JPH07211683A - 基板の洗浄装置 - Google Patents
基板の洗浄装置Info
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- JPH07211683A JPH07211683A JP6006047A JP604794A JPH07211683A JP H07211683 A JPH07211683 A JP H07211683A JP 6006047 A JP6006047 A JP 6006047A JP 604794 A JP604794 A JP 604794A JP H07211683 A JPH07211683 A JP H07211683A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＬＣＤ用カラーフィルターの製造工程で、ガ
ラス基板の現像後の現像残渣の除去効率の高い基板の洗
浄装置を提供すること。 【構成】 ねこの目形状のスプレーパターンを有するノ
ズル２７をパイプ２８に複数個取り付け、互いに隣接す
るノズル２７から所定の圧力で噴射される純水が、ガラ
ス基板２の表面に達する前にぶつかりあつてガラス基板
２の表面の洗浄力がおちないように、スプレーパターン
の長手方向を結ぶ直線が基板の搬送方向に直交する方向
の直線に対し、３°〜３０°の角度になる様にノズル２
７をパイプ２８に取り付けている。
ラス基板の現像後の現像残渣の除去効率の高い基板の洗
浄装置を提供すること。 【構成】 ねこの目形状のスプレーパターンを有するノ
ズル２７をパイプ２８に複数個取り付け、互いに隣接す
るノズル２７から所定の圧力で噴射される純水が、ガラ
ス基板２の表面に達する前にぶつかりあつてガラス基板
２の表面の洗浄力がおちないように、スプレーパターン
の長手方向を結ぶ直線が基板の搬送方向に直交する方向
の直線に対し、３°〜３０°の角度になる様にノズル２
７をパイプ２８に取り付けている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばＬＣＤ用のガラ
ス基板を純水などの洗浄液を用いて洗浄する基板の洗浄
装置に関する。
ス基板を純水などの洗浄液を用いて洗浄する基板の洗浄
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤ用カラーフィルターの製造工程で
は、赤・緑・青・黒色のパターンを例えばガラス基板に
形成する場合、赤・緑・青・黒色の顔料を含んだ感光性
樹脂があらかじめガラス基板に塗布され、そして乾燥さ
れる。その後、所定のパターンを露光し現像処理が行わ
れる。この現像処理では、従来、図７に示すような現像
装置が使用されている。
は、赤・緑・青・黒色のパターンを例えばガラス基板に
形成する場合、赤・緑・青・黒色の顔料を含んだ感光性
樹脂があらかじめガラス基板に塗布され、そして乾燥さ
れる。その後、所定のパターンを露光し現像処理が行わ
れる。この現像処理では、従来、図７に示すような現像
装置が使用されている。
【０００３】現像装置１の左側には、ガラス基板２を搬
入する搬入口３が、また、右側にはガラス基板２を搬出
する搬出口４が設けられている。そして、搬入口３と搬
出口４の間は、現像処理槽５、液切り槽６、洗浄槽７、
乾燥処理槽８にそれぞれ区画されている。
入する搬入口３が、また、右側にはガラス基板２を搬出
する搬出口４が設けられている。そして、搬入口３と搬
出口４の間は、現像処理槽５、液切り槽６、洗浄槽７、
乾燥処理槽８にそれぞれ区画されている。
【０００４】各槽５〜８には、ガラス基板２を搬入し、
また搬出する開口部が形成されている。また、ガラス基
板２を水平に搬送する搬送機構も設けられている。搬送
機構は、ガラス基板２両端の下縁に接する多数のローラ
９や、これら各ローラ９を回転駆動するモータ、そし
て、モータの回転をローラ９に伝えるヘリカル歯車など
から構成されている。
また搬出する開口部が形成されている。また、ガラス基
板２を水平に搬送する搬送機構も設けられている。搬送
機構は、ガラス基板２両端の下縁に接する多数のローラ
９や、これら各ローラ９を回転駆動するモータ、そし
て、モータの回転をローラ９に伝えるヘリカル歯車など
から構成されている。
【０００５】現像処理槽５内では、ノズル１０からガラ
ス基板２上に現像液が噴霧される。また、液切り槽６に
は、現像処理槽５側と洗浄槽７側に、ガラス基板２の上
方および下方からドライエアーなどの気体を噴射する１
対の第１エアーナイフ１１および第２エアーナイフ１２
が設けられている。なお、第１エアーナイフ１１および
第２エアーナイフ１２は、ガラス基板２が搬送される搬
送路に対しある角度を持って対向するように取り付けら
れている。
ス基板２上に現像液が噴霧される。また、液切り槽６に
は、現像処理槽５側と洗浄槽７側に、ガラス基板２の上
方および下方からドライエアーなどの気体を噴射する１
対の第１エアーナイフ１１および第２エアーナイフ１２
が設けられている。なお、第１エアーナイフ１１および
第２エアーナイフ１２は、ガラス基板２が搬送される搬
送路に対しある角度を持って対向するように取り付けら
れている。
【０００６】第１エアーナイフ１１から噴射される気体
は、ガラス基板２上の現像液を搬送方向と逆方向、すな
わち、現像処理槽５側へ押し戻し液切り槽６への現像液
の持ち込みを少なくしている。また、第２エアーナイフ
１２から噴射される気体は、ガラス基板２が液切り槽６
から洗浄槽７に移動する際に、洗浄槽７側からガラス基
板２上を介して液切り槽６側へ侵入する純水を、搬送方
向と同方向すなわち洗浄槽７側へ押し戻し、洗浄槽７側
からの純水の侵入を防止している。
は、ガラス基板２上の現像液を搬送方向と逆方向、すな
わち、現像処理槽５側へ押し戻し液切り槽６への現像液
の持ち込みを少なくしている。また、第２エアーナイフ
１２から噴射される気体は、ガラス基板２が液切り槽６
から洗浄槽７に移動する際に、洗浄槽７側からガラス基
板２上を介して液切り槽６側へ侵入する純水を、搬送方
向と同方向すなわち洗浄槽７側へ押し戻し、洗浄槽７側
からの純水の侵入を防止している。
【０００７】また、洗浄槽７には、ローラ９の回転で搬
送されるガラス基板の搬送路を横断するようにパイプが
配置され、パイプにはノズル１４が一定ピッチで取り付
けられている。そして、各ノズル１４から０．５〜１．
５ｋｇ／ｃｍ2 の噴射圧力で純水が噴射され、その下方
を通過するガラス基板２上の現像液を洗い落とすように
なっている。
送されるガラス基板の搬送路を横断するようにパイプが
配置され、パイプにはノズル１４が一定ピッチで取り付
けられている。そして、各ノズル１４から０．５〜１．
５ｋｇ／ｃｍ2 の噴射圧力で純水が噴射され、その下方
を通過するガラス基板２上の現像液を洗い落とすように
なっている。
【０００８】また、乾燥処理槽８では、搬送されるガラ
ス基板２に対し、その上方及び下方からドライエアーな
どの気体を噴射する第３エアーナイフ１３が、第１エア
ーナイフ１１と同様にガラス基板２の搬送路に対向し、
そして、ある角度を持って設けられている。なお、エア
ーナイフ１３から噴射される気体によって、ガラス基板
２の表面が乾燥される。
ス基板２に対し、その上方及び下方からドライエアーな
どの気体を噴射する第３エアーナイフ１３が、第１エア
ーナイフ１１と同様にガラス基板２の搬送路に対向し、
そして、ある角度を持って設けられている。なお、エア
ーナイフ１３から噴射される気体によって、ガラス基板
２の表面が乾燥される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の装置で
は、例えばＬＣＤ用のカラーフィルターの製造工程にお
いて、赤・緑・青・黒色のパターンをガラス基板に形成
する場合、赤・緑・青・黒色のそれぞれの顔料を含んだ
感光性樹脂があらかじめガラス基板に塗布され、そして
乾燥され、さらに所定のパターンが露光され、現像処理
される。
は、例えばＬＣＤ用のカラーフィルターの製造工程にお
いて、赤・緑・青・黒色のパターンをガラス基板に形成
する場合、赤・緑・青・黒色のそれぞれの顔料を含んだ
感光性樹脂があらかじめガラス基板に塗布され、そして
乾燥され、さらに所定のパターンが露光され、現像処理
される。
【００１０】この場合、所定のパターン以外の所の感光
性樹脂がとれずに残る、いわゆる現像残渣が発生する。
現像残渣は、現像液が劣化したり、また液温が低下した
りすると多く発生する。このような現像残渣は、洗浄槽
で洗浄しても純水の噴射圧力が低いなどの理由で必ずし
も十分に除去されない。また、各ノズル１４から噴射さ
れる純水が円錐状であるため、純水の噴射圧力を上げて
も隣接するノズルから噴射される純水同士がガラス基板
２表面に到達する前にぶつかりあい、ガラス基板２表面
を洗浄する純水の圧力が減少してしまう。さらに、ノズ
ル１４の直下部分と各ノズル間の下方部分とで、基板表
面を洗浄する純水の圧力に大きな差が生じ、基板表面に
洗浄ムラができる。このような理由から、ガラス基板２
の表面が均一に洗浄されず、また、残渣が十分に除去で
きない。
性樹脂がとれずに残る、いわゆる現像残渣が発生する。
現像残渣は、現像液が劣化したり、また液温が低下した
りすると多く発生する。このような現像残渣は、洗浄槽
で洗浄しても純水の噴射圧力が低いなどの理由で必ずし
も十分に除去されない。また、各ノズル１４から噴射さ
れる純水が円錐状であるため、純水の噴射圧力を上げて
も隣接するノズルから噴射される純水同士がガラス基板
２表面に到達する前にぶつかりあい、ガラス基板２表面
を洗浄する純水の圧力が減少してしまう。さらに、ノズ
ル１４の直下部分と各ノズル間の下方部分とで、基板表
面を洗浄する純水の圧力に大きな差が生じ、基板表面に
洗浄ムラができる。このような理由から、ガラス基板２
の表面が均一に洗浄されず、また、残渣が十分に除去で
きない。
【００１１】このため、残渣が残らないように柔らかい
布等を用いて人手で基板表面を拭き現像残渣を除去する
方法がある。しかし、人手による作業は熟練を要し、ま
た、生産効率が悪くなる。
布等を用いて人手で基板表面を拭き現像残渣を除去する
方法がある。しかし、人手による作業は熟練を要し、ま
た、生産効率が悪くなる。
【００１２】なお、現像残渣を除去する作業を機械化す
るために、合成樹脂等を植毛したロール状のブラシを使
用し、そのブラシ部分に洗浄液を流しながら回転させて
ガラス基板表面に接触させ、洗浄する方法が提案されて
いる。この方法では、現像残渣は除去できるものの、赤
・緑・青・黒色のそれぞれの顔料を含んだ感光性樹脂の
パターンが傷つく場合があり、品質上に問題が発生す
る。
るために、合成樹脂等を植毛したロール状のブラシを使
用し、そのブラシ部分に洗浄液を流しながら回転させて
ガラス基板表面に接触させ、洗浄する方法が提案されて
いる。この方法では、現像残渣は除去できるものの、赤
・緑・青・黒色のそれぞれの顔料を含んだ感光性樹脂の
パターンが傷つく場合があり、品質上に問題が発生す
る。
【００１３】本発明は、上記した欠点を解決するもの
で、その目的は、現像残渣を良好に除去できる基板の洗
浄装置を提供することにある。
で、その目的は、現像残渣を良好に除去できる基板の洗
浄装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の基板の洗浄装置
は、基板を搬送する搬送手段と、前記基板を洗浄する洗
浄液が供給されるパイプと、このパイプにそれぞれが所
定の間隔で取り付けられ、かつ、前記基板の搬送方向に
直交する方向に対し、スプレーパターンの長手方向が３
°〜３０°の角度で前記基板に洗浄液を噴射する複数個
のノズルとから構成されている。
は、基板を搬送する搬送手段と、前記基板を洗浄する洗
浄液が供給されるパイプと、このパイプにそれぞれが所
定の間隔で取り付けられ、かつ、前記基板の搬送方向に
直交する方向に対し、スプレーパターンの長手方向が３
°〜３０°の角度で前記基板に洗浄液を噴射する複数個
のノズルとから構成されている。
【００１５】また、前記パイプに取り付けられるノズル
の取付ピッチを、前記基板の中心付近をＬ１とし、前記
基板の両端付近をＬ２とした場合に、Ｌ１＞Ｌ２として
いる。
の取付ピッチを、前記基板の中心付近をＬ１とし、前記
基板の両端付近をＬ２とした場合に、Ｌ１＞Ｌ２として
いる。
【００１６】また、前記ノズルから噴射される洗浄液の
噴射圧力を５〜４０ｋｇ／ｃｍ2 としている。
噴射圧力を５〜４０ｋｇ／ｃｍ2 としている。
【００１７】また、前記ノズルのスプレーパターンをね
この目形状としている。
この目形状としている。
【００１８】また、前記ノズルのスプレーパターンを長
円形状としている。
円形状としている。
【００１９】
【作用】上記の構成によれば、ノズルから噴射される洗
浄液のスプレーパターンに長手方向と短手方向とがあ
り、その長手方向が、ガラス基板の搬送方向に直交する
方向に対し３°〜３０°の角度を持っている。また、各
ノズルで形成されるスプレーパターン同士はそのほぼ短
手方向で隣接している。したがって、複数個のノズルか
ら扇状に噴射される洗浄液のぶつかりあいが少なくな
り、ガラス基板の表面を洗浄する洗浄液の圧力の低下が
小さい。また、ガラス基板は、洗浄中に複数個のノズル
のスプレーパターンを通過することになり、良好な洗浄
が行える。
浄液のスプレーパターンに長手方向と短手方向とがあ
り、その長手方向が、ガラス基板の搬送方向に直交する
方向に対し３°〜３０°の角度を持っている。また、各
ノズルで形成されるスプレーパターン同士はそのほぼ短
手方向で隣接している。したがって、複数個のノズルか
ら扇状に噴射される洗浄液のぶつかりあいが少なくな
り、ガラス基板の表面を洗浄する洗浄液の圧力の低下が
小さい。また、ガラス基板は、洗浄中に複数個のノズル
のスプレーパターンを通過することになり、良好な洗浄
が行える。
【００２０】また、パイプに取り付けられるノズルの取
付ピッチを、ガラス基板の中央付近の取付ピッチＬ１を
両端付近の取付ピッチＬ２より大きくしている。この場
合、中心付近のノズル直下部分と両端付近のノズル直下
部分とでガラス基板を洗浄するノズルの個数に差が少な
くなり、現像処理されたガラス基板の表面が均一に、そ
してむらなく洗浄される。
付ピッチを、ガラス基板の中央付近の取付ピッチＬ１を
両端付近の取付ピッチＬ２より大きくしている。この場
合、中心付近のノズル直下部分と両端付近のノズル直下
部分とでガラス基板を洗浄するノズルの個数に差が少な
くなり、現像処理されたガラス基板の表面が均一に、そ
してむらなく洗浄される。
【００２１】また、ノズルから噴射される洗浄液の噴射
圧力を５〜４０ｋｇ／ｃｍ2 にし、また、ノズルのスプ
レーパタンの形状をねこの目形状、あるいは長円形状と
することにより、現像残渣を効率よく除去できる。
圧力を５〜４０ｋｇ／ｃｍ2 にし、また、ノズルのスプ
レーパタンの形状をねこの目形状、あるいは長円形状と
することにより、現像残渣を効率よく除去できる。
【００２２】
【実施例】本発明の一実施例について、図１を参照して
説明する。図１は、本発明を構成する各部の配置が分か
るように、ガラス基板２の搬送方向と直交する平面で一
部を断面して示している。
説明する。図１は、本発明を構成する各部の配置が分か
るように、ガラス基板２の搬送方向と直交する平面で一
部を断面して示している。
【００２３】図１で、符号２０は洗浄槽であり、洗浄槽
２０はガラス基板２の搬送方向にある長さを持つように
構成されている。また、洗浄槽２０の上面には開閉可能
な蓋板２０ａが取り付けられている。洗浄槽２０内を搬
送されるガラス基板２の搬送路より上方の側面には排気
口２１があり、排気口２１は工場排気ダクト（図示せ
ず）に接続されている。洗浄槽２０の底２０ｂは傾斜
し、リターン配管２２に向かって低くなっている。ま
た、洗浄槽２０の下方には純水タンク２３が配置され、
洗浄槽２０で噴射された純水は、リターン配管２２を通
して純水タンク２３に回収される。
２０はガラス基板２の搬送方向にある長さを持つように
構成されている。また、洗浄槽２０の上面には開閉可能
な蓋板２０ａが取り付けられている。洗浄槽２０内を搬
送されるガラス基板２の搬送路より上方の側面には排気
口２１があり、排気口２１は工場排気ダクト（図示せ
ず）に接続されている。洗浄槽２０の底２０ｂは傾斜
し、リターン配管２２に向かって低くなっている。ま
た、洗浄槽２０の下方には純水タンク２３が配置され、
洗浄槽２０で噴射された純水は、リターン配管２２を通
して純水タンク２３に回収される。
【００２４】また、洗浄槽２０内には、現像処理された
ガラス基板２を水平に搬送する搬送機構が設けられてい
る。搬送機構は、ガラス基板２両端の下縁に接する多数
のローラ２４や、各ローラ２４を回転駆動するモータ２
５、そしてモータ２５の回転を各ローラ２４に伝えるヘ
リカル歯車２６などから構成されている。
ガラス基板２を水平に搬送する搬送機構が設けられてい
る。搬送機構は、ガラス基板２両端の下縁に接する多数
のローラ２４や、各ローラ２４を回転駆動するモータ２
５、そしてモータ２５の回転を各ローラ２４に伝えるヘ
リカル歯車２６などから構成されている。
【００２５】また、ガラス基板２の搬送路を横断する方
向にパイプ２８が配置され、パイプ２８には所定の取付
ピッチＬでノズル２７が取り付けられている。パイプ２
８には洗浄液供給ポンプ２９の働きで洗浄液例えば純水
が供給される。そして、パイプ２８に供給された純水
は、ノズル２７から５〜４０kg/cm 2 に加圧されて噴射
される。
向にパイプ２８が配置され、パイプ２８には所定の取付
ピッチＬでノズル２７が取り付けられている。パイプ２
８には洗浄液供給ポンプ２９の働きで洗浄液例えば純水
が供給される。そして、パイプ２８に供給された純水
は、ノズル２７から５〜４０kg/cm 2 に加圧されて噴射
される。
【００２６】ここで、ノズル２７から噴射される純水の
断面形状の例を図２や図３で示す。純水の断面形状はい
わゆるスプレーパターンと呼ばれ、本発明の場合、スプ
レーパターンは直交する２つの方向で一方は長く、他方
で短くなっている。なお、スプレーパターンの全体の形
状はノズルの構造などで調整される。
断面形状の例を図２や図３で示す。純水の断面形状はい
わゆるスプレーパターンと呼ばれ、本発明の場合、スプ
レーパターンは直交する２つの方向で一方は長く、他方
で短くなっている。なお、スプレーパターンの全体の形
状はノズルの構造などで調整される。
【００２７】例えば図２のスプレーパターン４ａは、噴
射の中心Ｇからその長手方向に徐々に細くなるねこの目
形状になっている。また、図３のスプレーパターン４ｂ
は、長手方向にほぼ一様の幅で先端が丸い、長円形状に
なっている。
射の中心Ｇからその長手方向に徐々に細くなるねこの目
形状になっている。また、図３のスプレーパターン４ｂ
は、長手方向にほぼ一様の幅で先端が丸い、長円形状に
なっている。
【００２８】図４は、例えばねこの目形状のスプレーパ
ターンを有するノズル２７を、パイプ２８に等間隔に取
り付けた状態を示している。そして、ノズル２７から噴
射される洗浄液のスプレーパターンの長手方向を結ぶ直
線Ａと基板の搬送方向に直交する直線Ｂとの角度αが、
３°〜３０°になっている。この構成によれば、スプレ
ーパターン同士はほぼ短手方向に隣接するため、ノズル
２７から噴射される純水同士が、ガラス基板２表面に到
達する前にぶつかることが少なくなる。したがって、ガ
ラス基板２表面を洗浄する洗浄力の低下は小さい。
ターンを有するノズル２７を、パイプ２８に等間隔に取
り付けた状態を示している。そして、ノズル２７から噴
射される洗浄液のスプレーパターンの長手方向を結ぶ直
線Ａと基板の搬送方向に直交する直線Ｂとの角度αが、
３°〜３０°になっている。この構成によれば、スプレ
ーパターン同士はほぼ短手方向に隣接するため、ノズル
２７から噴射される純水同士が、ガラス基板２表面に到
達する前にぶつかることが少なくなる。したがって、ガ
ラス基板２表面を洗浄する洗浄力の低下は小さい。
【００２９】なお、角度αの値は、スプレーパターン４
の形状や、パイプ２８に対するノズルの取付ピッチＬ、
ノズルの口径、純水の噴出圧力、噴射高さ等により適宜
調整される。
の形状や、パイプ２８に対するノズルの取付ピッチＬ、
ノズルの口径、純水の噴出圧力、噴射高さ等により適宜
調整される。
【００３０】図５（ａ）は、ノズル２７をパイプ２８に
等間隔に取り付け、そして、スプレーパターン４の長手
方向が基板の搬送方向に直交する直線Ｂに対し３°〜３
０°の角度αになるようにした状態を示している。ま
た、図５（ｂ）は、そのときのスプレーパターン４の長
手方向を直線で示し、ガラス基板２の上方から見た状態
を示している。なお、矢印Ｙはガラス基板２の搬送方向
である。また、複数個のノズル２７から例えば５〜４０
kg/cm 2 の噴射圧力で純水が噴射され、ガラス基板２表
面を洗浄している。
等間隔に取り付け、そして、スプレーパターン４の長手
方向が基板の搬送方向に直交する直線Ｂに対し３°〜３
０°の角度αになるようにした状態を示している。ま
た、図５（ｂ）は、そのときのスプレーパターン４の長
手方向を直線で示し、ガラス基板２の上方から見た状態
を示している。なお、矢印Ｙはガラス基板２の搬送方向
である。また、複数個のノズル２７から例えば５〜４０
kg/cm 2 の噴射圧力で純水が噴射され、ガラス基板２表
面を洗浄している。
【００３１】この場合、ガラス基板２の中心付近例えば
ノズル２７ａの直下部分では、ガラス基板２は搬送中に
７個のスプレーパターン４を通過する。また、両端付近
例えばノズル２７ｂの直下部分では５個のスプレーパタ
ーン４を通過する。したがって、ガラス基板２は搬送中
に複数のノズル２７から噴射される純水で洗浄されるこ
とになり、現像残渣が効率的に除去される。
ノズル２７ａの直下部分では、ガラス基板２は搬送中に
７個のスプレーパターン４を通過する。また、両端付近
例えばノズル２７ｂの直下部分では５個のスプレーパタ
ーン４を通過する。したがって、ガラス基板２は搬送中
に複数のノズル２７から噴射される純水で洗浄されるこ
とになり、現像残渣が効率的に除去される。
【００３２】図６（ａ）は、パイプ２８に取り付けられ
るノズルのピッチを、ガラス基板２の中心付近をＬ１と
し、また、ガラス基板２の両端付近をＬ２とした場合
に、Ｌ１＞Ｌ２となるようにし、そして、スプレーパタ
ーン４の長手方向が基板の搬送方向に直交する直線Ｂに
対し３°〜３０°の角度αになるようにしている。ま
た、図６（ｂ）は、そのときのスプレーパターン４の長
手方向を直線で示し、ガラス基板２の上方から見た状態
を示している。
るノズルのピッチを、ガラス基板２の中心付近をＬ１と
し、また、ガラス基板２の両端付近をＬ２とした場合
に、Ｌ１＞Ｌ２となるようにし、そして、スプレーパタ
ーン４の長手方向が基板の搬送方向に直交する直線Ｂに
対し３°〜３０°の角度αになるようにしている。ま
た、図６（ｂ）は、そのときのスプレーパターン４の長
手方向を直線で示し、ガラス基板２の上方から見た状態
を示している。
【００３３】ところで、図５のようにノズル２７がパイ
プ２８にピッチＬで等間隔に取り付けられている場合、
ガラス基板２の中心付近例えばノズル２７ａの直下部分
と、両端付近例えばノズル２７ｂの直下部分とでは、ガ
ラス基板２表面が通過するスプレーパターン４の個数に
差がある。しかし、図６の場合は、ガラス基板２の中心
付近例えばノズル２７ａの直下部分では５個、そして、
両端付近例えばノズル２７ｂの直下部分では４個のスプ
レーパターン４を通過する。したがって、図６の構成の
場合、ガラス基板２表面が通過するスプレーパターン４
の数は、位置による差が少なくなり、洗浄液によるガラ
ス基板２の洗浄が全面に亘って均一化される。
プ２８にピッチＬで等間隔に取り付けられている場合、
ガラス基板２の中心付近例えばノズル２７ａの直下部分
と、両端付近例えばノズル２７ｂの直下部分とでは、ガ
ラス基板２表面が通過するスプレーパターン４の個数に
差がある。しかし、図６の場合は、ガラス基板２の中心
付近例えばノズル２７ａの直下部分では５個、そして、
両端付近例えばノズル２７ｂの直下部分では４個のスプ
レーパターン４を通過する。したがって、図６の構成の
場合、ガラス基板２表面が通過するスプレーパターン４
の数は、位置による差が少なくなり、洗浄液によるガラ
ス基板２の洗浄が全面に亘って均一化される。
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、ノズルから噴射される
洗浄液のぶつかりあいが少なくなり、現像処理後の現像
残渣を効率的に除去できる。
洗浄液のぶつかりあいが少なくなり、現像処理後の現像
残渣を効率的に除去できる。
【図１】本発明の一実施例を搬送方向に直交する平面で
一部を断面した各部の配置図である。
一部を断面した各部の配置図である。
【図２】ノズルから噴射された純水の断面形状（スプレ
ーパターンがねこの目形状）である。
ーパターンがねこの目形状）である。
【図３】ノズルから噴射された純水の断面形状（スプレ
ーパターンが長円形状）である。
ーパターンが長円形状）である。
【図４】ねこの目形状のスプレーパターンを有するノズ
ルの配置を示す図である。
ルの配置を示す図である。
【図５】図５（ａ）は、スプレーパターン４の長手方向
を結ぶ直線が、基板の搬送方向に直交する方向の直線に
対して角度αを３°〜３０°になるようにし、そしてノ
ズルをパイプに等間隔に配置した図で、図５（ｂ）はス
プレーパターン４を直線状に略示した図である。
を結ぶ直線が、基板の搬送方向に直交する方向の直線に
対して角度αを３°〜３０°になるようにし、そしてノ
ズルをパイプに等間隔に配置した図で、図５（ｂ）はス
プレーパターン４を直線状に略示した図である。
【図６】図６（ａ）スプレーパターン４の長手方向を結
ぶ直線が、基板の搬送方向に直交する方向の直線に対し
て角度αを３°〜３０°になるようにし、そしてパイプ
に取り付けるノズルのピッチを相違させて配置した図
で、図６（ｂ）はスプレーパターン４を直線状に略示し
た図である。
ぶ直線が、基板の搬送方向に直交する方向の直線に対し
て角度αを３°〜３０°になるようにし、そしてパイプ
に取り付けるノズルのピッチを相違させて配置した図
で、図６（ｂ）はスプレーパターン４を直線状に略示し
た図である。
【図７】従来の現像装置を示す側面図である。
２…ガラス基板 ４、４ａ、４ｂ…スプレーパターン ２０…洗浄槽 ２７、２７ａ、２７ｂ…ノズル ２８…パイプ ２９…洗浄液供給ポンプ
Claims (5)
- 【請求項１】 基板を搬送する搬送手段と、前記基板を
洗浄する洗浄液が供給されるパイプと、このパイプにそ
れぞれが所定の間隔で取り付けられ、かつ、前記基板の
搬送方向に直交する方向に対し、スプレーパターンの長
手方向が３°〜３０°の角度で前記基板に洗浄液を噴射
する複数個のノズルとを具備したことを特徴とする基板
の洗浄装置。 - 【請求項２】 前記パイプに取り付けられるノズルの取
付ピッチを、前記基板の中心付近をＬ１とし、前記基板
の両端付近をＬ２とした場合に、Ｌ１＞Ｌ２としたこと
を特徴とする請求項１記載の基板の洗浄装置。 - 【請求項３】 前記ノズルから噴射される洗浄液の噴射
圧力を５〜４０ｋｇ／ｃｍ2 としたことを特徴とする請
求項１または２記載の基板の洗浄装置。 - 【請求項４】 前記ノズルのスプレーパターンをねこの
目形状としたことを特徴とする請求項１、２または３記
載の基板の洗浄装置。 - 【請求項５】 前記ノズルのスプレーパターンを長円形
状としたことを特徴とする請求項１、２または３記載の
基板の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00604794A JP3436785B2 (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 基板の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00604794A JP3436785B2 (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 基板の洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07211683A true JPH07211683A (ja) | 1995-08-11 |
| JP3436785B2 JP3436785B2 (ja) | 2003-08-18 |
Family
ID=11627714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00604794A Expired - Fee Related JP3436785B2 (ja) | 1994-01-25 | 1994-01-25 | 基板の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3436785B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005000667A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Premark Feg Llc | 流体振動ノズルを備えた物品洗浄機 |
| JP2007193029A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法 |
| US7314054B2 (en) | 2000-02-29 | 2008-01-01 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus with nozzle having planar ejecting orifices |
| CN104330907A (zh) * | 2014-10-30 | 2015-02-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Tft基板喷淋装置及蚀刻*** |
| CN106461989A (zh) * | 2014-06-06 | 2017-02-22 | 武藏工业株式会社 | 液体材料滴下装置及方法 |
| JP2019034270A (ja) * | 2017-08-15 | 2019-03-07 | 三洋化成工業株式会社 | フィルター洗浄装置 |
-
1994
- 1994-01-25 JP JP00604794A patent/JP3436785B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7314054B2 (en) | 2000-02-29 | 2008-01-01 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus with nozzle having planar ejecting orifices |
| JP2005000667A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Premark Feg Llc | 流体振動ノズルを備えた物品洗浄機 |
| JP2007193029A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法 |
| JP4648839B2 (ja) * | 2006-01-18 | 2011-03-09 | 住友化学株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
| CN106461989A (zh) * | 2014-06-06 | 2017-02-22 | 武藏工业株式会社 | 液体材料滴下装置及方法 |
| CN104330907A (zh) * | 2014-10-30 | 2015-02-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Tft基板喷淋装置及蚀刻*** |
| CN104330907B (zh) * | 2014-10-30 | 2017-06-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Tft基板喷淋装置及蚀刻*** |
| JP2019034270A (ja) * | 2017-08-15 | 2019-03-07 | 三洋化成工業株式会社 | フィルター洗浄装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3436785B2 (ja) | 2003-08-18 |
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