JPH09150101A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JPH09150101A JPH09150101A JP31250995A JP31250995A JPH09150101A JP H09150101 A JPH09150101 A JP H09150101A JP 31250995 A JP31250995 A JP 31250995A JP 31250995 A JP31250995 A JP 31250995A JP H09150101 A JPH09150101 A JP H09150101A
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- cup
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- Coating Apparatus (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
く捕獲することのできる基板処理装置を提供することで
ある。 【解決手段】 モータ3によって高速に回転する基板保
持部材2上には、半導体ウエハ等の基板1が吸着固定さ
れている。この基板1に近接して、その周囲を囲むよう
に、カップ6が配置される。図示しない排気機構によっ
てカップ6内の排気を行いながら、ノズル4から基板1
の表面にレジストを供給することにより、レジストが装
置の内外へ飛散するのを防止しつつ、基板表面にレジス
トが塗布される。カップ6内の気流は、排気口63bに
至るまでの間、螺旋状の渦を描きながら流路を流れてい
く。カップ6内には、この螺旋状の気流と衝突する位置
に、ミスト捕獲板8が設けられている。そのため、ミス
ト捕獲板8は、カップ6内において、ミストを効率良く
捕獲回収する。
Description
し、より特定的には、基板(半導体ウエハ、フォトマス
ク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光デ
ィスク用の基板等)の表面に薬液(レジスト,ポリイミ
ド,SOG等)を塗布する装置に関する。
は、清浄雰囲気中で作業を行う必要がある半導体デバイ
スや液晶表示装置の製造工程で使用されるため、薬液が
装置外へ飛散しないようにする必要がある。また、装置
内で薬液が飛散し、そのミストがパーティクルとなって
基板上に付着すると、基板に欠陥が生じる。そのため、
従来の基板処理装置には、薬液が装置の内外に飛散しな
いようにするための排気機構が設けられている。
図である。図6において、この基板処理装置は、半導体
ウエハ等の基板1を真空チャック等により吸着保持する
基板保持部材2と、この基板保持部材2を高速回転させ
るモータ3と、基板1の表面にノズル4から薬液の一例
であるレジストを供給するレジスト供給装置5と、基板
1に近接してその周囲を囲むカップ6と、カップ6内を
排気する排気装置7とを備えている。排気装置7によっ
てカップ6内の排気を行いながら、基板1の表面にレジ
ストを供給することにより、レジストが装置の内外へ飛
散することが防止される。
装置においては、ノズル4から供給された薬液のミスト
が乾燥しながら、パーティクルとなって排気装置7へと
流れ込んでいく。そのため、パーティクルが排気装置7
内に堆積して排気流路をふさぎ、塗布の重要なパラメー
タである排気流量を低下させ、最終的には、製品の歩留
まりが低下するという問題点があった。また、パーティ
クルが、工場内のエアーダクトに流れ込み、その内部で
堆積が進むと、工場の排気流路をふさぎ、設備能力を低
下させてしまう。そのため、当該エアーダクトを定期的
にオーバホールしなければならないという問題点もあっ
た。
せると、カップ内のミストを効率良く外に排出すること
が可能となり、パーティクルの付着による欠陥を減らす
ことができる。その反面、排気装置7あるいは工場設備
内でのミストおよびパーティクルの堆積速度が加速さ
れ、上記のような問題点を招く。従って、いかにして十
分な排気流量を確保しつつ、かつミストおよびパーティ
クルが装置内または工場外に流れ出さないようにするか
が重要な課題になっている。
を確保しつつ、ミストを効率良く捕獲することのできる
基板処理装置を提供することである。
発明は、基板の表面に薬液を塗布する装置であって、基
板を回転させる基板回転手段と、基板に薬液を供給する
薬液供給手段と、少なくとも基板の周囲を囲み、その内
部に排気流路が設けられたカップと、カップ内におい
て、排気流路を流れる排気流と衝突する位置に設けら
れ、当該排気流に含まれるミストを付着させて捕獲する
ためのミスト捕獲板とを備えている。
含まれるミストの大部分がミスト捕獲板によってカップ
内で捕獲され、カップ外へ流出しない。そのため、排気
機構内でミストおよびパーティクルが堆積するのを低減
でき、常に安定な排気状態を確保できる。
プ内には、排気流の逆流を防止するためのオリフィス部
が設けられており、ミスト捕獲板は、オリフィス部より
も下流側に設けられていることを特徴とする。
獲板がオリフィス部よりも下流側に設けられているた
め、ミスト捕獲板で跳ね返ったミストがパーティクルと
なって基板表面に付着することがない。
ト捕獲板は、基板の回転中心を中心として、放射状に複
数枚配置されていることを特徴とする。
獲板が基板の回転中心を中心として放射状に複数枚配置
されているので、基板の全周にわたってミストを効率良
く捕獲できる。
スト捕獲板は、垂直方向に沿って延びるように立設され
ていることを特徴とする。
捕獲板が垂直方向に沿って延びるように立設されている
ので、ミストは垂直方向へと堆積していく。そのため、
ミストが堆積しても、排気流の流路断面積を狭めること
がない。
に係る基板処理装置の構成を示す縦断面図である。図1
において、この基板処理装置は、半導体ウエハ等の基板
1を真空チャック等により吸着保持する基板保持部材2
と、この基板保持部材2を高速回転させるモータ3と、
基板1の表面にノズル4から薬液の一例であるレジスト
を供給するレジスト供給装置5と、基板1に近接してそ
の周囲を囲むカップ6とを備えている。図示しない排気
機構によってカップ6内の排気を行いながら、基板1の
表面にレジストを供給することにより、レジストが装置
の内外へ飛散することが防止される。
2と、下カップ63とから構成される。下カップ63
は、中央に開口63dを有する円筒容器であり、その外
周側内部には飛散したレジスト液を貯留し排出するため
の液溜部63aおよびドレイン口63cが設けられ、そ
の内周側底部には排気口63bが設けられている。排気
口63bは、図示しない外部の排気機構と連結されてい
る。中カップ62は、中央部に挿入孔62aが形成され
たドーナツ形状をしており、この挿入孔62aには、モ
ータ3の回転軸と基板保持部材2との連結部が挿入され
る。中カップ62は、その直径が下カップ63の開口6
3dの直径よりも大きくされており、下カップ63の内
周側壁の上端に載置されて固定される。また、中カップ
62は、その外周近傍に***部62bが形成され、この
***部62bから外周端に向けて徐々に下方へ傾斜する
傾斜部62cを有する。上カップ61は、上側開口61
aから下側開口61bに行くに従って直径が徐々に大き
くなる筒状に形成され、下カップ63の外周側壁の上端
に載置されて固定される。
板1に近接し、その周囲を囲むように配置される。ここ
で、下カップ63の液溜部63aの内底部には、外周側
壁と当接するように、ミスト捕獲板8が垂直方向に立設
される。図2は、図1に示す基板処理装置の横断面図で
ある。この図2に示すように、ミスト捕獲板8は、放射
状に複数枚設けられる。
気流の方向を模式的に示す図である。以下、この図3を
参照して、本実施形態の特徴となるミスト捕獲板8の作
用について説明する。一般的に、カップ内でミストが多
量に発生するのは、基板1上に滴下されたレジストを高
速回転により振り切り薄膜化するときである。また、そ
のときには、カップ6内の気流は、排気口63bに至る
までの間、図3に示すごとく、基板1の回転に伴い螺旋
状の渦を描きながら排気流路を流れていくことが確かめ
られている。周知のごとく、ミストまたはパーティクル
が付着するのは、流速が変化するところ、あるいは障害
物のあるところに集中する。図1または図2から明らか
なように、ミスト捕獲板8は、上記螺旋状の気流と衝突
する位置に設けられている。そのため、ミスト捕獲板8
は、カップ6内において、ミストを効率良く捕獲回収す
ることができる。
着した状態を示す斜視図である。図4に示すごとく、ミ
スト捕獲板8には、垂直方向沿って一様にミストが付着
していく。しかも、ミスト捕獲板8は、図2に示すよう
に、放射状に配置されている。従って、ミストの付着が
進んでも、排気流路の実効断面積は、ほとんど減少しな
い。その結果、常に安定した排気特性が期待できる。ま
た、カップ6内を定期的に洗浄することで、さらに安定
した排気特性が期待できる。
板の取付位置の他の例を示す図である。図5において、
ミスト捕獲板81および82は、排気口63bの上部に
設けられている。また、ミスト捕獲板83は、液溜部6
3a内において、前述のミスト捕獲板8とは反対側に設
けられている。また、ミスト捕獲板84は、内カップ6
2の傾斜部62cの裏側に設けられている。ただし、い
ずれのミスト捕獲板81〜84も、ミスト捕獲板8と同
様、放射状に複数枚設けられている。本発明の基板処理
装置では、上記ミスト捕獲板8,81〜84のいずれか
1つを採用しても良いし、2つ以上のミスト捕獲板を組
み合わせて用いても良い。
内に吸い込まれた気流が逆流しないように、いわゆるオ
リフィス部α(図5参照)を備えている。このオリフィ
ス部αにおける流路断面積、すなわち中カップ62の外
周先端と下カップ63の外周側壁との間隔は、他の部分
よりも狭くされる。これによって、オリフィス部αでの
流速が速くなり、それよりも下流側の排気流が上流側に
逆流するのが防止される。従って、排気流の流路は、一
応、このオリフィス部αを境として、2つに分けられ
る。本発明で特徴となるミスト捕獲板は、好ましくは、
オリフィス部αから下流側に設けられる。もし、ミスト
捕獲板がオリフィス部αよりも上流側に設けられると、
ミスト捕獲板に衝突したミストが跳ね返って、逆にパー
ティクルとなって基板1に付着する恐れがあるからであ
る。
縦断面図である。
模式的に示す図である。
を示す斜視図である。
の他の例を示す図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 基板の表面に薬液を塗布する装置であっ
て、 前記基板を回転させる基板回転手段と、 前記基板に薬液を供給する薬液供給手段と、 少なくとも前記基板の周囲を囲み、その内部に排気流路
が設けられたカップと、 前記カップ内において、前記排気流路を流れる排気流と
衝突する位置に設けられ、当該排気流に含まれるミスト
を付着させて捕獲するためのミスト捕獲板とを備える、
基板処理装置。 - 【請求項2】 前記カップ内には、排気流の逆流を防止
するためのオリフィス部が設けられており、 前記ミスト捕獲板は、前記オリフィス部よりも下流側に
設けられている、請求項1に記載の基板処理装置。 - 【請求項3】 前記ミスト捕獲板は、前記基板の回転中
心を中心として、放射状に複数枚配置されている、請求
項1に記載の基板処理装置。 - 【請求項4】 各前記ミスト捕獲板は、垂直方向に沿っ
て延びるように立設されている、請求項3に記載の基板
処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31250995A JP3589518B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31250995A JP3589518B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09150101A true JPH09150101A (ja) | 1997-06-10 |
JP3589518B2 JP3589518B2 (ja) | 2004-11-17 |
Family
ID=18030084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31250995A Expired - Fee Related JP3589518B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3589518B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1009281C2 (nl) * | 1998-05-29 | 1999-11-30 | Od & Me Bv | Inrichting geschikt voor het aanbrengen van een laklaag op een schijfvormige registratiedrager alsmede een dergelijke werkwijze. |
US7575634B2 (en) | 2002-12-26 | 2009-08-18 | Tokyo Electron Limited | Coating device and coating film forming method |
-
1995
- 1995-11-30 JP JP31250995A patent/JP3589518B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1009281C2 (nl) * | 1998-05-29 | 1999-11-30 | Od & Me Bv | Inrichting geschikt voor het aanbrengen van een laklaag op een schijfvormige registratiedrager alsmede een dergelijke werkwijze. |
EP0960657A1 (en) | 1998-05-29 | 1999-12-01 | ODME International B.V. | A device which is suitable for applying a lacquer film to a disc-shaped registration carrier, as well as a method to be used therewith |
US7575634B2 (en) | 2002-12-26 | 2009-08-18 | Tokyo Electron Limited | Coating device and coating film forming method |
US7790227B2 (en) | 2002-12-26 | 2010-09-07 | Tokyo Electron Limited | Coating process apparatus and coating film forming method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3589518B2 (ja) | 2004-11-17 |
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