JPH0953024A - 艶消し表面形成用樹脂組成物及び艶消し表面の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた意匠性を有する艶消し表面を発揮さ
せ、素材表面に十分な付着性を有する艶消し表面形成用
樹脂組成物、及びそれを用いての再現性の良い艶消し表
面形成方法。 【解決手段】 （ａ）脂環族イソシアネート化合物と、
（ｂ）エステル系ポリオールと、（ｃ）水酸基を有する
アクリレート化合物とを必須成分として製造される
（Ａ）ウレタンアクリレートと、（Ｂ）アクリレート系
反応性希釈剤と、（Ｃ）４００nm以上の波長光に対する
モル吸光係数が１００（ｌ・mol^-1・cm^-1）を越えない吸
収特性を有する光開始剤を含む艶消し表面形成用樹脂組
成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、艶消し表面形成用
樹脂組成物及び艶消し表面の形成方法に関するもので、
建材用、車両等の内装用、ガラス装飾用、電気電子機器
のハウジング等の各種表面処理工程において、微細な皺
を形成させることにより、光拡散効果、意匠性や美観の
向上を図る目的で使用されるものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、成形品の意匠性や美観の向上
を図る目的で、種々の表面処理剤により被塗物の表面を
光の拡散効果により艶消し状態にすることが行われてい
る。これらの従来の方法としては、塗料やインキ中に艶
消し顔料等を混入させたり、塗面、表面のブラスト処理
等を行っていた。

【０００３】しかしながら、艶消し顔料を塗料樹脂、イ
ンキ等に混入する方法では、硬化塗膜の光透過率が減少
し、必然的に塗膜が不透明となる欠点を有している。ま
た、ブラスト処理は、処理工程が煩雑で生産性に問題が
ある。

【０００４】また、硬化性、生産性に優れる紫外線硬化
型樹脂を用いる場合は、窒素雰囲気下で紫外線照射を行
い、表面に皺を形成させる方法により艶消しを行う方法
が知られている。しかしながら、窒素雰囲気下における
紫外線硬化は、窒素費用に加え、均一で再現性のある皺
の形成が難しい問題点を有している。

【０００５】また最近、特開平６−３１２４９５号公報
には、３００nm以下の紫外線により皺を発生させる方法
が開示されている。けれども、単に低波長の紫外線照射
では、皺が形成されない場合があり、また形成されても
均一な皺が形成されない等の問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、優れた意匠性を有する艶消し表面を有し、
且つ塗装物の場合には、素材表面に十分な付着性を有す
る、艶消し表面形成用樹脂組成物、及びそれを用いての
再現性の良い艶消し表面形成方法を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、紫外線に
よる硬化反応で、硬化収縮による硬化物表面の皺を均一
で、且つ再現性良く得ることを目的に、紫外線硬化型樹
脂の種類、並びに、用いる光開始剤の選択が特に重要で
あると考え、鋭意研究した結果、特定の樹脂組成物、即
ち、特定のウレタンアクリレート、反応性希釈剤、及び
４００nm以上の波長光に対するモル吸光係数が１００
（ｌ・mol^-1・cm^-1）を越えない吸収特性を有する光開始
剤から成る樹脂組成物を用いることによって、本発明を
完成するに至った。

【０００８】また、この新規な樹脂組成物に対して、３
００nm以下の波長の光に最大発光強度を有し、かつ３０
０nm〜８００nmの波長の光が相対強度として２０％以下
である紫外線照射ランプを用いて照射、硬化させること
により、硬化樹脂表面に微細な皺を発生させる艶消し表
面の形成方法を見出した。さらに、次いで３００nm以上
の波長に最大発光強度を有する紫外線照射ランプにより
紫外線を照射することにより、樹脂内部まで十分に硬化
させる艶消し表面の形成方法を見出した。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の艶消し表面形成用樹脂組
成物は、（ａ）脂環族イソシアネート化合物と、（ｂ）
エステル系ポリオールと、（ｃ）水酸基を有するアクリ
レート化合物とを必須成分として製造される（Ａ）ウレ
タンアクリレートと、（Ｂ）アクリレート系反応性希釈
剤と、（Ｃ）４００nm以上の波長光に対するモル吸光係
数が１００（ｌ・mol^-1・cm^-1）を越えない吸収特性を有
する光開始剤を含む艶消し表面形成用樹脂組成物であ
る。

【００１０】本発明の艶消し表面形成用樹脂組成物は、
望ましくは、（ｂ）エステル系ポリオールが、水酸基と
して３官能以上のポリカプロラクトンを使用すること、
（Ｂ）アクリレート系反応性希釈剤が、テトラヒドロフ
ルフリル基を有するものである。

【００１１】更に、本発明の艶消し表面の形成方法は、
これら本発明の艶消し表面形成用樹脂組成物に、３００
nm以下の波長に最大発光強度を有し、かつ３００nm〜８
００nmの波長の光が相対強度として２０％以下である紫
外線照射ランプを用いて、紫外線照射、硬化させること
により、硬化樹脂表面に微細な皺を発生させ、艶消し表
面を形成させることを特徴とするものである。

【００１２】また本発明のさらなる艶消し表面の形成方
法は、本発明の艶消し表面形成用樹脂組成物に、３００
nm以下の波長に最大発光強度を有し、かつ３００nm〜８
００nmの波長の光が相対強度として２０％以下である紫
外線照射ランプを用いて、光照射、硬化させることによ
り、硬化樹脂表面に微細な皺を発生させ、次いで３００
nm以上の波長に最大発光強度を有する紫外線照射ランプ
により紫外線を照射、硬化させることを特徴とするもの
である。

【００１３】以下に本発明を詳細に説明する。本発明の
艶消し表面形成用樹脂組成物の（ａ）脂環族イソシアネ
ート化合物としては、イソホロンジイソシアネート、水
添キシレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン
ジイソシアネート等が用いられる。また、かかる脂環族
イソシアネート化合物のイソシアヌレート化物、ビュー
レット化合物等、更に、芳香族イソシアネート化合物、
脂肪族イソシアネート化合物との併用、または、共イソ
シアヌレート化物等も用いることが出来る。また、本発
明の（ｂ）エステル系ポリオールとしては、ポリオール
化合物とポリカルボン酸化合物とのエステル化物が挙げ
られる。また、環状エステル化合物とポリオールとの開
環反応により合成されるものも用いることが出来る。

【００１４】かかる、ポリオール化合物の代表例として
は、エチレングリコール、１,３−プロピレングリコー
ル、１,２−プロピレングリコール、ジエチレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、１,３−ブタンジオール、１,４−ブタンジオール、
１,６−ヘキサンジオール、１,９−ノナンジオール、
１,１０−デカンジオール、２,２,４−トリメチル−１,
３−ペンタンジオール、３−メチル−１,５−ペンタン
ジオール、ジクロロネオペンチルグリコール、ジブロモ
ネオペンチルグリコール、ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメチロー
ル、１,４−シクロヘキサンジオール、スピログリコー
ル、トリシクロデカンジメチロール、水添ビスフェノー
ルＡ、エチレンオキサイド付加ビスフェノ−ルＡ、プロ
ピレンオキサイド付加ビスフェノ−ルＡ、トリメチロー
ルエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、３−
メチルペンタン−１,３,５−トリオール、ペンタエリス
リトール、ジペンンタエリスリトール、トリペンタエリ
スリトール、グルコース類などが挙げられる。

【００１５】また、カルボン酸含有化合物としては、公
知慣用の各種のカルボン酸、またはそれらの酸無水物、
及びこれらカルボン酸化合物と低級アルキルアルコール
のエステル化物が使用できるが、それらのうちでも特に
代表的なもののみを例示するにとどめれば、マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、テトラヒド
ロフタル酸、ヘット酸、ハイミック酸、クロレンディッ
ク酸、ダイマー酸、アジピン酸、こはく酸、アルケニル
こはく酸、セバチン酸、アゼライン酸、２,２,４−トリ
メチルアジピン酸、１,４−シクロヘキサンジカルボン
酸、テレフタル酸、２−ナトリウムスルホテレフタル
酸、２−カリウムスルホテレフタル酸、イソフタル酸、
５−ナトリウムスルホイソフタル酸、５−カリウムスル
ホイソフタル酸、またはジメチル−ないしはジエチルエ
ステルの如き、５−ナトリウム−スルホイソフタル酸の
ジ−低級アルキルエステル類、あるいは、オルソフタル
酸、４−スルホフタル酸、１,１０−デカメチレンジカ
ルボン酸、ムコン酸、しゅう酸、マロン酸、グルタン
酸、トリメリット酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブ
ロムフタル酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸も
しくはピロメリット酸、またはこれらの酸無水物、また
は、これらのメタノール、エタノール等によるアルコー
ルエステル化合物などが挙げられる。

【００１６】また、環状エステル化合物としては、γ−
ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラク
トン、ε−カプロラクトン、置換ε−カプロラクトン、
Ｄ−グルコノ−１,４−ラクトン、１,１０−フェナント
レンカルボラクトン、４−ペンテン−５−オリド、１２
−ドデカノリド等ラクトン類が挙げられる。

【００１７】また、ここでいう置換ε−カプロラクトン
とは、アルキル基が１から１２までの炭素原子を有する
種々のε−モノアルキルカプロラクトンであって、例え
ば、ε−メチルカプロラクトン、ε−エチルカプロラク
トン、ε−プロピルカプロラクトン、ε−ドデシルカプ
ロラクトンなどの１置換アルキルラクトン類から、２か
ら３のアルキル置換のものが使用できる。

【００１８】均一なる皺の発生、各種素材との付着性、
塗膜の物性等の面から、かかる原料により合成されるポ
リエステルポリオールの中でも、ポリカプロラクトン系
ポリオールが特に好ましく用いられる。その分子量とし
ては、３００から５０００のものが好ましく、また官能
基数としては、３官能以上のものが硬化性、皺発生の安
定から好ましい。

【００１９】本発明に使用される（ｃ）水酸基を有する
アクリレート化合物としては、公知慣用のものが使用で
きるが、それらのうちでも特に代表的なもののみを例示
するにとどめれば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−
ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキ
シブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ルモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレートまたはグリシジルメタクリレー
ト−（メタ）アクリル酸付加物、上掲された如き、各種
の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物とε−カ
プロラクトン及び、その変性物との開環反応物などであ
る。

【００２０】本発明に用いられる（Ａ）ウレタンアクリ
レートは、（ａ）脂環族イソシアネート化合物と、
（ｂ）エステル系ポリオールと、（ｃ）水酸基を有する
アクリレート化合物を、５０〜１２０℃で、必要に応じ
て、ウレタン化触媒の存在下にウレタン化反応させるこ
とにより、容易に合成される。

【００２１】かかるウレタン化反応は、全成分の一括仕
込みによる反応であっても、ポリオール成分とイソシア
ネート成分を、一度イソシアネート基過剰にてプレポリ
マーを合成した後、残存するイソシアネート基を水酸基
含有のアクリレート化合物により、反応せしめることに
よっても、合成することが可能である。

【００２２】また、水酸基含有のアクリレート化合物と
イソシアネート化合物を、一度イソシアネート基過剰に
てプレポリマーを合成した後、残存するイソシアネート
基をポリエステルポリオールと反応させることも可能で
ある。かかる反応により合成されるウレタンアクリレー
トの分子量としては、７００〜２００００の範囲内であ
ることが好ましい。

【００２３】本発明においては、適正な塗装、印刷適性
を得る為、更に種々の物性の改良の為、（Ｂ）アクリレ
ート系反応性希釈剤を添加することが好ましい。かかる
（Ｂ）アクリレート系反応性希釈剤としては、例えばメ
トキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メト
キシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、β
−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタ
レート、β−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイド
ロゲンサクシネート、ノニルフェノキシエチル（メタ）
アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アク
リレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）
アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、β−（メタ）アクリロイルオキシプ
ロピルハイドロゲンフタレート、β−（メタ）アクリロ
イルオキシプロピルハイドロゲンサクシネート、

【００２４】ブトキシポリエチレングリコール（メタ）
アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、シクロ
ヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリ
ル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリ
レート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノ
キシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アク
リロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル
酸、３−アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロキシ−３−
（メタ）アクリロキシプロパン、ポリプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ルモノ（メタ）アクリレート、ポリε−カプロラクトン
モノ（メタ）アクリレート、ジアルキルアミノエチル
（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレー
ト、モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］ア
ッシドホスフェート、トリフロロエチル（メタ）アクリ
レート、２,２,３,３−テトラフロロプロピル（メタ）
アクリレート、

【００２５】２,２,３,４,４,４−ヘキサフロロブチル
（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシアルキル
（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）ア
クリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレー
ト、トリシクロデカニルオキシエチル（メタ）アクリレ
ート、イソボルニルオキシエチル（メタ）アクリレート
などの単官能重合性希釈剤、

【００２６】同様に、例えば２,２−ジメチル−３−ヒ
ドロキシプロピル−２,２−ジメチル−３−ヒドロキシ
プロピオネートのジ（メタ）アクリレート、エチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジ（メ
タ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキシ
ド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ
のプロピレンオキシド付加物のジ（メタ）アクリレー
ト、２,２′−ジ（ヒドロキシプロポキシフェニル）プ
ロパンのジ（メタ）アクリレート、

【００２７】２,２′−ジ（ヒドロキシエトキシフェニ
ル）プロパンのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデ
カンジメチロールのジ（メタ）アクリレート、２,２′
−ジ（グリシジルオキシフェニル）プロパンの（メタ）
アクリル酸付加物等の２官能重合性希釈剤、同様に、例
えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、テ
トラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テト
ラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、トリ
ス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのトリ
（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシプロピル）
イソシアヌレートのトリ（メタ）アクリレート、トリメ
リット酸のトリ（メタ）アクリレートと、トリアリルト
リメリット酸、トリアリルイソシアヌレート等の多官能
重合性希釈剤が挙げられる。

【００２８】更に、皺の再現性、硬化性、付着性等の面
から、特に好適なものとして、テトラヒドロフルフリル
基を有するアクリレート化合物が挙げられる。かかるア
クリレート化合物としては、テトラヒドロフルフリルア
クリレート、ラクトン変性テトラヒドロフルフリルアク
リレート、ダイマーアクリル酸変性テトラヒドロフルフ
リルアクリレート、ダイマーアクリル酸変性ラクトン変
性テトラヒドロフルフリルアクリレート等が挙げられ
る。

【００２９】本発明の艶消し表面形成用樹脂組成物は、
紫外線照射により硬化を行う際、光重合性開始剤、光増
感剤を使用することが好ましい。用いられる光重合開始
剤としては、公知慣用の重合性光開始剤を用いることが
できるが、特に４００nm以上の波長光に対するモル吸光
係数が１００（ｌ・mol^-1・cm^-1）を越えない吸収特性を
有する光開始剤（Ｃ）を選択することにより、均一で再
現性のよい皺を得ることができる。

【００３０】かかる（Ｃ）光開始剤としては、具体的に
は、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２,２−
ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２,２−ジ
エトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アルコキシア
セトフェノン、ベンゾフェノンおよびベンゾフェノン誘
導体等が挙げられる。

【００３１】（Ｃ）光開始剤の使用量は、アクリレート
樹脂成分１００重量部に対して０.２〜３０重量部、好
ましくは２〜２０重量部の範囲である。かかる光重合開
始剤は公知慣用の光重合促進剤の一種あるいは二種以上
と組み合わせて用いることもできる。

【００３２】更に、本発明の艶消し表面形成用樹脂組成
物粘度調製の為、エステル、エーテル、ケトン、アルコ
ール、芳香族、脂肪族等の各種の溶剤を添加することも
可能である。また、本発明の硬化組成物には、更に必要
に応じて、紫外線硬化を妨げない範囲で他の成分を加え
ることも可能である。これらの他の成分は、公知慣用の
重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、無機充
填剤、無機顔料、または有機顔料、有機染料、その他光
安定剤、光吸収剤、レベリング剤、消泡剤、防錆剤等の
添加剤等である。

【００３３】本発明の艶消し表面形成用樹脂組成物は、
被塗物に関しては特に制限がなく、フィルム、シート、
成形体等の各種の形状、ポリカーボネート、塩ビ、アク
リル、ポリエステル等プラスチック等や木材、金属、紙
に塗装することができる。また、塗装方法も特に制限は
なく、公知慣用のスクリーン印刷、ロールコート、カー
テンコート、スプレーコート、スピンコート等使用可能
である。塗膜の膜厚としては、皺発生の再現性等の面か
ら、１０μｍ〜１ｍｍ程度であり、好ましくは、２０μ
ｍ〜５００μｍ程度である。

【００３４】本発明に用いる紫外線照射装置としては、
第１の紫外線ランプとして、３００nm以下に最大の発光
強度を有し、かつ３００nm〜８００nmの光が相対強度と
して２０％以下である紫外線照射ランプを用いる。かか
る紫外線ランプとしては、所謂、低圧水銀灯が好まし
い。

【００３５】また第１の紫外線ランプとして、高圧水銀
灯を使用する場合は、モノクロメーターによる選択的波
長選択、あるいは、フィルターにより３００nm以上の光
をカットし、３００〜８００nmの光が相対強度として２
０％以下にする。かかる波長の紫外線を照射した場合
は、塗布した樹脂の表面と内部での光吸収能の不均一性
により、表面と内部の硬化性、硬化収縮率の不均一性が
生じ、これによって樹脂表面に皺が形成される。このた
め、照射条件によりその皺の形状は異なり、照射紫外線
の波長選択は皺形成の重要な因子である。

【００３６】第１の紫外線ランプの照射により、樹脂表
面に皺を形成させた後、３００nm以上の波長に最大発光
強度を有する第２の紫外線ランプを用いて、紫外線を照
射することにより、塗布した樹脂（塗膜）内部の硬化を
充分に行い、塗膜の被塗物への付着性、あるいは物性、
耐久性の向上を行うことが可能である。

【００３７】本発明の艶消し表面形成用樹脂組成物を用
いての、艶消し表面形成方法では、無論、紫外線照射を
窒素等の不活性ガス雰囲気下で行っても良いが、特にそ
の必要性はなく、通常は大気中での紫外線照射により行
われる。また、第１の紫外線ランプにより、塗布した艶
消し表面形成用樹脂組成物の樹脂表面に皺を形成させた
後、加熱により後硬化処理を行い、塗布した樹脂（塗
膜）内部の硬化を充分に行うことも可能である。

【００３８】

【実施例】次に、本発明を実施例、比較例および試験結
果等により、一層、具体的に説明するが、もとより本発
明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。以
下において、部および％は特に断りのない限りは、すべ
て重量基準であるものとする。

【００３９】（合成例１）（ポリウレタンアクリレート
の合成例） 温度計、攪拌器およびコンデンサ−を備えたフラスコ
に、イソホロンジイソシアネート６６６部と、テトラヒ
ドロフルフリルアクリレート４４０部とポリエチレング
リコールジアクリレート（分子量約３００）３００部を
加え、７０℃まで昇温した。

【００４０】次いでトリメチロールプロパンとイプシロ
ンカプロラクトンの開環反応物（水酸基価１４０ＫＯＨ
−ｍｇ／ｇ、分子量約１２００）１２００部を１時間で
攪拌しながら添加した。７０℃で７時間反応を行い、系
中のイソシアネート基が、４.９％となったことを確認
して、２ーヒドロキシエチルアクリレート３５０部を仕
込んだ。７０℃で７時間反応を行った後、赤外吸収スペ
クトルにより残存のイソシアネート基が消滅したことを
確認した。

【００４１】（実施例１）下記配合にて塗料を調製し
た。この塗料をポリカ−ボネート上に５０μｍの厚さで
塗装を行った。その後、低圧水銀ランプ（１ｗ／cm）２
灯にて１５mmの高さから、ラインスピード６ｍ／ｍｉｎ
で照射を行った。次いで、高圧水銀灯（８０ｗ／cm）に
て、１５cmの高さから、ラインスピード６ｍ／ｍｉｎで
照射を行った。評価結果を表１に示す。

【００４２】 （塗料配合） ウレタンアクリレート（合成例１） ９７部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン ３部 ────────────────────────────────── 計 １００部

【００４３】尚、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニルプロパン−１−オンは、４００nm以上の光に対し
て、モル吸光係数が ２０l・mol^-1・cm^-1以下である。

【００４４】（実施例２）下記配合にて塗料を調製し
た。この塗料をポリカ−ボネート上に５０μｍの厚みで
塗装を行った。その後、低圧水銀ランプ（１ｗ／cm）２
灯にて１５mmの高さから、ラインスピード６ｍ／ｍｉｎ
で照射を行った。次いで、高圧水銀灯（８０ｗ／cm）に
て１５cmの高さから、ラインスピード６ｍ／ｍｉｎで照
射を行った。評価結果を表１に示す。

【００４５】 （塗料配合） ウレタンアクリレート（合成例１） ９７部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３部 ─────────────────────────── 計 １００部

【００４６】尚、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトンは、４００nm以上の光に対して、モル吸光係数
が ２０l・mol^-1・cm^-1以下である。

【００４７】（比較例１）下記配合にて塗料を調製し
た。この塗料をポリカ−ボネート上に５０μｍの厚さで
塗装を行った。高圧水銀灯（８０ｗ／cm）にて１５cmの
高さからラインスピード６ｍ／ｍｉｎで照射を行った。
評価結果を表１に示す。

【００４８】 （塗料配合） ウレタンアクリレート（合成例１） ９７部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン ３部 ────────────────────────────────── 計 １００部

【００４９】（比較例２）下記配合にて塗料を調製し
た。この塗料をポリカ−ボネート上に５０μｍの厚さで
塗装した。その後、低圧水銀ランプ（１ｗ／cm）２灯に
て１５mmの高さからラインスピード６ｍ／ｍｉｎで照射
を行った。次いで、高圧水銀灯（８０ｗ／cm）にて１５
cmの高さからラインスピード６ｍ／ｍｉｎで照射を行っ
た。評価結果を表１に示す。

【００５０】 （塗料配合） ウレタンアクリレート（合成例１） ９７部 ２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド ３部 ─────────────────────────────────── 計 １００部

【００５１】２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニ
ルフォスフィンオキサイドは、４００nm以上の光に対し
て光吸収特性を有しており、そのモル吸光係数は約２０
０（ｌ・mol^-1・cm^-1）である。

【００５２】（比較例３）下記配合にて塗料を調製し
た。この塗料をポリカ−ボネート上に５０μｍの厚さで
塗装した。その後、低圧水銀ランプ（１ｗ／cm）２灯に
て１５mmの高さからラインスピード６ｍ／ｍｉｎで照射
を行った。次いで、高圧水銀灯（８０ｗ／cm）にて１５
cmの高さからラインスピード６ｍ／ｍｉｎで照射を行っ
た。評価結果を表１に示す。

【００５３】 （塗料配合） ビスフェノールＡエポキシアクリレート ７０部 ヘキサメチレンジアクリレート ２７部 ダロキュア１１７３ ３部 ──────────────────────────── 計 １００部

【００５４】

【表１】

【００５５】（評価方法） 皺の出来具合：目視で以下の段階に判定。 ◎；均一な皺が発生 △；一部に皺が発生 ×；皺は発生しない

【００５６】（再現性）作製した塗料を１００枚のポリ
カーボネート板に塗布し、同様に紫外線硬化させ、それ
らの表面の皺の状態を目視で比較判定し、塗装硬化して
作製されたテストピース１００枚の艶消し状態の均一
性、再現性の面から下記のランクにて判定した。 ◎：１００枚のテストピースがすべて均一で同様なる表
面艶消し状態を有している。 △：艶消し状態を有しているが、テストピースにより、
艶消し状態が異なっているものが存在している。 ×：艶消し状態が得られなかったり、得られてもテスト
ピースにより状態がまちまちであったり再現性が得られ
ない。

【００５７】（グロス）ＪＩＳ Ｋ−５４００のグロス
測定法に従い、６０度のグロス測定した。測定グロス値
が低い方が塗膜の艶消しが良好なことを示す。 （付着性）１ｍｍの１００個のクロスカットを塗膜に作
製し、セロテ−プ剥離残存枡目にて評価した。残存数が
多い方が付着性が良好なことを示す。

【００５８】

【発明の効果】本発明は、優れた意匠性を有する艶消し
表面を有し、且つ塗装物の場合には、素材表面に十分な
付着性を有する、艶消し表面形成用樹脂組成物、及びそ
れを用いての再現性の良い艶消し表面形成方法を提供で
きる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 一ノ瀬 栄寿 千葉県市原市辰巳台４−４ (72)発明者 石川 英宣 千葉県市原市若宮６−５−４ (72)発明者 来栖 弘順 千葉県市川市曽谷３丁目20番６号 有限会 社来栖電工内 (72)発明者 宮園 邦治 埼玉県戸田市中町２−17−11 有限会社豊 成産業内 (72)発明者 高田 和広 埼玉県蓮田市根金二本木1575 株式会社セ イコーアドバンス内 (72)発明者 小川 克博 埼玉県蓮田市根金二本木1575 株式会社セ イコーアドバンス内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）脂環族イソシアネート化合物と、
   （ｂ）エステル系ポリオールと、（ｃ）水酸基を有する
   アクリレート化合物とを必須成分として製造される
   （Ａ）ウレタンアクリレートと、（Ｂ）アクリレート系
   反応性希釈剤と、（Ｃ）４００nm以上の波長光に対する
   モル吸光係数が１００（ｌ・mol^-1・cm^-1）を越えない吸
   収特性を有する光開始剤を含むことを特徴とする艶消し
   表面形成用樹脂組成物。
2. 【請求項２】 （ｂ）エステル系ポリオールが、水酸基
   として３官能以上のポリカプロラクトンであることを特
   徴とする請求項１記載の艶消し表面形成用樹脂組成物。
3. 【請求項３】 （Ｂ）アクリレート系反応性希釈剤が、
   テトラヒドロフルフリル基を有するものであることを特
   徴とする請求項１又は２記載の艶消し表面形成用樹脂組
   成物。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか一つに記載の艶
   消し表面形成用樹脂組成物に、３００nm以下の波長に最
   大発光強度を有し、かつ３００nm〜８００nmの波長の光
   が相対強度として２０％以下である紫外線照射ランプを
   用いて、紫外線照射、硬化させることにより、硬化樹脂
   表面に微細な皺を発生させ、艶消し表面を形成すること
   を特徴とする艶消し表面の形成方法。
5. 【請求項５】 請求項１〜３のいずれか一つに記載の艶
   消し表面形成用樹脂組成物に、３００nm以下の波長に最
   大発光強度を有し、かつ３００nm〜８００nmの波長の光
   が相対強度として２０％以下である紫外線照射ランプを
   用いて、光照射、硬化させることにより、硬化樹脂表面
   に微細な皺を発生させ、次いで３００nm以上の波長に最
   大発光強度を有する紫外線照射ランプにより紫外線を照
   射、硬化させることを特徴とする艶消し表面の形成方
   法。