JPH09180477A - 不揮発性半導体メモリ装置とその読出及びプログラム方法 - Google Patents

不揮発性半導体メモリ装置とその読出及びプログラム方法

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JPH09180477A
JPH09180477A JP29900596A JP29900596A JPH09180477A JP H09180477 A JPH09180477 A JP H09180477A JP 29900596 A JP29900596 A JP 29900596A JP 29900596 A JP29900596 A JP 29900596A JP H09180477 A JPH09180477 A JP H09180477A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 外部記憶回路を使用せずにすみ且つ複写デー
タが反転しないような高速のページ複写を行える不揮発
性半導体メモリを提供する。 【解決手段】 メモリセルアレイ100の1行ごとにメ
モリトランジスタを少なくとも1ずつ追加形成してフラ
グセル部200を構成し、該フラグセル部200に記憶
されるフラグもメモリセルアレイのデータと共に貯蔵す
るページバッファ300とする。そして、ページバッフ
ァ300の貯蔵データを出力する際に、フラグセルのフ
ラグに従いメモリセルアレイのデータを補正する補正手
段500を設ける。ページバッファ300を利用する高
速複写とした上で、この場合に反転する複写データを出
力するときには、フラグに従い補正手段500で元に戻
して出力することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気的消去可能で
プログラム可能な不揮発性半導体メモリ装置に関し、中
でも特に、NAND形フラッシュメモリに関する。
【0002】
【従来の技術】他のメモリ同様に不揮発性半導体メモリ
でも、高密度集積化と共に性能及び動作速度の向上が図
られている。EEPROMに代表される不揮発性半導体
メモリは、フローティングゲート形のMOSトランジス
タをメモリセルとして使用しており、この多数のメモリ
セルを行と列のマトリックス形態で配列し、そして、同
じ行にあるメモリセルの制御ゲートをワードラインに、
同じ列にあるメモリセルのドレインをビットラインに接
続してメモリセルアレイが構成される。
【0003】このような不揮発性半導体メモリにおいて
は、動作速度を向上するために、いずれか一本の選択ワ
ードラインと接続した全メモリセルのデータを対応する
ビットラインを通じ一括して読出すページ読出が遂行さ
れる。この際の多数のビットラインに一括読出されたデ
ータは、ページバッファと呼ばれるビットラインごとの
データラッチを備えたデータ貯蔵手段に一時的に貯蔵さ
れる。一方、書込すなわちプログラム動作は、データ入
出力パッドを通して入力されるデータをページバッファ
に順次貯蔵した後、その貯蔵データを一本の選択ワード
ラインに接続したメモリセルへ一括プログラムするペー
ジプログラムで遂行される。このページ読出とページプ
ログラムについては、大韓民国公開特許第94−188
70号などに詳しい。
【0004】ページ読出及びページプログラム(書込)
は、メモリセルアレイ内の任意の行データを他の行へ複
写する場合に応用される。この複写動作は、読出とプロ
グラムの複合的遂行によって行われる。その一手法とし
て、複写する行のデータを読出してセルアレイとは別途
の外部記憶回路に一旦貯蔵し、そして複写先行のアドレ
スを入力してから外部記憶回路の貯蔵データを再入力
し、一括プログラムする方法がある。図1は、このよう
なページ複写について説明するブロック図で、ページ複
写時のメモリ主要部のデータ移動経路を示している。ま
た図2は、ページ複写時における不揮発性半導体メモリ
の制御信号のタイミングを示している。
【0005】図1を参照すると、ページ複写のために必
要な構成は、メモリセルアレイ100と、ページ読出及
びページプログラム時にデータを一時貯蔵するページバ
ッファ(データ貯蔵手段)300と、外部記憶回路40
0と、であり、セルアレイとは別途に設けられた外部記
憶回路400は、ページバッファ300と接続されてい
る。ページ複写を遂行するためには、メモリセルアレイ
100の複写元の複写行101のデータ(DATA)を読出し
て外部記憶回路400へ一旦貯蔵し、そしてこれを複写
先行102へプログラムしなければならない。この動作
を遂行するために、例えば16メガビットのCMOS−
NAND−EEPROMの外部端子には図2に示す各制
御信号を提供する必要がある。
【0006】図2を参照すると、コマンドラッチエネー
ブル端子CLE、アドレスラッチエネーブル端子AL
E、書込エネーブル端子バーWE、及び読出エネーブル
端子バーREにそれぞれ対応する制御信号を所定の波形
で印加し、入出力端子I/Oを通じてコマンドを印加す
ることにより、メモリは該当動作を始める。
【0007】まず、区間T1で読出命令(READ COMMAND)
“00h”を印加してから区間T2で3サイクルのアド
レスを印加すると(ADDRESS INPUT) 、該アドレスで指定
される行の全メモリセルデータがビットラインを通じて
一括読出しされ、ページバッファ300の内部レジスタ
に貯蔵される。このデータ感知動作(DATA SENSED) は区
間T3で遂行される。次いで、読出エネーブル信号バー
REがトグル(toggle)されて印加される区間T4で、ペ
ージバッファ300に貯蔵されたデータを入出力端子I
/Oを通じて出力するデータ出力動作(DATA OUTPUT) が
遂行される。この区間T4では例えば256バイトのデ
ータが順次出力され、そのページ読出されたデータは、
ページ複写のためにマイクロプロセッサ等の制御手段に
より外部記憶回路400に貯蔵される。
【0008】この後、入出力端子I/Oを通じてデータ
ローディング命令(DATA LOADING COMMAND)“80h”を
入力してから区間T5で3サイクルのアドレスを印加す
ると(ADDRESS INPUT) 、外部記憶回路400に貯蔵され
た256バイトのデータが区間T6でメモリ内に順次ロ
ーディングされる(DATA INPUT)。
【0009】そして、ページプログラム命令(PAGE PROG
RAM COMMAND)“10h”が区間T7で印加されると、区
間T8で複写先行102の全メモリセルにデータが一括
プログラムされ(PAGE PROGRAMMED) 、複写動作が完了す
る。
【0010】この複写技術では外部記憶回路400を必
要としており、ページ単位で読出した複写データを一旦
外へ出力した後に再入力する方法であるため、複写時間
が長くなるという不具合がある。例えば、1行が256
バイトで、対応するページバッファの容量が256バイ
トの場合、データをページバッファ300から外部記憶
回路400へ出力し、そしてページバッファ300へ再
入力する際、その読出サイクルと書込サイクルとをそれ
ぞれ80nsと仮定すると、複写動作全体にかかる時間
は約41usになり得る。そこで図3に示すような、外
部記憶回路400を使用せずにメモリセルアレイ100
及びページバッファ300のみでページ複写動作を遂行
する技術が提案されている。
【0011】図3に示す技術の特徴は、複写行101の
データをページバッファ300に一括貯蔵した後、該ペ
ージバッファ300から直接的に複写先行102へプロ
グラムを行う点にある。従って、外部記憶回路を必要と
せず、図1の技術に比べて複写時間が短縮される。しか
し一方で、構造上の影響から複写データの反転問題が生
じる。即ち、ページバッファ300の構造上、データ読
出動作でページバッファ300が貯蔵するデータとデー
タプログラム動作でページバッファ300が貯蔵するデ
ータとでは論理が反転する関係となるため、このような
ページバッファ300をそのまま複写に使用すれば、読
出された複写データは論理反転してプログラムされるこ
とになってしまう。従って、複写先行102へ複写され
たデータは元のデータの反転したものとなって提供され
ることになる。これではデータ処理の上で混乱をきた
し、好ましくない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来技術
に着目して本発明の目的は、外部記憶回路を使用せずに
すみ、しかも複写データが反転しないような高速複写を
行える読出及びプログラム方法とそのための回路を提供
することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】この目的のために本発明
は、ページ読出及びページプログラムを行うことが可能
となった電気的消去可能でプログラム可能な不揮発性半
導体メモリ装置の読出及びプログラム方法において、1
行分のデータを読出してページバッファへ貯蔵しそして
該貯蔵データを他の行へプログラムした場合に該プログ
ラムした他の行に対し複写を示すフラグをたて、該他の
行のデータを読出して出力する際に、前記フラグに従っ
て出力データを補正することを特徴とする。
【0014】即ち本発明によれば、電気的消去可能でプ
ログラム可能なNANDセル形フラッシュメモリ装置に
おいて、メモリセルアレイから1行分のデータをページ
バッファへ読出して貯蔵しそして該貯蔵データを他の行
へプログラムするページ複写を行い、そして、該他の行
のデータを前記ページバッファへ読出して出力する際に
該出力データを反転させて出力するようになっているこ
とを特徴とするNANDセル形フラッシュメモリ装置が
提供される。
【0015】具体的には本発明によれば、フローティン
グゲート形のメモリトランジスタを行と列のマトリック
ス形態に配列したメモリセルアレイをもつ電気的消去可
能でプログラム可能な不揮発性半導体メモリ装置におい
て、メモリセルアレイの1行ごとに設けられ、該メモリ
セルアレイの読出及びプログラムと共に読出及びプログ
ラムされるフラグセルと、前記メモリセルアレイの列及
び前記フラグセルの列に接続されたデータラッチを有
し、読出及びプログラム時に前記メモリセルアレイのデ
ータ及び前記フラグセルのフラグを同時に貯蔵するデー
タ貯蔵手段と、該データ貯蔵手段の貯蔵データを出力す
る際に、前記メモリセルアレイのデータを前記フラグセ
ルのフラグに従って補正する補正手段と、を備えること
を特徴とする。
【0016】或いは、フローティングゲート形のメモリ
トランジスタを行と列のマトリックス形態に配列したメ
モリセルアレイをもつ電気的消去可能でプログラム可能
な不揮発性半導体メモリ装置において、読出及びプログ
ラム時に1行分のメモリトランジスタのデータを貯蔵す
るページバッファと、メモリセルアレイの各行に対応さ
せて設けられ、前記ページバッファへ1行分のデータを
読出して貯蔵しそして該貯蔵データを他の行へプログラ
ムしたときに所定論理のフラグを記憶するフラグセル
と、前記ページバッファへ1行分のデータを読出しそし
てこれを出力する際に、該読出行に対応した前記フラグ
セルのフラグに従って出力データを補正する補正手段
と、を備えることを特徴とする。
【0017】また或いは、フローティングゲート形のメ
モリトランジスタを行と列のマトリックス形態に配列し
たメモリセルアレイをもち、ページ読出及びページプロ
グラムが可能とされた電気的消去可能でプログラム可能
な不揮発性半導体メモリ装置において、メモリセルアレ
イの1行ごとにメモリトランジスタを少なくとも1ずつ
追加形成してフラグセルを構成し、該フラグセルに記憶
されるフラグも前記メモリセルアレイのデータと共に貯
蔵するページバッファを設け、そして、該ページバッフ
ァの貯蔵データを出力する際に、前記フラグセルのフラ
グに従い前記メモリセルアレイのデータを補正する補正
手段を設けることを特徴とする。
【0018】これら補正手段は、フラグセルのフラグと
メモリセルアレイのデータとを排他的論理和するXOR
ゲートで構成すれば簡素な回路ですむ。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につき添
付図面を参照して詳細に説明する。
【0020】図4は、本発明に係るページ複写を行うた
めの読出及びプログラム回路のブロック図であって、メ
モリセルアレイ100と、このメモリセルアレイ100
にデータをプログラムするときに複写データであるかど
うかを示すフラグをたてるフラグセル部200と、読出
及びプログラム時にメモリセルアレイ100及びフラグ
セル部200のデータを一時的に貯蔵するためのページ
バッファ(データ貯蔵手段)300と、ページバッファ
300から出力されるメモリセルアレイ100のデータ
を、同時にページバッファ300から出力されるフラグ
セル部200のフラグに基づいて補正し、出力バッファ
600へ送る補正手段500と、が示されている。
【0021】まず、ページバッファ300の構成と複写
動作の基となるデータの読出及びプログラム動作を、図
5の回路図と図6及び図7のタイミングチャートを参照
して説明する。
【0022】図5は、ページバッファ300中のいずれ
か1つの単位ページバッファ(データラッチ)と、メモ
リセルアレイ100内のメモリセルストリング310と
の関係を示した回路図である。ページバッファ300内
の単位ページバッファは各ビットラインBLごとに設け
られており、各ビットラインBLには、選択トランジス
タとフローティングゲート形のメモリトランジスタとを
直列接続してなるNAND構造のメモリセルストリング
301が接続されている。ビットラインBLと単位ペー
ジバッファとは、データ消去時にビットラインBLとペ
ージバッファ300とを分離させる分離用トランジスタ
302を介し接続される。
【0023】各単位ページバッファは、読出動作時にビ
ットラインBLへ電流を供給するPMOSの負荷トラン
ジスタ307、ビットラインBL及び単位ページバッフ
ァ300内の放電を行って初期化するNMOSの初期化
トランジスタ303、感知ノードSOと単位ページバッ
ファ内の貯蔵ノードPBを電気的に隔離するNMOSの
隔離トランジスタ304、2個のインバータ305,3
06からなり、貯蔵ノードPBのラッチを行うラッチ回
路310、感知ノードSOにゲート接続されてラッチ回
路310のラッチ論理を決定するNMOSの感知トラン
ジスタ308、ラッチ信号φLatchに応答して感知
トランジスタ308を接地接続させるNMOSの感知活
性化トランジスタ309、そして、貯蔵ノードPBのラ
ッチデータを出力するときに反転して出力するためのイ
ンバータ311を備えている。
【0024】図6の波形図には、ページ読出に際するペ
ージバッファ300の動作タイミングを示してある。図
示のように読出動作は、区間T11におけるページバッ
ファ300のリセット(PAGE BUFFER RESET) 、区間T2
2におけるデータ感知(DATASENSED) 、区間T33にお
けるデータラッチ(DATA LATCHED)の順に進行する。
【0025】まずリセット区間T11では、コントロー
ル信号SBL,DCBが論理“ハイ”になることによ
り、感知ノードSO及び貯蔵ノードPBが例えば0Vの
接地電圧にリセットされる。これに従ってラッチ回路3
10のインバータ305の出力端及びインバータ306
の入力端は、電源電圧Vccレベルとなる。
【0026】このページバッファ300のリセット後に
続くデータ感知区間T22では、分離用トランジスタ3
02が導通状態とされ、初期化トランジスタ303及び
隔離トランジスタ304は初期化信号DCB及び隔離信
号SBLに従いオフになることにより、メモリセルの記
憶データが感知される。このときに基準電圧Vref
は、最初に一旦0Vとなり負荷トランジスタ307をオ
ンさせてビットラインBLのプリチャージを行った後に
例えば1.7Vのレベルとなり、負荷トランジスタ30
7から感知電流が感知ノードSOを通じてビットライン
BLへ提供される。そして、メモリセルのデータが
“1”の場合、即ちメモリセルがデプレッションモード
のトランジスタになっている場合は、負荷トランジスタ
307による感知電流がメモリセルストリング301を
通じて全部放電されるので、感知ノードSOは0.6V
程度を維持するようになり、これにより感知トランジス
タ308がオフとなる。一方、メモリセルのデータが
“0”の場合、即ちエンハンスメントモードのトランジ
スタとなっている場合は、負荷トランジスタ307によ
る感知電流がメモリセルストリング301を通じて流れ
ることができないので、感知ノードSOはほぼVccを
維持するようになり、これにより感知トランジスタ30
8がオンとなる。
【0027】この後にデータラッチ区間T33になると
ラッチ信号φLatchがVccとされ、これに従い感
知活性化トランジスタ309が導通する。すると、メモ
リセルデータが“1”の場合は感知トランジスタ308
がオフしているので、ラッチ回路310の状態はそのま
まで貯蔵ノードPBは0V(=ロウ)になる。一方、メ
モリセルデータが“0”の場合は感知トランジスタ30
8がオンしているので、ラッチ回路310のインバータ
305の出力端及びインバータ306の入力端が放電さ
れて論理変化し、貯蔵ノードPBはVcc(=ハイ)に
なる。
【0028】このように読出動作において、メモリセル
データが“1”の場合はラッチ回路310の貯蔵ノード
PBは“0”、メモリセルデータが“0”の場合はラッ
チ回路310の貯蔵ノードPBは“1”をラッチする。
【0029】図7の波形図には、ページプログラムに際
するページバッファ300の動作タイミングを示してあ
る。図示ようにプログラム動作は、区間T21における
ビットラインBLのリセット(BIT LINE RESET)、区間T
31におけるデータローディング(DATA LOADING)、区間
T41におけるプログラム(PROGRAM) の順に進行する。
【0030】まずリセット区間T21で初期化信号DC
Bを論理“ハイ”とすることにより、ビットラインBL
及び感知ノードSOが0Vにリセットされる。このとき
の基準電圧VrefはVccレベルにあるので負荷トラ
ンジスタ307はオフしている。
【0031】このビットラインBLのリセット後にデー
タローディング区間T31になると、データ“1”の書
込であれば、INラインを通して提供されるその“1”
の入力データに従ってラッチ回路310の貯蔵ノードP
BはVccとなる。一方、データ“0”の書込であれ
ば、その“0”の入力データに従ってラッチ回路310
の貯蔵ノードPBは0Vとなる。
【0032】この後に続くプログラム区間T41では、
データ“1”書込であれば貯蔵ノードPBのVccがビ
ットラインBLへ伝達されてメモリセルのフローティン
グゲートのプログラムが防止されるので、選択メモリセ
ルはデプレッションモードのトランジスタとなる。一
方、データ“0”書込であれば貯蔵ノードPBの0Vが
ビットラインBLへ伝達されてメモリセルのフローティ
ングゲートがプログラム可能になるので、選択メモリセ
ルはエンハンスメントモードのトランジスタとなる。
尚、信号BLSHF,SBLは電圧降下なくデータ電圧
を伝えるためにVcc以上のVpassとされる。
【0033】このようにプログラム動作において、書込
むデータが“1”の場合はラッチ回路310の貯蔵ノー
ドPBは“1”、書込むデータが“0”の場合はラッチ
回路310の貯蔵ノードPBは“0”をラッチする。即
ち、読出とプログラムでページバッファ300の貯蔵論
理は逆の関係になる。
【0034】上記基本動作のページバッファ300を使
用したページ複写、即ち複写のためのページ読出及びペ
ージプログラムと複写データの出力について、図8〜図
11を参照して説明する。
【0035】この例のフラグセル部200は、メモリセ
ルアレイ100に追加して設けられ、メモリセルアレイ
100の1行ごとに1ずつ追加されて全部で1列を形成
するメモリトランジスタで構成される。即ち、このフラ
グセル部200をなすフラグセルの1つ1つは、メモリ
セルアレイ100のメモリトランジスタと同じもので、
メモリ設計時に1列を追加構成してこれを複写時のため
の専用メモリとして活用するものである。このように形
成されたフラグセル部200を使用して、複写以外の通
常のノーマルプログラムの場合には、プログラム行に対
応するフラグセルに例えばデータ“0”を書込み、そし
て、1行分の複写データをプログラムする複写プログラ
ムの場合には、複写先行に対応するフラグセルにデータ
“1”を書込む。つまり、元のデータから反転した複写
データの入った複写先行についてはフラグセルに特別な
フラグを記憶させ、これにより反転したデータであるか
どうかを判別できるようになっている。
【0036】図8は、1行のデータを他の行へ複写する
ときの動作を説明したブロック図である。この図8に示
すように、〔10011001:0(=フラグ)〕のデ
ータが記憶された複写行101のデータを複写先行10
2へ複写すると、図3の場合と同様に、複写先行102
には〔01100110:1〕の反転した複写データが
貯蔵される。即ち、ページバッファ300を用いた複写
による反転で複写データと共にフラグも反転され、複写
先行102のフラグセルにはフラグ“1”が貯蔵され
る。
【0037】また図9に示すように、もし、複写先行1
02の既にページ複写された後のページデータを再複写
することになれば、再度の反転が行われるので、再複写
先行103に貯蔵されるデータは元の複写行101と同
じ状態に戻る。従って、再複写先行103のフラグセル
には、フラグ“0”が入れられる。
【0038】このようなメモリセルアレイ100及びフ
ラグセル部200に対しページ読出を行って出力する場
合について、図10及び図11に示してある。
【0039】図10は、複写行101(又は再複写先行
103)の読出動作を説明している。複写行101のデ
ータは、ページ読出によってページバッファ300に貯
蔵される。このとき同時に、フラグも同様に読出されて
ページバッファ300に貯蔵されることになる。そし
て、出力バッファ600へのデータ出力に際しては、排
他的論理和ゲートの補正手段500によりフラグと出力
データが演算されて出力されることになるが、この場合
にはフラグが“0”なので、出力バッファ600を通じ
て出力されるデータは、〔10011001〕の元のデ
ータそのままとなる。
【0040】一方図11は、複写先行102の読出動作
の場合を説明しており、このときには、フラグ“1”が
ページバッファ300に一緒に貯蔵されることになる。
そして、補正手段500でフラグと出力データが演算さ
れる結果、複写先行102のデータは補正、つまり反転
されて出力されることになる。即ち、ページバッファ3
00に貯蔵される読出データは〔01100110〕で
あるが、補正手段500においてフラグ“1”と排他的
論理和されるので、出力バッファ600を通じて出力さ
れるデータは、〔10011001〕の元の複写行10
1のデータに補正される。
【0041】図12には、ノーマルページプログラム時
の各制御信号のタイミングチャートを示してある。コマ
ンドラッチエネーブル端子CLE、アドレスラッチエネ
ーブル端子ALE、書込エネーブル端子バーWE、及び
読出エネーブル端子バーREにそれぞれ対応する制御信
号を所定の波形で印加し、区間T30で入出力端子I/
Oを通じてデータローディング命令(DATA LOADING COMM
AND)“80h”を入力し、次いで区間T31で3サイク
ルのアドレスを印加する(ADDRESS INPUT) 。そして区間
T32で、例えば256バイトの書込データをページバ
ッファ300へ順次入力する(DATA INPUT)。この後に区
間T33でページプログラム命令(PAGEPROGRAM COMMAN
D)“10h”を入力すると、区間T34でメモリセルへ
のページプログラムが遂行される(PAGE PROGRAMMED) 。
【0042】このプログラム動作では、コマンドラッチ
エネーブル信号CLEが“ハイ”のときに書込エネーブ
ル信号バーWEをトグルさせることによって、入出力端
子I/Oに入力されるデータがコマンドであることが認
識され、このコマンドがローディング命令であればデー
タローディング動作が認識される。また、アドレスラッ
チエネーブル信号ALEが“ハイ”であるときに入出力
端子I/Oを通じてデータを入力すると、これはアドレ
スとして認識される。更に、コマンドラッチエネーブル
信号CLE及びアドレスラッチエネーブル信号ALEの
両者が“ロウ”のときに書込エネーブル信号バーWEを
トグルさせると、入出力端子I/Oを通じて入力される
データがプログラムのための書込データとして認識され
る。そして、コマンドラッチエネーブル信号CLEが
“ハイ”のときに書込エネーブル信号バーWEをトグル
させることによって、入出力端子I/Oに入力されるデ
ータがコマンドであることが認識され、このコマンドが
ページプログラム命令であればページプログラム動作が
認識される。従って、1ページを256バイト構成とし
た場合、データローディング命令“80h”を入力して
3サイクルのアドレスを入力することで、256バイト
のデータが順次にページバッファ300へ入力され、そ
して、ページプログラム命令“10h”を入力すること
で、選択行の全メモリセルがページプログラムされる。
このとき、当該選択行のフラグセルには、フラグ“0”
が書込まれる。
【0043】図13には、ページ複写時の各制御信号の
タイミングチャートを示してある。コマンドラッチエネ
ーブル端子CLE、アドレスラッチエネーブル端子AL
E、書込エネーブル端子バーWE、及び読出エネーブル
端子バーREにそれぞれ対応する制御信号を所定の波形
で印加し、区間T40で読出命令(READ COMMAND)“00
h”を入力して区間T41で複写行101のアドレスを
知らせる3サイクルのアドレスを入力すると(ADDRESS I
NPUT) 、区間T42でデータ感知が遂行される(DATA SE
NSED) 。このデータ感知によりページバッファ300に
ページデータが一時貯蔵される。そして、区間T43で
ページ複写プログラム命令(PAGE COPY PROGURAM COMMAN
D)“15h”を印加し、区間T44で複写先行102の
アドレスを知らせる3サイクルのアドレスを提供すると
(ADDRESS INPUT) 、ページバッファ300の貯蔵データ
はそのまま複写先行102のメモリセルへプログラムさ
れる。この場合、上記のページバッファ300の基本動
作に従ってデータが反転されることになるので、複写先
行102のフラグセルには、フラグ“1”が書込まれ
る。
【0044】このページ複写による複写先行102のデ
ータをページ読出する場合には、フラグが“1”となっ
ているので、補正手段500による補正が行われ、複写
元の複写行101にあった元のデータが出力バッファ6
00を通じて出力される。即ち、このときに出力バッフ
ァ600を通じて出力される最終データは、反転複写さ
れたデータを更に反転したものになり、結局、元のデー
タとなる。
【0045】以上のように、1列のフラグセルを設けて
複写行データと同時に読出及びプログラムするだけで、
外部記憶回路を使用することなく複写を行え且つ元のデ
ータのままの状態でデータ出力を行うことが可能にな
る。従って、高速でデータ処理の容易なページ複写を実
現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のページ複写動作を説明するメモリの要部
ブロック図。
【図2】図1に説明するページ複写での信号波形図。
【図3】従来のページ複写動作の他の例を説明するメモ
リの要部ブロック図。
【図4】本発明に係るメモリの要部ブロック図。
【図5】ページバッファの回路図。
【図6】図5に示すページバッファの読出時の信号波形
図。
【図7】図5に示すページバッファのプログラム時の信
号波形図。
【図8】本発明に係るページ複写動作を説明するメモリ
の要部ブロック図。
【図9】本発明に係るページ複写動作で再複写する場合
を説明するメモリの要部ブロック図。
【図10】本発明に係る複写元又は再複写データの出力
動作を説明するメモリの要部ブロック図。
【図11】本発明に係る複写データの出力動作を説明す
るメモリの要部ブロック図。
【図12】本発明に係るページプログラム時の信号波形
図。
【図13】本発明に係るページ複写時の信号波形図。
【符号の説明】
100 メモリセルアレイ 200 フラグセル部 300 ページバッファ 500 補正手段 600 出力バッファ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フローティングゲート形のメモリトラン
    ジスタを行と列のマトリックス形態に配列したメモリセ
    ルアレイをもつ電気的消去可能でプログラム可能な不揮
    発性半導体メモリ装置において、 メモリセルアレイの1行ごとに設けられ、該メモリセル
    アレイの読出及びプログラムと共に読出及びプログラム
    されるフラグセルと、前記メモリセルアレイの列及び前
    記フラグセルの列に接続されたデータラッチを有し、読
    出及びプログラム時に前記メモリセルアレイのデータ及
    び前記フラグセルのフラグを同時に貯蔵するデータ貯蔵
    手段と、該データ貯蔵手段の貯蔵データを出力する際
    に、前記メモリセルアレイのデータを前記フラグセルの
    フラグに従って補正する補正手段と、を備えたことを特
    徴とする不揮発性半導体メモリ装置。
  2. 【請求項2】 フローティングゲート形のメモリトラン
    ジスタを行と列のマトリックス形態に配列したメモリセ
    ルアレイをもつ電気的消去可能でプログラム可能な不揮
    発性半導体メモリ装置において、 読出及びプログラム時に1行分のメモリトランジスタの
    データを貯蔵するページバッファと、メモリセルアレイ
    の各行に対応させて設けられ、前記ページバッファへ1
    行分のデータを読出して貯蔵しそして該貯蔵データを他
    の行へプログラムしたときに所定論理のフラグを記憶す
    るフラグセルと、前記ページバッファへ1行分のデータ
    を読出しそしてこれを出力する際に、該読出行に対応し
    た前記フラグセルのフラグに従って出力データを補正す
    る補正手段と、を備えたことを特徴とする不揮発性半導
    体メモリ装置。
  3. 【請求項3】 フローティングゲート形のメモリトラン
    ジスタを行と列のマトリックス形態に配列したメモリセ
    ルアレイをもち、ページ読出及びページプログラムが可
    能とされた電気的消去可能でプログラム可能な不揮発性
    半導体メモリ装置において、 メモリセルアレイの1行ごとにメモリトランジスタを少
    なくとも1ずつ追加形成してフラグセルを構成し、該フ
    ラグセルに記憶されるフラグも前記メモリセルアレイの
    データと共に貯蔵するページバッファを設け、そして、
    該ページバッファの貯蔵データを出力する際に、前記フ
    ラグセルのフラグに従い前記メモリセルアレイのデータ
    を補正する補正手段を設けたことを特徴とする不揮発性
    半導体メモリ装置。
  4. 【請求項4】 補正手段は、フラグセルのフラグとメモ
    リセルアレイのデータとを排他的論理和する請求項1〜
    3のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリ装置。
  5. 【請求項5】 電気的消去可能でプログラム可能なNA
    NDセル形フラッシュメモリ装置において、 メモリセルアレイから1行分のデータをページバッファ
    へ読出して貯蔵しそして該貯蔵データを他の行へプログ
    ラムするページ複写を行い、そして、該他の行のデータ
    を前記ページバッファへ読出して出力する際に該出力デ
    ータを反転させて出力するようになっていることを特徴
    とするNANDセル形フラッシュメモリ装置。
  6. 【請求項6】 ページ読出及びページプログラムを行う
    ことが可能となった電気的消去可能でプログラム可能な
    不揮発性半導体メモリ装置の読出及びプログラム方法に
    おいて、 1行分のデータを読出してページバッファへ貯蔵しそし
    て該貯蔵データを他の行へプログラムした場合に該プロ
    グラムした他の行に対し複写を示すフラグをたて、該他
    の行のデータを読出して出力する際に、前記フラグに従
    って出力データを補正するようにしたことを特徴とする
    読出及びプログラム方法。
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