JP2007005056A - 有機el装置、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板102上に、画素電極108を形成する工程と、画素電極108が形成された基板102上に、画素電極108を囲む、上面の少なくとも一部が撥液性を有し、側面が親液性を有する隔壁10を形成する工程と、隔壁10で囲まれた画素電極108上に、液体材料を滴下し溶媒を除去することにより、少なくとも発光層124を含む機能層126を形成する工程と、機能層126が形成された基板102上に陰極層128を形成する工程と、を含む。それにより機能層膜厚のばらつきを起こしにくくし、色むら、輝度むら等の発生を抑制できる。
【選択図】 図14
Description
図1〜図5は本発明の概要を示す、完成前の有機EL装置の断面図であり、画素電極、及び機能層等を図示したものである。基板102上に、ゲート電極103で制御されるTFT104が形成されており、さらに、層間絶縁膜としてのシリコン酸化膜105の所定の位置に形成されたコンタクトホール106を介して、TFT104と導通する画素電極108が形成されている。
図6〜図14に、本発明にかかる有機EL装置の製造方法の第1の実施形態を示す。まず、図6に示すように、透明基板(以下、基板と称する。)102上に、ゲート電極103を含むスイッチング素子としての薄膜トランジスタ(以下、TFTと称する。)104を形成し、その上面に(基板全面に)層間絶縁膜としてのシリコン酸化膜105を形成する。そして、TFT104上の所定の位置に、シリコン酸化膜105を選択的に除去してコンタクトホール106を形成し、コンタクトホール106を介してTFT104と導通する画素電極108をITO(酸化インジウム・スズ合金)で形成する。さらに基板全面に有機材料層としてポリイミド膜110を形成する。
図15〜図18に、本発明に係る有機EL装置の製造方法の第2の実施形態を示す。なお、各図において図6〜図14と共通する構成要素には同一の符号を付している。
図19〜図29に、本発明に係る有機EL装置の製造方法の、第3の実施形態を示す。各図において、図6〜図14と共通する構成要素には同一の符号を付している。
図30〜図37に、本発明にかかる有機EL装置の製造方法の、第4の実施形態を示す。以下、図に基づいて、第4の実施形態による有機EL装置の製造方法を説明する。なお、各図において図6〜図14、及び図19〜図29と共通する構成要素には同一の符号を付している。
図38〜図48に、本発明にかかる有機EL装置の製造方法の、第5の実施形態を示す。工程は第4の実施形態と近似しているが、第2のシリコン酸化膜302の膜厚が非常に厚い点が異なっている。以下、図に基づいて、第5の実施形態による有機EL装置の製造方法を説明する。なお、各図において、図6〜図14、及び図19〜図29と共通する構成要素には同一の符号を付している。
Claims (14)
- 基板上に、画素電極を形成する工程と、
前記画素電極を囲むように、表面の少なくとも一部が撥液性を有し、かつ、前記表面の他の一部が親液性を有する隔壁を形成する工程と、
前記画素電極上に、液体材料を滴下し乾燥させることにより、少なくとも発光層を含む機能層を形成する工程と、
前記機能層が形成された前記基板上に陰極層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 前記隔壁を形成する工程が、前記基板上の全面に有機材料層を形成し、前記有機材料層をパターニングすることにより行われる工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置の製造方法。
- 前記隔壁を形成する工程が、前記有機材料層をパターニングする前に、前記有機材料層表面に撥液性がより高くなるような条件下でのプラズマ処理を施すことにより行われる工程を含むことを特徴とする請求項2に記載の有機EL装置の製造方法。
- 前記隔壁を形成する工程が、前記有機材料層をパターニングして前記隔壁を形成した後に、前記隔壁の上面の少なくとも一部に撥液性がより高くなるような条件下でのプラズマ処理を施すことにより行われる工程を含むことを特徴とする請求項2に記載の有機EL装置の製造方法。
- 前記隔壁形成後、前記機能層を形成する前に、前記基板上に酸素プラズマ処理を施す工程を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。
- 基板上に、画素電極を形成する工程と、
前記画素電極の周囲に、少なくとも有機材料で構成される最上層と、無機材料で構成される最下層とを含む、複数の層からなる隔壁を形成する工程と、
前記有機材料層の表面の一部または全体が撥液性になるような処理を施す工程と、
前記画素電極上に、液体材料を滴下し乾燥させることにより、少なくとも発光層を含む機能層を形成する工程と、
前記機能層が形成された前記基板上に陰極層を形成する工程と、
を含み、
前記無機材料層の膜厚を、前記機能層の膜厚よりも厚く形成することを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 前記無機材料層を、滴下直後の前記液体材料の液面高さよりも厚く形成することを特徴とする請求項6に記載の有機EL装置の製造方法。
- 前記無機材料層の膜厚を、前記有機材料層の膜厚よりも厚く形成することを特徴とする請求項6又は7に記載の有機EL装置の製造方法。
- 前記複数の層を一括してパターニングすることにより、前記隔壁を形成する工程を含むことを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。
- 前記複数の層からなる隔壁の形成が、少なくとも1層を、その上の層が形成される前にパターニングすることにより行われることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。
- 前記隔壁の形成後、前記機能層を形成する前に、前記基板全面に酸素プラズマ処理を施す工程を含むことを特徴とする請求項6乃至10のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。
- 基板上に配置された画素電極と、
前記画素電極の周囲を囲む隔壁と、
少なくとも発光層を含む機能層と、
前記機能層を介して前記画素電極に対向する対向電極と、
を有する有機EL装置であって、
前記隔壁の表面の少なくとも一部が撥液性を有し、前記隔壁の表面の少なくとも前記機能層と接している部分が親液性を有していることを特徴とする有機EL装置。 - 前記隔壁が、少なくとも最上層と最下層を含む複数の層で形成されていることを特徴とする請求項12記載の有機EL装置。
- 基板上に配置された画素電極と、
前記画素電極の周囲を囲む隔壁と、
少なくとも発光層を含む機能層と、
前記機能層を介して前記画素電極に対向する対向電極と、
を有する有機EL装置であって、
前記最上層の表面は撥液性を有し、前記最下層の表面は親液性を有し、前記最下層の膜厚が前記機能層の膜厚よりも厚いことを特徴とする有機EL装置。
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Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008299323A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Palo Alto Research Center Inc | 印刷及び表面エネルギ制御によるカラーフィルタ製造方法 |
JP2009026671A (ja) * | 2007-07-23 | 2009-02-05 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法 |
JP2009081035A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置及びその製造方法 |
WO2009113239A1 (ja) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | パナソニック株式会社 | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 |
JP2010033925A (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機薄膜パターニング用基板およびその製造方法、有機電界発光素子およびその製造方法、並びに有機el表示装置および有機el照明 |
JP2010073340A (ja) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機電界発光素子、有機el表示装置、有機el照明および有機薄膜パターニング用基板 |
JP2010101994A (ja) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、及びカラーフィルタ |
US8154032B2 (en) | 2007-07-23 | 2012-04-10 | Seiko Epson Corporation | Electrooptical device, electronic apparatus, and method for producing electrooptical device |
JP2018110109A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-12 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 電界発光表示装置及びその製造方法 |
JP2019102337A (ja) * | 2017-12-05 | 2019-06-24 | キヤノン株式会社 | 有機el素子及びその製造方法 |
KR20200041689A (ko) * | 2018-10-12 | 2020-04-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시장치 |
CN112310332A (zh) * | 2020-10-22 | 2021-02-02 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | Oled显示面板制备方法和oled显示面板 |
KR20220132490A (ko) * | 2019-08-21 | 2022-09-30 | 시앤양 차이훙 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 | 표시 패널의 제조 방법, 표시 패널 및 표시장치 |
JP7511183B2 (ja) | 2020-09-17 | 2024-07-05 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 機能デバイス、および、機能デバイスの製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09203803A (ja) * | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Asahi Glass Co Ltd | カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 |
JPH11317288A (ja) * | 1998-04-30 | 1999-11-16 | Toyota Motor Corp | 有機elディスプレイパネルの製造方法 |
JP2002062422A (ja) * | 2000-08-14 | 2002-02-28 | Canon Inc | 光学素子とその製造方法、液晶素子 |
JP2002237383A (ja) * | 2000-03-31 | 2002-08-23 | Seiko Epson Corp | 有機el素子の製造方法、有機el素子 |
JP2003332080A (ja) * | 2002-05-07 | 2003-11-21 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセント素子およびその製造方法 |
-
2005
- 2005-06-22 JP JP2005181567A patent/JP2007005056A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09203803A (ja) * | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Asahi Glass Co Ltd | カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 |
JPH11317288A (ja) * | 1998-04-30 | 1999-11-16 | Toyota Motor Corp | 有機elディスプレイパネルの製造方法 |
JP2002237383A (ja) * | 2000-03-31 | 2002-08-23 | Seiko Epson Corp | 有機el素子の製造方法、有機el素子 |
JP2002062422A (ja) * | 2000-08-14 | 2002-02-28 | Canon Inc | 光学素子とその製造方法、液晶素子 |
JP2003332080A (ja) * | 2002-05-07 | 2003-11-21 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセント素子およびその製造方法 |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008299323A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Palo Alto Research Center Inc | 印刷及び表面エネルギ制御によるカラーフィルタ製造方法 |
JP2014238600A (ja) * | 2007-05-30 | 2014-12-18 | パロ・アルト・リサーチ・センター・インコーポレーテッドPalo Alto Research Center Incorporated | 印刷及び表面エネルギ制御によるカラーフィルタ製造方法 |
JP2009026671A (ja) * | 2007-07-23 | 2009-02-05 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電子機器、電気光学装置の製造方法 |
US8154032B2 (en) | 2007-07-23 | 2012-04-10 | Seiko Epson Corporation | Electrooptical device, electronic apparatus, and method for producing electrooptical device |
JP2009081035A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置及びその製造方法 |
WO2009113239A1 (ja) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | パナソニック株式会社 | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 |
JP4460643B2 (ja) * | 2008-03-13 | 2010-05-12 | パナソニック株式会社 | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 |
KR100990262B1 (ko) * | 2008-03-13 | 2010-10-26 | 파나소닉 주식회사 | 유기 el 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 |
EP2254394A1 (en) * | 2008-03-13 | 2010-11-24 | Panasonic Corporation | Organic el display panel and manufacturing method thereof |
EP2254394A4 (en) * | 2008-03-13 | 2011-03-16 | Panasonic Corp | ORGANIC EL DISPLAY BOARD AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
JPWO2009113239A1 (ja) * | 2008-03-13 | 2011-07-21 | パナソニック株式会社 | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 |
US8130177B2 (en) | 2008-03-13 | 2012-03-06 | Panasonic Corporation | Organic EL display panel and manufacturing method thereof |
JP2010033925A (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-12 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機薄膜パターニング用基板およびその製造方法、有機電界発光素子およびその製造方法、並びに有機el表示装置および有機el照明 |
JP2010073340A (ja) * | 2008-09-16 | 2010-04-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機電界発光素子、有機el表示装置、有機el照明および有機薄膜パターニング用基板 |
JP2010101994A (ja) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、及びカラーフィルタ |
JP2018110109A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-12 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 電界発光表示装置及びその製造方法 |
JP2019102337A (ja) * | 2017-12-05 | 2019-06-24 | キヤノン株式会社 | 有機el素子及びその製造方法 |
JP7013218B2 (ja) | 2017-12-05 | 2022-01-31 | キヤノン株式会社 | 有機el素子、有機el素子の製造方法、有機el装置 |
KR20200041689A (ko) * | 2018-10-12 | 2020-04-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시장치 |
KR102640196B1 (ko) * | 2018-10-12 | 2024-02-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시장치 |
KR20220132490A (ko) * | 2019-08-21 | 2022-09-30 | 시앤양 차이훙 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 | 표시 패널의 제조 방법, 표시 패널 및 표시장치 |
KR102654412B1 (ko) * | 2019-08-21 | 2024-04-02 | 시앤양 차이훙 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 | 표시 패널의 제조 방법, 표시 패널 및 표시장치 |
JP7511183B2 (ja) | 2020-09-17 | 2024-07-05 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 機能デバイス、および、機能デバイスの製造方法 |
CN112310332A (zh) * | 2020-10-22 | 2021-02-02 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | Oled显示面板制备方法和oled显示面板 |
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