JPH11121427A

JPH11121427A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH11121427A
Application number: JP27899697A
Authority: JP
Inventors: Mitsuaki Yoshitani; 光明芳谷
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1997-10-13
Filing date: 1997-10-13
Publication date: 1999-04-30

Abstract

(57)【要約】【課題】処理液を基板に供給して処理する第１処理部
から、開口部を有する仕切壁を介して第１処理部に連設
された第２処理部に、処理液の液滴やミスト状の雰囲気
が浸入するのを確実に防止することができる基板処理装
置を提供する。【解決手段】ノズル１２１が薬液処理部１２の内部
で、しかも待機部１１との間に設けられた開口部Ｈ12の
上方近傍側に設けられている。このノズル１２１のノズ
ル本体１２１ａ内には、液供給通路１２１ｂが穿孔され
るとともに、この液供給通路１２１ｂに薬液供給管路１
２５が接続されている。そして、ポンプ１２７が作動す
ると、薬液タンク１２６から薬液がノズル１２１側に圧
送され、液供給通路１２１ｂを通って液吐出口１２１ｃ
から薬液が下方側に吐出されて、薬液の液カーテン５１
が開口部Ｈ12を遮断するように形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用ガ
ラス基板、半導体基板、プリント基板およびプラズマデ
ィスプレイ用基板などの板状の基板を、仕切壁の開口部
を介して第１および第２処理部の間で搬送しながら、第
１処理部で処理液を供給して処理する基板処理装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板処理装置として、例えば特
開平９−８２７７５号公報に記載されたものがある。こ
の基板処理装置では、基板を通過させるための開口部を
有する仕切壁で仕切られた状態で、待機部、エッチング
部、水洗部および乾燥部がこの順序で直線状に連設され
るとともに、これらの間で開口部を介して基板が搬送さ
れる。そして、基板を待機部、エッチング部、水洗部お
よび乾燥部の順序で搬送しながら、エッチング部で基板
にエッチング液を供給してエッチング処理し、また水洗
部でエッチング処理された基板に対してイオン交換水を
供給して水洗処理する。

【０００３】また、上記基板処理装置では、エッチング
部においてエッチング液によるエッチング処理を行って
いるため、基板から飛散したエッチング液の液滴やミス
ト状の雰囲気が開口部を介して隣接配置された待機部ま
たは水洗部に浸入して待機部または水洗部における基板
の処理に悪影響を与えるおそれがある。そこで、このよ
うな問題を解決するために、エッチング部と、待機部お
よび水洗部との仕切壁に機械的シャッタを設け、エッチ
ング部でエッチング処理を行っている間、機械的シャッ
タによって開口部を遮断してエッチング部から待機部お
よび水洗部にエッチング液の液滴やミスト状の雰囲気が
浸入するのを防止している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、待機部
からエッチング部に基板を搬入するときやエッチング部
から水洗部に基板を搬出するときには、機械的シャッタ
を開いて開口部を開放状態にする必要がある。そのた
め、この開放状態では、開口部を通過している基板と開
口部との間に隙間が生じ、この隙間からエッチング液の
液滴やミスト状の雰囲気が待機部または水洗部に浸入し
てしまう。このように、機械的シャッタによってエッチ
ング部から隣接する処理部（待機部、水洗部）へのエッ
チング液の浸入を確実に防止することは困難である。

【０００５】なお、この問題は、エッチング液の液滴や
ミスト状の雰囲気がエッチング部から待機部および水洗
部に浸入する場合に限定されるものではなく、水洗部で
使用するイオン交換水の液滴やミスト状の雰囲気がエッ
チング部に浸入する場合にも発生する問題であり、薬液
（現像液、エッチング液、剥離液など）、イオン交換水
（純水）などの処理液を基板に供給して処理する第１処
理に、開口部を有する仕切壁を介して第２処理部が連設
された基板処理装置全般において発生する問題である。

【０００６】この発明は、上記のような問題に鑑みてな
されたものであり、処理液を基板に供給して処理する第
１処理部から、開口部を有する仕切壁を介して第１処理
部に連設された第２処理部に、処理液の液滴やミスト状
の雰囲気が浸入するのを確実に防止することができる基
板処理装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、上記
目的を達成するため、基板に対して処理液を供給して処
理を行う第１処理部と、基板を通過させるための開口部
を有する仕切壁で仕切られた状態で前記第１処理部に隣
接して配置された第２処理部と、基板を前記開口部を介
して前記第１および２処理部の間を基板搬送路に沿って
搬送する搬送手段と、前記第１処理部の内部で、しかも
前記開口部の近傍位置で、所定の液体をカーテン状に供
給して前記開口部を遮断する液カーテン形成手段とを備
えている。

【０００８】この発明では、第１処理部の内部で、しか
も開口部の近傍位置で、所定の液体がカーテン状に供給
されて液カーテンが形成されている。当該液カーテンは
当該開口部を遮断し、第１処理部で発生した処理液の液
滴およびミスト状の雰囲気が第２処理部側に浸入しよう
とするのを防ぐ。

【０００９】請求項２の発明は、前記基板搬送路を挟ん
で前記液カーテン形成手段と対向して配置され、前記液
カーテン形成手段に向けて前記所定の液体をカーテン状
に供給する補助液カーテン形成手段をさらに備えてい
る。そして、基板が前記開口部を通過しているとき、前
記液カーテン形成手段から供給された液体によって形成
される液カーテンが当該基板の一方主面に幅方向全体に
亘って接触するとともに、前記補助液カーテン形成手段
から供給された液体によって形成される液カーテンが当
該基板の他方主面に幅方向全体に亘って接触するように
構成している。

【００１０】この発明では、液カーテン形成手段によっ
て液カーテンが形成されるのみならず、補助液カーテン
形成手段が液カーテン形成手段に向けて液体を供給する
ことで別の液カーテンが形成されている。しかも、基板
が開口部を通過しているとき、基板の一方主面側では液
カーテン形成手段による液カーテンが幅方向全体に亘っ
て接触するとともに、他方主面側では補助液カーテン形
成手段による液カーテンが幅方向全体に亘って接触して
いる。このように、２つの液カーテンがそれぞれ基板の
両主面側に形成され、第１処理部で発生した処理液の液
滴およびミスト状の雰囲気が第２処理部側に浸入しよう
とするのをより確実に防ぐ。

【００１１】請求項３の発明は、前記所定の液体を前記
第１処理部内で基板に供給される処理液と同一種類とし
ている。

【００１２】この発明では、処理液と同一種類の液体に
よって液カーテンが構成されており、この液カーテンを
基板が通過するとき、当該液体（処理液）が基板に供給
される。このため、基板には、第１処理部において本来
的に処理液が供給されるのみならず、液カーテンを通過
する際にも処理液が供給されるため、基板の主面に処理
液が接触している時間（接液時間）をより長く確保でき
て、処理効率が向上できる。

【００１３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明にかかる基板処理
装置の一実施形態を示す説明図である。本実施形態で
は、基板処理装置として液晶表示装置用のガラス基板を
処理するものが採用されている。同図に示すように、基
板処理装置１では、基板Ｓを通過させるための開口部Ｈ
12，Ｈ23，Ｈ34を有する仕切壁で仕切られた状態で、待
機部１１、薬液処理部１２、水洗部１３、および乾燥部
１４とが基板Ｓの搬送方向Ｘに直列に連設されている。
なお、上記待機部１１の上流端（同図の左端側）および
乾燥部１４の下流端（同図の右端側）にも、基板通過用
の開口部ＨIN，ＨOUTがそれぞれ形成されている。

【００１４】また、上記各部１１，１２，１３，１４内
には同一高さ位置で複数の駆動ローラ２０が軸心を基板
Ｓの搬送方向Ｘに対して直交するようにして設けられて
搬送手段が構成されている。このため、上記駆動ローラ
２０を間欠又は連続駆動することで、基板Ｓを待機部１
１→開口部Ｈ12→薬液処理部１２→開口部Ｈ23→水洗部
１３→開口部Ｈ34→乾燥部１４の順で水平に延びる基板
搬送路に沿って搬送するとともに、待機部１１、薬液処
理部１２、水洗部１３、および乾燥部１４の各部で通
過、減速又は一時停止させたり、駆動ローラ２０を正逆
回転させることで基板Ｓを往復揺動させることが可能と
なっている。

【００１５】そして、基板Ｓを各部１１，１２，１３，
１４において例えば一時停止させている間に各部１１，
１２，１３，１４で基板Ｓに対する所定の処理が施され
るように構成されている。以下、各部１１，１２，１
３，１４の概略構成及び動作を説明した後で、本発明の
特徴部について図２ないし図４を参照しつつ詳述する。

【００１６】まず、待機部１１によって、基板Ｓが薬液
処理部１２に供給する前に待機される。なお、待機部１
１内での待機期間中にエアスプレー等による基板Ｓの事
前清浄化処理が施されることもある。

【００１７】そして、待機部１１での待機後に、基板Ｓ
が薬液処理部１２に搬送される。この薬液処理部１２内
では、開口部Ｈ12の近傍位置Ｐ1において、搬送方向Ｘ
に延びる基板搬送路３０を挟むように、基板搬送路３０
の上方側に液カーテン形成用ノズル１２１が配置される
とともに、下方側に液カーテン形成用ノズル１２１と対
向するように補助液カーテン形成用基台１２２が配置さ
れており、ノズル１２１と基台１２２の間を通過して薬
液処理部１２の中心部側に基板Ｓが搬送されるように構
成されている。また、この中心部では、基板搬送路３０
を挟んで、その天井部から複数のスプレーノズル１２３
が垂下される一方、スプレーノズル１２３に対向して基
板搬送路３０の下方側に複数のスプレーノズル１２４が
配置されている。そして、これらノズル１２１、基台１
２２およびスプレーノズル１２３，１２４は、薬液供給
管路１２５によって薬液タンク１２６に接続されてお
り、この薬液供給管路１２５に介挿されたポンプ１２７
を作動させると、薬液タンク１２６内に貯留されている
現像液、エッチング液、剥離液などの薬液がポンプ１２
７および同じく薬液供給管路１２５に介挿されたフィル
タ１２８を介してノズル１２１、基台１２２およびスプ
レーノズル１２３，１２４に圧送される。そのため、開
口部Ｈ12の近傍位置Ｐ1では、液カーテンが形成される
とともに、ノズル１２１、基台１２２から基板Ｓに薬液
が供給されて薬液処理が開始される。また、薬液処理部
１２の中心部では、基板Ｓに薬液がスプレー状に供給さ
れて薬液処理がさらに進行される。なお、薬液処理部１
２の底部から戻り管路１２９が薬液タンク１２６に延び
ており、使用済みの薬液が戻り管路１２９によって薬液
タンク１２６に回収されて薬液の循環使用が可能となっ
ている。また、薬液処理部１２は排気ポンプ４２と接続
されて処理部内が排気されている。

【００１８】次に、薬液処理された基板Ｓが水洗部１３
に搬送される。この水洗部１３では、基板搬送路３０を
挟んで、その天井部から複数のスプレーノズル１３１が
垂下される一方、スプレーノズル１３１に対向して基板
搬送路３０の下方側に複数のスプレーノズル１３２が配
置されている。これらスプレーノズル１３１，１３２
は、洗浄水供給管路１３３によって洗浄水タンク１３４
に接続されており、この洗浄水供給管路１３３に介挿さ
れたポンプ１３５を作動させると、洗浄水タンク１３４
内に貯留されているイオン交換水（純水）がポンプ１３
５および同じく洗浄水供給管路１３３に介挿されたフィ
ルタ１３６を介してスプレーノズル１３１，１３２に圧
送される。その結果、複数のスプレーノズル１３１，１
３２から基板Ｓに向けてスプレー状にイオン交換水が供
給され、基板表面に付着している薬液が洗い流される。
なお、この水洗部１３では、薬液処理部１２と同様に、
水洗部１３の底部から戻り管路１３７が洗浄水タンク１
３４に延びて使用済みのイオン交換水が回収されるとと
もに、排気ポンプ４３によって処理部内が排気されてい
る。

【００１９】上記のようにして水洗処理が行われた後、
乾燥部１４に搬送されて洗浄処理後の基板Ｓの表面に付
着している水がエアナイフ１４１から吹き付けられる気
流によって除去される。なお、この乾燥部１４から洗浄
水タンク１３４に戻り管路１４２が延びており、上記の
ようにして除去された水は戻り管路１４２を介して洗浄
水タンク１３４に回収されて再利用に供される。

【００２０】図２は、上記のように構成された基板処理
装置１の部分切欠斜視図であり、待機部１１側から薬液
処理部１２を見た図である。また、図３は、図２の断面
図である。なお、両図においては、駆動ローラ２０の図
示を省略している。

【００２１】これらの図に示すように、この実施形態に
かかる基板処理装置１では、ノズル１２１が薬液処理部
１２の内部で、しかも待機部１１との間に設けられた開
口部Ｈ12の上方近傍側に設けられている。より具体的に
は、図３に示すように、薬液処理部１２の天井面には、
下方に延びた仕切板１２１ｄが設けられ、この仕切板１
２１ｄの下方部にノズル１２１が固定されている。な
お、図２においては、仕切板１２１ｄの図示を省略して
いるが、この仕切板１２１ｄは薬液処理部１２の幅寸法
と同一の長さ寸法を有し、その長手方向が開口部Ｈ12と
ほぼ平行となるように配置されるとともに、その両端部
が薬液処理部１２の両側壁にそれぞれ当接している。

【００２２】このように仕切板１２１ｄに取り付けられ
たノズル１２１は、長さ寸法が少なくとも搬送中の基板
Ｓを横断するように設定された所定厚みの直方体状のブ
ロックによって形成されノズル本体１２１ａと、このノ
ズル本体１２１ａ内に穿孔された液供給通路１２１ｂ
と、この液供給通路１２１ｂに連通した液吐出口１２１
ｃとを具備している。この液供給通路１２１ｂには、薬
液供給管路１２５が接続されており、上記のようにポン
プ１２７の作動に応じて薬液タンク１２６から薬液が圧
送されてくると、液供給通路１２１ｂを通って液吐出口
１２１ｃから薬液が下方側に吐出されて、薬液の液カー
テン５１が開口部Ｈ12を遮断するように形成される。こ
のように、この実施形態では、ノズル１２１、薬液供給
管路１２５、フィルタ１２８、ポンプ１２７および薬液
タンク１２６によって液カーテン形成手段が構成されて
いる。

【００２３】また、基板搬送路３０を挟んでノズル１２
１と対向して基台１２２が配置されている。この基台１
２２は、長さ寸法が少なくとも搬送中の基板Ｓを横断す
るように設定された所定厚みの直方体状のブロックによ
って形成され基台本体１２２ａと、基台本体１２２ａに
穿設された液供給通路１２２ｂと、この液供給通路１２
２ｂに連通した液吐出口１２２ｃとを具備している。こ
の液供給通路１２２ｂにも、薬液供給管路１２５が接続
されており、上記のようにポンプ１２７の作動に応じて
薬液タンク１２６から薬液が圧送されてくると、液供給
通路１２２ｂを通って液吐出口１２２ｃから薬液が上方
側に噴水状に吹出して、薬液の液カーテン５２が形成さ
れる。このように、この実施形態では、基台１２２、薬
液供給管路１２５、フィルタ１２８、ポンプ１２７およ
び薬液タンク１２６によって補助液カーテン形成手段が
構成されている。

【００２４】したがって、基板Ｓが開口部Ｈ12を介して
薬液処理部１２に搬送されてきていないときには（図
３）、上記のようにして形成される２つの液カーテン５
１，５２によって開口部Ｈ12が遮断されており、待機部
１１と薬液処理部１２とが雰囲気分離されており、薬液
処理部１２で発生した薬液（処理液）の液滴およびミス
ト状の雰囲気が待機部側に浸入しようとするのを防ぐこ
とができる。また、基板Ｓが開口部Ｈ12を介して薬液処
理部１２に搬送されてきているときには（図４）、基板
Ｓの上方主面Ｓ1側において液カーテン５１が基板Ｓの
上方主面Ｓ1に幅方向全体に亘って接触するとともに、
下方主面Ｓ2側において液カーテン５２が基板Ｓの下方
主面Ｓ2に幅方向全体に亘って接触して、薬液処理部１
２で発生した薬液の液滴およびミスト状の雰囲気が待機
部側に浸入しようとするのを防ぐことができる。

【００２５】しかも、この実施形態では、仕切板１２１
ｄが開口部Ｈ12と平行に延びるとともに、その両端部が
薬液処理部１２の両側壁に当接するように配置している
ので、仮に薬液処理部１２で発生した薬液の液滴および
ミスト状の雰囲気が上方に飛散し、薬液処理部１２の天
井面に沿って待機部側に浸入しようとしても、仕切板１
２１ｄによって薬液の液滴等の待機部への浸入を防止す
ることができる。

【００２６】また、この実施形態においては、薬液処理
部１２で使用する薬液と同一種類の薬液によって液カー
テン５１，５２を形成しているので、図４に示すよう
に、液カーテン５１，５２が基板Ｓに供給された時点で
薬液による薬液処理が開始され、基板Ｓがさらに薬液処
理部１２の中央部側に搬送され、スプレーノズル１２
３，１２４からのスプレー状の薬液が供給されると、さ
らに薬液処理が進行する。このように、基板Ｓには、薬
液処理部において本来的に薬液が供給されるのみなら
ず、液カーテン５１，５２を通過する際にも薬液が供給
されるため、基板Ｓへの薬液の接液時間が長く確保でき
て、薬液処理を効果的に行うことができる。

【００２７】なお、上記実施形態では、図３に示すよう
に、ノズル１２１を傾けてノズル１２１から薬液が搬送
方向Ｘの下流側に向けて吐出されるように構成されてお
り、この薬液の搬送方向Ｘに対する吐出角度θ1は、０
゜以上９０゜以下であれば、如何なる角度に設定しても
よいが、液カーテン５２や基板Ｓとの衝突による逆流や
ミストの発生を防止したり、あるいは抑制するために
は、吐出角度θ1を２０゜以上６０゜以下の範囲に設定
するのが好ましい。

【００２８】また、上記実施形態では、ノズル１２１に
対向して基台１２２を設けて基台１２２から薬液を噴水
状に吹出させて液カーテン５２を形成しているが、基台
１２２の代わりに、図５に示すように、ノズル１２２′
をノズル１２１側に向けて配置してもよい。また、この
ノズル１２２′についても、ノズル１２１と同様に、薬
液処理部１２の底面から延びる仕切板１２２ｄによって
傾斜固定され、ノズル１２２′から薬液が搬送方向Ｘの
下流側に向けて吐出されるように構成されており、この
薬液の搬送方向Ｘに対する吐出角度θ2は、１０゜以上
９０゜以下であれば、如何なる角度に設定してもよい
が、液カーテン５１や基板Ｓとの衝突による逆流やミス
トの発生を防止したり、あるいは抑制するためには、吐
出角度θ2を２０゜以上６０゜以下の範囲に設定するの
が好ましい。さらに、吐出角度θ1，θ2については、上
記範囲に設定する限りに、同一の値に設定しても、異な
る値に設定してもよい。

【００２９】また、上記実施形態では、基板搬送路３０
の下方側に基台１２２を設け、液カーテン５２を形成し
ているが、ノズル１２１から吐出される薬液による液カ
ーテン５１のみを形成して開口部Ｈ12を遮断して薬液処
理部１２で発生した薬液（処理液）の液滴およびミスト
状の雰囲気が待機部１１側に浸入しようとするのを防止
するようにしてもよい。

【００３０】また、上記実施形態では、ノズル１２１、
基台１２２およびスプレーノズル１２３，１２４への薬
液の圧送供給を、薬液供給管路１２５、薬液タンク１２
６、ポンプ１２７およびフィルタ１２８を共通利用して
行っているが、圧送供給態様についてはこれに限定され
るものではなく、例えば薬液タンクのみを共通化し、薬
液供給管路１２５、ポンプ１２７およびフィルタ１２８
については、液カーテン形成用（ノズル１２１および基
台１２２）と、スプレー供給用（スプレーノズル１２
３，１２４）とを別個独立して用意してもよく、この場
合、各ポンプの作動タイミングを制御することでノズル
１２１および基台１２２からの液カーテン５１，５２の
形成タイミングおよびスプレーノズル１２３，１２４に
よる基板Ｓへの薬液供給タイミングを独立して制御する
ことができる。

【００３１】また、上記実施形態では、薬液処理部１２
で使用している薬液（処理液）と同一種類の液体で液カ
ーテン５１，５２を形成しているが、ノズル１２１およ
び基台１２２から吐出すべき液体はこれに限定されるも
のではなく、異なる液体を用いて液カーテン５１，５２
を形成してもよい。例えば、薬液処理部１２で使用され
る再利用の薬液と同一種類ではあるが、全く薬液処理に
使用していない薬液（新液）によって液カーテン５１，
５２を形成してもよい。また、逆に、スプレーノズル１
２３，１２４には新液を供給する一方、ノズル１２１お
よび基台１２２には再利用の薬液を供給するようにして
もよい。

【００３２】また、上記実施形態では、薬液処理部１２
内で、しかも開口部Ｈ12の近傍位置Ｐ1で液カーテン５
１，５２を形成して薬液処理部１２で発生した薬液の液
滴およびミスト状の雰囲気が待機部１１側に浸入しよう
とするのを防止しているが、薬液処理部１２内で、しか
も開口部Ｈ23の近傍位置Ｐ2（図１）で液カーテンを形
成して薬液処理部１２で発生した薬液の液滴およびミス
ト状の雰囲気が水洗部１３側に浸入しようとするのを防
止したり、水洗部１３内で、しかも開口部Ｈ23の近傍位
置Ｐ3（図１）で液カーテンを形成して水洗１３２で発
生したイオン交換水（処理液）の液滴およびミスト状の
雰囲気が薬液処理部１２側に浸入しようとするのを防止
するようにしてもよい。

【００３３】さらに、本発明の適用対象は図１に示す処
理部構成を有する基板処理装置に限定されるものではな
く、半導体基板、プリント基板およびプラズマディスプ
レイ用基板などの基板を処理する基板処理装置であっ
て、処理液を基板に供給して処理する第１処理部と、開
口部を有する仕切壁を介して第１処理部に連設された第
２処理部とが連設された基板処理装置全般に対して本発
明を適用することができる。

【００３４】

【発明の効果】以上のように、この発明にかかる基板処
理装置によれば、第１処理部の内部で、しかも開口部の
近傍において、所定の液体をカーテン状に供給して液カ
ーテンを形成するように構成しているので、当該液カー
テンによって当該開口部が遮断され、第１処理部で発生
した処理液の液滴およびミスト状の雰囲気が第２処理部
側に浸入しようとするのを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる基板処理装置の一実施形態を示
す説明図である。

【図２】図１の基板処理装置の部分切欠斜視図である。

【図３】図２の断面図である。

【図４】図１の基板処理装置の動作を示す図である。

【図５】本発明にかかる基板処理装置の他の実施形態を
示す説明図である。

【符号の説明】

１…基板処理装置１１…待機部（第２処理部）１２…薬液処理部（第１処理部）１３…水洗部３０…基板搬送路５１，５２…液カーテン１２１…（液カーテン形成用）ノズル１２２…（補助液カーテン形成用）基台１２２′…（補助液カーテン形成用）ノズル１２５…薬液供給管路１２６…薬液タンク１２７…ポンプ１２８…フィルタＳ1…上方主面（一方主面）Ｓ2…下方主面（他方主面）Ｓ…基板Ｘ…搬送方向

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に対して処理液を供給して処理を行
う第１処理部と、基板を通過させるための開口部を有する仕切壁で仕切ら
れた状態で前記第１処理部に隣接して配置された第２処
理部と、基板を前記開口部を介して前記第１および２処理部の間
を基板搬送路に沿って搬送する搬送手段と、前記第１処理部の内部で、しかも前記開口部の近傍位置
で、所定の液体をカーテン状に供給して前記開口部を遮
断する液カーテン形成手段とを備えたことを特徴とする
基板処理装置。
【請求項２】前記基板搬送路を挟んで前記液カーテン
形成手段と対向して配置され、前記液カーテン形成手段
に向けて前記所定の液体をカーテン状に供給する補助液
カーテン形成手段をさらに備え、基板が前記開口部を通過しているとき、前記液カーテン
形成手段から供給された液体によって形成される液カー
テンが当該基板の一方主面に幅方向全体に亘って接触す
るとともに、前記補助液カーテン形成手段から供給され
た液体によって形成される液カーテンが当該基板の他方
主面に幅方向全体に亘って接触する請求項１記載の基板
処理装置。
【請求項３】前記所定の液体が前記第１処理部内で基
板に供給される処理液と同一種類である請求項１または
２記載の基板処理装置。