよいし、2種以上複数のものが含まれて
いてもよい。ただし、同じ系、例えば酸化防止剤同士、
あるいは光安定化剤同士が含まれるよりは、異なる系の
ものを含有している方が様々な要因(光や熱)に対する
安定性効果を得るという点で好ましい。
する高分子材料に直接添加してもよいし、例えば酸処理
等によりイオン基を導入する場合に、原料となるポリマ
ーに予め含有されていてもよい。さらには、吸水性樹脂
の製造時に添加してもよいし、前述の各段階で複数に分
けて添加してもよい。
吸水性樹脂に安定化剤を個体状でブレンドする方法や、
もしくは安定化剤を分散もしくは溶解した水溶液を吸水
性樹脂に吸収させる方法等が挙げられる。
は、例えばデンプンにアクリル酸をグラフト重合した吸
水性樹脂の場合には、グラフト重合を経て中和の後に反
応系に安定化剤を添加し、次に乾燥することで製造する
ことができる。アクリル酸ソーダの架橋ポリマー型の吸
水性樹脂の場合には、アクリル酸ソーダと架橋剤とによ
る重合の後、安定化剤を添加し乾燥することにより製造
することができる。なお、安定化剤にはラジカルを捕獲
するものが多いため、重合前に添加すると重合が阻害さ
れる虞れがあるため、重合以降に添加することが好まし
い。
ている例としては、ABS樹脂廃材(安定化剤含有樹
脂:ただし、安定化剤の含有量が不足するときには、追
加添加を行う。)が挙げられ、これを例えば熱硫酸で処
理した後、水洗、乾燥することにより製造することがで
きる。
が含有されている場合、安定化剤を含有する高分子材料
を加水分解処理し、イオン基を導入する。例えば、高分
子材料が、アクリロニトリルを構成ユニットとして含有
するポリマーである場合には、濃硫酸、無水硫酸、発煙
硫酸、クロルスルホン酸、硝酸、発煙硝酸、燐酸、塩化
燐、酸化燐により加水分解処理(酸処理)によりイオン
基を導入する。
ず、吸水性樹脂(乾燥重量)中、0.00001〜20
重量%であることが好ましく、0.0001〜5重量%
であることがより好ましい。添加量がこれより少ないと
安定化剤としての効果が不足し、添加量が多すぎると吸
水性樹脂の性能に悪影響を及ぼす虞れがありコスト面で
も不利である。
や製造中に添加することにより、加熱酸化や光酸化反応
が抑制されるところとなり、吸水性樹脂の分子量低下を
抑制することが可能となる。したがって、屋外使用時で
の経時安定性に優れた吸水性樹脂とすることが可能であ
る。
る。なお、本発明がこれら実施例に限定されるものでな
いことは言うまでもない。
として、スチレンユニットを48モル%、アクリロニト
リルユニットを39モル%、ブタジエンユニットを13
モル%含有。安定化剤として、ステアリル−β−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネートを0.2重量%含有。]を冷凍粉砕し、32〜
65メッシュの粉砕物を樹脂原料とした。
6重量%)90g中に加え、80℃で20分間反応させ
た。反応終了後、系内の固形物をグラスフィルターでろ
過し、水洗の後、循風乾燥器にて115℃で2時間乾燥
を行った。
られた。
ノマーユニットの38モル%で、安定化剤の含有量は
0.012重量%(対乾燥重量)であった。
分)[SAN樹脂廃材:樹脂組成として、スチレンユニ
ットを64モル%、アクリロニトリルユニットを36モ
ル%を含有。安定化剤として、テトラキス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,2,3,
4−ブタンテトラカルボキシレートを0.2重量%、ス
テアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネートを0.1重量%含有。]
を粉砕し、32〜65メッシュの粉砕物を樹脂原料とし
た。
度:89重量%)90g中に加え、60℃で60分間反
応させた。その後、発煙硫酸(SO3 60重量%含有)
0.5gを追加添加し、さらに30分間反応を行った。
ィルターでろ過し、水洗の後、乾燥機にて2時間乾燥し
た。これにより、透明な吸水性樹脂が得られた。
酸基は、全モノマーユニットの47モル%であり、安定
化剤のうち前者の含有量は0.01重量%、後者の含有
量は0.008重量%(対乾燥重量)であった。
ンプン/アクリル酸=20/80(重量%比)となるよ
うに仕込み、レゾックス系触媒(H2O2触媒量:0.1
モル%)を用いて重合を行った。
クリル酸分の70モル%を中和し、次に、ポリマー純分
に対して0.01重量%となるようにエリソルビン酸ソ
ーダを重合ゲルに練り込んだ。
定化剤を含む吸水性樹脂を得た。
1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5
−t−ブチルフェニル)ブタンの0.001重量%水溶
液5gを吸収させ、その後乾燥を行うことで安定化剤を
含有する吸水性樹脂を得た。
ェニルサリシレートの0.002重量%エタノール溶液
2gを吸収させ、その後乾燥を行うことで安定化剤を含
有する吸水性樹脂を得た。
ル%、アクリロニトリルを40モル%含有し、安定化剤
は含有していない。)を粉砕、分級し、32〜65メッ
シュの固形物を取り出した。
明の吸水性樹脂を得た。この吸水性樹脂中のスルホン酸
基は全モノマーユニットの44モル%であった。これを
比較例1とした。
脂を比較例2とした。
例3とした。
4とした。
例1〜4)について、経時安定性を以下の方法により評
価した。
させたものを、90℃で100時間、オーブンで加熱乾
燥した。
の吸水性樹脂について、純水に対する吸水倍率の変化
(吸水効果の低減率)[(加熱処理後の吸水倍率/加熱
前の吸水倍率)×100(%)]を測定し、比較を行っ
た。結果を表1に示す。
を適用した各実施例1〜5は、比較例1〜4に比べて熱
に対する優れた経時安定性を示すことがわかる。
させたものに対して、15W、100VのUVランプ
(距離50cm)にて照射を50時間行った。
のものとを同じ条件(90℃、2時間)で乾燥し、得ら
れた樹脂の純水に対する吸水倍率の違い[(照射処理品
/未照射品)×100(%)]を測定し、比較を行っ
た。結果を表2に示す。
を適用した各実施例1〜5は、比較例1〜4に比べて光
に対する優れた経時安定性を示すことがわかる。
明によれば、吸水性に優れる、しかも熱や光に対する経
時安定性に優れた吸水性樹脂を提供することができる。
このような特性を有する吸水性樹脂は、砂漠緑化等、屋
外使用に適したものであり、吸水性樹脂の応用範囲を大
幅に拡大することができる。
に、使用済みとなった樹脂廃材を原料として利用すれ
ば、資源の有効利用につながり、地球環境保全に貢献す
ることができる。
Claims (18)
- 【請求項1】 イオン基が導入された高分子材料を主体
とし、安定化剤を含有することを特徴とする吸水性樹
脂。 - 【請求項2】 上記安定化剤の乾燥重量における含有量
が0.00001〜20重量%であることを特徴とする
請求項1記載の吸水性樹脂。 - 【請求項3】 上記安定化剤が、フェノール系酸化防止
剤、イオウ系酸化防止剤、隣系酸化防止剤から選ばれる
少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記載の
吸水性樹脂。 - 【請求項4】 上記安定化剤が、エリソルビン酸、エリ
ソルビン酸ナトリウム、クエン酸イソプロピルから選ば
れる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1記
載の吸水性樹脂。 - 【請求項5】 上記安定化剤が、ベンゾフェノン系光安
定化剤、ベンゾトリアゾール系光安定化剤、ヒンダート
アミン系光安定化剤、シアノアクリレート系光安定化
剤、サリシレート系光安定化剤、オキザリックアシッド
アニリド系光安定化剤から選ばれる少なくとも1種であ
ることを特徴とする請求項1記載の吸水性樹脂。 - 【請求項6】 上記イオン基は、スルホン酸基、クロロ
メチル化アミン基、カルボキシル基、水酸基、−PO
(OH)2 基、−CH2PO(OH)2基、−NO2 基か
ら選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求
項1記載の吸水性樹脂。 - 【請求項7】 上記イオン基が導入された高分子材料と
して、ポリアクリル酸及び/又はその塩の架橋ポリマー
を含有することを特徴とする請求項1記載の吸水性樹
脂。 - 【請求項8】 上記イオン基が導入された高分子材料と
して、デンプン及び/又はポリビニルアルコールにアク
リル酸及び/又はその塩をグラフト重合したポリマーを
含有することを特徴とする請求項1記載の吸水性樹脂。 - 【請求項9】 上記イオン基が導入された高分子材料と
して、ポリビニルアルコールの架橋ポリマーを含有する
ことを特徴とする請求項1記載の吸水性樹脂。 - 【請求項10】 上記イオン基が導入された高分子材料
として、アクリルニトリルを構成ユニットとして含有す
るポリマーの加水分解処理物を含有することを特徴とす
る請求項1記載の吸水性樹脂。 - 【請求項11】 上記アクリロニトリルを構成ユニット
として含有するポリマーは、アクリロニトリルユニット
を2〜95モル%含有していることを特徴とする請求項
10記載の吸水性樹脂。 - 【請求項12】 上記アクリロニトリルを構成ユニット
として含有するポリマーは、アクリロニトリルユニット
以外にスチレン、共役ジエンから選ばれる少なくとも1
種を含有することを特徴とする請求項10記載の吸水性
樹脂。 - 【請求項13】 上記アクリロニトリルを構成ユニット
として含有するポリマーは、ポリアクリロニトリル、ア
クリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、スチレン
−アクリロニトリル樹脂、アクリロニトリル−ブタジエ
ンゴムから選ばれる少なくとも1種であることを特徴と
する請求項10記載の吸水性樹脂。 - 【請求項14】 予めイオン基が導入された高分子材料
に安定化剤を添加することを特徴とする吸水性樹脂の製
造方法。 - 【請求項15】 安定化剤を含有する高分子材料を加水
分解処理し、イオン基を導入することを特徴とする吸収
性樹脂の製造方法。 - 【請求項16】 上記高分子材料が、アクリロニトリル
を構成ユニットとして含有するポリマーであることを特
徴とする請求項15記載の吸水性樹脂の製造方法。 - 【請求項17】 上記加水分解処理を濃硫酸、無水硫
酸、発煙硫酸、クロルスルホン酸、硝酸、発煙硝酸、燐
酸、塩化燐、酸化燐から選ばれる1種以上により行うこ
とを特徴とする請求項15記載の吸水性樹脂の製造方
法。 - 【請求項18】 上記安定化剤を含有する高分子材料
が、使用済み樹脂からなる廃材であることを特徴とする
請求項15記載の吸水性樹脂の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2002058090A1 (fr) * | 2001-01-22 | 2002-07-25 | Sony Corporation | Interrupteur electrique de flux et procede de preparation correspondant |
WO2014034667A1 (ja) * | 2012-08-27 | 2014-03-06 | 株式会社日本触媒 | 粒子状吸水剤及びその製造方法 |
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1998
- 1998-01-12 JP JP00415198A patent/JP3840776B2/ja not_active Expired - Fee Related
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KR20150050565A (ko) * | 2012-08-27 | 2015-05-08 | 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 | 입자상 흡수제 및 그의 제조 방법 |
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