JPH09230129A

JPH09230129A - カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子

Info

Publication number: JPH09230129A
Application number: JP3840596A
Authority: JP
Inventors: Takafumi Hasegawa; 隆文長谷川; Akihiko Tashiro; 彰彦田代; Yasushi Nonaka; 寧野中; Toshihiro Tanuma; 敏弘田沼
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1996-02-26
Filing date: 1996-02-26
Publication date: 1997-09-05

Abstract

(57)【要約】【課題】インクジェット法でカラーフィルタを形成する
場合に、画素部分で均一な厚みの着色層が得られ、画素
内でのインクの広がりを良くし、画素内での色抜けが生
じないようにする。【解決手段】水系インクを用い、紫外線照射を行うこと
により、画素を区切る凸部２の上面４の撥インク性を水
の接触角で９０°以上とし、凹部の親インク性を水の接
触角で２０°以下とすることにより、画素周辺での色抜
けのないカラーフィルタを得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に凸部を形
成し、その凸部に囲まれた凹部をインクジェット方式で
着色することによるカラーフィルタの製造方法及びそれ
を用いた液晶表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子用のカラーフィルタは各種
の製造方法が提案されている。特に、基板のセル内壁側
に着色層を形成してカラーフィルタを製造する方法には
いくつかの方法が知られている。

【０００３】例えば、着色インクをオフセット印刷法等
によりパターン印刷し、着色層を形成する方法がある
が、印刷パターンの精細化には限界があり、生産歩留ま
りの低下等の問題がある。

【０００４】また、着色された紫外線硬化性インクを基
板上に全面塗布し、フォトリソ法によりカラーフィルタ
パターンを作成する方法として顔料分散法がよく使用さ
れている。しかし、顔料分散法では、赤、緑、青の三原
色のカラーフィルタを作成するためには、塗布、紫外線
照射、現像工程を３回行うことを要し、製造工程上きわ
めて煩雑である。

【０００５】その他、電着塗装法を利用したカラーフィ
ルタの製造方法では、電着塗装される部分にあらかじめ
パターン状の透明電極を作成しておき、３色のカラーフ
ィルタを製造する。このために、順次夫々に対応する電
極に通電し、透明電極上にカラーフィルタ膜を形成す
る。この方法では３回の電着操作を必要とするうえ、色
の重なりによる混色を防ぐ操作を要し、また、３色に対
応する透明電極を要するため、最終的な液晶表示セルが
電極の形状の制限をうけることもある。

【０００６】これらの問題を解決した合理的なカラーフ
ィルタの製造方法として、特開昭５９−７５２０５に
は、インクジェット方式で着色インクを吹きつけして着
色層を形成することが提案されている。インクジェット
方式で着色を行う場合、その液滴径が数十μｍであり、
一方、カラーフィルタの画素はおおむね短辺数十μｍ、
長辺数百μｍ程度である。このことから、ガラス基板に
あらかじめ画素を規定する区画を設け、この中へインク
ジェット方式でインクを吹き付け区画内にインクを拡げ
ることで均一な画素を得ることができる。

【０００７】前記提案には、ガラス基板に対し濡れ性の
良いインクを用いる場合には、インクに対して濡れ性の
悪い物質であらかじめ境界となる凸部を印刷しておく方
法が記載されている。また、ガラスに対して濡れ性の悪
いインクを使う場合には、インクとの濡れ性の良い材料
であらかじめガラスにパターンを形成しておきインクが
定着するのを助ける方法が提案されている。さらに特開
平６−３４７６３７ではインクに対して画素部は濡れや
すく、ブラックマスクは濡れにくい組み合わせを用いる
ことが提案されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ブラックマス
クを形成する際の種々の汚染によって、画素部分の充分
な親水性が得られない場合が多い。通常、ブラックマス
クはレジスト保護膜を用いたエッチングで形成したり、
ブラックマスクを形成する材料に感光性を持たせてフォ
トリソによってパターニングする方法が用いられる。し
かし、エッチング液又は現像液によって、不要部分が完
全に剥離せず、ガラス面の親水性を損なうことがある。

【０００９】特に、ブラックマスクに撥インク性を付与
する場合には、撥インク物質を用いるために、かすかな
汚染でもインクと基材の親和性を大きく損ないやすい。
このように画素部が充分に親インク性になっていない
と、インクが凹部で充分拡がらず、画素周辺部で色抜け
しやすいという問題を生じる。このカラーフィルタを液
晶表示素子等に用いた場合、色ムラが生じたり、着色不
良による光の漏れによるコントラストの低下を生じたり
するという問題がおきやすかった。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、前述の問題を
解決すべくなされたものであり、基材上に凸部を形成
し、その凸部により区切られた凹部にインクジェット方
式によってインクを吹きつけて凹部にインクを堆積させ
て着色層を形成するカラーフィルタの製造方法におい
て、凸部を形成後、エネルギー線を照射することより凹
部の親インク性を制御し、その後インクジェット方式に
よってインクを吹きつけることを特徴とするカラーフィ
ルタの製造方法を提供する。

【００１１】また、そのエネルギー線を照射する処理に
より、凹部の水の接触角が２０°以下となるようにされ
るカラーフィルタの製造方法、及び、それらの凸部が、
ブラックマスクと兼用されているカラーフィルタの製造
方法、及び、それらのエネルギー線を基板の凸部が形成
されているのと反対側の面から照射するカラーフィルタ
の製造方法、及びそれらのエネルギー線を基板の両面か
ら照射し、その夫々の照射量を凸部の撥インク性と凹部
の親インク性とが所望の値になるように制御するカラー
フィルタの製造方法を提供する。

【００１２】さらに、それらの凸部の表面が、ＲＳｉＸ
ＹＺ（Ｒはフッ素原子を含む炭化水素基を表し、Ｘ、
Ｙ、Ｚはそれぞれ独立して水酸基、メチル基、炭素数が
１〜３のアルコキシ基、塩素原子、又はイソシアネート
基を表す）で表される化合物を含む処理剤によって撥イ
ンク処理を施されているカラーフィルタの製造方法を提
供する。

【００１３】さらには、それらの製造方法により形成さ
れたカラーフィルタを用いた液晶表示素子を提供する。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタの製造方
法では、先ず基板上に凸部、好ましくはブラックマスク
による凸部をあらかじめ形成する。その凸部により区切
られた凹部をエネルギー線の照射により親インク性に
し、その後、インクジェット方式にて着色インクを吹き
つけして着色層を形成してカラーフィルタを形成する。

【００１５】図１は、本発明のカラーフィルタを模式的
に示す断面図である。図１において、１は基板、２は凸
部、３は凸部と凸部により区切られた凹部、４は凸部の
上面、５は凸部の側面、６は凹部に吹きつけ堆積されて
形成された着色層を示す。一番右端の凹部３のみは説明
をわかりやすくするために、着色層が形成されていない
状態で示してある。

【００１６】この図では、わかりやすくするために凸部
を４個、凹部を３個のみ示しているが、これは必要な数
設けられる。例えば、ストライプ状のカラーフィルタの
場合であって、６４０画素分必要な場合には、１画素当
りＲＧＢの３個のカラーフィルタが必要なので、凸部は
１９２１個、凹部は１９２０個必要になる。液晶表示素
子では基板間隙の精密性から表示を行わない表示画素の
周辺までカラーフィルタパターンを形成することもあ
り、その場合にはもっと増えることになる。

【００１７】ストライプ状のパターンの場合には、長手
方向には凸部が形成されなくてもよいが、画素の周囲を
完全に凸部で囲むこともある。特に、モザイク状のカラ
ーフィルタの場合には、画素の周囲は凸部で囲まれる。

【００１８】本発明における基板には、一般的には耐熱
性の面からガラス基板が用いられる。また、この基板に
は通常は透明基板を用いるが、反射性の基板や白色に着
色したような基板でも本発明は適用できる。この基板
は、必要に応じてアルカリ溶出防止用やガスバリア性付
与その他の目的の表面処理を施したものも用いうる。

【００１９】本発明で着色層を区切るための凸部は、基
板上に線状や格子状に形成される。この凸部の形状は、
それにより区切られた凹部が画素に対応するようにされ
ればよい。例えば、ストライプ状のカラーフィルタを形
成する場合には線状に形成され、四角の画素に対応させ
るためには格子状に形成される。これは、画素の形状に
より適宜定められるので、放射状、円周状等種々の形状
も考えられる。

【００２０】この凸部は、液晶表示素子等ではブラック
マスクを兼用させることが有利である。このため、以下
の説明では、凸部がブラックマスクと兼用される例に基
づいて説明するが、ブラックマスクとしない場合には、
それから黒色の材料や金属遮光層を使用しないようにす
ればよい。

【００２１】ブラックマスクによる凸部の形成方法とし
ては、例えば、金属クロム膜や、金属クロムと酸化クロ
ムを積層したもの、又はカーボンブラック等の黒色顔料
と樹脂からなる黒色層を形成し、これらにフォトレジス
トを塗布、画素部のレジストをフォトリソ法で取り除
き、エッチングによって金属クロム等の層を取り除く方
法がある。また、よりコスト的に有利な方法としてカー
ボンブラックなどの黒色顔料と光硬化性樹脂を含む材料
による黒色膜を形成し、これをフォトリソ法によって所
望のパターンにパターン化する方法がある。

【００２２】本発明では、ある程度の高さの凸部を所望
のパターンに形成できる公知の種々のブラックマスクの
形成法が使用できる。薄膜のブラックマスクと厚膜の樹
脂層とを積層して凸部を形成してもよい。

【００２３】本発明における凸部は、インクジェット法
によって着色する際に、吹きつけたインクが他の画素に
流れ込んだり滲んだりすることを防止する役割を果た
す。したがって、この凸部の高さはある程度高いことが
好ましいが、カラーフィルタとした場合の全体の平坦性
が高いことも要求されるので、着色層の厚さに近い高さ
が選択される。

【００２４】具体的には、所望の着色を得るのに必要な
吹きつけするインクの堆積量によっても異なるが、通常
は０．１〜２μｍ程度とされる。この凸部の上面にイン
クが残存すると、平坦性や画素間の着色均一性が損なわ
れるため、凸部を撥インク性にし、凹部はインクの拡が
りを良くするために親インク性にすることが好ましい。
すなわち、凸部はインクをはじき、凹部の基板は親イン
ク性を高めている。

【００２５】その親インク性の程度は、水系インクを用
いた場合、凹部の基板の親インク性が水によって測定し
た接触角が２０°以下であることが好ましい。これが２
０°より大きいと、凹部でのインクの拡がりが悪くなり
やすくなり、画素周辺部で色抜けが生じやすくなる。特
に１０°以下にすることが好ましい。

【００２６】また、凸部の撥インク性は、その水の接触
角が９０°以上とすることが好ましく、隣接画素へのイ
ンクの流出や凸部上へのインクの残存を防止しやすくな
り、好ましい。通常は、９０〜１２０°程度にすればよ
い。

【００２７】凸部に撥インク性を付与する方法として
は、凸部形成材料に感光性材料を用いて、ガラス上にこ
れを塗布した上に、撥インク処理することが好ましい。
特に、撥インク処理剤として、ＲＳｉＸＹＺで表される
化合物を含む処理剤を用いることが好ましい。

【００２８】ただし、Ｒはフッ素原子を含む炭化水素基
を表し、Ｘ、Ｙ、Ｚは夫々独立して水酸基、メチル基、
炭素数が１〜３のアルコキシ基、塩素原子、又はイソシ
アネート基を表す。

【００２９】これはケイ素の４本の結合手にＲ、Ｘ、
Ｙ、Ｚの４種類の基がついているものである。より好ま
しくは、Ｒ−がＲ^f −Ｒ¹ −である。ここでＲ^f −はパ
ーフルオロアルキル基、−Ｒ¹ −はアルキレン基を表
す。特に、−Ｒ¹ −が−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −の化合物が好ま
しい。このような一般的に含フッ素シランカップリング
剤又は含フッ素イソシアネートシランと呼ばれる化合物
が、充分な撥インク性と被処理面への密着性を有するこ
とから好ましい。

【００３０】含フッ素イソシアネートシランについて
は、被処理面との密着性が高く特に好適である。また、
含フッ素シランカップリング剤においては、基材への反
応、定着性を高めるため、事前に加水分解を行い、末端
のアルコキシ基を水酸基に置換したり、さらに一部縮合
反応を起こさせて縮合体とした形でも用いうる。

【００３１】上記のＲ^f −は、水素原子が完全にフッ素
原子で置換されたパーフルオロアルキル基を示し、代表
的なものとしてＣＦ₃ −、Ｃ₆ Ｆ₁₃−、Ｃ₈ Ｆ₁₇−、Ｃ
₁₀Ｆ₂₁−等があげられる。また、側鎖構造を有するもの
も使用できる。なかでも高い撥水性が得られるという観
点から、Ｃ₈ Ｆ₁₇−が特に好ましい。

【００３２】これらの化合物で撥インク処理を施す場
合、溶媒によって希釈してスピンコート、スプレーコー
ト、ロールコート、ダイコート、ディップコート等の方
法で塗布し、乾燥する方法がとられる。

【００３３】凸部を形成する樹脂が未硬化の状態で撥イ
ンク処理を施す場合、即ち凸部のパターニング前に撥イ
ンク処理を施す場合には、凸部を形成する樹脂に悪影響
を与えないようにする必要がある。このため、この凸部
を形成する樹脂に悪影響を与えないパーフルオロオクタ
ン、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）、
パーフルオロ（トリブチルアミン）等の完全フッ素化化
合物の溶媒を用いることが好ましい。

【００３４】また、この処理剤の処理層の厚さは処理剤
１分子から数分子にあたる厚みがあれば充分である。

【００３５】本発明では、この凹部を親インク性にする
方法として、エネルギー線の照射を行う。エネルギー線
の具体的なものとして、低圧水銀灯によって発生する２
５４ｎｍの波長の光を主として含む紫外光を例示でき
る。この波長の紫外光では、凸部、凹部ともに親水化が
でき、凸部では撥インクの程度のコントロールができ、
他方凹部では高い親水性を得ることができる。なお、こ
の波長の照射ではオゾンが発生するが、これも親水化に
寄与している。

【００３６】これらエネルギー線の照射は、基板の凸部
を設けた面側、又はその逆側のいずれから照射してもよ
く、表側から照射した場合は凸部、凹部同時に、裏面側
から照射した場合は主に凹部を選択的に親水化できる。
したがって、表面側、裏面側からの照射を組み合わすこ
とにより、必要な凸部、凹部の親水性のバランスを得る
ことができる。凹部のみ親水化したい場合には、基板の
凸部を設けた面と反対側の面からのみエネルギー線を照
射すればよい。これは、凸部がブラックマスクと兼用か
ブラックマスクと積層されている場合に、特に適する。

【００３７】これらエネルギー線の照射の照射量は、お
およそ１０００〜１００００ｍＪ程度でよく、使用する
材料によって所望の凸部の撥水性及び凹部の親水性が得
られるように適宜実験的に定められればよい。

【００３８】凸部を形成する高分子材料としては、アク
リル系、ポリイミド系の樹脂が好ましい。また、これを
ブラックマスクとするため黒色の樹脂を添加したり、樹
脂に感光性を持たせるために、種々の感光性ポリマーや
硬化剤を添加できる。

【００３９】本発明では、インクジェット方式を着色方
法として用いる。インクジェット方式としては、帯電し
たインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、
圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、イン
クを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法
等、各種の方法を採用できる。

【００４０】上記の説明では、親水性インクを用いる例
について説明してきたが、用いるインクは油性、水性と
もに使用できる。もっとも、表面張力の関係から水をベ
ースにした水系インクの使用がより好ましい。また、そ
のインクに含まれる着色材は染料、顔料ともに使用で
き、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。

【００４１】本発明のインクには、着色後の工程を考慮
し、加熱によって硬化する、又は紫外線等のエネルギー
線によって硬化する成分も添加できる。加熱によって硬
化する成分としては、各種の熱硬化性樹脂が広く用いら
れる。また、エネルギー線によって硬化する成分として
は、例えば、アクリレート誘導体又はメタクリレート誘
導体に光反応開始剤を添加したものを例示できる。

【００４２】特に、耐熱性を考慮してアクリロイル基、
メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ま
しい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘
導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性の
ものでもエマルジョン化する等して使用できる。

【００４３】本発明では、このようにすることにより、
図２に示すようなインクのはじきによる不良を低減でき
る。図２は、基板１１上の２つの凸部１２に囲まれた１
つの凹部に吹きつけられたインクが基板の親インク性不
足によりはじかれたところを示す。即ち、はじきを生じ
ると、中央部に比して周辺部の着色層１６の厚みが薄く
なりやすく、画素周辺部で着色層が無い部分を生じるこ
ともある。

【００４４】このような着色層のムラは、画素の色抜け
を生じ、表示素子にした際に、コントラストの良いカラ
ー表示が得られにくくなる。これに対して、本発明によ
れば、凹部に均一な厚みの着色層が得られやすく、画素
の色抜けやコントラスト低下を生じにくい。

【００４５】本発明では、インクジェット方式で通常は
ＲＧＢ３色のインクを吹きつけて３色のカラーフィルタ
を形成する。このカラーフィルタは、液晶表示素子、電
気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬ
ＺＴ等と組合せて表示素子として用いられる。カラーカ
メラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用で
きる。

【００４６】図３は、液晶表示素子に使用した場合の例
を示す模式的な断面図である。図３において、２１は基
板、２２は凸部、２３は着色層、２４はその表面を覆う
樹脂等による平坦化層、２５はＩｎ₂ Ｏ₃ −ＳｎＯ₂
（ＩＴＯ）、ＳｎＯ₂ 等の電極、２６はポリイミド、ポ
リアミド、ＳｉＯ等の配向膜、２７は他方の基板、２８
は他方の電極、２９は配向膜、３０はその電極間に挟ま
れる液晶層である。

【００４７】本発明では、この他、必要に応じて、この
液晶セルの外側に偏光膜、反射板、位相差板、光源等を
配置して液晶表示素子として用いうる。

【００４８】

【実施例】

実施例１、２ガラス基板に、黒色に着色されたフォトレジスト（新日
鉄化学社製「Ｖ−２５９ＢＫ」）をスピンコート法によ
り目標膜厚１．５μｍとなるように塗布し、８０℃で５
分間加熱処理した。Ｃ₈ Ｆ₁₇−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（−ＯＣ
Ｈ₃ ）₃ （東芝シリコーン社製「ＴＳＬ−８２３３」）
をメタノールで希釈し、若干量の水分を加えた。

【００４９】これを一晩放置した後、パーフルオロ（２
−ブチルテトラヒドロフラン）で有効成分を抽出し、
０．２５重量％に希釈し、フォトレジスト膜上にスピン
コート法により塗布し、１００℃で５分間加熱した。こ
の基板にフォトマスクを介して１００ｍＪ露光し、指定
現像液に３０秒浸漬し、冷水で洗浄後、２３０℃で１時
間ポストキュアを行い、ブラックマスク兼用の、高さが
約１．５μｍ、幅が約３０μｍの凸部を有する基板を得
た。

【００５０】この基板を、実施例１では低圧水銀灯によ
り凸部を設けた面側から１５００ｍＪ、その反対面側か
ら２５００ｍＪの紫外線を照射した。実施例２では低圧
水銀灯により凸部を設けた面の反対面側から４０００ｍ
Ｊの紫外線を照射した。

【００５１】これらの基板の凸部に囲まれた凹部に対
し、インクジェット法で水系顔料インクを用いて吹きつ
けを行い、ストライプ状のＲＧＢのカラーフィルタを得
た。この結果を表１に示す。

【００５２】比較例１エネルギー線の照射をしない以外は、実施例１と同様の
方法でカラーフィルタを形成した。この結果を表１に示
す。

【００５３】

【表１】

【００５４】なお、表１の結果において、「○」はいず
れもそれらの欠点のないもの（良品）を、「×」はその
ような欠点を生じたもの（不良品）を表す。なお、
「◎」は「○」よりもより着色層の平坦度が高いことを
示す。

【００５５】実施例１、２ともに、隣接凹部へのインク
流出、画素周辺部での色抜け、画素内での色ムラという
欠陥は生じなかった。特に、実施例１のものは、画素内
での着色層の平坦度が高かった。一方、比較例のもの
は、画素内でインクが充分拡がらないため画素周辺部に
色抜けが生ずるところがあり、着色層の厚みが画素の中
央で厚くなっていて画素内の色ムラがかなり生じた。

【００５６】実施例３、比較例２実施例１の画素をドット状にして、ＲＧＢ画素がモザイ
ク配置になるように凸部を設ける他は実施例１と同様に
して、この凸部に囲まれた凹部にインクジェット法で水
系顔料インクを用いて吹きつけを行い、モザイク配置の
ＲＧＢのカラーフィルタを得た。同様に、比較例とし
て、エネルギー線の照射をしない以外は、実施例２と同
様の方法でカラーフィルタを形成した。

【００５７】この実施例３のカラーフィルタは、実施例
１のカラーフィルタと同様に、隣接凹部へのインク流
出、画素周辺部での色抜け、画素内での色ムラという欠
陥は生じなかった。一方、比較例２のものは、比較例１
よりもさらに性能が悪化し、画素内でインクが充分拡が
らないため画素周辺部に色抜けが生ずるところがあり、
画素内の色ムラもかなり生じた。

【００５８】実施例４撥インク処理剤のＣ₈ Ｆ₁₇−Ｃ₂ Ｈ₄ −Ｓｉ（−ＮＣ
Ｏ）₃ をパーフルオロ（トリブチルアミン）で０．０５
重量％に希釈して用いた他は実施例１と同様にしてカラ
ーフィルタを形成した。このカラーフィルタは、実施例
１と同様に、隣接凹部への流出、画素周辺部での色抜
け、画素内での色ムラという欠陥を生じなかった。

【００５９】実施例１のカラーフィルタ上に樹脂の平坦
化層を形成し、ＩＴＯを形成し、それをパターニング
し、さらに樹脂の配向膜を形成し、ラビングして第１の
基板を形成した。次いで、ガラス基板上にＩＴＯを形成
し、それをパターニングし、さらに樹脂の配向膜を形成
し、ラビングして第２の基板を形成した。この第１の基
板と第２の基板とを電極面が相対向するように配置し
て、周辺をシールして空セルを形成した。

【００６０】この空セル内にネマチック液晶を注入し、
注入口を封止して液晶セルを形成した。この液晶セルの
両側に位相差板と偏光板を配置してＦＳＴＮ型の液晶表
示素子を製造した。この液晶表示素子は美しいカラー表
示が可能であった。

【００６１】

【発明の効果】本発明は、生産性の良いインクジェット
方式でインクを吹きつけてカラーフィルタを製造する際
に、凸部の上にインクが付着しにくく、かつ凹部でのイ
ンクの拡がりに優れるため画素内での色抜けを生じにく
いという効果を有する。これは、液晶表示素子としての
表示性能を向上させうる。

【００６２】さらに、この親インク処理を凸部を設けた
のと反対側の面からエネルギー線の照射で行うことによ
り、凸部の撥インク性をあまり損なうことなく、凹部の
親インク化が容易にできるので、生産性が良い。

【００６３】また、凸部の撥インク性が高すぎると、用
いるインクや凹部の親インク性の程度によって、画素周
辺部で着色層の厚みの低下が生じる傾向がある。本発明
では、エネルギー線の照射を基板の両面から行い、凸部
の撥インク性も少し低下させ、凹部の親インク性とバラ
ンスを取るようにすることにより、より画素内での平坦
性を向上させることもできる。本発明は、本発明の効果
を損しない範囲内で、種々の応用ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの模式的な断面図。

【図２】従来例のインク吹きつけ時の状況を示す模式的
な断面図。

【図３】本発明のカラーフィルタを用いた液晶表示素子
の模式的な断面図。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者田沼敏弘神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地旭硝子株式会社中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材上に凸部を形成し、その凸部により区
切られた凹部にインクジェット方式によってインクを吹
きつけて凹部にインクを堆積させて着色層を形成するカ
ラーフィルタの製造方法において、凸部を形成後、エネ
ルギー線を照射することより凹部の親インク性を制御
し、その後インクジェット方式によってインクを吹きつ
けることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】エネルギー線を照射する処理により、凹部
の水の接触角が２０°以下となるようにされる請求項１
記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】凸部が、ブラックマスクと兼用されている
ことを特徴とする請求項１又は２記載のカラーフィルタ
の製造方法。
【請求項４】エネルギー線を基板の凸部が形成されてい
るのと反対側の面から照射する請求項１、２又は３記載
のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】エネルギー線を基板の両面から照射し、そ
の夫々の照射量を凸部の撥インク性と凹部の親インク性
とが所望の値になるように制御する請求項１、２又は３
記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】凸部の表面が、ＲＳｉＸＹＺ（Ｒはフッ素
原子を含む炭化水素基を表し、Ｘ、Ｙ、Ｚはそれぞれ独
立して水酸基、メチル基、炭素数が１〜３のアルコキシ
基、塩素原子、又はイソシアネート基を表す）で表され
る化合物を含む処理剤によって撥インク処理を施されて
いる請求項１〜５のいずれか記載のカラーフィルタの製
造方法。
【請求項７】請求項１〜６のいずれか記載の製造方法に
より形成されたカラーフィルタを用いた液晶表示素子。