JPH11121427A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JPH11121427A JPH11121427A JP27899697A JP27899697A JPH11121427A JP H11121427 A JPH11121427 A JP H11121427A JP 27899697 A JP27899697 A JP 27899697A JP 27899697 A JP27899697 A JP 27899697A JP H11121427 A JPH11121427 A JP H11121427A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理液を基板に供給して処理する第1処理部
から、開口部を有する仕切壁を介して第1処理部に連設
された第2処理部に、処理液の液滴やミスト状の雰囲気
が浸入するのを確実に防止することができる基板処理装
置を提供する。 【解決手段】 ノズル121が薬液処理部12の内部
で、しかも待機部11との間に設けられた開口部H12の
上方近傍側に設けられている。このノズル121のノズ
ル本体121a内には、液供給通路121bが穿孔され
るとともに、この液供給通路121bに薬液供給管路1
25が接続されている。そして、ポンプ127が作動す
ると、薬液タンク126から薬液がノズル121側に圧
送され、液供給通路121bを通って液吐出口121c
から薬液が下方側に吐出されて、薬液の液カーテン51
が開口部H12を遮断するように形成される。
から、開口部を有する仕切壁を介して第1処理部に連設
された第2処理部に、処理液の液滴やミスト状の雰囲気
が浸入するのを確実に防止することができる基板処理装
置を提供する。 【解決手段】 ノズル121が薬液処理部12の内部
で、しかも待機部11との間に設けられた開口部H12の
上方近傍側に設けられている。このノズル121のノズ
ル本体121a内には、液供給通路121bが穿孔され
るとともに、この液供給通路121bに薬液供給管路1
25が接続されている。そして、ポンプ127が作動す
ると、薬液タンク126から薬液がノズル121側に圧
送され、液供給通路121bを通って液吐出口121c
から薬液が下方側に吐出されて、薬液の液カーテン51
が開口部H12を遮断するように形成される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用ガ
ラス基板、半導体基板、プリント基板およびプラズマデ
ィスプレイ用基板などの板状の基板を、仕切壁の開口部
を介して第1および第2処理部の間で搬送しながら、第
1処理部で処理液を供給して処理する基板処理装置に関
する。
ラス基板、半導体基板、プリント基板およびプラズマデ
ィスプレイ用基板などの板状の基板を、仕切壁の開口部
を介して第1および第2処理部の間で搬送しながら、第
1処理部で処理液を供給して処理する基板処理装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】この種の基板処理装置として、例えば特
開平9−82775号公報に記載されたものがある。こ
の基板処理装置では、基板を通過させるための開口部を
有する仕切壁で仕切られた状態で、待機部、エッチング
部、水洗部および乾燥部がこの順序で直線状に連設され
るとともに、これらの間で開口部を介して基板が搬送さ
れる。そして、基板を待機部、エッチング部、水洗部お
よび乾燥部の順序で搬送しながら、エッチング部で基板
にエッチング液を供給してエッチング処理し、また水洗
部でエッチング処理された基板に対してイオン交換水を
供給して水洗処理する。
開平9−82775号公報に記載されたものがある。こ
の基板処理装置では、基板を通過させるための開口部を
有する仕切壁で仕切られた状態で、待機部、エッチング
部、水洗部および乾燥部がこの順序で直線状に連設され
るとともに、これらの間で開口部を介して基板が搬送さ
れる。そして、基板を待機部、エッチング部、水洗部お
よび乾燥部の順序で搬送しながら、エッチング部で基板
にエッチング液を供給してエッチング処理し、また水洗
部でエッチング処理された基板に対してイオン交換水を
供給して水洗処理する。
【0003】また、上記基板処理装置では、エッチング
部においてエッチング液によるエッチング処理を行って
いるため、基板から飛散したエッチング液の液滴やミス
ト状の雰囲気が開口部を介して隣接配置された待機部ま
たは水洗部に浸入して待機部または水洗部における基板
の処理に悪影響を与えるおそれがある。そこで、このよ
うな問題を解決するために、エッチング部と、待機部お
よび水洗部との仕切壁に機械的シャッタを設け、エッチ
ング部でエッチング処理を行っている間、機械的シャッ
タによって開口部を遮断してエッチング部から待機部お
よび水洗部にエッチング液の液滴やミスト状の雰囲気が
浸入するのを防止している。
部においてエッチング液によるエッチング処理を行って
いるため、基板から飛散したエッチング液の液滴やミス
ト状の雰囲気が開口部を介して隣接配置された待機部ま
たは水洗部に浸入して待機部または水洗部における基板
の処理に悪影響を与えるおそれがある。そこで、このよ
うな問題を解決するために、エッチング部と、待機部お
よび水洗部との仕切壁に機械的シャッタを設け、エッチ
ング部でエッチング処理を行っている間、機械的シャッ
タによって開口部を遮断してエッチング部から待機部お
よび水洗部にエッチング液の液滴やミスト状の雰囲気が
浸入するのを防止している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、待機部
からエッチング部に基板を搬入するときやエッチング部
から水洗部に基板を搬出するときには、機械的シャッタ
を開いて開口部を開放状態にする必要がある。そのた
め、この開放状態では、開口部を通過している基板と開
口部との間に隙間が生じ、この隙間からエッチング液の
液滴やミスト状の雰囲気が待機部または水洗部に浸入し
てしまう。このように、機械的シャッタによってエッチ
ング部から隣接する処理部(待機部、水洗部)へのエッ
チング液の浸入を確実に防止することは困難である。
からエッチング部に基板を搬入するときやエッチング部
から水洗部に基板を搬出するときには、機械的シャッタ
を開いて開口部を開放状態にする必要がある。そのた
め、この開放状態では、開口部を通過している基板と開
口部との間に隙間が生じ、この隙間からエッチング液の
液滴やミスト状の雰囲気が待機部または水洗部に浸入し
てしまう。このように、機械的シャッタによってエッチ
ング部から隣接する処理部(待機部、水洗部)へのエッ
チング液の浸入を確実に防止することは困難である。
【0005】なお、この問題は、エッチング液の液滴や
ミスト状の雰囲気がエッチング部から待機部および水洗
部に浸入する場合に限定されるものではなく、水洗部で
使用するイオン交換水の液滴やミスト状の雰囲気がエッ
チング部に浸入する場合にも発生する問題であり、薬液
(現像液、エッチング液、剥離液など)、イオン交換水
(純水)などの処理液を基板に供給して処理する第1処
理に、開口部を有する仕切壁を介して第2処理部が連設
された基板処理装置全般において発生する問題である。
ミスト状の雰囲気がエッチング部から待機部および水洗
部に浸入する場合に限定されるものではなく、水洗部で
使用するイオン交換水の液滴やミスト状の雰囲気がエッ
チング部に浸入する場合にも発生する問題であり、薬液
(現像液、エッチング液、剥離液など)、イオン交換水
(純水)などの処理液を基板に供給して処理する第1処
理に、開口部を有する仕切壁を介して第2処理部が連設
された基板処理装置全般において発生する問題である。
【0006】この発明は、上記のような問題に鑑みてな
されたものであり、処理液を基板に供給して処理する第
1処理部から、開口部を有する仕切壁を介して第1処理
部に連設された第2処理部に、処理液の液滴やミスト状
の雰囲気が浸入するのを確実に防止することができる基
板処理装置を提供することを目的とする。
されたものであり、処理液を基板に供給して処理する第
1処理部から、開口部を有する仕切壁を介して第1処理
部に連設された第2処理部に、処理液の液滴やミスト状
の雰囲気が浸入するのを確実に防止することができる基
板処理装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、上記
目的を達成するため、基板に対して処理液を供給して処
理を行う第1処理部と、基板を通過させるための開口部
を有する仕切壁で仕切られた状態で前記第1処理部に隣
接して配置された第2処理部と、基板を前記開口部を介
して前記第1および2処理部の間を基板搬送路に沿って
搬送する搬送手段と、前記第1処理部の内部で、しかも
前記開口部の近傍位置で、所定の液体をカーテン状に供
給して前記開口部を遮断する液カーテン形成手段とを備
えている。
目的を達成するため、基板に対して処理液を供給して処
理を行う第1処理部と、基板を通過させるための開口部
を有する仕切壁で仕切られた状態で前記第1処理部に隣
接して配置された第2処理部と、基板を前記開口部を介
して前記第1および2処理部の間を基板搬送路に沿って
搬送する搬送手段と、前記第1処理部の内部で、しかも
前記開口部の近傍位置で、所定の液体をカーテン状に供
給して前記開口部を遮断する液カーテン形成手段とを備
えている。
【0008】この発明では、第1処理部の内部で、しか
も開口部の近傍位置で、所定の液体がカーテン状に供給
されて液カーテンが形成されている。当該液カーテンは
当該開口部を遮断し、第1処理部で発生した処理液の液
滴およびミスト状の雰囲気が第2処理部側に浸入しよう
とするのを防ぐ。
も開口部の近傍位置で、所定の液体がカーテン状に供給
されて液カーテンが形成されている。当該液カーテンは
当該開口部を遮断し、第1処理部で発生した処理液の液
滴およびミスト状の雰囲気が第2処理部側に浸入しよう
とするのを防ぐ。
【0009】請求項2の発明は、前記基板搬送路を挟ん
で前記液カーテン形成手段と対向して配置され、前記液
カーテン形成手段に向けて前記所定の液体をカーテン状
に供給する補助液カーテン形成手段をさらに備えてい
る。そして、基板が前記開口部を通過しているとき、前
記液カーテン形成手段から供給された液体によって形成
される液カーテンが当該基板の一方主面に幅方向全体に
亘って接触するとともに、前記補助液カーテン形成手段
から供給された液体によって形成される液カーテンが当
該基板の他方主面に幅方向全体に亘って接触するように
構成している。
で前記液カーテン形成手段と対向して配置され、前記液
カーテン形成手段に向けて前記所定の液体をカーテン状
に供給する補助液カーテン形成手段をさらに備えてい
る。そして、基板が前記開口部を通過しているとき、前
記液カーテン形成手段から供給された液体によって形成
される液カーテンが当該基板の一方主面に幅方向全体に
亘って接触するとともに、前記補助液カーテン形成手段
から供給された液体によって形成される液カーテンが当
該基板の他方主面に幅方向全体に亘って接触するように
構成している。
【0010】この発明では、液カーテン形成手段によっ
て液カーテンが形成されるのみならず、補助液カーテン
形成手段が液カーテン形成手段に向けて液体を供給する
ことで別の液カーテンが形成されている。しかも、基板
が開口部を通過しているとき、基板の一方主面側では液
カーテン形成手段による液カーテンが幅方向全体に亘っ
て接触するとともに、他方主面側では補助液カーテン形
成手段による液カーテンが幅方向全体に亘って接触して
いる。このように、2つの液カーテンがそれぞれ基板の
両主面側に形成され、第1処理部で発生した処理液の液
滴およびミスト状の雰囲気が第2処理部側に浸入しよう
とするのをより確実に防ぐ。
て液カーテンが形成されるのみならず、補助液カーテン
形成手段が液カーテン形成手段に向けて液体を供給する
ことで別の液カーテンが形成されている。しかも、基板
が開口部を通過しているとき、基板の一方主面側では液
カーテン形成手段による液カーテンが幅方向全体に亘っ
て接触するとともに、他方主面側では補助液カーテン形
成手段による液カーテンが幅方向全体に亘って接触して
いる。このように、2つの液カーテンがそれぞれ基板の
両主面側に形成され、第1処理部で発生した処理液の液
滴およびミスト状の雰囲気が第2処理部側に浸入しよう
とするのをより確実に防ぐ。
【0011】請求項3の発明は、前記所定の液体を前記
第1処理部内で基板に供給される処理液と同一種類とし
ている。
第1処理部内で基板に供給される処理液と同一種類とし
ている。
【0012】この発明では、処理液と同一種類の液体に
よって液カーテンが構成されており、この液カーテンを
基板が通過するとき、当該液体(処理液)が基板に供給
される。このため、基板には、第1処理部において本来
的に処理液が供給されるのみならず、液カーテンを通過
する際にも処理液が供給されるため、基板の主面に処理
液が接触している時間(接液時間)をより長く確保でき
て、処理効率が向上できる。
よって液カーテンが構成されており、この液カーテンを
基板が通過するとき、当該液体(処理液)が基板に供給
される。このため、基板には、第1処理部において本来
的に処理液が供給されるのみならず、液カーテンを通過
する際にも処理液が供給されるため、基板の主面に処理
液が接触している時間(接液時間)をより長く確保でき
て、処理効率が向上できる。
【0013】
【発明の実施の形態】図1は、本発明にかかる基板処理
装置の一実施形態を示す説明図である。本実施形態で
は、基板処理装置として液晶表示装置用のガラス基板を
処理するものが採用されている。同図に示すように、基
板処理装置1では、基板Sを通過させるための開口部H
12,H23,H34を有する仕切壁で仕切られた状態で、待
機部11、薬液処理部12、水洗部13、および乾燥部
14とが基板Sの搬送方向Xに直列に連設されている。
なお、上記待機部11の上流端(同図の左端側)および
乾燥部14の下流端(同図の右端側)にも、基板通過用
の開口部HIN,HOUTがそれぞれ形成されている。
装置の一実施形態を示す説明図である。本実施形態で
は、基板処理装置として液晶表示装置用のガラス基板を
処理するものが採用されている。同図に示すように、基
板処理装置1では、基板Sを通過させるための開口部H
12,H23,H34を有する仕切壁で仕切られた状態で、待
機部11、薬液処理部12、水洗部13、および乾燥部
14とが基板Sの搬送方向Xに直列に連設されている。
なお、上記待機部11の上流端(同図の左端側)および
乾燥部14の下流端(同図の右端側)にも、基板通過用
の開口部HIN,HOUTがそれぞれ形成されている。
【0014】また、上記各部11,12,13,14内
には同一高さ位置で複数の駆動ローラ20が軸心を基板
Sの搬送方向Xに対して直交するようにして設けられて
搬送手段が構成されている。このため、上記駆動ローラ
20を間欠又は連続駆動することで、基板Sを待機部1
1→開口部H12→薬液処理部12→開口部H23→水洗部
13→開口部H34→乾燥部14の順で水平に延びる基板
搬送路に沿って搬送するとともに、待機部11、薬液処
理部12、水洗部13、および乾燥部14の各部で通
過、減速又は一時停止させたり、駆動ローラ20を正逆
回転させることで基板Sを往復揺動させることが可能と
なっている。
には同一高さ位置で複数の駆動ローラ20が軸心を基板
Sの搬送方向Xに対して直交するようにして設けられて
搬送手段が構成されている。このため、上記駆動ローラ
20を間欠又は連続駆動することで、基板Sを待機部1
1→開口部H12→薬液処理部12→開口部H23→水洗部
13→開口部H34→乾燥部14の順で水平に延びる基板
搬送路に沿って搬送するとともに、待機部11、薬液処
理部12、水洗部13、および乾燥部14の各部で通
過、減速又は一時停止させたり、駆動ローラ20を正逆
回転させることで基板Sを往復揺動させることが可能と
なっている。
【0015】そして、基板Sを各部11,12,13,
14において例えば一時停止させている間に各部11,
12,13,14で基板Sに対する所定の処理が施され
るように構成されている。以下、各部11,12,1
3,14の概略構成及び動作を説明した後で、本発明の
特徴部について図2ないし図4を参照しつつ詳述する。
14において例えば一時停止させている間に各部11,
12,13,14で基板Sに対する所定の処理が施され
るように構成されている。以下、各部11,12,1
3,14の概略構成及び動作を説明した後で、本発明の
特徴部について図2ないし図4を参照しつつ詳述する。
【0016】まず、待機部11によって、基板Sが薬液
処理部12に供給する前に待機される。なお、待機部1
1内での待機期間中にエアスプレー等による基板Sの事
前清浄化処理が施されることもある。
処理部12に供給する前に待機される。なお、待機部1
1内での待機期間中にエアスプレー等による基板Sの事
前清浄化処理が施されることもある。
【0017】そして、待機部11での待機後に、基板S
が薬液処理部12に搬送される。この薬液処理部12内
では、開口部H12の近傍位置P1において、搬送方向X
に延びる基板搬送路30を挟むように、基板搬送路30
の上方側に液カーテン形成用ノズル121が配置される
とともに、下方側に液カーテン形成用ノズル121と対
向するように補助液カーテン形成用基台122が配置さ
れており、ノズル121と基台122の間を通過して薬
液処理部12の中心部側に基板Sが搬送されるように構
成されている。また、この中心部では、基板搬送路30
を挟んで、その天井部から複数のスプレーノズル123
が垂下される一方、スプレーノズル123に対向して基
板搬送路30の下方側に複数のスプレーノズル124が
配置されている。そして、これらノズル121、基台1
22およびスプレーノズル123,124は、薬液供給
管路125によって薬液タンク126に接続されてお
り、この薬液供給管路125に介挿されたポンプ127
を作動させると、薬液タンク126内に貯留されている
現像液、エッチング液、剥離液などの薬液がポンプ12
7および同じく薬液供給管路125に介挿されたフィル
タ128を介してノズル121、基台122およびスプ
レーノズル123,124に圧送される。そのため、開
口部H12の近傍位置P1では、液カーテンが形成される
とともに、ノズル121、基台122から基板Sに薬液
が供給されて薬液処理が開始される。また、薬液処理部
12の中心部では、基板Sに薬液がスプレー状に供給さ
れて薬液処理がさらに進行される。なお、薬液処理部1
2の底部から戻り管路129が薬液タンク126に延び
ており、使用済みの薬液が戻り管路129によって薬液
タンク126に回収されて薬液の循環使用が可能となっ
ている。また、薬液処理部12は排気ポンプ42と接続
されて処理部内が排気されている。
が薬液処理部12に搬送される。この薬液処理部12内
では、開口部H12の近傍位置P1において、搬送方向X
に延びる基板搬送路30を挟むように、基板搬送路30
の上方側に液カーテン形成用ノズル121が配置される
とともに、下方側に液カーテン形成用ノズル121と対
向するように補助液カーテン形成用基台122が配置さ
れており、ノズル121と基台122の間を通過して薬
液処理部12の中心部側に基板Sが搬送されるように構
成されている。また、この中心部では、基板搬送路30
を挟んで、その天井部から複数のスプレーノズル123
が垂下される一方、スプレーノズル123に対向して基
板搬送路30の下方側に複数のスプレーノズル124が
配置されている。そして、これらノズル121、基台1
22およびスプレーノズル123,124は、薬液供給
管路125によって薬液タンク126に接続されてお
り、この薬液供給管路125に介挿されたポンプ127
を作動させると、薬液タンク126内に貯留されている
現像液、エッチング液、剥離液などの薬液がポンプ12
7および同じく薬液供給管路125に介挿されたフィル
タ128を介してノズル121、基台122およびスプ
レーノズル123,124に圧送される。そのため、開
口部H12の近傍位置P1では、液カーテンが形成される
とともに、ノズル121、基台122から基板Sに薬液
が供給されて薬液処理が開始される。また、薬液処理部
12の中心部では、基板Sに薬液がスプレー状に供給さ
れて薬液処理がさらに進行される。なお、薬液処理部1
2の底部から戻り管路129が薬液タンク126に延び
ており、使用済みの薬液が戻り管路129によって薬液
タンク126に回収されて薬液の循環使用が可能となっ
ている。また、薬液処理部12は排気ポンプ42と接続
されて処理部内が排気されている。
【0018】次に、薬液処理された基板Sが水洗部13
に搬送される。この水洗部13では、基板搬送路30を
挟んで、その天井部から複数のスプレーノズル131が
垂下される一方、スプレーノズル131に対向して基板
搬送路30の下方側に複数のスプレーノズル132が配
置されている。これらスプレーノズル131,132
は、洗浄水供給管路133によって洗浄水タンク134
に接続されており、この洗浄水供給管路133に介挿さ
れたポンプ135を作動させると、洗浄水タンク134
内に貯留されているイオン交換水(純水)がポンプ13
5および同じく洗浄水供給管路133に介挿されたフィ
ルタ136を介してスプレーノズル131,132に圧
送される。その結果、複数のスプレーノズル131,1
32から基板Sに向けてスプレー状にイオン交換水が供
給され、基板表面に付着している薬液が洗い流される。
なお、この水洗部13では、薬液処理部12と同様に、
水洗部13の底部から戻り管路137が洗浄水タンク1
34に延びて使用済みのイオン交換水が回収されるとと
もに、排気ポンプ43によって処理部内が排気されてい
る。
に搬送される。この水洗部13では、基板搬送路30を
挟んで、その天井部から複数のスプレーノズル131が
垂下される一方、スプレーノズル131に対向して基板
搬送路30の下方側に複数のスプレーノズル132が配
置されている。これらスプレーノズル131,132
は、洗浄水供給管路133によって洗浄水タンク134
に接続されており、この洗浄水供給管路133に介挿さ
れたポンプ135を作動させると、洗浄水タンク134
内に貯留されているイオン交換水(純水)がポンプ13
5および同じく洗浄水供給管路133に介挿されたフィ
ルタ136を介してスプレーノズル131,132に圧
送される。その結果、複数のスプレーノズル131,1
32から基板Sに向けてスプレー状にイオン交換水が供
給され、基板表面に付着している薬液が洗い流される。
なお、この水洗部13では、薬液処理部12と同様に、
水洗部13の底部から戻り管路137が洗浄水タンク1
34に延びて使用済みのイオン交換水が回収されるとと
もに、排気ポンプ43によって処理部内が排気されてい
る。
【0019】上記のようにして水洗処理が行われた後、
乾燥部14に搬送されて洗浄処理後の基板Sの表面に付
着している水がエアナイフ141から吹き付けられる気
流によって除去される。なお、この乾燥部14から洗浄
水タンク134に戻り管路142が延びており、上記の
ようにして除去された水は戻り管路142を介して洗浄
水タンク134に回収されて再利用に供される。
乾燥部14に搬送されて洗浄処理後の基板Sの表面に付
着している水がエアナイフ141から吹き付けられる気
流によって除去される。なお、この乾燥部14から洗浄
水タンク134に戻り管路142が延びており、上記の
ようにして除去された水は戻り管路142を介して洗浄
水タンク134に回収されて再利用に供される。
【0020】図2は、上記のように構成された基板処理
装置1の部分切欠斜視図であり、待機部11側から薬液
処理部12を見た図である。また、図3は、図2の断面
図である。なお、両図においては、駆動ローラ20の図
示を省略している。
装置1の部分切欠斜視図であり、待機部11側から薬液
処理部12を見た図である。また、図3は、図2の断面
図である。なお、両図においては、駆動ローラ20の図
示を省略している。
【0021】これらの図に示すように、この実施形態に
かかる基板処理装置1では、ノズル121が薬液処理部
12の内部で、しかも待機部11との間に設けられた開
口部H12の上方近傍側に設けられている。より具体的に
は、図3に示すように、薬液処理部12の天井面には、
下方に延びた仕切板121dが設けられ、この仕切板1
21dの下方部にノズル121が固定されている。な
お、図2においては、仕切板121dの図示を省略して
いるが、この仕切板121dは薬液処理部12の幅寸法
と同一の長さ寸法を有し、その長手方向が開口部H12と
ほぼ平行となるように配置されるとともに、その両端部
が薬液処理部12の両側壁にそれぞれ当接している。
かかる基板処理装置1では、ノズル121が薬液処理部
12の内部で、しかも待機部11との間に設けられた開
口部H12の上方近傍側に設けられている。より具体的に
は、図3に示すように、薬液処理部12の天井面には、
下方に延びた仕切板121dが設けられ、この仕切板1
21dの下方部にノズル121が固定されている。な
お、図2においては、仕切板121dの図示を省略して
いるが、この仕切板121dは薬液処理部12の幅寸法
と同一の長さ寸法を有し、その長手方向が開口部H12と
ほぼ平行となるように配置されるとともに、その両端部
が薬液処理部12の両側壁にそれぞれ当接している。
【0022】このように仕切板121dに取り付けられ
たノズル121は、長さ寸法が少なくとも搬送中の基板
Sを横断するように設定された所定厚みの直方体状のブ
ロックによって形成されノズル本体121aと、このノ
ズル本体121a内に穿孔された液供給通路121b
と、この液供給通路121bに連通した液吐出口121
cとを具備している。この液供給通路121bには、薬
液供給管路125が接続されており、上記のようにポン
プ127の作動に応じて薬液タンク126から薬液が圧
送されてくると、液供給通路121bを通って液吐出口
121cから薬液が下方側に吐出されて、薬液の液カー
テン51が開口部H12を遮断するように形成される。こ
のように、この実施形態では、ノズル121、薬液供給
管路125、フィルタ128、ポンプ127および薬液
タンク126によって液カーテン形成手段が構成されて
いる。
たノズル121は、長さ寸法が少なくとも搬送中の基板
Sを横断するように設定された所定厚みの直方体状のブ
ロックによって形成されノズル本体121aと、このノ
ズル本体121a内に穿孔された液供給通路121b
と、この液供給通路121bに連通した液吐出口121
cとを具備している。この液供給通路121bには、薬
液供給管路125が接続されており、上記のようにポン
プ127の作動に応じて薬液タンク126から薬液が圧
送されてくると、液供給通路121bを通って液吐出口
121cから薬液が下方側に吐出されて、薬液の液カー
テン51が開口部H12を遮断するように形成される。こ
のように、この実施形態では、ノズル121、薬液供給
管路125、フィルタ128、ポンプ127および薬液
タンク126によって液カーテン形成手段が構成されて
いる。
【0023】また、基板搬送路30を挟んでノズル12
1と対向して基台122が配置されている。この基台1
22は、長さ寸法が少なくとも搬送中の基板Sを横断す
るように設定された所定厚みの直方体状のブロックによ
って形成され基台本体122aと、基台本体122aに
穿設された液供給通路122bと、この液供給通路12
2bに連通した液吐出口122cとを具備している。こ
の液供給通路122bにも、薬液供給管路125が接続
されており、上記のようにポンプ127の作動に応じて
薬液タンク126から薬液が圧送されてくると、液供給
通路122bを通って液吐出口122cから薬液が上方
側に噴水状に吹出して、薬液の液カーテン52が形成さ
れる。このように、この実施形態では、基台122、薬
液供給管路125、フィルタ128、ポンプ127およ
び薬液タンク126によって補助液カーテン形成手段が
構成されている。
1と対向して基台122が配置されている。この基台1
22は、長さ寸法が少なくとも搬送中の基板Sを横断す
るように設定された所定厚みの直方体状のブロックによ
って形成され基台本体122aと、基台本体122aに
穿設された液供給通路122bと、この液供給通路12
2bに連通した液吐出口122cとを具備している。こ
の液供給通路122bにも、薬液供給管路125が接続
されており、上記のようにポンプ127の作動に応じて
薬液タンク126から薬液が圧送されてくると、液供給
通路122bを通って液吐出口122cから薬液が上方
側に噴水状に吹出して、薬液の液カーテン52が形成さ
れる。このように、この実施形態では、基台122、薬
液供給管路125、フィルタ128、ポンプ127およ
び薬液タンク126によって補助液カーテン形成手段が
構成されている。
【0024】したがって、基板Sが開口部H12を介して
薬液処理部12に搬送されてきていないときには(図
3)、上記のようにして形成される2つの液カーテン5
1,52によって開口部H12が遮断されており、待機部
11と薬液処理部12とが雰囲気分離されており、薬液
処理部12で発生した薬液(処理液)の液滴およびミス
ト状の雰囲気が待機部側に浸入しようとするのを防ぐこ
とができる。また、基板Sが開口部H12を介して薬液処
理部12に搬送されてきているときには(図4)、基板
Sの上方主面S1側において液カーテン51が基板Sの
上方主面S1に幅方向全体に亘って接触するとともに、
下方主面S2側において液カーテン52が基板Sの下方
主面S2に幅方向全体に亘って接触して、薬液処理部1
2で発生した薬液の液滴およびミスト状の雰囲気が待機
部側に浸入しようとするのを防ぐことができる。
薬液処理部12に搬送されてきていないときには(図
3)、上記のようにして形成される2つの液カーテン5
1,52によって開口部H12が遮断されており、待機部
11と薬液処理部12とが雰囲気分離されており、薬液
処理部12で発生した薬液(処理液)の液滴およびミス
ト状の雰囲気が待機部側に浸入しようとするのを防ぐこ
とができる。また、基板Sが開口部H12を介して薬液処
理部12に搬送されてきているときには(図4)、基板
Sの上方主面S1側において液カーテン51が基板Sの
上方主面S1に幅方向全体に亘って接触するとともに、
下方主面S2側において液カーテン52が基板Sの下方
主面S2に幅方向全体に亘って接触して、薬液処理部1
2で発生した薬液の液滴およびミスト状の雰囲気が待機
部側に浸入しようとするのを防ぐことができる。
【0025】しかも、この実施形態では、仕切板121
dが開口部H12と平行に延びるとともに、その両端部が
薬液処理部12の両側壁に当接するように配置している
ので、仮に薬液処理部12で発生した薬液の液滴および
ミスト状の雰囲気が上方に飛散し、薬液処理部12の天
井面に沿って待機部側に浸入しようとしても、仕切板1
21dによって薬液の液滴等の待機部への浸入を防止す
ることができる。
dが開口部H12と平行に延びるとともに、その両端部が
薬液処理部12の両側壁に当接するように配置している
ので、仮に薬液処理部12で発生した薬液の液滴および
ミスト状の雰囲気が上方に飛散し、薬液処理部12の天
井面に沿って待機部側に浸入しようとしても、仕切板1
21dによって薬液の液滴等の待機部への浸入を防止す
ることができる。
【0026】また、この実施形態においては、薬液処理
部12で使用する薬液と同一種類の薬液によって液カー
テン51,52を形成しているので、図4に示すよう
に、液カーテン51,52が基板Sに供給された時点で
薬液による薬液処理が開始され、基板Sがさらに薬液処
理部12の中央部側に搬送され、スプレーノズル12
3,124からのスプレー状の薬液が供給されると、さ
らに薬液処理が進行する。このように、基板Sには、薬
液処理部において本来的に薬液が供給されるのみなら
ず、液カーテン51,52を通過する際にも薬液が供給
されるため、基板Sへの薬液の接液時間が長く確保でき
て、薬液処理を効果的に行うことができる。
部12で使用する薬液と同一種類の薬液によって液カー
テン51,52を形成しているので、図4に示すよう
に、液カーテン51,52が基板Sに供給された時点で
薬液による薬液処理が開始され、基板Sがさらに薬液処
理部12の中央部側に搬送され、スプレーノズル12
3,124からのスプレー状の薬液が供給されると、さ
らに薬液処理が進行する。このように、基板Sには、薬
液処理部において本来的に薬液が供給されるのみなら
ず、液カーテン51,52を通過する際にも薬液が供給
されるため、基板Sへの薬液の接液時間が長く確保でき
て、薬液処理を効果的に行うことができる。
【0027】なお、上記実施形態では、図3に示すよう
に、ノズル121を傾けてノズル121から薬液が搬送
方向Xの下流側に向けて吐出されるように構成されてお
り、この薬液の搬送方向Xに対する吐出角度θ1は、0
゜以上90゜以下であれば、如何なる角度に設定しても
よいが、液カーテン52や基板Sとの衝突による逆流や
ミストの発生を防止したり、あるいは抑制するために
は、吐出角度θ1を20゜以上60゜以下の範囲に設定
するのが好ましい。
に、ノズル121を傾けてノズル121から薬液が搬送
方向Xの下流側に向けて吐出されるように構成されてお
り、この薬液の搬送方向Xに対する吐出角度θ1は、0
゜以上90゜以下であれば、如何なる角度に設定しても
よいが、液カーテン52や基板Sとの衝突による逆流や
ミストの発生を防止したり、あるいは抑制するために
は、吐出角度θ1を20゜以上60゜以下の範囲に設定
するのが好ましい。
【0028】また、上記実施形態では、ノズル121に
対向して基台122を設けて基台122から薬液を噴水
状に吹出させて液カーテン52を形成しているが、基台
122の代わりに、図5に示すように、ノズル122′
をノズル121側に向けて配置してもよい。また、この
ノズル122′についても、ノズル121と同様に、薬
液処理部12の底面から延びる仕切板122dによって
傾斜固定され、ノズル122′から薬液が搬送方向Xの
下流側に向けて吐出されるように構成されており、この
薬液の搬送方向Xに対する吐出角度θ2は、10゜以上
90゜以下であれば、如何なる角度に設定してもよい
が、液カーテン51や基板Sとの衝突による逆流やミス
トの発生を防止したり、あるいは抑制するためには、吐
出角度θ2を20゜以上60゜以下の範囲に設定するの
が好ましい。さらに、吐出角度θ1,θ2については、上
記範囲に設定する限りに、同一の値に設定しても、異な
る値に設定してもよい。
対向して基台122を設けて基台122から薬液を噴水
状に吹出させて液カーテン52を形成しているが、基台
122の代わりに、図5に示すように、ノズル122′
をノズル121側に向けて配置してもよい。また、この
ノズル122′についても、ノズル121と同様に、薬
液処理部12の底面から延びる仕切板122dによって
傾斜固定され、ノズル122′から薬液が搬送方向Xの
下流側に向けて吐出されるように構成されており、この
薬液の搬送方向Xに対する吐出角度θ2は、10゜以上
90゜以下であれば、如何なる角度に設定してもよい
が、液カーテン51や基板Sとの衝突による逆流やミス
トの発生を防止したり、あるいは抑制するためには、吐
出角度θ2を20゜以上60゜以下の範囲に設定するの
が好ましい。さらに、吐出角度θ1,θ2については、上
記範囲に設定する限りに、同一の値に設定しても、異な
る値に設定してもよい。
【0029】また、上記実施形態では、基板搬送路30
の下方側に基台122を設け、液カーテン52を形成し
ているが、ノズル121から吐出される薬液による液カ
ーテン51のみを形成して開口部H12を遮断して薬液処
理部12で発生した薬液(処理液)の液滴およびミスト
状の雰囲気が待機部11側に浸入しようとするのを防止
するようにしてもよい。
の下方側に基台122を設け、液カーテン52を形成し
ているが、ノズル121から吐出される薬液による液カ
ーテン51のみを形成して開口部H12を遮断して薬液処
理部12で発生した薬液(処理液)の液滴およびミスト
状の雰囲気が待機部11側に浸入しようとするのを防止
するようにしてもよい。
【0030】また、上記実施形態では、ノズル121、
基台122およびスプレーノズル123,124への薬
液の圧送供給を、薬液供給管路125、薬液タンク12
6、ポンプ127およびフィルタ128を共通利用して
行っているが、圧送供給態様についてはこれに限定され
るものではなく、例えば薬液タンクのみを共通化し、薬
液供給管路125、ポンプ127およびフィルタ128
については、液カーテン形成用(ノズル121および基
台122)と、スプレー供給用(スプレーノズル12
3,124)とを別個独立して用意してもよく、この場
合、各ポンプの作動タイミングを制御することでノズル
121および基台122からの液カーテン51,52の
形成タイミングおよびスプレーノズル123,124に
よる基板Sへの薬液供給タイミングを独立して制御する
ことができる。
基台122およびスプレーノズル123,124への薬
液の圧送供給を、薬液供給管路125、薬液タンク12
6、ポンプ127およびフィルタ128を共通利用して
行っているが、圧送供給態様についてはこれに限定され
るものではなく、例えば薬液タンクのみを共通化し、薬
液供給管路125、ポンプ127およびフィルタ128
については、液カーテン形成用(ノズル121および基
台122)と、スプレー供給用(スプレーノズル12
3,124)とを別個独立して用意してもよく、この場
合、各ポンプの作動タイミングを制御することでノズル
121および基台122からの液カーテン51,52の
形成タイミングおよびスプレーノズル123,124に
よる基板Sへの薬液供給タイミングを独立して制御する
ことができる。
【0031】また、上記実施形態では、薬液処理部12
で使用している薬液(処理液)と同一種類の液体で液カ
ーテン51,52を形成しているが、ノズル121およ
び基台122から吐出すべき液体はこれに限定されるも
のではなく、異なる液体を用いて液カーテン51,52
を形成してもよい。例えば、薬液処理部12で使用され
る再利用の薬液と同一種類ではあるが、全く薬液処理に
使用していない薬液(新液)によって液カーテン51,
52を形成してもよい。また、逆に、スプレーノズル1
23,124には新液を供給する一方、ノズル121お
よび基台122には再利用の薬液を供給するようにして
もよい。
で使用している薬液(処理液)と同一種類の液体で液カ
ーテン51,52を形成しているが、ノズル121およ
び基台122から吐出すべき液体はこれに限定されるも
のではなく、異なる液体を用いて液カーテン51,52
を形成してもよい。例えば、薬液処理部12で使用され
る再利用の薬液と同一種類ではあるが、全く薬液処理に
使用していない薬液(新液)によって液カーテン51,
52を形成してもよい。また、逆に、スプレーノズル1
23,124には新液を供給する一方、ノズル121お
よび基台122には再利用の薬液を供給するようにして
もよい。
【0032】また、上記実施形態では、薬液処理部12
内で、しかも開口部H12の近傍位置P1で液カーテン5
1,52を形成して薬液処理部12で発生した薬液の液
滴およびミスト状の雰囲気が待機部11側に浸入しよう
とするのを防止しているが、薬液処理部12内で、しか
も開口部H23の近傍位置P2(図1)で液カーテンを形
成して薬液処理部12で発生した薬液の液滴およびミス
ト状の雰囲気が水洗部13側に浸入しようとするのを防
止したり、水洗部13内で、しかも開口部H23の近傍位
置P3(図1)で液カーテンを形成して水洗132で発
生したイオン交換水(処理液)の液滴およびミスト状の
雰囲気が薬液処理部12側に浸入しようとするのを防止
するようにしてもよい。
内で、しかも開口部H12の近傍位置P1で液カーテン5
1,52を形成して薬液処理部12で発生した薬液の液
滴およびミスト状の雰囲気が待機部11側に浸入しよう
とするのを防止しているが、薬液処理部12内で、しか
も開口部H23の近傍位置P2(図1)で液カーテンを形
成して薬液処理部12で発生した薬液の液滴およびミス
ト状の雰囲気が水洗部13側に浸入しようとするのを防
止したり、水洗部13内で、しかも開口部H23の近傍位
置P3(図1)で液カーテンを形成して水洗132で発
生したイオン交換水(処理液)の液滴およびミスト状の
雰囲気が薬液処理部12側に浸入しようとするのを防止
するようにしてもよい。
【0033】さらに、本発明の適用対象は図1に示す処
理部構成を有する基板処理装置に限定されるものではな
く、半導体基板、プリント基板およびプラズマディスプ
レイ用基板などの基板を処理する基板処理装置であっ
て、処理液を基板に供給して処理する第1処理部と、開
口部を有する仕切壁を介して第1処理部に連設された第
2処理部とが連設された基板処理装置全般に対して本発
明を適用することができる。
理部構成を有する基板処理装置に限定されるものではな
く、半導体基板、プリント基板およびプラズマディスプ
レイ用基板などの基板を処理する基板処理装置であっ
て、処理液を基板に供給して処理する第1処理部と、開
口部を有する仕切壁を介して第1処理部に連設された第
2処理部とが連設された基板処理装置全般に対して本発
明を適用することができる。
【0034】
【発明の効果】以上のように、この発明にかかる基板処
理装置によれば、第1処理部の内部で、しかも開口部の
近傍において、所定の液体をカーテン状に供給して液カ
ーテンを形成するように構成しているので、当該液カー
テンによって当該開口部が遮断され、第1処理部で発生
した処理液の液滴およびミスト状の雰囲気が第2処理部
側に浸入しようとするのを防止することができる。
理装置によれば、第1処理部の内部で、しかも開口部の
近傍において、所定の液体をカーテン状に供給して液カ
ーテンを形成するように構成しているので、当該液カー
テンによって当該開口部が遮断され、第1処理部で発生
した処理液の液滴およびミスト状の雰囲気が第2処理部
側に浸入しようとするのを防止することができる。
【図1】本発明にかかる基板処理装置の一実施形態を示
す説明図である。
す説明図である。
【図2】図1の基板処理装置の部分切欠斜視図である。
【図3】図2の断面図である。
【図4】図1の基板処理装置の動作を示す図である。
【図5】本発明にかかる基板処理装置の他の実施形態を
示す説明図である。
示す説明図である。
1…基板処理装置 11…待機部(第2処理部) 12…薬液処理部(第1処理部) 13…水洗部 30…基板搬送路 51,52…液カーテン 121…(液カーテン形成用)ノズル 122…(補助液カーテン形成用)基台 122′…(補助液カーテン形成用)ノズル 125…薬液供給管路 126…薬液タンク 127…ポンプ 128…フィルタ S1…上方主面(一方主面) S2…下方主面(他方主面) S…基板 X…搬送方向
Claims (3)
- 【請求項1】 基板に対して処理液を供給して処理を行
う第1処理部と、 基板を通過させるための開口部を有する仕切壁で仕切ら
れた状態で前記第1処理部に隣接して配置された第2処
理部と、 基板を前記開口部を介して前記第1および2処理部の間
を基板搬送路に沿って搬送する搬送手段と、 前記第1処理部の内部で、しかも前記開口部の近傍位置
で、所定の液体をカーテン状に供給して前記開口部を遮
断する液カーテン形成手段とを備えたことを特徴とする
基板処理装置。 - 【請求項2】 前記基板搬送路を挟んで前記液カーテン
形成手段と対向して配置され、前記液カーテン形成手段
に向けて前記所定の液体をカーテン状に供給する補助液
カーテン形成手段をさらに備え、 基板が前記開口部を通過しているとき、前記液カーテン
形成手段から供給された液体によって形成される液カー
テンが当該基板の一方主面に幅方向全体に亘って接触す
るとともに、前記補助液カーテン形成手段から供給され
た液体によって形成される液カーテンが当該基板の他方
主面に幅方向全体に亘って接触する請求項1記載の基板
処理装置。 - 【請求項3】 前記所定の液体が前記第1処理部内で基
板に供給される処理液と同一種類である請求項1または
2記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27899697A JPH11121427A (ja) | 1997-10-13 | 1997-10-13 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27899697A JPH11121427A (ja) | 1997-10-13 | 1997-10-13 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11121427A true JPH11121427A (ja) | 1999-04-30 |
Family
ID=17604955
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27899697A Withdrawn JPH11121427A (ja) | 1997-10-13 | 1997-10-13 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11121427A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007134665A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-05-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2009140990A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2009147260A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2010245092A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの洗浄方法 |
JP2020194842A (ja) * | 2019-05-27 | 2020-12-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
-
1997
- 1997-10-13 JP JP27899697A patent/JPH11121427A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007134665A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-05-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2009140990A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2009147260A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2010245092A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの洗浄方法 |
JP2020194842A (ja) * | 2019-05-27 | 2020-12-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
US11769661B2 (en) | 2019-05-27 | 2023-09-26 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050104 |