JPH10235206A - 脱硝触媒、その調製方法、および脱硝方法 - Google Patents
脱硝触媒、その調製方法、および脱硝方法Info
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Abstract
触媒、その調製方法、およびこの脱硝触媒を用いた脱硝
方法を提供する。 【解決手段】 第一成分としてチタン酸化物、第二成分
としてバナジウム酸化物および/またはタングステン酸
化物を含有する脱硝触媒であって、(1)0.01〜
0.05μmの範囲に孔径分布のピークの頂点を有する
細孔群と0.1μm以上0.8μm未満の範囲に孔径分
布のピークの頂点を有する細孔群との少なくとも2つの
細孔群からなる細孔を有し、かつ(2)0.01〜0.
05μmの範囲に孔径分布のピークの頂点を有する細孔
群の孔径分布のピーク強度を1としたとき、0.1μm
以上0.8μm未満の範囲に孔径分布のピークの頂点を
有する細孔群の孔径分布のピーク強度が0.4以上であ
る脱硝触媒。
Description
窒素酸化物(NOx)除去用触媒、この触媒の調製に好
適な脱硝触媒の調製方法、およびこの脱硝触媒を用いて
排ガス中の窒素酸化物を還元除去する方法に関する。
化物除去方法としては、アンモニア、または尿素などの
固体還元剤を用いて排ガス中の窒素酸化物を脱硝触媒上
で接触還元し、無害な窒素と水とに分解する選択的触媒
還元(SCR)法が一般的である。近年、酸性雨に代表
されるように窒素酸化物による環境汚染が世界的に深刻
化するにともない、脱硝技術の高効率化が要求されてい
る。
び還元剤として用いられるアンモニアは一般に希薄であ
り、触媒上でのガス拡散などの問題から、従来の脱硝触
媒では高い窒素酸化物除去性能を得ることは困難であっ
た。
1−14808号各公報には、ゾル化メタチタン酸にバ
ナジウム、モリブデンなどの金属酸化物を添加、混合し
た後、焼成して酸化チタン焼成品を製造する方法が開示
されているが、これら方法によって得られる脱硝触媒は
その窒素酸化物除去性能が決して十分ではない。
は、チタンとバナジウム、タングステン、モリブデンな
どの卑金属とを含み、2つのピークが存在する細孔径分
布を有する脱硝触媒が開示されているが、この脱硝触媒
もまた窒素酸化物除去性能が十分でなく、より高い窒素
酸化物除去性能を有する脱硝触媒の開発が強く望まれて
いる。
酸化物除去性能(以下、「脱硝性能」という)に優れ、
排ガス中の窒素酸化物を還元除去するに好適な脱硝触
媒、この脱硝触媒の調製に好適な脱硝触媒の調製方法、
およびこの脱硝触媒を用いてアンモニアなどの還元性物
質の存在下に排ガス中の窒素酸化物を還元除去する方法
を提供することにある。
化物とバナジウム酸化物および/またはタングステン酸
化物とを含有する脱硝触媒のなかでも、特定の細孔径分
布を有するものが、極めて高い脱硝性能を有すること、
またこの脱硝触媒は、その調製時に特定の易分解性物質
を使用することにより効率よく調製できることを知り、
この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
ン酸化物、第二成分としてバナジウム酸化物および/ま
たはタングステン酸化物を含有する脱硝触媒であって、
(1)0.01〜0.05μmの範囲に孔径分布のピー
クの頂点を有する細孔群と0.1μm以上0.8μm未
満の範囲に孔径分布のピークの頂点を有する細孔群との
少なくとも2つの細孔群からなる細孔を有し、かつ
(2)0.01〜0.05μmの範囲に孔径分布のピー
クの頂点を有する細孔群の孔径分布のピーク強度を1と
したとき、0.1μm以上0.8μm未満の範囲に孔径
分布のピークの頂点を有する細孔群の孔径分布のピーク
強度が0.4以上である、ことを特徴とする脱硝触媒で
ある。
0μm、熱分解温度が100〜700℃、かつ分解時の
発熱量が50kcal/g以下である易分解性物質を触
媒前駆体に存在させ、これを焼成して除去することを特
徴とする脱硝触媒の調製方法である。
物含有排ガスを接触させて窒素酸化物を還元除去する脱
硝方法である。
図1に示すように、水銀圧入法による微分細孔容積分布
図において、微分細孔容積分布のピークの高さを意味す
る。また、「孔径分布のピーク半値幅」とは、図1に示
すように、ピーク強度の1/2の高さにおける微分細孔
容積分布ピーク幅を意味する。したがって、ピーク強度
が高く、ピーク半値幅が小さいほどシャープな微分細孔
容積分布であることが示される。
てチタン酸化物、第二成分としてバナジウム酸化物およ
び/またはタングステン酸化物を含有するものである。
第二成分の第一成分に対する割合(第二成分/第一成
分)は、通常、0.1〜25重量%であり、好ましくは
1〜15重量%である。特に、第二成分を脱硝触媒のB
ET法による単位表面積当り4.8×10-7〜2.2×
10-5mol/m2の割合で含有するものが好ましい。
1〜0.05μmの範囲に孔径分布のピークの頂点を有
する細孔群(以下、「第一細孔群」という場合もある)
と0.1μm以上0.8μm未満の範囲に孔径分布のピ
ークの頂点を有する細孔群(以下、「第二細孔群」とい
う場合もある)との少なくとも2つの細孔群からなる細
孔を有し、かつ(2)0.01〜0.05μmの範囲に
孔径分布のピークの頂点を有する細孔群の孔径分布のピ
ーク強度を1としたとき、0.1μm以上0.8μm未
満の範囲に孔径分布のピークの頂点を有する細孔群の孔
径分布のピーク強度(以下、「ピーク強度比」という場
合もある)が0.4以上であることにある。
に示すように、少なくとも0.01〜0.05μmおよ
び0.1μm以上0.8μm未満の範囲に各々一つづつ
実質的に独立した2つの孔径分布のピークを有し、しか
も第一細孔群のピーク強度に対する第二細孔群のピーク
強度が0.4以上というものである。本発明の脱硝触媒
は、上記要件(1)および(2)を満たす限り、孔径分
布ピークがショルダーを有するようなものであってもよ
いが、各細孔群の孔径分布が狭く、孔径が実質的に均一
なものが好ましい。
の頂点がそれぞれ0.01〜0.05μmおよび0.1
μm以上0.8μm未満の範囲にない場合には、十分な
脱硝活性を得ることができない。また、第一および第二
細孔群の孔径分布のピークの頂点がそれぞれ0.01〜
0.05μmおよび0.1μm以上0.8μm未満の範
囲にあっても、上記要件(2)に規定するピーク強度比
が0.4より小さいと、目的とする十分高い脱硝性能を
有する脱硝触媒を得ることができない。なお、ピーク強
度比が高いほうが効果的であるが、高すぎると触媒強度
が低下することもあるので、その場合にはピーク強度比
を2以下とするのがよい。
の孔径分布が狭くシャープなものが好ましく、具体的に
は第二細孔群の孔径分布ピークの半値幅が0.3μm以
下のものが好ましい。上記半値幅を0.3μm以下、通
常0.01〜0.3μmとすることにより、脱硝性能が
向上し、触媒強度も高くなる。
た全細孔容積は、0.2〜0.6cc/gの範囲にある
のがよい。そして、第一細孔群が占める細孔容積は全細
孔容積の10〜60%、また第二細孔群が占める細孔容
積は全細孔容積の10〜60%の範囲にあるのがよい。
なお、第一および第二細孔群が占める細孔容積とは各孔
径範囲にある細孔が占める容積の合計量を意味する。
1〜100μm、好ましくは0.01〜100μmの範
囲にあるのがよい。また、本発明の脱硝触媒のBET法
による比表面積は30〜250m2/g、好ましくは4
0〜200m2/gの範囲にあるのがよい。
してチタン酸化物、第二成分としてバナジウム酸化物お
よび/またはタングステン酸化物を含有する脱硝触媒で
あって、(1)0.01〜0.05μmの範囲に孔径分
布のピークの頂点を有する細孔群と0.1μm以上0.
8μm未満の範囲に孔径分布のピークの頂点を有する細
孔群との少なくとも2つの細孔群からなる細孔を有し、
かつ(2)0.01〜0.05μmの範囲に孔径分布の
ピークの頂点を有する細孔群の孔径分布のピーク強度を
1としたとき、0.1μm以上0.8μm未満の範囲に
孔径分布のピークの頂点を有する細孔群の孔径分布のピ
ーク強度が0.4以上であり、さらに0.1μm以上
0.8μm未満の範囲に孔径分布のピークの頂点を有す
る細孔群の孔径分布のピーク半値幅が0.3μm以下、
水銀圧入法による全細孔容積が0.2〜0.6cc/
g、第一および第二細孔群が占める細孔容積がそれぞれ
全細孔容積の10〜60%および10〜60%、また第
二成分としてのバナジウム酸化物および/またはタング
ステン酸化物の第一成分としてのチタン酸化物に対する
割合(第二成分/第一成分)が0.1〜25重量%のも
のが好ましい。
のBET法による単位表面積当りのバナジウム酸化物お
よび/またはタングステン酸化物のモル数が4.8×1
0-7〜2.2×10-5mol/m2の割合であるものが
好ましい。
限はなく、板状、波板状、網状、ハニカム状、円柱状、
円筒状などの所望の形状で用いてもよく、またアルミ
ナ、シリカ、コーディライト、チタニア、ステンレス金
属などよりなる板状、波板状、網状、ハニカム状、円柱
状、円筒状などの所望の形状の担体に担持して使用して
もよい。
が、この種の触媒の調製時に一般に用いられる成型助剤
などのほかに、平均粒子径が5〜1000μm、熱分解
温度が100〜700℃、かつ分解時の発熱量が50k
cal/g以下である易分解性物質を触媒前駆体に存在
させ、これを焼成して除去する方法によって好適に調製
することができる。
タール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、フェノー
ル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂などを挙げることができる。この添加量は、触媒前駆
体の0.1〜30重量%とするのがよい。多すぎると脱
硝触媒の機械的強度が低下する。上記易分解性物質の発
熱量が50kcal/gを超えると焼成時の発熱が大き
くなり、脱硝触媒の比表面積が小さくなるほか、活性成
分のシンタリングなどの原因となる。また、熱分解温度
が700℃を超えると触媒焼成後に未燃の易分解性物質
が残存することがある。
タンのほか、焼成してチタン酸化物を生成するものであ
れば、無機および有機のいずれの化合物も使用すること
ができる。例えば、四塩化チタン、硫酸チタンなどの無
機チタン化合物およびシュウ酸チタン、テトライソプロ
ピルチタネートなどの有機チタン化合物を用いることが
できる。また、バナジウム酸化物およびタングステン酸
化物の供給原料としては、各々の酸化物のほかに、焼成
によって酸化物を生成するものであれば、無機および有
機のいずれの化合物も用いることができる。例えば、各
々の金属を含む水酸化物、アンモニウム塩、シュウ酸
塩、ハロゲン化物、硫酸塩、硝酸塩などを用いることが
できる。
Cを挙げて説明するが、上記易分解性物質は、適当な時
期に添加して、焼成前の触媒前駆体に必要量存在するよ
うにすればよい。
であり、可溶性チタン化合物、例えば四塩化チタンと可
溶性タングステン化合物、例えばメタタングステン酸ア
ンモニウムとを水に溶解して酸性のチタン−タングステ
ン含有水溶液とする。次に、この水溶液の温度を60℃
以下、好ましくは0〜50℃の範囲に保持しながら、ア
ンモニア水を最終pHが5〜8、好ましくは5以上で7
未満の範囲となるように添加して共沈させる。なお、タ
ングステン化合物の水溶液が塩基性の場合には、タング
ステン含有水溶液をアンモニア水と同時にチタン含有水
溶液に添加して沈澱させる。なお、上記最終pHとは沈
澱操作を終了した時点での沈澱物スラリーまたはゲルの
pHを意味する。
ると得られる脱硝触媒の活性が低下する。また、最終p
Hが5より低いと得られる脱硝触媒の活性は低下し、ま
た8を超えると脱硝触媒の活性は低下し、そのうえタン
グステンの再溶解も起こる。上記沈澱操作により得られ
たチタン−タングステン沈澱物は、沈澱物スラリーから
分離し、よく洗浄し、乾燥した後、焼成することにより
チタン−タングステン酸化物が得られる。上記分離、洗
浄、乾燥および焼成は、この種の酸化物の調製に一般的
に用いられている条件下で行うことができるが、酸化チ
タン/酸化タングステンの重量比が10/1〜3/1、
好ましくは20/1〜4/1のものを300〜700
℃、特に350〜600℃の範囲で加熱焼成すると耐久
性の優れたチタン−タングステン酸化物が得られる。
物および/またはタングステン酸化物を担持させる方法
であり、例えばチタン酸化物の粉体またはスラリーにバ
ナジウムおよび/またはタングステンの塩類粉末または
その塩類の溶液を添加するか、あるいはチタン酸化物の
成形体にバナジウムおよび/またはタングステンの塩類
の溶液を含浸させて担持させることによりチタン−バナ
ジウムおよび/またはタングステン酸化物が得られる。
なお、焼成条件などは前記方法Aと同じである。
したチタン酸化物、またはチタン酸化物とタングステン
酸化物との均密混合物にバナジウム酸化物および/また
はタングステン酸化物を担持する方法である。具体的に
は、前記方法Aと同様にして調製した共沈チタン−タン
グステン酸化物粉体またはスラリーにバナジウム酸化物
および/またはタングステン酸化物の塩類粉末またはそ
の塩類の溶液を添加する方法や、硫酸チタンや四塩化チ
タンなどの溶液を熱加水分解して得られるチタン酸化物
ゾルにタングステンの塩類の溶液を加えた後、アンモニ
ア水を加えて沈澱させることによって得られるチタン−
タングステン酸化物粉体またはスラリーにバナジウム酸
化物および/またはタングステン酸化物の塩類粉末また
はその塩類の溶液を添加する方法、あるいはこれらの方
法によって得られるチタン−タングステン酸化物の成形
体にバナジウムおよび/またはタングステンの塩類の溶
液を含浸させる方法などが挙げられる。なお、焼成条件
などは前記方法Aと同じである。
硝性能に優れている。その理由は明らかではないが、チ
タン酸化物上に分散したタングステン酸化物が窒素酸化
物の分解に寄与し、さらに他の活性種の活性を向上させ
るためであると考えられる。この点からもタングステン
酸化物を担持したチタン酸化物は、タングステン酸化物
が高分散したチタン酸化物とタングステン酸化物の均密
混合物であることが触媒活性が高くなり好ましい。ここ
でいうチタン酸化物とタングステン酸化物との均密混合
物とは、チタン酸化物とタングステン酸化物とが高度に
混合された結果、チタン酸化物とタングステン酸化物と
のX線回折ではタングステン酸化物に由来するピークが
実質的に認められないことが特徴である。
に用いられる。すなわち、タングステン酸化物をチタン
酸化物に担持した後、バナジウム酸化物および/または
タングステン酸化物を担持する方法、およびチタン酸化
物とタングステン酸化物との均密混合物を調製した後、
この混合物にバナジウム酸化物および/またはタングス
テン酸化物を担持する方法が好適に用いられる。
スタービン、ディーゼルエンジンおよび各種工業プロセ
スから排出される窒素酸化物の分解活性に優れ、これら
窒素酸化物を含む排ガスの処理に好適に用いられる。
アンモニアなどの還元剤の存在下に排ガスと接触させ、
排ガス中の窒素酸化物を還元除去することからなる。こ
の際の条件などについては、特に制限はなく、この種の
反応に一般的に用いられている条件下に実施することが
できる。具体的には、排ガスの種類、性状、要求される
窒素酸化物の分解率などを考慮して適宜決定すればよ
い。
〜100000Hr-1であり、好ましくは200〜50
000Hr-1(STP)である。100Hr-1未満で
は、処理装置が大きくなりすぎ非効率となり、一方10
0000Hr-1を超えると、分解効率が低下する。
説明する。
・プーラン社製)20kgにメタバナジン酸アンモニウ
ム1.4kg、シュウ酸1.7kgおよびモノエタノー
ルアミン0.4kgを水5L(リットル)に溶解させた
溶液を加え、さらにフェノール樹脂(ベルパール(商品
名)、カネボウ(株)製)1kgと成形助剤としてのデ
ンプン0.5kgとを加えて混合し、ニーダーで混練り
した後、押出成形機で外形80mm角、目開き4.0m
m、肉厚1.0mm、長さ500mmのハニカム状に成
形した。次いで、80℃で乾燥した後、450℃で5時
間空気雰囲気下で焼成して触媒Aを得た。
m、熱分解温度450℃、分解時の発熱量8kcal/
gであった。
95(重量比)であった。触媒Aの細孔径分布を水銀圧
入式ポロシメーターにより測定したところ、ピーク強度
比は0.77であり、第二細孔群の孔径分布のピーク半
値幅は0.13μmであった。全細孔容積は0.35c
c/gであり、第一および第二細孔群の細孔容積はそれ
ぞれ全細孔容積の44%および48%であった。また、
BET表面積は68m2/gであり、バナジウム酸化物
(V2O5)の、触媒の単位表面積当りの含有量は3.8
×10-6mol/m2であった。触媒Aの細孔径分布を
図2に示した。
タン溶液(二酸化チタンとして100g/L)180L
を100℃に加熱し、得られたチタン酸化物ゾルにパラ
タングステン酸アンモニウムの10%メチルアミン水溶
液(三酸化タングステンとして400g/L)5Lを添
加した。これを攪拌しながらアンモニア水をpHが8と
なるまで加え、さらにそのままに放置して2時間熟成し
た。このようにして得られたチタン−タングステン沈澱
物スラリーをろ過し、得られたチタン−タングステン沈
澱物を水洗した後、100℃で12時間乾燥し、さらに
500℃の温度で3時間焼成し、チタン−タングステン
酸化物粉体(酸化チタン/酸化タングステン=90/1
0(重量比))を得た。なお、この酸化物のX線回折に
よれば、タングステン酸化物に由来するピークは認めら
れなかった。
kgにメタバナジン酸アンモニウム1.4kg、シュウ
酸1.7kgおよびモノエタノールアミン0.4kgを
水5Lに溶解させた溶液を加え、さらにフェノール樹脂
(ベルパール(商品名)、カネボウ(株)製)1kgと
成形助剤としてのデンプン0.5kgを加えて混合しニ
ーダーで混練りした後、押出成形機で外形80mm角、
目開き4.0mm、肉厚1.0mm、長さ500mmの
ハニカム状に成形した。次いで、80℃乾燥した後、4
50℃で5時間空気雰囲気下で焼成して触媒Bを得た。
=5:10:85(重量比)であった。触媒Bの細孔径
分布を水銀圧入式ポロシメーターにより測定したとこ
ろ、ピーク強度比は1.05であり、第二細孔群の孔径
分布のピーク半値幅は0.20μmであった。全細孔容
積は0.49cc/gであり、第一および第二細孔群の
細孔容積はそれぞれ全細孔容積の43%および51%で
あった。また、触媒BのBET表面積は71m2/gで
あり、バナジウム酸化物およびタングステン酸化物(W
O3)の、触媒の単位表面積当りの含有量はそれぞれ
3.7×10-6mol/m2および5.7×10-6mo
l/m2であった。触媒Bの細孔径分布を図3に示し
た。
氷冷かつ撹拌下に徐々に添加して溶解し、この水溶液に
メタタングステン酸アンモニウム水溶液(酸化タングス
テンとして50重量%含有)1.2kgを加えた。得ら
れた水溶液を温度約30℃に保持しつつ、よく撹拌しな
がら、アンモニア水をpHが6となるまで加え、さらに
そのまま放置して2時間熟成した。このようにして得ら
れたチタン−タングステン沈澱物スラリーをろ過し、得
られたチタン−タングステン沈澱を水洗して、150℃
で乾燥した後、600℃で5時間焼成した酸化チタン/
酸化タングステン=90/10(重量比)のチタン−タ
ングステン酸化物を得た。このようにして得られた共沈
チタン−タングステン酸化物粉体20kgにメタバナジ
ン酸アンモニウム1.4kg、シュウ酸1.7kgおよ
びモノエタノールアミン0.4kgを水5Lに溶解させ
た溶液を加え、さらにフェノール樹脂(ベルパール(商
品名)、カネボウ(株)製)1kgと成形助剤としての
デンプン0.5kgとを加えて混合しニーダーで混練り
した後、押出成形機で外形80mm角、目開き4.0m
m、肉厚1.0mm、長さ500mmのハニカム状に成
形した。次いで、80℃で乾燥した後、450℃で5時
間空気雰囲気下で焼成して触媒Cを得た。
=5:10:85(重量比)であった。触媒Cの細孔径
分布を水銀圧入式ポロシメーターにより測定したとこ
ろ、ピーク強度比は0.59であり、第二細孔群の孔径
分布のピーク半値幅は0.29μmであった。全細孔容
積は0.37cc/gであり、第一および第二細孔群の
細孔容積はそれぞれ全細孔容積の57%および37%で
あった。また、BET表面積は78m2/gであり、バ
ナジウム酸化物およびタングステン酸化物の、触媒の単
位表面積当りの含有量はそれぞれ3.3×10-6mol
/m2および5.2×10-6mol/m2であった。触媒
Cの細孔径分布を図4に示した。
らに気流粉砕機で粉砕し、混練りの際にフェノール樹脂
を加えず、成形機の前段に脱気層を設置して練り物中の
空気を除去したこと以外は実施例2に準じて外形80m
m角、目開き4.0mm、肉厚1.0mm、長さ500
mmのハニカム状触媒Dを調製した。
ーターにより測定したところ、0.01〜0.05μm
の範囲の孔径を有する第一細孔群のみが認められ、0.
1μm以上0.8μm未満の範囲の孔径を有す第二細孔
群は存在しなかった。触媒Dの全細孔容積は0.25c
c/gであった。また、BET表面積は65m2/gで
あり、バナジウム酸化物およびタングステン酸化物の、
触媒の単位表面積当りの含有量はそれぞれ4.0×10
-6mol/m2および6.3×10-6mol/m2であっ
た。触媒Dの細孔径分布を図5に示した。
いて下記条件下で脱硝活性試験を行った。
%、H2O:7%、N2:バランス ガス温度:190〜330℃、空間速度(STP):1
0000〜20000Hr-1 そして、脱硝率を下記式にしたがって求めた。
度)−(反応器出口NOx濃度)]÷(反応器入口NO
x濃度)×100 ガス温度と脱硝率との関係を表1に示した(空間速度:
16000Hr-1)。
示した(ガス温度:230℃)。
性試験を行った。
800ppm、O2:12%、H2O:10%、N2:バ
ランス ガス温度:380℃、空間速度:5000Hr-1 脱硝率を実施例4と同様にして求めたところ99%であ
った。
に窒素酸化物の希薄な各種の排ガスを処理して窒素酸化
物を還元除去するに好適に用いられる。
明図である。
す。
す。
す。
す。
Claims (5)
- 【請求項1】 第一成分としてチタン酸化物、第二成分
としてバナジウム酸化物および/またはタングステン酸
化物を含有する脱硝触媒であって、(1)0.01〜
0.05μmの範囲に孔径分布のピークの頂点を有する
細孔群と0.1μm以上0.8μm未満の範囲に孔径分
布のピークの頂点を有する細孔群との少なくとも2つの
細孔群からなる細孔を有し、かつ(2)0.01〜0.
05μmの範囲に孔径分布のピークの頂点を有する細孔
群の孔径分布のピーク強度を1としたとき、0.1μm
以上0.8μm未満の範囲に孔径分布のピークの頂点を
有する細孔群の孔径分布のピーク強度が0.4以上であ
る、ことを特徴とする脱硝触媒。 - 【請求項2】 0.1μm以上0.8μm未満の範囲に
孔径分布のピークの頂点を有する細孔群の孔径分布のピ
ーク半値幅が0.3μm以下である請求項1記載の脱硝
触媒。 - 【請求項3】 触媒の単位表面積当りのバナジウム酸化
物および/またはタングステン酸化物のモル数が4.8
×10-7〜2.2×10-5mol/m2である請求項1
または2記載の脱硝触媒。 - 【請求項4】 平均粒子径が5〜1000μm、熱分解
温度が100〜700℃、かつ分解時の発熱量が50k
cal/g以下である易分解性物質を触媒前駆体に存在
させ、これを焼成して除去することを特徴とする脱硝触
媒の調製方法。 - 【請求項5】 請求項1の脱硝触媒に窒素酸化物含有排
ガスを接触させて窒素酸化物を還元除去する脱硝方法。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030006598A (ko) * | 2001-07-13 | 2003-01-23 | 주식회사 나노 | 배연 탈질 선택적 환원 촉매 담체용 이산화티타늄 분말 및이의 제조방법 |
JP2003033664A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-04 | Ngk Insulators Ltd | 排ガス浄化用ハニカム構造体及び排ガス浄化用ハニカム触媒体 |
US6855304B2 (en) | 1999-06-25 | 2005-02-15 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst and process for removing organohalogen compounds |
US7150861B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-12-19 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for purification of exhaust gases and process for purification of exhaust gases |
US7740819B2 (en) | 2002-02-26 | 2010-06-22 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for purification of exhaust gases and catalyst used for purification of exhaust gases in this process |
WO2010070957A1 (ja) | 2008-12-19 | 2010-06-24 | 日産ディーゼル工業株式会社 | 排気浄化装置 |
JP2013173147A (ja) * | 2005-02-16 | 2013-09-05 | Basf Catalysts Llc | 石炭燃焼公共施設のためのアンモニア酸化触媒 |
KR20140103126A (ko) | 2011-12-27 | 2014-08-25 | 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 | 티탄 함유 입상 분말 및 이를 사용한 배기 가스 처리 촉매, 및 이들의 제조 방법 |
WO2017170425A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | イビデン 株式会社 | ハニカム触媒、及びハニカム触媒の製造方法 |
-
1997
- 1997-12-24 JP JP35490897A patent/JP3337634B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6855304B2 (en) | 1999-06-25 | 2005-02-15 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst and process for removing organohalogen compounds |
KR20030006598A (ko) * | 2001-07-13 | 2003-01-23 | 주식회사 나노 | 배연 탈질 선택적 환원 촉매 담체용 이산화티타늄 분말 및이의 제조방법 |
JP2003033664A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-04 | Ngk Insulators Ltd | 排ガス浄化用ハニカム構造体及び排ガス浄化用ハニカム触媒体 |
WO2003009938A1 (fr) * | 2001-07-25 | 2003-02-06 | Ngk Insulators,Ltd. | Corps structurel en nid d'abeilles pour la regulation des gaz d'echappement et corps catalyseur en nid d'abeilles pour la regulation des gaz d'echappement |
US7150861B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-12-19 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Catalyst for purification of exhaust gases and process for purification of exhaust gases |
US7740819B2 (en) | 2002-02-26 | 2010-06-22 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Process for purification of exhaust gases and catalyst used for purification of exhaust gases in this process |
JP2013173147A (ja) * | 2005-02-16 | 2013-09-05 | Basf Catalysts Llc | 石炭燃焼公共施設のためのアンモニア酸化触媒 |
WO2010070957A1 (ja) | 2008-12-19 | 2010-06-24 | 日産ディーゼル工業株式会社 | 排気浄化装置 |
EP2930324A1 (en) | 2008-12-19 | 2015-10-14 | UD Trucks Corporation | Exhaust emission purifying apparatus |
KR20140103126A (ko) | 2011-12-27 | 2014-08-25 | 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 | 티탄 함유 입상 분말 및 이를 사용한 배기 가스 처리 촉매, 및 이들의 제조 방법 |
WO2017170425A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | イビデン 株式会社 | ハニカム触媒、及びハニカム触媒の製造方法 |
JP2017177075A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | イビデン株式会社 | ハニカム触媒、及びハニカム触媒の製造方法 |
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