JPH10186673A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH10186673A
JPH10186673A JP8347591A JP34759196A JPH10186673A JP H10186673 A JPH10186673 A JP H10186673A JP 8347591 A JP8347591 A JP 8347591A JP 34759196 A JP34759196 A JP 34759196A JP H10186673 A JPH10186673 A JP H10186673A
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JP
Japan
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light beam
light
area
rod lens
substrate
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Application number
JP8347591A
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English (en)
Inventor
Kunio Uchiyama
久仁男 内山
Hidekazu Katayama
英一 片山
Makoto Uehara
誠 上原
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MEJIRO PRECISION KK
Nikon Corp
Nikon Engineering Co Ltd
Mejiro Precision KK
Original Assignee
MEJIRO PRECISION KK
Nikon Corp
Nikon Engineering Co Ltd
Mejiro Precision KK
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】従来と比較してコストが低減され、かつ、光源
からの光束を有効利用できる露光装置を提供する。 【解決手段】光源1から射出された光束のうち、第1の
領域と第2の領域とをロッドレンズ9,10で抽出し、
ロッドレンズで抽出された第1の領域及び第2の領域を
拡大光学系12,13で拡大して基板21に照射する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に関し、
特に複数の露光面に光束を照射する露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、基板の表面及び裏面にそれぞれマ
スクを配置して、そのマスクに光束を照射し、マスクに
形成されたパターンを基板の表面及び裏面に同時に露光
する露光装置が知られている。基板の両面を同時に露光
する露光装置は、表面用の光源と、裏面用の光源とを備
えている。
【0003】一般に露光装置は、光源から射出された光
束のうち、光束の光軸中心を含む領域を照射光として利
用している。例えば、基板が長方形形状の場合、基板及
びマスクの全領域に光束を照射するためには、光束の光
軸を含む領域を利用する。なぜなら、光束の照野領域は
円であり、この円の直径付近が一番長い領域を有してい
るからである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の露光装置では、
基板やマスクが長方形形状の場合、光源からの光束のう
ち、光軸を含む細長い領域だけを利用し、その他の領域
は全て捨てていたので、光束を有効利用できなかった。
また、光源には寿命があり、経年変化により、光量が低
下し、経年変化の生じ方も光源によって異なる。しか
し、各露光面に照射する光束を実質同じ特性ににするた
めに、従来の露光装置では、一方の光源がまだ使用可能
でも、所定の時期がくれば、光源を2つとも同時に交換
しなければならず、このためコストがかかるという問題
があった。
【0005】また 本願発明は、従来と比較してコスト
が低減され、かつ、光源からの光束を有効利用できる露
光装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、請求項1に記載の発明によれば、光源(1)か
ら射出された光束から、第1の領域(9a)及び第2の
領域(10a)を抽出する抽出手段(9、10)と、前
記抽出手段で抽出された前記第1の領域の光束を拡大す
る第1の拡大光学系(9)と、前記抽出手段で抽出され
た前記第2の領域の光束を拡大する第2の拡大光学系
(10)とを有することを特徴とする。
【0007】具体的には、抽出手段は、光束の光軸と直
交する面内における、光軸を対称中心として、光軸付近
の長方形または楕円形の領域を選択するものである。こ
の抽出手段として、例えば、ロッドレンズや、光源の射
出部付近に2つの開口部を持つ絞り等を配置したり、光
束の光軸を含む面内で光束を分割する反射ミラー等が考
えられる。ロッドレンズは、例えばガラスや石英のよう
な透明な材質のものを直方体形状に形成したものをい
う。
【0008】また、この露光装置としては、長方形形状
の基板に最適であるが、正方形形状の基板に使用しても
何ら差し支えない。請求項2に記載の発明によれば、前
記抽出手段は、長方形形状の入射部と長方形形状の射出
部を有する2本のロッドレンズから構成され、前記2本
のロッドレンズは、前記2本のロッドレンズのそれぞれ
の入射部の長方形形状の長辺を接するように配置される
ことを特徴とする。
【0009】請求項3に記載の発明によれば、前記抽出
手段は、前記光源から射出された光束が集光する集光点
に配置されて前記光束を分割するルーフミラーと、前記
ルーフミラーで分割された光束を入射し、均一な明るさ
に変換する光学部材とから構成されることを特徴とす
る。前記光学部材は、例えばロッドレンズやフライアイ
等が考えられる。
【0010】
【実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例を、図
面に基づいて説明する。各図面において、図1は第1の
実施の形態を示す露光装置を示す図であり、図2は図1
のA−A矢視図であり、ロッドレンズと光束の関係を示
す図であり、図3は第1の実施の形態における基板を示
す図である。
【0011】まず図1において、露光装置の構成を説明
する。露光装置は、ランプハウス1及び光学系11から
構成され、側面が不図示の保持部に保持された基板21
の表面及び裏面を露光する。ランプハウス1は、発光部
4、楕円ミラー3、反射ミラー6を備えるハウジング5
と、発光部4に電力を供給する電源2とを有する。反射
ミラー6は、コールドミラーであり、コールドミラーは
発光部の熱を冷却するための冷却装置が取り付けられて
いる。ハウジング5には開口部7が形成され、開口部7
を介して発光部4からの光が楕円ミラー3及び反射ミラ
ー6を介して射出される。
【0012】光学系11は、ランプハウス1から射出さ
れた光束のうち、第1の領域(光軸8の上部分)が入射
される第1のロッドレンズ9と、ランプハウス1から射
出された光束のうち、第2の領域(光軸8の下部分)が
入射される第2のロッドレンズ10と、第1のロッドレ
ンズ9から射出された光束を所定の大きさまで拡大する
第1の拡大光学系12と、第2のロッドレンズ11から
射出された光束を所定の大きさまで拡大する第2の拡大
光学系13とを有する。第1、第2の拡大光学系12、
13は、露光に必要な大きさ(寸法)になるまで、第
1、第2の領域の光束を拡大する。従って、拡大光学系
及び発光部は、基板に露光される露光光量及露光寸法を
考慮して決定される。尚、第1、第2のロッドレンズの
詳細については後述する。
【0013】さらに、光学系11は、第1の拡大光学系
12で拡大された第1の領域の光束を基板21の上方に
偏向する偏向光学系としての反射ミラー15と、反射ミ
ラー15で反射された光束を基板21の上面に照射する
反射ミラー14と、第2の拡大光学系13で拡大された
第2の領域の光束を基板21の下方に偏向する偏向光学
系としての反射ミラー16と、反射ミラー16で反射さ
れた光束を基板21の下面に照射する反射ミラー17と
をさらに有する。尚、第1の照射手段は、反射ミラー1
4、15の組み合わせから構成され、第2の照射手段
は、反射ミラー16、17の組み合わせから構成され
る。但し、光学系の配置によっては、第1の照射手段及
び第2の照射手段は、1枚の反射ミラーで構成されて
も、複数の反射ミラーで構成されてもよい。
【0014】次に第1のロッドレンズ9及び第2のロッ
ドレンズ10について説明する。この第1のロッドレン
ズ9及び第2のレッドレンズ10は、ランプハウス1か
ら射出される光束のうち、第1の領域及び第2の領域の
それぞれを抽出する抽出手段であり、同一の形状及び機
能を有する。従って、ここでは第1のロッドレンズ9に
ついてのみ説明する。第1のロッドレンズ9は、入射部
9aから射出部9bまで同じ断面形状のレンズであり、
その断面は長方形形状である。入射部9aから入射され
た光束は、ロッドレンズ本体9b内部の壁面で全反射を
繰り返しながら進む。従って、射出部9bから射出され
る光束は、光束の光軸に対して直交する面内において、
部分的に光量が偏った光量むらがなくなる。
【0015】第1、第2のロッドレンズ9、10は、ラ
ンプハウス1のハウジング5の開口部7の近傍に配置さ
れる。各ロッドレンズ9、10は、入射部9a、10a
の間隔より、射出部9c、10cの間隔の方が広くなる
ように配置される。即ち、ランプユニット5から射出さ
れる光束の光軸8に対して、第1のロッドレンズ9及び
第2のロッドレンズ10の光軸が所定角度傾いて配置さ
れている。ロッドレンズ9、10の光軸が光束の光軸8
に対して傾いて配置された時、各ロッドレンズ9、10
の光軸が発光部4が発した光の集光点(結像位置)4a
を通ることが望ましい。このような配置にすることによ
り、光束を有効に利用でき損失を最小限に押さえること
ができる。
【0016】第1、第2のロッドレンズ9、10と、ラ
ンプハウス1から射出される光束との関係を図2に基づ
いて説明する。図2に示すように、ランプハウス1から
射出される光束は円形状の領域20を有するものであ
る。この円状の領域20を利用して、後述する細長い
(長方形形状)基板21の全領域に光束を照射する。即
ち、この場合、光束の光軸8付近の領域を抽出し、細長
い基板21を照射するための光束領域を確保する必要が
ある。ここでは、第1のロッドレンズの入射部9aの長
辺と、第2のロッドレンズの入射部10aの長辺とを接
するように配置している。2本のロッドレンズの長辺を
接することにより、ランプハウス1から射出される光束
のうち、正方形の光束領域が抽出できる。即ち、円形状
の光束領域の中から、正方形の領域を抽出できるので、
円形状の光束を有効利用できる。
【0017】より好ましくは、入射部9aの長辺と入射
部10aの長辺との間に光軸8を位置させる。このよう
に光軸8を挟んで対称の位置に各ロッドレンズ9、10
を設けることにより、光束20の領域のうち、同じ照度
を持つ光束領域が使用できる。また、光束20の領域の
うち、周辺部分に比べて光軸8付近が明るく、この部分
の光量が有効に使える。
【0018】基板21を図3に示す。図3(a)は基板2
1の平面図を示し、図3(b)は基板21の正面図を示
す。基板21は、レジスト膜が塗布された第1の露光面
(上面)22と第2の露光面(下面)26を有する金属
板24と、金属板24の上面に接触して設けられた第1
の原版23と、金属板24の下面に接触して設けられた
第2の原版25とから構成される。なお、第1の原版2
3及び第2の原版25は、基板の各面に対して微小間隔
(約50μm)離して配置しても良い。
【0019】第1の原版23と第2の原版25とには、
例えばリードフレームのパターンが形成されている。第
1の原版23のパターンと第2の原版24のパターンと
は同一のものである。次にこのように構成された第1の
実施形態の動作について説明する。ランプハウス1の開
口部7から射出された光束はその上半分のうち、光軸8
付近の長方形または楕円形状の領域だけが、第1のロッ
ドレンズ9の入射部9aに入射され、また、その下半分
のうち、光軸8付近の長方形または楕円形状の領域だけ
が、第2のロッドレンズ10の入射部10aに入射され
る。
【0020】各ロッドレンズ9、10に入射した光束
は、ロッドレンズ本体9b、10b内で光量むらのない
光束に変換され、射出部9c、10cから射出される。
射出部9c、10cから射出された光束は、拡大光学系
12、13で長方形形状の基板21の全ての領域を覆う
と共に、均一な照度を保った状態の光束に拡大される。
拡大光学系12で拡大された第1の領域の光束は、第1
の照射手段としての反射ミラー14、15を介して、第
1の原版23に照射され、金属板24の上面が露光され
る。また、拡大光学系13で拡大された第2の領域の光
束は、第2の照射手段としての反射ミラー16、17を
介して、第2の原版25に照射され、金属板24の下面
が露光される従って、一つの光源で、金属板24の両面
に同一パターンを露光することができる。
【0021】図4は第2の実施の形態の露光装置を示
し、図5は第2の実施の形態の露光装置で露光される基
板を示す。第2の実施の形態の露光装置は、ランプハウ
ス1と、第1、第2のロッドレンズ9、10と、第1、
第2の拡大光学系12、13とは、第1の実施の形態の
露光装置と同じ構成であるので、同じ符号を付し、説明
を省略する。第2の実施の形態では、光束を照射する金
属板の面積が第1の実施の形態の金属板の2倍あり、こ
の金属板に光束を照射する第1の照射手段及び第2の照
射手段が異なる。第1の照射手段は、第1の拡大光学系
12で拡大された第1の領域の光束を基板24の下方に
偏向する偏向光学系としての反射ミラー30と、反射ミ
ラー30で反射された光束を後述する基板34の露光面
に照射する反射ミラー31と、第2の拡大光学系13で
拡大された第2の領域の光束を基板34の下方に偏向す
る偏向光学系としての反射ミラー32と、反射ミラー3
2で反射された光束を後述する基板34の露光面に照射
する反射ミラー33とから構成される。
【0022】本実施の形態では、反射ミラー31と反射
ミラー33とは、紙面垂直方向にずらして配置されてい
る。即ち、反射ミラー33が奥側に位置し、反射ミラー
31が手前側に位置している。基板34を図5に示す。
図5(a)は基板34の平面図を示し、図5(b)は基板3
4の正面図を示す。基板34は、第1の露光面38及び
第2の露光面39に複数のレジスト膜がそれぞれ塗布さ
れた金属板35と、第1の露光面38に接触して設けら
れた第1の原版36と、第2の露光面39に接触して設
けられた第2の原版37とから構成される。第1の露光
面38及び第2の露光面39は、金属板35の同一面に
ある。なお、第1の原版36及び第2の原版37は、基
板の各露光面に対して微小間隔(約50μm)離して配
置されても良い。
【0023】第1の原版36と第2の原版37とには、
第1の実施の形態と同じように、リードフレームのパタ
ーンが形成されている。次にこのように構成された第2
の実施形態の動作について説明する。ランプハウス1の
開口部7から射出された光束はその上半分のうち、光軸
8付近の長方形または楕円形状の領域だけが、第1のロ
ッドレンズ9の入射部9aに入射され、また、その下半
分のうち、光軸8付近の長方形または楕円形状の領域だ
けが、第2のロッドレンズ10の入射部10aに入射さ
れる。
【0024】各ロッドレンズ9、10に入射した光束
は、ロッドレンズ本体9b、10b内で光量むらのない
光束に変換され、射出部9c、10cから射出される。
射出部9cから射出された光束は、拡大光学系12で長
方形形状の基板34の第1の露光面38を覆うような光
束に拡大される。また、射出部10cから射出された光
束は、拡大光学系13で長方形形状の基板34の第2の
露光面39を覆うような光束に拡大される。拡大光学系
12で拡大された第1の領域の光束は、第1の照射手段
としての反射ミラー30、31を介して、第1の原版3
6に照射され、金属板35の第1の露光面38にパター
ンが露光される。また、拡大光学系13で拡大された第
2の領域の光束は、第2の照射手段としての反射ミラー
32、33を介して、第2の原版37に照射され、金属
板35の第2の露光面39が露光される このように、原版の大きさより倍以上ある金属板にパタ
ーンを露光する場合、原版を2枚用意し、2枚の原版を
金属板の同一面に並べて配置する。光束20から第1、
第2の光束領域をロッドレンズを用いて抽出し、この2
つの光束領域を1つの金属板に照射することができる。
即ち、光束の照野より大きくかつ、一定の照度を保った
まま拡大できる光束以上の面積の金属板に対しても、1
つの光源で、しかも一回の工程で露光できる。
【0025】尚、第1、第2の実施の形態では、第1の
ロッドレンズが光軸を挟んで上半分の領域を抽出し、第
2のロッドレンズが光軸を挟んで下半分の領域を抽出し
ていたが、第1のロッドロッドレンズが光軸を挟んで右
半分の領域を抽出し、第2のロッドレンズが光軸を挟ん
で左半分の領域を抽出するように配置してもよい。本発
明の各実施の形態によれば、一つの光源で、金属板の2
つの露光面を露光できるので、寿命の決まっている発光
部及び発光部に供給するための電力、発光部が発する熱
がランプハウス(特に、コールドミラー6)に及ぼす熱
影響を取除くための冷却装置のための水、空気等のラン
ニングコストを削減することができる。ランプハウス及
び電源が各一つあれば足りるので、ランプハウス及び電
源のためのスペースも半分にできる。
【0026】また、同一光源からの光を利用するので、
基板に照射する光束の質(光量の経年変化、波長特性
等)が同じである。上記各実施の形態における基板の露
光面と原版との関係は、露光面に密着したコンタクト式
であっても、露光面から数十ミクロン離したプロキシミ
ティ式であっても構わない。
【0027】また、各実施の態様において、ランプハウ
ス1から射出される光束を有効利用するために、図6に
示すように、第1のロッドレンズ9の入射部9aの入射
面にプリズム41を配置し、また、第2のロッドレンズ
10の入射部10aの入射面にプリズム42を配置して
もよい。各プリズム41、42は、光源ユニット5から
の光束を互いに外側に屈折するように配置される。ま
た、図7に示すように、第1のロッドレンズ9の入射部
9aをロッドレンズの光軸に対して斜めに形成し、ま
た、第2のロッドレンズ10の入射部10aをロッドレ
ンズの光軸に対して斜めに形成してもよい。入射部9
a、10aが斜めに形成されたロッドレンズ9、10
は、プリズムを配置する構成と同様に、光源ユニット5
からの光束を、互いに外側に屈折するように配置され
る。
【0028】さらに、各実施の態様では、抽出手段とし
てロッドレンズを用いたが、発光部が発する光が集光す
る集光点4aにルーフミラーを配置し、円形状の光束を
半円の光束に分割する。そして、ロッドレンズやフライ
アイを用いて、長方形形状または楕円形状の光束領域を
抽出して均一な光束としてもよい。
【0029】
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、基板を
露光するための2つの光束を1つの光源から抽出するこ
とができるので、コストを低減することができる。ま
た、2つの光束が1つの光源の光束から抽出されている
ので、光源に経年変化がおきても、同じ光特性を有する
2つの光束を得ることができる。また、1つの光源の光
束から2つの領域を抽出しているので、光束を有効利用
できる。
【0030】請求項2に記載の発明によれば、ロッドレ
ンズ内に効率良く光束を取り込むことができるので、光
束を有効利用することができる。また、光束をロッドレ
ンズに入射させることにより、均一な明るさを持つ光束
となるので、露光面の照射エネルギーを増すことができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における第1の実施の形態の全体を示す
図である.
【図2】第1の実施の形態におけるA−A矢視図であ
る。
【図3】第1の実施の形態における基板の構成を示す図
である。
【図4】本発明における第2の実施の形態の全体を示す
図である。
【図5】第2の実施の形態における基板の構成を示す図
である。
【図6】第1、第2の実施の形態のロッドレンズの他の
例を示す図である。
【図7】第1、第2の実施の形態のロッドレンズの他の
例を示す図である。
【待号の説明】
1 ランプハウス 9、10 ロッドレンズ 11 光学系 12、13 拡大光学系 14、15 第1の照射手段 16、17 第2の照射手段 21、34 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内山 久仁男 神奈川県横浜市神奈川区鶴屋町3−30−4 株式会社ニコンエンジニアリング内 (72)発明者 片山 英一 神奈川県横浜市神奈川区鶴屋町3−30−4 株式会社ニコンエンジニアリング内 (72)発明者 上原 誠 東京都豊島区目白4丁目15番21号 株式会 社目白プレシジョン内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光源から射出された光束から、第1の領域
    及び第2の領域を抽出する抽出手段と、 前記抽出手段で抽出された前記第1の領域の光束を拡大
    する第1の拡大光学系と、 前記抽出手段で抽出された前記第2の領域の光束を拡大
    する第2の拡大光学系と、を有することを特徴とする露
    光装置。
  2. 【請求項2】前記抽出手段は、長方形形状の入射部と長
    方形形状の射出部を有する2本のロッドレンズから構成
    され、 前記2本のロッドレンズは、前記2本のロッドレンズの
    それぞれの入射部の長方形形状の長辺を接するように配
    置されることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  3. 【請求項3】前記抽出手段は、前記光源から射出された
    光束が集光する集光点に配置されて前記光束を分割する
    ルーフミラーと、前記ルーフミラーで分割された光束を
    入射し、均一な明るさに変換する光学部材とから構成さ
    れることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
JP8347591A 1996-12-26 1996-12-26 露光装置 Pending JPH10186673A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007142265A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Fuji Koken Kk 露光装置及び露光方法
JP2008242173A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Orc Mfg Co Ltd 露光描画装置
JP2008268888A (ja) * 2007-03-28 2008-11-06 Orc Mfg Co Ltd 露光描画装置
JP2008275718A (ja) * 2007-04-26 2008-11-13 Orc Mfg Co Ltd 露光描画装置
JP2009246371A (ja) * 1997-12-23 2009-10-22 Canon Inc 投影光源
US8297991B2 (en) 1998-11-11 2012-10-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Exposure device, exposure method and method of manufacturing semiconductor device

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009246371A (ja) * 1997-12-23 2009-10-22 Canon Inc 投影光源
US8297991B2 (en) 1998-11-11 2012-10-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Exposure device, exposure method and method of manufacturing semiconductor device
US8476665B2 (en) 1998-11-11 2013-07-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
US8859947B2 (en) 1998-11-11 2014-10-14 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device comprising at least dual transistor electrically connected to dual parallel wiring
US9366971B2 (en) 1998-11-11 2016-06-14 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device comprising dual transistor with LDD regions overlapping the gate electrodes and one of a source electrode and a drain electrode of first transistor is electrically connected to the second gate electrode
JP2007142265A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Fuji Koken Kk 露光装置及び露光方法
JP2008242173A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Orc Mfg Co Ltd 露光描画装置
JP2008268888A (ja) * 2007-03-28 2008-11-06 Orc Mfg Co Ltd 露光描画装置
JP2008275718A (ja) * 2007-04-26 2008-11-13 Orc Mfg Co Ltd 露光描画装置

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