JPH09150101A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
- Publication number
- JPH09150101A JPH09150101A JP31250995A JP31250995A JPH09150101A JP H09150101 A JPH09150101 A JP H09150101A JP 31250995 A JP31250995 A JP 31250995A JP 31250995 A JP31250995 A JP 31250995A JP H09150101 A JPH09150101 A JP H09150101A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cup
- mist
- processing apparatus
- exhaust flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Coating Apparatus (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 排気の安定性を確保しつつ、ミストを効率良
く捕獲することのできる基板処理装置を提供することで
ある。 【解決手段】 モータ３によって高速に回転する基板保
持部材２上には、半導体ウエハ等の基板１が吸着固定さ
れている。この基板１に近接して、その周囲を囲むよう
に、カップ６が配置される。図示しない排気機構によっ
てカップ６内の排気を行いながら、ノズル４から基板１
の表面にレジストを供給することにより、レジストが装
置の内外へ飛散するのを防止しつつ、基板表面にレジス
トが塗布される。カップ６内の気流は、排気口６３ｂに
至るまでの間、螺旋状の渦を描きながら流路を流れてい
く。カップ６内には、この螺旋状の気流と衝突する位置
に、ミスト捕獲板８が設けられている。そのため、ミス
ト捕獲板８は、カップ６内において、ミストを効率良く
捕獲回収する。
く捕獲することのできる基板処理装置を提供することで
ある。 【解決手段】 モータ３によって高速に回転する基板保
持部材２上には、半導体ウエハ等の基板１が吸着固定さ
れている。この基板１に近接して、その周囲を囲むよう
に、カップ６が配置される。図示しない排気機構によっ
てカップ６内の排気を行いながら、ノズル４から基板１
の表面にレジストを供給することにより、レジストが装
置の内外へ飛散するのを防止しつつ、基板表面にレジス
トが塗布される。カップ６内の気流は、排気口６３ｂに
至るまでの間、螺旋状の渦を描きながら流路を流れてい
く。カップ６内には、この螺旋状の気流と衝突する位置
に、ミスト捕獲板８が設けられている。そのため、ミス
ト捕獲板８は、カップ６内において、ミストを効率良く
捕獲回収する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置に関
し、より特定的には、基板（半導体ウエハ、フォトマス
ク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光デ
ィスク用の基板等）の表面に薬液（レジスト，ポリイミ
ド，ＳＯＧ等）を塗布する装置に関する。
し、より特定的には、基板（半導体ウエハ、フォトマス
ク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光デ
ィスク用の基板等）の表面に薬液（レジスト，ポリイミ
ド，ＳＯＧ等）を塗布する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、上記のような基板処理装置
は、清浄雰囲気中で作業を行う必要がある半導体デバイ
スや液晶表示装置の製造工程で使用されるため、薬液が
装置外へ飛散しないようにする必要がある。また、装置
内で薬液が飛散し、そのミストがパーティクルとなって
基板上に付着すると、基板に欠陥が生じる。そのため、
従来の基板処理装置には、薬液が装置の内外に飛散しな
いようにするための排気機構が設けられている。
は、清浄雰囲気中で作業を行う必要がある半導体デバイ
スや液晶表示装置の製造工程で使用されるため、薬液が
装置外へ飛散しないようにする必要がある。また、装置
内で薬液が飛散し、そのミストがパーティクルとなって
基板上に付着すると、基板に欠陥が生じる。そのため、
従来の基板処理装置には、薬液が装置の内外に飛散しな
いようにするための排気機構が設けられている。
【０００３】図６は、従来の基板処理装置の構成を示す
図である。図６において、この基板処理装置は、半導体
ウエハ等の基板１を真空チャック等により吸着保持する
基板保持部材２と、この基板保持部材２を高速回転させ
るモータ３と、基板１の表面にノズル４から薬液の一例
であるレジストを供給するレジスト供給装置５と、基板
１に近接してその周囲を囲むカップ６と、カップ６内を
排気する排気装置７とを備えている。排気装置７によっ
てカップ６内の排気を行いながら、基板１の表面にレジ
ストを供給することにより、レジストが装置の内外へ飛
散することが防止される。
図である。図６において、この基板処理装置は、半導体
ウエハ等の基板１を真空チャック等により吸着保持する
基板保持部材２と、この基板保持部材２を高速回転させ
るモータ３と、基板１の表面にノズル４から薬液の一例
であるレジストを供給するレジスト供給装置５と、基板
１に近接してその周囲を囲むカップ６と、カップ６内を
排気する排気装置７とを備えている。排気装置７によっ
てカップ６内の排気を行いながら、基板１の表面にレジ
ストを供給することにより、レジストが装置の内外へ飛
散することが防止される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のような基板処理
装置においては、ノズル４から供給された薬液のミスト
が乾燥しながら、パーティクルとなって排気装置７へと
流れ込んでいく。そのため、パーティクルが排気装置７
内に堆積して排気流路をふさぎ、塗布の重要なパラメー
タである排気流量を低下させ、最終的には、製品の歩留
まりが低下するという問題点があった。また、パーティ
クルが、工場内のエアーダクトに流れ込み、その内部で
堆積が進むと、工場の排気流路をふさぎ、設備能力を低
下させてしまう。そのため、当該エアーダクトを定期的
にオーバホールしなければならないという問題点もあっ
た。
装置においては、ノズル４から供給された薬液のミスト
が乾燥しながら、パーティクルとなって排気装置７へと
流れ込んでいく。そのため、パーティクルが排気装置７
内に堆積して排気流路をふさぎ、塗布の重要なパラメー
タである排気流量を低下させ、最終的には、製品の歩留
まりが低下するという問題点があった。また、パーティ
クルが、工場内のエアーダクトに流れ込み、その内部で
堆積が進むと、工場の排気流路をふさぎ、設備能力を低
下させてしまう。そのため、当該エアーダクトを定期的
にオーバホールしなければならないという問題点もあっ
た。
【０００５】ところで、排気装置７の排気流量を増加さ
せると、カップ内のミストを効率良く外に排出すること
が可能となり、パーティクルの付着による欠陥を減らす
ことができる。その反面、排気装置７あるいは工場設備
内でのミストおよびパーティクルの堆積速度が加速さ
れ、上記のような問題点を招く。従って、いかにして十
分な排気流量を確保しつつ、かつミストおよびパーティ
クルが装置内または工場外に流れ出さないようにするか
が重要な課題になっている。
せると、カップ内のミストを効率良く外に排出すること
が可能となり、パーティクルの付着による欠陥を減らす
ことができる。その反面、排気装置７あるいは工場設備
内でのミストおよびパーティクルの堆積速度が加速さ
れ、上記のような問題点を招く。従って、いかにして十
分な排気流量を確保しつつ、かつミストおよびパーティ
クルが装置内または工場外に流れ出さないようにするか
が重要な課題になっている。
【０００６】それ故に、本発明の目的は、排気の安定性
を確保しつつ、ミストを効率良く捕獲することのできる
基板処理装置を提供することである。
を確保しつつ、ミストを効率良く捕獲することのできる
基板処理装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明は、基板の表面に薬液を塗布する装置であって、基
板を回転させる基板回転手段と、基板に薬液を供給する
薬液供給手段と、少なくとも基板の周囲を囲み、その内
部に排気流路が設けられたカップと、カップ内におい
て、排気流路を流れる排気流と衝突する位置に設けら
れ、当該排気流に含まれるミストを付着させて捕獲する
ためのミスト捕獲板とを備えている。
発明は、基板の表面に薬液を塗布する装置であって、基
板を回転させる基板回転手段と、基板に薬液を供給する
薬液供給手段と、少なくとも基板の周囲を囲み、その内
部に排気流路が設けられたカップと、カップ内におい
て、排気流路を流れる排気流と衝突する位置に設けら
れ、当該排気流に含まれるミストを付着させて捕獲する
ためのミスト捕獲板とを備えている。
【０００８】上記のように、第１の発明では、排気流に
含まれるミストの大部分がミスト捕獲板によってカップ
内で捕獲され、カップ外へ流出しない。そのため、排気
機構内でミストおよびパーティクルが堆積するのを低減
でき、常に安定な排気状態を確保できる。
含まれるミストの大部分がミスト捕獲板によってカップ
内で捕獲され、カップ外へ流出しない。そのため、排気
機構内でミストおよびパーティクルが堆積するのを低減
でき、常に安定な排気状態を確保できる。
【０００９】第２の発明は、第１の発明において、カッ
プ内には、排気流の逆流を防止するためのオリフィス部
が設けられており、ミスト捕獲板は、オリフィス部より
も下流側に設けられていることを特徴とする。
プ内には、排気流の逆流を防止するためのオリフィス部
が設けられており、ミスト捕獲板は、オリフィス部より
も下流側に設けられていることを特徴とする。
【００１０】上記のように、第２の発明では、ミスト捕
獲板がオリフィス部よりも下流側に設けられているた
め、ミスト捕獲板で跳ね返ったミストがパーティクルと
なって基板表面に付着することがない。
獲板がオリフィス部よりも下流側に設けられているた
め、ミスト捕獲板で跳ね返ったミストがパーティクルと
なって基板表面に付着することがない。
【００１１】第３の発明は、第１の発明において、ミス
ト捕獲板は、基板の回転中心を中心として、放射状に複
数枚配置されていることを特徴とする。
ト捕獲板は、基板の回転中心を中心として、放射状に複
数枚配置されていることを特徴とする。
【００１２】上記のように、第３の発明では、ミスト捕
獲板が基板の回転中心を中心として放射状に複数枚配置
されているので、基板の全周にわたってミストを効率良
く捕獲できる。
獲板が基板の回転中心を中心として放射状に複数枚配置
されているので、基板の全周にわたってミストを効率良
く捕獲できる。
【００１３】第４の発明は、第３の発明において、各ミ
スト捕獲板は、垂直方向に沿って延びるように立設され
ていることを特徴とする。
スト捕獲板は、垂直方向に沿って延びるように立設され
ていることを特徴とする。
【００１４】上記のように、第４の発明では、各ミスト
捕獲板が垂直方向に沿って延びるように立設されている
ので、ミストは垂直方向へと堆積していく。そのため、
ミストが堆積しても、排気流の流路断面積を狭めること
がない。
捕獲板が垂直方向に沿って延びるように立設されている
ので、ミストは垂直方向へと堆積していく。そのため、
ミストが堆積しても、排気流の流路断面積を狭めること
がない。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１の実施形態
に係る基板処理装置の構成を示す縦断面図である。図１
において、この基板処理装置は、半導体ウエハ等の基板
１を真空チャック等により吸着保持する基板保持部材２
と、この基板保持部材２を高速回転させるモータ３と、
基板１の表面にノズル４から薬液の一例であるレジスト
を供給するレジスト供給装置５と、基板１に近接してそ
の周囲を囲むカップ６とを備えている。図示しない排気
機構によってカップ６内の排気を行いながら、基板１の
表面にレジストを供給することにより、レジストが装置
の内外へ飛散することが防止される。
に係る基板処理装置の構成を示す縦断面図である。図１
において、この基板処理装置は、半導体ウエハ等の基板
１を真空チャック等により吸着保持する基板保持部材２
と、この基板保持部材２を高速回転させるモータ３と、
基板１の表面にノズル４から薬液の一例であるレジスト
を供給するレジスト供給装置５と、基板１に近接してそ
の周囲を囲むカップ６とを備えている。図示しない排気
機構によってカップ６内の排気を行いながら、基板１の
表面にレジストを供給することにより、レジストが装置
の内外へ飛散することが防止される。
【００１６】カップ６は、上カップ６１と、中カップ６
２と、下カップ６３とから構成される。下カップ６３
は、中央に開口６３ｄを有する円筒容器であり、その外
周側内部には飛散したレジスト液を貯留し排出するため
の液溜部６３ａおよびドレイン口６３ｃが設けられ、そ
の内周側底部には排気口６３ｂが設けられている。排気
口６３ｂは、図示しない外部の排気機構と連結されてい
る。中カップ６２は、中央部に挿入孔６２ａが形成され
たドーナツ形状をしており、この挿入孔６２ａには、モ
ータ３の回転軸と基板保持部材２との連結部が挿入され
る。中カップ６２は、その直径が下カップ６３の開口６
３ｄの直径よりも大きくされており、下カップ６３の内
周側壁の上端に載置されて固定される。また、中カップ
６２は、その外周近傍に***部６２ｂが形成され、この
***部６２ｂから外周端に向けて徐々に下方へ傾斜する
傾斜部６２ｃを有する。上カップ６１は、上側開口６１
ａから下側開口６１ｂに行くに従って直径が徐々に大き
くなる筒状に形成され、下カップ６３の外周側壁の上端
に載置されて固定される。
２と、下カップ６３とから構成される。下カップ６３
は、中央に開口６３ｄを有する円筒容器であり、その外
周側内部には飛散したレジスト液を貯留し排出するため
の液溜部６３ａおよびドレイン口６３ｃが設けられ、そ
の内周側底部には排気口６３ｂが設けられている。排気
口６３ｂは、図示しない外部の排気機構と連結されてい
る。中カップ６２は、中央部に挿入孔６２ａが形成され
たドーナツ形状をしており、この挿入孔６２ａには、モ
ータ３の回転軸と基板保持部材２との連結部が挿入され
る。中カップ６２は、その直径が下カップ６３の開口６
３ｄの直径よりも大きくされており、下カップ６３の内
周側壁の上端に載置されて固定される。また、中カップ
６２は、その外周近傍に***部６２ｂが形成され、この
***部６２ｂから外周端に向けて徐々に下方へ傾斜する
傾斜部６２ｃを有する。上カップ６１は、上側開口６１
ａから下側開口６１ｂに行くに従って直径が徐々に大き
くなる筒状に形成され、下カップ６３の外周側壁の上端
に載置されて固定される。
【００１７】以上のような構成により、カップ６は、基
板１に近接し、その周囲を囲むように配置される。ここ
で、下カップ６３の液溜部６３ａの内底部には、外周側
壁と当接するように、ミスト捕獲板８が垂直方向に立設
される。図２は、図１に示す基板処理装置の横断面図で
ある。この図２に示すように、ミスト捕獲板８は、放射
状に複数枚設けられる。
板１に近接し、その周囲を囲むように配置される。ここ
で、下カップ６３の液溜部６３ａの内底部には、外周側
壁と当接するように、ミスト捕獲板８が垂直方向に立設
される。図２は、図１に示す基板処理装置の横断面図で
ある。この図２に示すように、ミスト捕獲板８は、放射
状に複数枚設けられる。
【００１８】図３は、図１に示すカップ６の内部での排
気流の方向を模式的に示す図である。以下、この図３を
参照して、本実施形態の特徴となるミスト捕獲板８の作
用について説明する。一般的に、カップ内でミストが多
量に発生するのは、基板１上に滴下されたレジストを高
速回転により振り切り薄膜化するときである。また、そ
のときには、カップ６内の気流は、排気口６３ｂに至る
までの間、図３に示すごとく、基板１の回転に伴い螺旋
状の渦を描きながら排気流路を流れていくことが確かめ
られている。周知のごとく、ミストまたはパーティクル
が付着するのは、流速が変化するところ、あるいは障害
物のあるところに集中する。図１または図２から明らか
なように、ミスト捕獲板８は、上記螺旋状の気流と衝突
する位置に設けられている。そのため、ミスト捕獲板８
は、カップ６内において、ミストを効率良く捕獲回収す
ることができる。
気流の方向を模式的に示す図である。以下、この図３を
参照して、本実施形態の特徴となるミスト捕獲板８の作
用について説明する。一般的に、カップ内でミストが多
量に発生するのは、基板１上に滴下されたレジストを高
速回転により振り切り薄膜化するときである。また、そ
のときには、カップ６内の気流は、排気口６３ｂに至る
までの間、図３に示すごとく、基板１の回転に伴い螺旋
状の渦を描きながら排気流路を流れていくことが確かめ
られている。周知のごとく、ミストまたはパーティクル
が付着するのは、流速が変化するところ、あるいは障害
物のあるところに集中する。図１または図２から明らか
なように、ミスト捕獲板８は、上記螺旋状の気流と衝突
する位置に設けられている。そのため、ミスト捕獲板８
は、カップ６内において、ミストを効率良く捕獲回収す
ることができる。
【００１９】図４は、上記ミスト捕獲板８にミストが付
着した状態を示す斜視図である。図４に示すごとく、ミ
スト捕獲板８には、垂直方向沿って一様にミストが付着
していく。しかも、ミスト捕獲板８は、図２に示すよう
に、放射状に配置されている。従って、ミストの付着が
進んでも、排気流路の実効断面積は、ほとんど減少しな
い。その結果、常に安定した排気特性が期待できる。ま
た、カップ６内を定期的に洗浄することで、さらに安定
した排気特性が期待できる。
着した状態を示す斜視図である。図４に示すごとく、ミ
スト捕獲板８には、垂直方向沿って一様にミストが付着
していく。しかも、ミスト捕獲板８は、図２に示すよう
に、放射状に配置されている。従って、ミストの付着が
進んでも、排気流路の実効断面積は、ほとんど減少しな
い。その結果、常に安定した排気特性が期待できる。ま
た、カップ６内を定期的に洗浄することで、さらに安定
した排気特性が期待できる。
【００２０】図５は、基板処理装置におけるミスト捕獲
板の取付位置の他の例を示す図である。図５において、
ミスト捕獲板８１および８２は、排気口６３ｂの上部に
設けられている。また、ミスト捕獲板８３は、液溜部６
３ａ内において、前述のミスト捕獲板８とは反対側に設
けられている。また、ミスト捕獲板８４は、内カップ６
２の傾斜部６２ｃの裏側に設けられている。ただし、い
ずれのミスト捕獲板８１〜８４も、ミスト捕獲板８と同
様、放射状に複数枚設けられている。本発明の基板処理
装置では、上記ミスト捕獲板８，８１〜８４のいずれか
１つを採用しても良いし、２つ以上のミスト捕獲板を組
み合わせて用いても良い。
板の取付位置の他の例を示す図である。図５において、
ミスト捕獲板８１および８２は、排気口６３ｂの上部に
設けられている。また、ミスト捕獲板８３は、液溜部６
３ａ内において、前述のミスト捕獲板８とは反対側に設
けられている。また、ミスト捕獲板８４は、内カップ６
２の傾斜部６２ｃの裏側に設けられている。ただし、い
ずれのミスト捕獲板８１〜８４も、ミスト捕獲板８と同
様、放射状に複数枚設けられている。本発明の基板処理
装置では、上記ミスト捕獲板８，８１〜８４のいずれか
１つを採用しても良いし、２つ以上のミスト捕獲板を組
み合わせて用いても良い。
【００２１】なお、一般的に、基板処理装置は、カップ
内に吸い込まれた気流が逆流しないように、いわゆるオ
リフィス部α（図５参照）を備えている。このオリフィ
ス部αにおける流路断面積、すなわち中カップ６２の外
周先端と下カップ６３の外周側壁との間隔は、他の部分
よりも狭くされる。これによって、オリフィス部αでの
流速が速くなり、それよりも下流側の排気流が上流側に
逆流するのが防止される。従って、排気流の流路は、一
応、このオリフィス部αを境として、２つに分けられ
る。本発明で特徴となるミスト捕獲板は、好ましくは、
オリフィス部αから下流側に設けられる。もし、ミスト
捕獲板がオリフィス部αよりも上流側に設けられると、
ミスト捕獲板に衝突したミストが跳ね返って、逆にパー
ティクルとなって基板１に付着する恐れがあるからであ
る。
内に吸い込まれた気流が逆流しないように、いわゆるオ
リフィス部α（図５参照）を備えている。このオリフィ
ス部αにおける流路断面積、すなわち中カップ６２の外
周先端と下カップ６３の外周側壁との間隔は、他の部分
よりも狭くされる。これによって、オリフィス部αでの
流速が速くなり、それよりも下流側の排気流が上流側に
逆流するのが防止される。従って、排気流の流路は、一
応、このオリフィス部αを境として、２つに分けられ
る。本発明で特徴となるミスト捕獲板は、好ましくは、
オリフィス部αから下流側に設けられる。もし、ミスト
捕獲板がオリフィス部αよりも上流側に設けられると、
ミスト捕獲板に衝突したミストが跳ね返って、逆にパー
ティクルとなって基板１に付着する恐れがあるからであ
る。
【図１】本発明の第１の実施形態に係る基板処理装置の
縦断面図である。
縦断面図である。
【図２】図１に示す基板処理装置の横断面図である。
【図３】図１に示すカップ６の内部での排気流の方向を
模式的に示す図である。
模式的に示す図である。
【図４】図１のミスト捕獲板８にミストが付着した状態
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図５】基板処理装置におけるミスト捕獲板の取付位置
の他の例を示す図である。
の他の例を示す図である。
【図６】従来の基板処理装置の構成を示す図である。
【符号の説明】 １…基板 ２…基板保持部材 ３…モータ ４…ノズル ５…レジスト供給装置 ６…カップ ６１…上カップ ６２…中カップ ６３…下カップ ７…排気装置 ８，８１〜８４…ミスト捕獲板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/316 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ
Claims (4)
- 【請求項１】 基板の表面に薬液を塗布する装置であっ
て、 前記基板を回転させる基板回転手段と、 前記基板に薬液を供給する薬液供給手段と、 少なくとも前記基板の周囲を囲み、その内部に排気流路
が設けられたカップと、 前記カップ内において、前記排気流路を流れる排気流と
衝突する位置に設けられ、当該排気流に含まれるミスト
を付着させて捕獲するためのミスト捕獲板とを備える、
基板処理装置。 - 【請求項２】 前記カップ内には、排気流の逆流を防止
するためのオリフィス部が設けられており、 前記ミスト捕獲板は、前記オリフィス部よりも下流側に
設けられている、請求項１に記載の基板処理装置。 - 【請求項３】 前記ミスト捕獲板は、前記基板の回転中
心を中心として、放射状に複数枚配置されている、請求
項１に記載の基板処理装置。 - 【請求項４】 各前記ミスト捕獲板は、垂直方向に沿っ
て延びるように立設されている、請求項３に記載の基板
処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31250995A JP3589518B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31250995A JP3589518B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09150101A true JPH09150101A (ja) | 1997-06-10 |
| JP3589518B2 JP3589518B2 (ja) | 2004-11-17 |
Family
ID=18030084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31250995A Expired - Fee Related JP3589518B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3589518B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1009281C2 (nl) * | 1998-05-29 | 1999-11-30 | Od & Me Bv | Inrichting geschikt voor het aanbrengen van een laklaag op een schijfvormige registratiedrager alsmede een dergelijke werkwijze. |
| US7575634B2 (en) | 2002-12-26 | 2009-08-18 | Tokyo Electron Limited | Coating device and coating film forming method |
-
1995
- 1995-11-30 JP JP31250995A patent/JP3589518B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1009281C2 (nl) * | 1998-05-29 | 1999-11-30 | Od & Me Bv | Inrichting geschikt voor het aanbrengen van een laklaag op een schijfvormige registratiedrager alsmede een dergelijke werkwijze. |
| EP0960657A1 (en) | 1998-05-29 | 1999-12-01 | ODME International B.V. | A device which is suitable for applying a lacquer film to a disc-shaped registration carrier, as well as a method to be used therewith |
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