JPH09203803A - カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】インクジェット法でカラーフィルタを形成する
場合に、画素部分で均一な厚みの着色層が得られ、画素
内でのインクの広がりを良くし、画素内での色抜けが生
じないようにする。 【解決手段】水系インクを用い、画素を区切る凸部２の
上面４の撥インク性を水の接触角で９０〜１２０°と
し、凹部の親インク性を水の接触角で３０°以下とする
ことにより、画素周辺での色抜けのないカラーフィルタ
を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に設けられ
た凸部に囲まれた凹部である画素部をインクジェット方
式で着色することによるカラーフィルタの製造方法及び
それを用いた液晶表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子用のカラーフィルタの形成
方法として各種の方式が提案されている。特に、基板の
セル内壁側に着色層を形成してカラーフィルタを製造す
る方法にはいくつかの方法が知られている。

【０００３】例えば、着色インクをオフセット印刷法な
どによりパターン印刷し、着色層を形成する方法がある
が、印刷パターンの精細化には限界があり、生産歩留り
の低下などの問題がある。

【０００４】また、着色された紫外線硬化性インクを基
板上に全面塗布し、決められたパターンのマスクを用い
て紫外線照射し、不要部分を洗浄溶解することによりカ
ラーフィルタパターンを作成する方法では、赤、緑、青
の三原色のカラーフィルタを作成するためには、塗布、
紫外線照射、現像工程を３回行うことを要し、製造工程
上きわめて煩雑である。

【０００５】その他、電着塗装法を利用したカラーフィ
ルタの製造方法では、電着塗装される部分にあらかじめ
パターン状の透明電極を作成しておき、３色のカラーフ
ィルタを製造するために、順次それぞれに対応する電極
に通電し、透明電極上にカラーフィルタ膜を形成する。
この方法では３回の電着操作を必要とするうえ、色の重
なりによる混色を防ぐ操作を要し、また、３色に対応す
る透明電極を要するため、最終的な液晶表示セルが電極
の形状の制限をうけることもある。

【０００６】これらの問題を解決した合理的なカラーフ
ィルタの製造方法として、インクジェット方式で着色イ
ンクを吹きつけして着色層を形成することが提案されて
いる（特開昭５９−７５２０５）。この方法ではガラス
基板に対し濡れ性の良いインクを用いる場合にはインク
に対して濡れ性の悪い物質であらかじめ境界となる凸部
を印刷しておく方法や、ガラスに対して濡れ性の悪いイ
ンクを使う場合には、インクとの濡れ性の良い材料であ
らかじめガラスにパターンを形成しておきインクが定着
するのを助ける方法が提案されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、単にこの境界
の凸部をのみ撥インク性にしても基板が充分に親インク
性になっていないとインクが凹部で広がらず画素コーナ
ー部で色抜けしやすいという問題を生じた。これは、こ
のカラーフィルタを液晶表示素子等に用いた場合、色ム
ラが生じたり、着色不足による他の色の光の漏れによる
コントラストの低下を生じたりする問題を生じる。

【０００８】特に、量産工程を考えると、実験室での手
作りでは生じていなかったさまざまな問題を生じやす
い。量産工程では、工程が連続しているので前工程での
さまざまな汚染が生じやすく、また、基板の種類や製品
の種類の変更が生じるので、それらを変更しても、安定
して歩留りよく生産できることが望まれている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、前述の問題を
解決すべくなされたものであり、基板上にその上面が撥
インク性を有する凸部を形成し、その凸部により区切ら
れた凹部にインクジェット方式によってインクを吹きつ
けて凹部にインクを堆積させて着色層を形成するカラー
フィルタの製造方法において、凹部を親インク処理剤に
より表面処理した基板を用いることを特徴とするカラー
フィルタの製造方法を提供する。

【００１０】また、基板上にその上面が撥インク性を有
する凸部を形成し、その凸部により区切られた凹部にイ
ンクジェット方式によって水系インクを吹きつけて凹部
にインクを堆積させて着色層を形成するカラーフィルタ
の製造方法において、凹部の親インク性が水の接触角で
２０°以下であるようにしたことを特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法を提供する。

【００１１】さらに、それらの凸部が、ブラックマスク
と兼用されていることを特徴とするカラーフィルタの製
造方法、及び、それらの水系インクを用い、凹部の表面
に親インク性を付与する親インク処理剤が水溶性のレベ
リング剤又は水溶性の界面活性剤であることを特徴とす
るカラーフィルタの製造方法、及び、それらの基板上に
凸部を形成後、その上面を撥インク処理剤で表面処理し
撥インク性を付与することを特徴とするカラーフィルタ
の製造方法、並びに、それらの製造方法により形成され
たカラーフィルタを用いた液晶表示素子を提供する。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタの製造方
法は、基板上にその上面に適度な撥インク性を付与した
凸部、好ましくはブラックマスクによる凸部をあらかじ
め形成し、凸部により区切られた凹部を親インク性に
し、インクジェット方式にて着色インクを吹きつけして
着色層を形成し、カラーフィルタを形成するものであ
る。

【００１３】図１は本発明のカラーフィルタを模式的に
示す断面図である。図１において、１は基板、２は凸
部、３は凸部と凸部により区切られた凹部、４は凸部の
上面、５は凸部の側面、６は凹部に吹きつけ堆積されて
形成された着色層を示す。一番右端の凹部３のみは説明
を分かりやすくするために、着色層が形成されていない
状態で示してある。

【００１４】この図では、分かりやすくするために凸部
を４個、凹部を３個のみ示すが、これは必要な数設けら
れる。例えば、ストライプ状のカラーフィルタの場合で
あって、６４０画素分必要な場合には、１画素当りＲＧ
Ｂの３個のカラーフィルタが必要なので、凸部は１９２
１個、凹部は１９２０個必要になる。液晶表示素子では
基板間隙の精密性から表示を行わない表示画素の周辺ま
でカラーフィルタパターンを形成することもあり、その
場合にはもっと増えることになる。

【００１５】ストライプ状のパターンの場合には、長手
方向には凸部が形成されなくてもよいが、画素の周囲を
完全に凸部で囲むこともある。特に、モザイク状のカラ
ーフィルタの場合には、画素の周囲は凸部で囲まれる。

【００１６】本発明で用いられる基板には、一般的には
耐熱性の面からガラス基板が用いられるが、プラスチッ
ク基板も使用できる。また、この基板には通常は透明基
板を用いるが、反射性の基板や白色に着色したような基
板でも本発明は適用できる。この基板は、必要に応じて
アルカリ溶出防止用やガスバリア性付与その他の目的の
表面処理を施したものも用いうる。

【００１７】本発明で着色層を区切るための凸部は、基
板上に線状や格子状に形成される。この凸部の形状は、
それにより区切られた凹部が画素に対応するようにされ
ればよい。例えば、ストライプ状のカラーフィルタを形
成する場合には線状に形成され、四角の画素に対応させ
るためには格子状に形成される。これは、画素の形状に
より適宜定められるので、放射状、円周状等種々の形状
も考えられる。

【００１８】この凸部は、液晶表示素子等ではブラック
マスクを兼用させることが有利である。このため、以下
の説明では、凸部がブラックマスクと兼用される例に基
づいて説明するが、ブラックマスクとしない場合には、
それから黒色の材料や金属遮光層を使用しないようにす
ればよい。

【００１９】ブラックマスクによる凸部の形成方法とし
ては、例えば、金属クロム膜や、金属クロムと酸化クロ
ムを積層したもの、又はカーボンブラック等の黒色顔料
と樹脂からなる黒色層を形成し、これらにフォトレジス
トを塗布、画素部のレジストをフォトリソ法で取り除
き、エッチングによって金属クロム等の層を取り除く方
法がある。また、よりコスト的に有利な方法としてカー
ボンブラックなどの黒色顔料と光硬化性樹脂を含む材料
による黒色膜を形成し、これをフォトリソ法によって所
望のパターンにパターン化する方法がある。

【００２０】本発明では、ある程度の高さの凸部を所望
のパターンに形成できれば、公知の種々のブラックマス
クの形成法が使用できる。薄膜のブラックマスクと厚膜
の樹脂層とを積層して凸部を形成してもよい。例えば、
上述したような金属クロム等の膜では厚さが足りない場
合に、まずそのようなブラックマスクをパターニング
し、その上に光照射によりエッチング剤により溶けやす
くなる樹脂を付与し、ブラックマスク側から光を照射し
て樹脂をパターニングするというようなことも可能であ
る。

【００２１】本発明における凸部は、インクジェット法
によって着色する際に、吹きつけたインクが他の画素に
流れ込んだり滲んだりすることを防止する役割を果た
す。したがって、この凸部の高さはある程度高いことが
好ましいが、カラーフィルタとした場合の全体の平坦性
が高いことも要求されるので、着色層の厚さに近い高さ
が選択される。

【００２２】具体的には、所望の着色を得るのに必要な
吹きつけするインクの堆積量によっても異なるが、通常
は０．１〜２μｍ程度とされる。また、この幅は、通常
は画素間の幅よりもやや広くして、後工程で位置ずれ等
を生じてそれが表示に影響しないようにされる。

【００２３】本発明では、この凸部の上面にインクが残
存すると、平坦性や画素間の着色均一性が損なわれるこ
とから、凸部の上面が撥インク性にし、凹部はインクの
広がりを良くするために親インク性にしている。すなわ
ち、凸部の上面はインクをはじき、凸部の側面及び凹部
は親インク性を高めている。

【００２４】凸部の撥インク性の程度は、水系インクを
用いた場合、凸部の上面の撥水性が、水によって測定し
た接触角が９０〜１２０°であることが好ましい。これ
が９０°未満では凸部の上面にインクが残存しやすくな
り、１２０°超では画素の着色が阻害されやすくなる。
１００〜１１５°程度とすることが特に好ましい。

【００２５】凸部の側面は上面に比して撥インク性を低
くすることが好ましい。これは、特開平０６−３４７６
３７や、特開平０７−８４１２２のように、凸部の側面
まで撥インク性を有すると、吹きつけしたインクが凸部
の側面ではじかれるという問題を生じやすいためであ
る。

【００２６】凸部の上面と側面の撥インク性を調整する
ためには、凸部を形成する材料の撥インク性を考慮し
て、その上面又は側面の撥インク性を調整する処理剤で
処理すればよい。具体的には、凸部を形成する材料とし
て撥インク性が低い材料を用い、その上面のみを撥イン
ク処理剤で処理するとか、逆に凸部を形成する材料とし
て撥インク性の高い材料を用い、その側面のみを親イン
ク性の処理剤で処理する方法がある。その他の方法であ
っても、本発明の効果を損せず、凸部の上面と側面の撥
インク性を調整できる手段であれば使用できる。

【００２７】この撥インク性を調整する方法としては、
あらかじめ凸部自体がそのような撥インク性を生じるよ
うに２種類の材料を積層するなどして形成してもよい。
凸部以外の部分をレジストで覆って、凸部の上面のみ撥
インク処理してもよく、あらかじめ全上面を撥インク処
理してから、凸部をパターニングしてもよい。

【００２８】凸部を光硬化性樹脂を含む材料で全面塗
布、フォトリソ工程によりパターニングして形成する方
法がある。この場合には、コート液を基板へスピンコー
ト、ロールコート、スプレーコート、ダイコート等の方
法で膜付けする。次いで、この膜の上面を撥インク処理
剤で処理し、その後フォトリソ工程でパターンを形成す
ることにより、容易に凸部の上面のみに撥インク性を付
与できる。

【００２９】凸部がブラックマスクと兼用されている場
合には、基板上へ光硬化性樹脂と黒色顔料とを含む黒色
層を形成する工程、その黒色層の上面を撥インク処理剤
で表面処理する工程、フォトリソ工程により所望のブラ
ックマスクパターンに形成する工程という工程を含むこ
とになる。

【００３０】凸部に撥インク性を付与する撥インク処理
剤としては、使用するインクの性質により異なる。水系
インクを用いる場合には、シリコーン化合物、含フッ素
化合物が好ましく用いられ、例えばジメチルポリシロキ
サン、フッ素系界面活性剤、含フッ素アクリレートある
いはそれらを構成要素とするポリマー、含フッ素ケイ素
化合物等があげられる。

【００３１】なかでも、撥インク処理後に現像する場
合、その耐久性の面から、フッ素原子とケイ素原子を分
子中に含む化合物が好ましく、具体的には、Ｒ−Ｓｉ
（−Ｘ）（−Ｙ）−Ｚで表される化合物が好ましい。こ
れはケイ素の４本のうでにＲ−、Ｘ−、Ｙ−、Ｚ−の４
種類の基がついているものである。このＲ−はフッ素原
子を含む炭化水素基を表し、Ｘ−、Ｙ−、Ｚ−は夫々独
立して水酸基、メチル基、炭素数が１〜３のアルコキシ
基、塩素原子、又はイソシアネート基を表す。

【００３２】Ｒ−はＲ^f −Ｒ¹ −（ただしＲ^f −はパー
フルオロアルキル基、−Ｒ¹ −はアルキレン基。）で表
される基であることが好ましい。特に、−Ｒ¹ −が−Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂ −である化合物が好ましい。このような一般
的に含フッ素シランカップリング剤又は含フッ素イソシ
アネートシランと呼ばれる化合物が、充分な撥インク性
と被処理面への密着性を有することから好ましい。

【００３３】含フッ素イソシアネートシランについて
は、被処理面との密着性が高く特に好適である。また、
含フッ素シランカップリング剤においては、基材への反
応、定着性を高めるため、事前に加水分解を行い、末端
のアルコキシ基を水酸基に置換したり、さらに一部縮合
反応を起こさせて縮合体とした形でも用いうる。

【００３４】上記のＲ^f −は、水素原子が完全にフッ素
原子で置換されたパーフルオロアルキル基を示し、代表
的なものとしてＣＦ₃ −、Ｃ₆ Ｆ₁₃−、Ｃ₈ Ｆ₁₇−、Ｃ
₁₀Ｆ ₂₁−等があげられる。また、側鎖構造を有するもの
も使用できる。なかでも高い撥水性が得られるという観
点から、Ｃ₈ Ｆ₁₇−が特に好ましい。

【００３５】これらの化合物で撥インク処理を施す場
合、溶媒によって希釈してスピンコート、スプレーコー
ト、ロールコート、ダイコート、ディップコート等の方
法で塗布し、乾燥する方法がとられる。該溶媒には完全
フッ素化化合物を用いることが好ましい。この処理が行
われる工程では、凸部を形成する光硬化性樹脂が未硬化
であり、凸部を形成する樹脂に悪影響を与えないように
する必要がある。このため、光硬化性樹脂に悪影響を与
えないパーフルオロオクタン、パーフルオロ（２−ブチ
ルテトラヒドロフラン）、パーフルオロ（トリブチルア
ミン）等の完全フッ素化化合物の溶媒を用いることが好
ましい。

【００３６】また、この処理剤の処理層の厚さは処理剤
１分子から数分子にあたる厚みがあれば充分である。

【００３７】本発明において、特に、含フッ素イソシア
ネートシランを用いた場合、非常に高い撥水性が得られ
るが、その高い撥水性によって洗浄が阻害される場合が
ある。すなわち、現像によって剥離した未硬化の凸部形
成材料の不要部分が洗浄液で流されずに、凸部のパター
ン上に再付着する場合がある。これを避ける方法とし
て、現像後の基板を温水中に浸漬し、これを冷水中で冷
却する方法がある。これによって、凸部の表面の撥水性
を一時的に抑制でき、この状態で洗浄を行うことによっ
て良好な洗浄性を確保できる。

【００３８】低下した撥水性は、空気中で再度加熱すれ
ば回復する。通常は、引き続いて行われる焼成工程にお
いて、空気中で加熱されることで回復できる。基板を浸
漬する温水の温度は４０〜８０℃が好ましく、４０℃未
満では撥水性抑制の効果が少なく、８０℃超では凸部が
膨潤しやすくなる。５０〜７０℃が特に好ましい。

【００３９】凹部は親インク処理剤により表面処理して
親インク性とされる。その親インク性の程度は、水系イ
ンクを用いた場合、凹部の基板の親インク性が水によっ
て測定した接触角が３０°以下であることが好ましい。
これが３０°より大きいと凹部でのインクの広がりが悪
くなり画素コーナー部で色抜けが生じやすくなる。特に
２０°以下にすることが好ましい。

【００４０】基板としてソーダライムガラス基板を用い
た場合には、多数の基板を流すと汚れによると思われる
が、凹部でのインクのはじきが生じることがあり、凹部
を上記のような水の接触角とすることにより、このはじ
きが減少する。また、無アルカリガラス基板を用いた場
合には、何故かソーダライムガラス基板を用いた場合よ
りもはじきが生じやすくなったが、基板の凹部の水の接
触角を上記の範囲にすれば、そのはじきが大幅に減少す
る。

【００４１】図２は、このはじきを生じた状況を模式的
に表した断面図である。図２において、１１は基板、１
２はその上に形成された凸部、１６はその凸部の間の凹
部に吹きつけられた着色層を示す。この凸部１２の全体
が強い撥インク性を有し、凹部が充分な親水性を有さな
いと、図２に示すように、吹きつけたインクが凸部によ
りはじかれ、凹部の中央部分は厚くなるが、周辺部分に
はインクが充分に付着せず薄くなる。

【００４２】凹部を親インク性にする方法としては、親
インク処理剤を基板へスピンコート、ロールコート、ス
プレーコート、ダイコート等の方法で膜付けする。凸部
上面は撥インク処理剤で処理されているので容易に凹部
の基板の上面のみ親インク性を付与できる。

【００４３】本発明に用いられる親インク処理剤として
は、使用するインクの性質により異なる。水系インクを
用いる場合には、親水性のシリコーン化合物、含フッ素
化合物が好ましく、例えば、シリコン系界面活性剤、シ
リコン系レベリング剤、フッ素系界面活性剤、フッ素系
レベリング剤、ノニオン系、アニオン系の界面活性剤等
で親水性基を有する化合物があげられる。

【００４４】これらの化合物で親インク処理を施す場
合、溶媒によって希釈してスピンコート、スプレーコー
ト、ロールコート、ダイコート、ディップコート等の方
法で塗布し、乾燥する方法がとられる。溶媒は有機溶
剤、水など特に限定されないが、水系溶媒を用いること
が好ましい。

【００４５】本発明ではインクジェット方式を着色方法
として用いる。インクジェット方式としては、帯電した
インクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧
電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インク
を加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、
各種の方法を採用できる。

【００４６】用いるインクは油性、水性ともに使用で
き、表面張力の関係から水をベースにした水系インクの
使用がより好ましい。また、そのインクに含まれる着色
材は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料
の使用がより好ましい。

【００４７】本発明のインクには、着色後の工程を考慮
し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギ
ー線によって硬化する成分を添加することもできる。加
熱によって硬化する成分としては各種の熱硬化性樹脂が
広く用いられ、またエネルギー線によって硬化する成分
としては例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート
誘導体に光反応開始剤を添加したものを例示できる。特
に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基
を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのア
クリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のも
のが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルシ
ョン化するなどして使用できる。

【００４８】本発明では、インクジェット方式で通常は
ＲＧＢ３色のインクを吹きつけて３色のカラーフィルタ
を形成する。このカラーフィルタは、液晶表示素子、電
気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬ
ＺＴ等と組合せて表示素子として用いられる。カラーカ
メラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用で
きる。

【００４９】図３は、液晶表示素子に使用した場合の例
を示す模式的な断面図である。図３において、２１は基
板、２２は凸部、２３は着色層、２４はその表面を覆う
樹脂等による平坦化層、２５はＩｎ₂ Ｏ₃ −ＳｎＯ₂
（ＩＴＯ）、ＳｎＯ₂ 等の電極、２６はポリイミド、ポ
リアミド、ＳｉＯ等の配向膜、２７は他方の基板、２８
は他方の電極、２９は配向膜、３０はその電極間に挟ま
れる液晶層である。必要に応じて、この液晶セルの外側
に偏光膜、反射板、位相差板、光源等を配置して液晶表
示素子として用いうる。

【００５０】

【実施例】

例１ 無アルカリガラス基板に、黒色に着色されたフォトレジ
スト（新日鉄化学社製Ｖ−２５９ＢＫ）をスピンコート
法により目標膜厚１．５μｍとなるように塗布し、８０
℃で５分間加熱処理した。撥インク処理剤であるＣ₈ Ｆ
₁₇−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（−ＯＣＨ₃ ）₃ （東芝シリコーン
社製ＴＳＬ−８２３３）をメタノールで希釈し、若干量
の水分を加えた。

【００５１】これを一晩放置した後、パーフルオロ（２
−ブチルテトラヒドロフラン）で有効成分を抽出し、
０．２５重量％に希釈し、フォトレジスト膜上にスピン
コート法により塗布し、１００℃で５分間加熱した。こ
の基板にフォトマスクを介して１００ｍＪ露光し、指定
現像液に３０秒浸漬し、冷水で洗浄後、２３０℃で１時
間ポストキュアを行い、ブラックマスク兼用の高さが約
１．５μｍ、幅が約３０μｍの凸部を有する基板を得
た。

【００５２】この基板に３重量％のフロラードＦＣ−１
７０Ｃ（住友スリーエム社製）水溶液を用いてスピンコ
ート法により塗布し、その後１００℃で５分間加熱し、
凹部の基板上のみに親インク処理剤を０．１μｍ有する
基板を得た。

【００５３】この基板の凸部に囲まれた凹部に対し、イ
ンクジェット法で水系顔料インクを用いて吹きつけを行
いストライプ状のＲＧＢのカラーフィルタを得た。この
結果を表１に示す。

【００５４】例２ 撥インク処理剤のＣ₈ Ｆ₁₇−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（−ＮＣ
Ｏ）₃ をパーフルオロ（トリブチルアミン）で０．０５
重量％に希釈して用いた他は例１と同様にしてカラーフ
ィルタを形成した。この結果を表１に示す。

【００５５】例３ 例２の現像工程後に、６０℃の温水に３０秒浸漬し、直
ちに冷水で冷却した後、冷水で洗浄し、２３０℃で１時
間ポストキュアを行い、カラーフィルタを形成した。こ
の結果を表１に示す。例２では洗浄時に剥離部分の再付
着現象が見られ、歩留りが例３に比して低かった。

【００５６】例４ 比較例として、親インク処理をしない以外は例１と同様
の方法でカラーフィルタを形成した。この結果を表１に
示す。画素内でインクが充分広がらないため凹部周辺で
のはじきを生じてコーナー部に色抜けが生ずるところが
あった。

【００５７】

【表１】

【００５８】なお、表１の結果において、「○」はいず
れもそれらの欠点のないもの（良品）を、「×」はその
ような欠点を生じたもの（不良品）を表す。

【００５９】例５〜８ 例１〜４のガラス基板をソーダライムガラス基板に変え
て、カラーフィルタを形成した。その結果、親水処理を
行った例５〜７は表１の例１〜３と同様の結果を得た。
親水処理を行わない例８については、凹部周辺でのはじ
きを生じないものも得られた。しかし、凹部周辺でのは
じきを生じるものもかなりあり、歩留りが例５〜７に比
してかなり低かった。

【００６０】例９ カラーフィルタのパターンをドット状にした他は例１と
同様にして、モザイク状にＲＧＢの色が配置されたカラ
ーフィルタを製造した。このカラーフィルタの特性は例
１と同様であった。

【００６１】例１及び例５のカラーフィルタ上に樹脂の
平坦化層を形成し、ＩＴＯを形成し、それをパターニン
グし、さらに樹脂の配向膜を形成し、ラビングして第１
の基板を形成した。次いで、ガラス基板上にＩＴＯを形
成し、それをパターニングし、さらに樹脂の配向膜を形
成し、ラビングして第２の基板を形成した。この第１の
基板と第２の基板とを電極面が相対向するように配置し
て、周辺をシールして空セルを形成した。

【００６２】これらの空セル内にネマチック液晶を注入
し、注入口を封止して液晶セルを形成した。この液晶セ
ルの両側に位相差板と偏光板を配置してＦＳＴＮ型の液
晶表示素子を製造した。これらの液晶表示素子は、いず
れも美しいカラー表示が可能であった。

【００６３】例９のカラーフィルタ上に樹脂の平坦化層
を形成し、ＩＴＯを形成し、さらに樹脂の配向膜を形成
し、ラビングして第１の基板を形成した。次いで、薄膜
トランジスタを設けたガラス基板上に樹脂の配向膜を形
成し、ラビングして第２の基板を形成した。この第１の
基板と第２の基板とを電極面が相対向するように配置し
て、周辺をシールして空セルを形成した。

【００６４】この空セル内にネマチック液晶を注入し、
注入口を封止して液晶セルを形成した。この液晶セルの
両側に偏光板を配置してアクティブマトリクス型の液晶
表示素子を製造した。この液晶表示素子は、美しいカラ
ー表示が可能であった。

【００６５】

【発明の効果】本発明は、生産性の良いインクジェット
方式でインクを吹きつけてカラーフィルタを製造する際
に、凸部の上にインクが付着しにくく、かつ凹部でのイ
ンクの広がりに優れるため画素内での色抜けを生じにく
い。

【００６６】また、本発明によれば、画素内での着色層
の厚みが均一にしやすいので、カラーフィルタの平坦性
が向上し、液晶セルにした際に、基板間隙を均一にしや
すい。これは、液晶表示素子としての表示性能を向上さ
せうる。

【００６７】本発明は、本発明の効果を損しない範囲内
で種々の応用ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの模式的な断面図。

【図２】従来例のインク吹きつけ時の状況を示す模式的
な断面図。

【図３】本発明のカラーフィルタを用いた液晶表示素子
の模式的な断面図。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上にその上面が撥インク性を有する凸
   部を形成し、その凸部により区切られた凹部にインクジ
   ェット方式によってインクを吹きつけて凹部にインクを
   堆積させて着色層を形成するカラーフィルタの製造方法
   において、凹部を親インク処理剤により表面処理した基
   板を用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方
   法。
2. 【請求項２】基板上にその上面が撥インク性を有する凸
   部を形成し、その凸部により区切られた凹部にインクジ
   ェット方式によって水系インクを吹きつけて凹部にイン
   クを堆積させて着色層を形成するカラーフィルタの製造
   方法において、凹部の親インク性が水の接触角で２０°
   以下であるようにしたことを特徴とするカラーフィルタ
   の製造方法。
3. 【請求項３】凸部が、ブラックマスクと兼用されている
   ことを特徴とする請求項１又は２記載のカラーフィルタ
   の製造方法。
4. 【請求項４】水系インクを用い、凹部の表面に親インク
   性を付与する親インク処理剤が水溶性のレベリング剤又
   は水溶性の界面活性剤であることを特徴とする請求項
   １、２又は３記載のカラーフィルタの製造方法。
5. 【請求項５】基板上に凸部を形成後、その上面を撥イン
   ク処理剤で表面処理し撥インク性を付与することを特徴
   とする請求項１、２、３又は４記載のカラーフィルタの
   製造方法。
6. 【請求項６】請求項１、２、３、４又は５記載の製造方
   法により形成されたカラーフィルタを用いた液晶表示素
   子。