JPH1154470A - スピン処理装置 - Google Patents
スピン処理装置Info
- Publication number
- JPH1154470A JPH1154470A JP20581297A JP20581297A JPH1154470A JP H1154470 A JPH1154470 A JP H1154470A JP 20581297 A JP20581297 A JP 20581297A JP 20581297 A JP20581297 A JP 20581297A JP H1154470 A JPH1154470 A JP H1154470A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding table
- cup body
- chamber
- airflow
- spin processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
の乱気流を良好に排出することが可能なスピン処理装置
を提供すること。 【解決手段】 カップ体32内部に設けられた保持テー
ブル23に基板24を保持して回転駆動させるスピン処
理装置20において、上記カップ体32の周辺部に設け
られ、上記保持テーブル23の回転駆動により生じる気
流が導入されるチャンバ35と、上記チャンバ35に連
通して設けられ、このチャンバ35内に導入された気流
を排出する排出口体39と、を具備することを特徴とす
る。
Description
洗浄処理、乾燥処理を行うスピン処理装置に関する。
ては、ワークとしての矩形状のガラス製の基板に回路パ
ターンを形成する成膜プロセスやフォトプロセスがあ
る。これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗浄とが
繰り返し行われる。
するためには、一般に図5に示すようなスピン処理装置
1が用いられている。このスピン処理装置1は、カップ
体2を有しており、このカップ体2内部に保持テーブル
3を収納している。
されており、基板5から飛散した洗浄液や上記保持テー
ブル3の回転駆動によりこのカップ体2内部で生じる気
流を排出するようになっている。
ータ7に取り付けられ、モータ7の駆動力で保持テーブ
ル3を回転可能としている。そして上記基板5に対して
乾燥などの処理を行うためには、上記基板5を保持テー
ブル3に保持し、この保持テーブル3とともに高速回転
させ、それによって生じる遠心力を利用して上記基板5
に付着した洗浄液を除去している。
テーブル3を高速回転させると、この高速回転に伴うカ
ップ体2内部での乱気流の発生が問題となっている。特
に、最近、液晶表示装置の大型化によって基板5も大き
くなってきている。例えば従来は300mm ×400mmの大き
さであったが、最近では550mm ×650mm の大きさの基板
5が用いられるようになってきている。
記保持テーブル3の回転駆動に伴う乱気流の発生も増大
している。また、上記カップ体2内部では、気流は上記
保持テーブル3の回転に伴って同じ方向を有して回転す
る気流溜まりが生じ、そのためこのような気流溜まりが
上記保持テーブル3の周囲で発生すると、上記カップ体
2の下底に設けられた排出口4に効率良く気流を導けな
い、といった問題が発生している。
ので、その目的とするところは、カップ体内部での乱気
流の発生を防止し、この乱気流を良好に排出することが
可能なスピン処理装置を提供しようとするものである。
カップ体内部に設けられた保持テーブルに基板を保持し
て回転駆動させるスピン処理装置において、上記カップ
体の周辺部に設けられ、上記保持テーブルの回転駆動に
より生じる気流が導入されるチャンバと、上記チャンバ
に連通して設けられ、このチャンバ内に導入された気流
を排出する排出口体と、を具備することを特徴とするス
ピン処理装置である。
には、このチャンバ内部に導入された気流を所定方向に
沿ってガイドする整流手段が設けられていることを特徴
とする請求項1記載のスピン処理装置である。
記保持テーブル側の境界部分には、上記カップ体の径方
向外方に向かい傾斜して立設された逆流防止手段が設け
られていることを特徴とする請求項1または請求項2記
載のスピン処理装置である。
壁面が上記整流手段に形成されていることを特徴とする
請求項2または請求項3記載のスピン処理装置である。
請求項5記載の発明は、基板をカップ体内部に設けられ
た保持テーブルに保持して回転駆動させるスピン処理装
置において、上記カップ体の周壁には、上記保持テーブ
ルの回転駆動によって生じ、このカップ体の内周壁に沿
って進行する気流が導入される向きに排出口体が設けら
れていることを特徴とするスピン処理装置である。
記カップ体の内周壁の接線方向に向かう角度で設けられ
ていることを特徴とする請求項5記載のスピン処理装置
である。
ルの回転駆動により生じる気流が導入されるチャンバが
上記カップ体の周辺部に設けられ、このチャンバ内に導
入された気流を排出する排出口体が上記チャンバに連通
して設けられたため、保持テーブルの回転駆動によって
生じる気流がこのチャンバに導入されることによってカ
ップ体内部で生じる乱気流を抑えることが可能となって
いる。
含まれる洗浄液のミストが上記基板に舞い戻って付着
し、よって処理状態の悪化を防止することが可能となっ
ている。
部には、このチャンバ内部に導入された気流を所定方向
に沿ってガイドする整流手段が設けられているため、チ
ャンバ内部に導入された気流を所定方向に強制的にガイ
ドし、排出口体から良好に排出することが可能となって
いる。また、気流が所定の方向にガイドされるため、チ
ャンバ内部での乱気流の発生を防止することが可能とな
っている。
上記保持テーブル側の境界部分には、上記カップ体の径
方向外方に向かい傾斜して立設された逆流防止手段が設
けられているため、このチャンバ内部に導入された気流
が上記保持テーブルに向かって戻るのを防止することが
可能となっている。そのため、この気流に含まれている
洗浄液のミストが舞い戻って付着するのを防止すること
が可能となり、基板の処理状態の悪化を防止することが
可能となっている。
内壁面が上記整流手段に形成されているため、このスピ
ン処理装置の構成を単純化することが可能となってい
る。請求項5の発明によると、上記カップ体の周壁に
は、上記保持テーブルの回転駆動によって生じ、このカ
ップ体の内周壁に沿って進行する気流が導入される向き
に排出口体が設けられているため、この気流の進行を利
用して上記排出口体から気流を排出することが可能とな
っている。そのため、カップ体内部で生じる気流を速や
かに排出して、このカップ体内部での乱気流の発生を防
止している。
上記カップ体の内周壁の接線方向に向かう角度で設けら
れているため、上記カップ体内部で生じる気流を効率良
く、かつ抵抗無く排出することが可能となっている。
について、図1および図2に基づいて説明する。
としてのモータ21が図示しない取付け部位に取り付け
られている。このモータ21には、上方へ向かって延出
する駆動軸22が連結されている。
23が取り付けられている。この保持テーブル23は、
上記モータ21が作動することによって高速回転するよ
うになっている。この保持テーブル23には、前工程で
ある、洗浄工程で洗浄された液晶表示装置に用いられる
矩形状の基板24が後述するごとく保持されるようにな
っている。したがって、上記保持テーブル23が高速回
転することで、上記基板24に付着した洗浄液が遠心力
で除去されるようになっている。
な円板状に形成された中心部25と、この中心部25の
外周に例えば90度間隔で設けられたたそれぞれ2本で
対を成す2組のアーム26,27からなる本体部28を
有する。各アーム26,27は直線状に形成されてお
り、この直線状のアーム26,27の先端は先端部29
となっている。この先端部29には基板24の係合部を
形成する一対の第1のピン30が周方向に所定間隔で離
間して立設されているとともに、第1のピン30よりも
径方向内方で、一対の第1のピン30の間の部分には、
第1のピン30よりも高さ寸法が低い第2のピン31が
立設されている。
1のピン30に係合させ、それぞれの側辺部の下面を上
記第1のピン30よりも基端側に設けられた第2のピン
31の上端と係合させて保持されるようになっている。
2によって覆われており、この保持テーブル23が高速
回転しても、保持テーブル23により保持された基板2
4に付着している洗浄液が外部へ飛散するのを防止して
いる。
カップ32bより構成されている。上記下カップ32a
は中心に向かうにつれて上方に傾斜したスロープ状に形
成され、このスロープの上端中心部分には通孔33が形
成されている。
だけ上方に突出した外周壁に形成されていて、この外周
壁の上端は外方に向かって折れ曲がった受けフランジ3
4となっている。そして、この受けフランジ34に上記
上カップ32bが載置される。
されており、上記保持テーブル23へ基板24を搬送可
能としている。この上カップ32bは、中心側端部が所
定の長さだけ上向きとなるように折り曲げられ、これよ
り外周側は所定の水平面を成すように形成されている。
そして、この上カップ32bの外周側と受けフランジ3
4とが例えばボルトなどによって結合されることによっ
て一体化されている。
ンバ35が設けられている。すなわち、上記カップ体3
2の所定径離間した位置には、カップ体32内部の外周
側をチャンバ35に仕切る一対の仕切り部材が上方およ
び下方から延伸している。このうち、上方の仕切り部材
は、上記上カップ32bの下面から下方に向かい略垂直
に延伸し、この上カップ32bの全周に亘って設けられ
た仕切りリング36である。また下方の仕切り部材は、
上記下カップ32aの下底に設けられた後述する逆流防
止部材37である。
カップ32bに例えばネジにより係止されており、また
他端側は上記保持テーブル23に保持された基板24の
上面よりも上方に位置するように設けられている。これ
により仕切りリング36は、上記保持テーブル23およ
び上記基板24の回転駆動によって生じる気流の流れを
妨げないようになっている。
プ32aの下底にネジによって取り付けられる底部37
aと、この底部37aの内径側端部より90度以下の角
度、例えば45度程度の傾斜角度を成して斜め上方に所
定長さだけ傾斜して立設された傾斜部37bとより構成
されている。
斜部37bの上端がこの下端よりも外径側に位置するよ
うに設けられている。上記チャンバ35内部には整流部
材38が設けられている。この整流部材38は、内径側
端部が上方に位置して上記上カップ32bの下面に例え
ばボルトなどによって係止されるようになっている。ま
た、この内径側端部から外径側へ向かっては、徐々に傾
斜角度が大きくなる曲面状に形成されており、上記下カ
ップ32aの外周壁に外径側端部が近接するように設け
られている。
排出口体39が所定間隔で設けられている。この排出口
体39は図示しないタンクに配管接続されていて、上記
チャンバ35内部に進入した気流および洗浄液をスピン
処理装置20の外部に排出するように設けられている。
5よりも内径側に位置するカップ体32の下底に洗浄液
が溜まるのを防止するため、上記逆流防止部材37より
も内径側の下底に排出口体39aが形成されている。
20の作用について、以下に説明する。上記保持テーブ
ル23に基板24を保持し、モータ21を作動させて上
記保持テーブル23および基板24を回転駆動させる。
すると、この回転に伴って、上記基板24に付着してい
る洗浄液が遠心力によって外方に飛散されるようにな
る。これとともに、上記保持テーブル23および基板2
4の回転により、径方向外方へ向かう気流の流れが発生
するようになる。この気流には、上述の洗浄液が例えば
ミスト状となって含まれている。
および上記逆流防止部材37を通過して、チャンバ35
内部へと導入される。このチャンバ35内部に導入され
た気流は上記整流部材38に衝突し、この進行角度が変
化して矢印Aに示すように上記排出口体39に向かって
進行する。そしてこの気流は、排出口体39に導入さ
れ、カップ体32外方へ向かって排出される。
39より排出されず、矢印Bで示すように上記保持テー
ブル23に戻るように進行する。しかしながら、この気
流は、上記逆流防止部材37の傾斜部37bに衝突し、
再び進行方向が上記排出口体39へ向かうようになって
いる。
上記カップ体32内部に整流部材38が取り付けられた
ため、上記保持テーブル23の回転駆動により生じる気
流が上記排出口体39へ向かって流れるようになる。こ
のため、カップ体32内部の気流の排出効率が向上し、
上記カップ体32内部での乱気流の発生を防止してい
る。
させても、カップ体32内部で乱気流が発生するのを効
果的に防止することが可能となっている。また、上記下
カップに逆流防止部材37が設けられたため、上記排出
口体39より排出されずに上記保持テーブル23に向か
い戻る気流が生じても、この気流が再び排出口体39へ
向かうように進行方向を変化させている。そのため洗浄
液のミストを含む気流が再び上記基板24へ舞い戻り、
この基板24の表面に洗浄液が付着するのを防止するこ
とが可能となっている。
述べたが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となって
いる。以下それについて述べる。上記実施の形態では、
カップ体32内部に別途整流部材38を設ける構成とし
ているが、このカップ体32の外周側内壁面を傾斜状に
形成して同一の作用効果を生ずる構成としても構わな
い。
内部に設ける構成とはせずに、カップ体32の外部に設
けても構わない。この場合には、カップ体32とチャン
バ35を連通させ、保持テーブル23で生じる気流を良
好に導入する構成であれば良い。
材37がチャンバ35の下方の仕切り部材としての役割
をも有しているが、別途仕切り部材を具備し、逆流防止
部材37をチャンバ35の内方もしくは外方に設ける構
成としても構わない。
の実施の形態について、図3および図4を参照しながら
説明する。
一の実施の形態と同じ構成については、同符号を用いて
説明するものとする。すなわち、図3および図4に示す
スピン処理装置40では、上記モータ21、駆動軸2
2、保持テーブル23、基板24、中心部25、アーム
26,27、本体部28、先端部29、第1のピン3
0、第2のピン31、通孔33は同じ構成となってい
る。
設けられているカップ体41は、上述のカップ体32と
同様に、下カップ41aと上カップ41bとより構成さ
れている。上記上カップ41bは、上述の上カップ32
bと同様の構成となっており、この上カップ41bは上
記下カップ41aの外周壁上端に形成された受けフラン
ジ42に載置されるようになっている。そしてこの上カ
ップ41bの外周側と受けフランジ42とが例えばボル
トなどによって一体化されるようになっている。
aと同様に、下底が中心に向かうにつれて上方に傾斜し
たスロープ状に形成され、このスロープの上端中心部分
が通孔33となっている。
24は、図3のP−P線の断面図である図4の矢印Cに
示す方向に回転駆動されるようになっており、このとき
上記下カップ41aの周壁には図4に示す排出口体43
が形成されている。この排出口体43は、保持テーブル
23および基板24の矢印Cに示す方向への回転駆動に
よって生じる気流の排出を良好とするために、この周壁
の接線方向であって下カップ41aの内周壁に沿って矢
印Dに示す方向に進行している気流が直進する方向に複
数(本実施の形態では4個)形成されている。
は、上記カップ体41の外壁に沿って巻回するように設
けられた蛇腹配管部44と接続しており、この蛇腹配管
部44がカップ体41内部の排出を行う不図示の排出ポ
ンプに連結されている。この場合、上記蛇腹配管部44
は、排出口体43に進入した気流の進行を妨げるような
抵抗を生じないように気流の進行方向を曲げて上記排出
ポンプまでの気流の進行をガイドしている。
1aの下底に洗浄液が溜まるのを防止するため、この下
底には上述の排出口体39と同様の排出口体45が複数
形成されている。
を考慮して上記カップ体41の外壁に沿って巻回するよ
うに設けられているが、これ以外の取付け状態であって
も構わない。
は、上記保持テーブル23および基板24が矢印Cに示
す方向に回転駆動すると、これに伴い気流は下カップ4
1aの内周壁に沿って矢印Dに示す方向に進行する。
41aの周壁の接線方向かつ下カップ41aの内周壁に
沿い矢印Dに示す方向に進行する気流が直進する方向に
形成されているため、この気流は排出口体43内部へ容
易に導入される。
は、さらに蛇腹配管部44を通過して排出されるように
なっている。このような構成のスピン処理装置40によ
ると、下カップ41aの周壁の接線方向かつ下カップ4
1aの内周壁に沿い矢印Dに示す方向に進行する気流が
直進する方向に形成された排出口体43が設けられてい
るため、この気流が進行しようとする力を利用してこの
排出口体43より速やかに気流を排出することが可能と
なっている。
が発生するのが防止されるようになっている。このよう
な乱気流の発生が防止されると、この乱気流に含まれる
洗浄液のミストが再び基板24に舞い戻って付着するこ
とが防止され、よって基板24の乾燥処理および洗浄処
理などの処理状態が向上するようになる。
向かう角度で上記排出口体43が設けられているため、
カップ体41内部で生じた気流に抵抗を生じさせずに効
率良く排出することが可能となっている。
説明したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となっ
ている。以下それについて述べる。上記実施の形態で
は、排出口体43が周壁の接線方向に向かう角度で設け
られているが、気流が進行しようとする力でこの排出口
体43に導入されるならば、周壁に対して多少傾斜角度
を有して設けられていても構わない。
明によると、上記保持テーブルの回転駆動により生じる
気流が導入されるチャンバが上記カップ体の周辺部に設
けられ、このチャンバ内に導入された気流を排出する排
出口体が上記チャンバに連通して設けられたため、保持
テーブルの回転駆動によって生じる気流がこのチャンバ
に導入されることによってカップ体内部で生じる乱気流
を制御することが可能である。そのため、この乱気流の
発生により気流に含まれる洗浄液のミストが上記基板に
舞い戻って付着し、よって処理状態の悪化を防止するこ
とができる。
バ内部には、このチャンバ内部に導入された気流を所定
方向に沿ってガイドする整流手段が設けられているた
め、チャンバ内部に導入された気流を所定方向に強制的
にガイドし、排出口体から良好に排出することが可能と
なっている。また、気流が所定の方向にガイドされるた
め、チャンバ内部での乱気流の発生を防止することが可
能である。
バの上記保持テーブル側の境界部分には、上記カップ体
の径方向外方に向かい傾斜して立設された逆流防止手段
が設けられているため、このチャンバ内部に導入された
気流が上記保持テーブルに向かって戻るのを防止するこ
とが可能となっている。そのため、この気流に含まれて
いる洗浄液のミストが舞い戻って付着するのを防止する
ことが可能となり、基板の処理状態の悪化を防止するこ
とが可能である。
体の内壁面が上記整流手段に形成されているため、この
スピン処理装置の構成を単純化することが可能である。
請求項5記載の発明によると、上記カップ体の周壁に
は、上記保持テーブルの回転駆動によって生じ、このカ
ップ体の内周壁に沿って進行する気流が導入される向き
に排出口体が設けられているため、この気流の進行を利
用して上記排出口体から気流を排出することが可能とな
っている。そのため、カップ体内部で生じる気流を速や
かに排出して、このカップ体内部での乱気流の発生を防
止している。
体は上記カップ体の内周壁の接線方向に向かう角度で設
けられているため、上記カップ体内部で生じる気流を効
率良く、かつ抵抗無く排出することが可能である。
装置の構成を示す側面図。
す平面図。
装置の構成を示す側面図。
ップ体の断面形状を示す平面図。
Claims (6)
- 【請求項1】 カップ体内部に設けられた保持テーブル
に基板を保持して回転駆動させるスピン処理装置におい
て、 上記カップ体の周辺部に設けられ、上記保持テーブルの
回転駆動により生じる気流が導入されるチャンバと、 上記チャンバに連通して設けられ、このチャンバ内に導
入された気流を排出する排出口体と、 を具備することを特徴とするスピン処理装置。 - 【請求項2】 上記チャンバ内部には、このチャンバ内
部に導入された気流を所定方向に沿ってガイドする整流
手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の
スピン処理装置。 - 【請求項3】 上記チャンバの上記保持テーブル側の境
界部分には、上記カップ体の径方向外方に向かい傾斜し
て立設された逆流防止手段が設けられていることを特徴
とする請求項1または請求項2記載のスピン処理装置。 - 【請求項4】 上記カップ体の内壁面が上記整流手段に
形成されていることを特徴とする請求項2または請求項
3記載のスピン処理装置。 - 【請求項5】 基板をカップ体内部に設けられた保持テ
ーブルに保持して回転駆動させるスピン処理装置におい
て、 上記カップ体の周壁には、上記保持テーブルの回転駆動
によって生じ、このカップ体の内周壁に沿って進行する
気流が導入される向きに排出口体が設けられていること
を特徴とするスピン処理装置。 - 【請求項6】 上記排出口体は上記カップ体の内周壁の
接線方向に向かう角度で設けられていることを特徴とす
る請求項5記載のスピン処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20581297A JPH1154470A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | スピン処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20581297A JPH1154470A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | スピン処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1154470A true JPH1154470A (ja) | 1999-02-26 |
Family
ID=16513114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20581297A Pending JPH1154470A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | スピン処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1154470A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002066428A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-05 | Shibaura Mechatronics Corp | スピン処理装置 |
CN100363796C (zh) * | 2002-01-14 | 2008-01-23 | 周星工程股份有限公司 | 包含晶座组件的设备 |
JP2012004310A (ja) * | 2010-06-16 | 2012-01-05 | Tokyo Electron Ltd | 基板液処理装置 |
TWI418418B (zh) * | 2011-02-18 | 2013-12-11 | Sparking Power Technology Co Ltd | 元件清洗機 |
KR20210066055A (ko) * | 2019-11-27 | 2021-06-07 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 |
-
1997
- 1997-07-31 JP JP20581297A patent/JPH1154470A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002066428A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-05 | Shibaura Mechatronics Corp | スピン処理装置 |
JP4504537B2 (ja) * | 2000-08-29 | 2010-07-14 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
CN100363796C (zh) * | 2002-01-14 | 2008-01-23 | 周星工程股份有限公司 | 包含晶座组件的设备 |
JP2012004310A (ja) * | 2010-06-16 | 2012-01-05 | Tokyo Electron Ltd | 基板液処理装置 |
TWI418418B (zh) * | 2011-02-18 | 2013-12-11 | Sparking Power Technology Co Ltd | 元件清洗機 |
KR20210066055A (ko) * | 2019-11-27 | 2021-06-07 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5829156A (en) | Spin dryer apparatus | |
KR20000062665A (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
US5993547A (en) | Edge rinse mechanism for removing a peripheral portion of a resist film formed on a wafer | |
US6220771B1 (en) | Wafer backside protection apparatus | |
JP2018041855A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH1154470A (ja) | スピン処理装置 | |
JP2002066428A (ja) | スピン処理装置 | |
JP3529724B2 (ja) | 回転式基板処理装置 | |
JP2002359227A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2908224B2 (ja) | 回転式塗布装置 | |
JPH1043665A (ja) | スピンコーター | |
JP4358410B2 (ja) | スピン処理装置 | |
JPH05315235A (ja) | 高粘度樹脂用コータカップ | |
JPH11283902A (ja) | スピン処理装置 | |
JPH1145871A (ja) | 基板処理装置 | |
JPS59188125A (ja) | 基板乾燥装置 | |
US20240216957A1 (en) | Bowl for processing a substrate and processing substrate device including the same | |
JPH11297651A (ja) | 枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置 | |
JP4410331B2 (ja) | スピン処理装置 | |
JP2003126756A (ja) | スピン処理装置 | |
JPH01139172A (ja) | 塗布装置 | |
JP2003093979A (ja) | スピン処理装置 | |
JPH0963941A (ja) | 基板回転式処理装置 | |
JP3342537B2 (ja) | スピン処理装置 | |
JP2001102352A (ja) | ウェーハスピン乾燥装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040726 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060210 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060322 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060519 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061024 |