JPH0881492A - １７β−カルボキシステロイド誘導体の製造法及び新規な中間体 - Google Patents
１７β−カルボキシステロイド誘導体の製造法及び新規な中間体Info
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- JPH0881492A JPH0881492A JP7246994A JP24699495A JPH0881492A JP H0881492 A JPH0881492 A JP H0881492A JP 7246994 A JP7246994 A JP 7246994A JP 24699495 A JP24699495 A JP 24699495A JP H0881492 A JPH0881492 A JP H0881492A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 １７β−カルボキシステロイド誘導体の製造
法を提供する。 【解決手段】 これは、次式（Ｉ） 【化１】 の酸（オキソエチオコレン酸）を相当する１７−ケト誘
導体から出発して製造する方法である。
法を提供する。 【解決手段】 これは、次式（Ｉ） 【化１】 の酸（オキソエチオコレン酸）を相当する１７−ケト誘
導体から出発して製造する方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、１７β−カルボ
キシステロイド誘導体の製造法及び得られる新規な中間
体に関する。
キシステロイド誘導体の製造法及び得られる新規な中間
体に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、オキソエチ
オコレン酸の新規な製造法を提供することを目的とす
る。
オコレン酸の新規な製造法を提供することを目的とす
る。
【０００３】
【課題を解決するための手段】発明の概要 しかして、本発明は、次式（Ｉ）
【化１５】 のオキソエチオコレン酸を製造するにあたり、次式（I
I）
I）
【化１６】 〔ここで、環Ａ及びＢは下記の残基
【化１７】 ｛ここで、Ｋは次式
【化１８】 （ここで、ｎは２又は３に等しい）のオキソ基の保護基
を表わし、ｎは２又は３に等しく、Ｒ1 はエーテル又は
エステル残基を表わす｝を表わす〕の化合物に塩基の存
在下にハロニトリルを作用させて次式(III)
を表わし、ｎは２又は３に等しく、Ｒ1 はエーテル又は
エステル残基を表わす｝を表わす〕の化合物に塩基の存
在下にハロニトリルを作用させて次式(III)
【化１９】 〔ここで、環Ａ及びＢは上で示した意味を有し、波線は
異性体の混合物を表わす〕の化合物を得、この化合物の
３位のケトン官能基を遊離化させて次式（IV）
異性体の混合物を表わす〕の化合物を得、この化合物の
３位のケトン官能基を遊離化させて次式（IV）
【化２０】 〔ここで、波線は上で示した意味を有する〕の化合物を
得、この化合物を無水状態で式ＨＸ（ここで、Ｘはハロ
ゲン原子を表わす）の水素酸により処理して次式（Ｖ）
得、この化合物を無水状態で式ＨＸ（ここで、Ｘはハロ
ゲン原子を表わす）の水素酸により処理して次式（Ｖ）
【化２１】 〔ここで、Ｘ及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物を得、この化合物のヒドロキシ官能基をエステルの
形で保護して次式（VI）
合物を得、この化合物のヒドロキシ官能基をエステルの
形で保護して次式（VI）
【化２２】 〔ここで、Ｚはヒドロキシ基の保護エステル基の残基を
表わし、Ｘ及び波線は上で示した意味を有する〕の化合
物を得、この化合物に脱ハロゲン化水素剤を作用させて
次式(VII)
表わし、Ｘ及び波線は上で示した意味を有する〕の化合
物を得、この化合物に脱ハロゲン化水素剤を作用させて
次式(VII)
【化２３】 〔ここで、Ｚ及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物を得、この化合物をアルカリ加水分解し、次いで酸
処理して式（Ｉ）の所期化合物を得ることを特徴とす
る、式（Ｉ）のオキソエチオコレン酸の製造法に係る。
合物を得、この化合物をアルカリ加水分解し、次いで酸
処理して式（Ｉ）の所期化合物を得ることを特徴とす
る、式（Ｉ）のオキソエチオコレン酸の製造法に係る。
【０００４】
【発明の実施の形態】Ｒ1 がエーテル残基を表わすとき
は、それは、３位をその形でブロックするために当業者
に知られた任意の残基であってよく、特にそれは１〜６
個の炭素原子を含有するアルキル基、３〜８個の炭素原
子を含有するアルコキシアルコキシアルキル基、６〜１
０個の炭素原子を含有するアリール基又は７〜１２個の
炭素原子を含有するアラルキル基であってよい。
は、それは、３位をその形でブロックするために当業者
に知られた任意の残基であってよく、特にそれは１〜６
個の炭素原子を含有するアルキル基、３〜８個の炭素原
子を含有するアルコキシアルコキシアルキル基、６〜１
０個の炭素原子を含有するアリール基又は７〜１２個の
炭素原子を含有するアラルキル基であってよい。
【０００５】Ｒ1 がアルキル基を表わすときは、それ
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチ
ル又はヘキシル基である。Ｒ1 がアルコキシアルコキシ
アルキル基を表わすときは、それは、例えばメトキシエ
トキシメチル基である。Ｒ1 がアラルキル基を表わすと
きは、それは、例えばベンジル又はフェネチル基であ
る。Ｒ1 がアリール基を表わすときは、それは、例えば
フェニル又は特に１個以上のアルキル基により置換され
たフェニル基である。
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチ
ル又はヘキシル基である。Ｒ1 がアルコキシアルコキシ
アルキル基を表わすときは、それは、例えばメトキシエ
トキシメチル基である。Ｒ1 がアラルキル基を表わすと
きは、それは、例えばベンジル又はフェネチル基であ
る。Ｒ1 がアリール基を表わすときは、それは、例えば
フェニル又は特に１個以上のアルキル基により置換され
たフェニル基である。
【０００６】Ｒ1 がエーテル残基を表わすときは、それ
はシリル化された基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−
ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシリル基、
又は例えばトリフェニルシリルのようなトリアリールシ
リル基、又はジフェニルｔ−ブチルシリルのようなジア
リールアルキルシリル基であってよい。
はシリル化された基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−
ブチルジメチルシリルのようなトリアルキルシリル基、
又は例えばトリフェニルシリルのようなトリアリールシ
リル基、又はジフェニルｔ−ブチルシリルのようなジア
リールアルキルシリル基であってよい。
【０００７】Ｒ1 がエステル残基を表わすときは、それ
は３位をこの形でブロックするために当業者に知られた
任意の残基であってよく、特にそれは−ＣＯＲ1 残基
（ここで、Ｒ1 は前記のようなアルキル、アリール又は
アラルキル基である）であってよい。
は３位をこの形でブロックするために当業者に知られた
任意の残基であってよく、特にそれは−ＣＯＲ1 残基
（ここで、Ｒ1 は前記のようなアルキル、アリール又は
アラルキル基である）であってよい。
【０００８】本発明の特定の主題は、環Ａ及びＢが次式
【化２４】 （ここで、Ｒ1 は前記の通りであり、特に１〜６個の炭
素原子を含有するアルキル基である）の残基を表わす式
（II）の化合物を出発時に使用することを特徴とする、
前記の製造法にある。
素原子を含有するアルキル基である）の残基を表わす式
（II）の化合物を出発時に使用することを特徴とする、
前記の製造法にある。
【０００９】式（II）の化合物に反応させるハロニトリ
ルは、ブロムアセトニトリル又は特にクロルアセトニト
リルであってよい。操作は、強塩基、好ましくは非求核
性塩基、例えば、アルカリ金属のアルコラート、水素化
物、アミド又は水酸化物或いはまた有機リチウム化合
物、例えば、ナトリウムのメチラート、エチラート、ｔ
−ブチラート若しくはｔ−アミラート又はカリウムのメ
チラート、エチラート、ｔ−ブチラート若しくはｔ−ア
ミラート、リチウムジイソプロピルアミド、或いは苛性
ソーダ又はカリであってよい。不均一相において相移動
触媒の存在下に操作するのが有益であろう。相移動触媒
は、特に、第四アンモニウム塩、例えば、臭化テトラブ
チルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウ
ム又は塩化トリカプリルメチルアンモニウム、或いはホ
スホニウム塩であってよい。
ルは、ブロムアセトニトリル又は特にクロルアセトニト
リルであってよい。操作は、強塩基、好ましくは非求核
性塩基、例えば、アルカリ金属のアルコラート、水素化
物、アミド又は水酸化物或いはまた有機リチウム化合
物、例えば、ナトリウムのメチラート、エチラート、ｔ
−ブチラート若しくはｔ−アミラート又はカリウムのメ
チラート、エチラート、ｔ−ブチラート若しくはｔ−ア
ミラート、リチウムジイソプロピルアミド、或いは苛性
ソーダ又はカリであってよい。不均一相において相移動
触媒の存在下に操作するのが有益であろう。相移動触媒
は、特に、第四アンモニウム塩、例えば、臭化テトラブ
チルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウ
ム又は塩化トリカプリルメチルアンモニウム、或いはホ
スホニウム塩であってよい。
【００１０】好ましくは、カリウム又はナトリウムのｔ
−ブチラート又はｔ−アミラートのようなアルコラート
が使用される。反応は、トルエン、ジクロルメタン、ジ
メトキシエタン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フランのような溶媒中で、或いはこれらの溶媒の混合
物、例えば、トルエン／テトラヒドロフラン混合物又は
ｔ−ブタノール／テトラヒドロフラン混合物中で行われ
る。
−ブチラート又はｔ−アミラートのようなアルコラート
が使用される。反応は、トルエン、ジクロルメタン、ジ
メトキシエタン、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フランのような溶媒中で、或いはこれらの溶媒の混合
物、例えば、トルエン／テトラヒドロフラン混合物又は
ｔ−ブタノール／テトラヒドロフラン混合物中で行われ
る。
【００１１】３位のケトン官能基の遊離化は、保護基の
種類にふさわしい手段によって行われる。ケタールの場
合には、水又は水−アルカノール混合物の存在下に酸試
薬が使用される。それは、例えば、塩酸、臭化水素酸、
硫酸、過塩素酸、硝酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酢
酸、ぎ酸、しゅう酸又はこれらの酸の混合物のような無
機又は有機酸、或いはまた酸性樹脂、例えばスルホン酸
樹脂である。チオケタール又は混合ケタールの場合に
は、３−オキソ官能基の脱保護は、塩基、例えば重炭酸
アルカリの存在下に沃素を作用させ、又は酸化剤、特に
過酸化水素の存在下に沃素を触媒量で作用させ、又は沃
化メチル、グリオキシル酸若しくは金属の塩、例えば水
銀若しくはカドミウムの塩を作用させることにより行わ
れる。操作は、一般に、水の存在下に、ハロゲン化溶
媒、例えば塩化メチレンを混合した低級アルカノール、
例えばメタノール又はエタノールのような溶媒中で行う
ことができる。混合ケタールの場合には、脱保護は酢酸
／酢酸カリウム緩衝剤の存在下に約１００℃で塩化第二
水銀のような第二水銀により、上記と同じ条件でラネー
ニッケルにより、又は熱塩酸−酢酸混合物によっても行
われる。
種類にふさわしい手段によって行われる。ケタールの場
合には、水又は水−アルカノール混合物の存在下に酸試
薬が使用される。それは、例えば、塩酸、臭化水素酸、
硫酸、過塩素酸、硝酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酢
酸、ぎ酸、しゅう酸又はこれらの酸の混合物のような無
機又は有機酸、或いはまた酸性樹脂、例えばスルホン酸
樹脂である。チオケタール又は混合ケタールの場合に
は、３−オキソ官能基の脱保護は、塩基、例えば重炭酸
アルカリの存在下に沃素を作用させ、又は酸化剤、特に
過酸化水素の存在下に沃素を触媒量で作用させ、又は沃
化メチル、グリオキシル酸若しくは金属の塩、例えば水
銀若しくはカドミウムの塩を作用させることにより行わ
れる。操作は、一般に、水の存在下に、ハロゲン化溶
媒、例えば塩化メチレンを混合した低級アルカノール、
例えばメタノール又はエタノールのような溶媒中で行う
ことができる。混合ケタールの場合には、脱保護は酢酸
／酢酸カリウム緩衝剤の存在下に約１００℃で塩化第二
水銀のような第二水銀により、上記と同じ条件でラネー
ニッケルにより、又は熱塩酸−酢酸混合物によっても行
われる。
【００１２】Ｒ1 がエーテル又はエステル残基を表わす
場合には、ケタールについて前記したような条件下に酸
処理も使用される。例えば、酢酸若しくは硫酸又はこれ
らの酸の混合物が使用できる。エポキシド官能基を開裂
させるのに使用される水素酸は、例えば臭化水素酸又は
好ましくは塩酸である。反応は、好ましくは、無水状態
で有機溶媒、好ましくはごくわずかに極性又は非極性の
溶媒、例えば、ジメトキシエタン、エチルエーテル、酢
酸エチル、ジクロルメタン又はトルエン（後者の二つが
好ましい）中で行われる。操作は、ピリジン又はトリエ
チルアミンのような第三アミンの存在下に有利に行われ
る。
場合には、ケタールについて前記したような条件下に酸
処理も使用される。例えば、酢酸若しくは硫酸又はこれ
らの酸の混合物が使用できる。エポキシド官能基を開裂
させるのに使用される水素酸は、例えば臭化水素酸又は
好ましくは塩酸である。反応は、好ましくは、無水状態
で有機溶媒、好ましくはごくわずかに極性又は非極性の
溶媒、例えば、ジメトキシエタン、エチルエーテル、酢
酸エチル、ジクロルメタン又はトルエン（後者の二つが
好ましい）中で行われる。操作は、ピリジン又はトリエ
チルアミンのような第三アミンの存在下に有利に行われ
る。
【００１３】２０位のヒドロキシ官能基のエステルの形
での保護は、通常の方法に従って、カルボン酸誘導体、
特にアルカン酸又は芳香族酸のハロゲン化物又は無水物
を使用し、好ましくは窒素塩基の存在下に操作して行う
ことができる。例えば、酢酸、プロピオン酸、吉草酸又
は安息香酸の無水物をピリジンの存在下に使用すること
ができる。
での保護は、通常の方法に従って、カルボン酸誘導体、
特にアルカン酸又は芳香族酸のハロゲン化物又は無水物
を使用し、好ましくは窒素塩基の存在下に操作して行う
ことができる。例えば、酢酸、プロピオン酸、吉草酸又
は安息香酸の無水物をピリジンの存在下に使用すること
ができる。
【００１４】脱ハロゲン化水素は、塩基、例えばトリエ
チルアミン又はピリジンのような第三アミンの作用によ
り或いは非求核性塩基、例えば炭酸リチウム、臭化リチ
ウム、苛性ソーダ又は苛性カリの作用により行われる。
反応は、非親水性有機溶媒、例えば、ジクロルメタン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又は好ま
しくはトルエン中で行われる。操作は、反応媒体の還流
下に有利に行われる。
チルアミン又はピリジンのような第三アミンの作用によ
り或いは非求核性塩基、例えば炭酸リチウム、臭化リチ
ウム、苛性ソーダ又は苛性カリの作用により行われる。
反応は、非親水性有機溶媒、例えば、ジクロルメタン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又は好ま
しくはトルエン中で行われる。操作は、反応媒体の還流
下に有利に行われる。
【００１５】アルカリ加水分解は、強塩基、特に、水酸
化バリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は好ま
しくは水酸化ナトリウムを使用して行われる。操作は、
生成する塩基性塩を安定化させる水又は水−アルコール
混合物の存在下に、適当ならば、二重相系で、前段階が
行われた溶媒を使用して行われる。
化バリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は好ま
しくは水酸化ナトリウムを使用して行われる。操作は、
生成する塩基性塩を安定化させる水又は水−アルコール
混合物の存在下に、適当ならば、二重相系で、前段階が
行われた溶媒を使用して行われる。
【００１６】オキソエチオコレン酸の単離は、通常の方
法に従って、例えば、硫酸又は塩酸のような無機酸を使
用して、塩基性塩を酸処理することによって行われる。
法に従って、例えば、硫酸又は塩酸のような無機酸を使
用して、塩基性塩を酸処理することによって行われる。
【００１７】本発明の特定の主題は、操作を式（IV）の
化合物及びその後の化合物を中間で単離することなく行
うことを特徴とする前記の製造法にある。
化合物及びその後の化合物を中間で単離することなく行
うことを特徴とする前記の製造法にある。
【００１８】また、本発明の主題は、新規な工業用化合
物としての、特に本発明の製造法を実施するのに必要な
中間体としての ・次式（Ｆ１）
物としての、特に本発明の製造法を実施するのに必要な
中間体としての ・次式（Ｆ１）
【化２５】 〔ここで、環Ａ１及びＢ２は環Ａ及びＢについて上で示
した意味を有し又は次式の残基
した意味を有し又は次式の残基
【化２６】 の残基を表わし、波線は上で示した意味を有する〕の化
合物； ・次式（Ｆ２）
合物； ・次式（Ｆ２）
【化２７】 〔ここで、Ｘ及び波線は上で示した意味を有し、Ｚ' は
水素原子又はヒドロキシ基の保護エステル基を表わす〕
の化合物； ・次式(VII)
水素原子又はヒドロキシ基の保護エステル基を表わす〕
の化合物； ・次式(VII)
【化２８】 〔ここで、Ｘ及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物にある。
合物にある。
【００１９】式（II）の化合物は、仏国特許第１，５６
３，６０７号に記載されている。式（Ｉ）の酸、即ちオ
キソエチオコレン酸は、特に合成中間体として知られ、
例えばヨーロッパ特許第出願第５６２，８４９号に記載
されている物質である。
３，６０７号に記載されている。式（Ｉ）の酸、即ちオ
キソエチオコレン酸は、特に合成中間体として知られ、
例えばヨーロッパ特許第出願第５６２，８４９号に記載
されている物質である。
【００２０】
【実施例】下記の実施例は本発明を例示するものであっ
て、これを何ら制限するものではない。
て、これを何ら制限するものではない。
【００２１】例１：１７β−カルボキシ−３−オキソ−
４−アンドロステン：オキソエチオコレン酸
４−アンドロステン：オキソエチオコレン酸
【００２２】工程Ａ：１７，２０−エポキシ−３−メト
キシ−１７α−プレグナ−３，５−ジエン−２１−ニト
リル １５ｇの３−メトキシアンドロスタ−３，５−ジエン−
１７−オンを１２０ｃｃのテトラヒドロフラン及び５．
５ｇのｔ−ブタノール中で不活性ガス雰囲気下に−４５
℃に冷却し、次いで９ｇのカリウムｔ−ブチラートを添
加し、次いで４．８ｇのクロルアセトにリットルを３０
ｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を約−４
５℃で４時間にわたり添加する。反応混合物を、２ｇの
塩化アンモニウムを３００ｃｃの水に含有し０℃に冷却
してなる溶液に不活性ガス雰囲気下に導入し、次いで全
体を３０分間撹拌し続ける。これをろ過し、２０％の水
を含むメタノールで洗浄し、残留物を１５ｃｃのイソプ
ロパノール／イソプロピルエーテル混合物（１−２）中
に溶解し、次いで分離し、３０ｃｃの同じ混合物により
再び洗浄する。分離し、減圧乾燥した後、１３．４ｇの
所期化合物を得た。Ｍｐ＝１８０℃。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） 共役Ｃ＝Ｃ：１６５４−１６２９ｃｍ-1 Ｃ＝Ｎ：２２４８ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．９４：１８位のＣＨ3 ０．９８：１９位のＣＨ3 ３．４９：２０位のＣＨ ３．５８：３位のＣＨ3 ５．１４（ｄ）：４位のＣＨ ５．２５（ｄ）：６位のＣＨ
キシ−１７α−プレグナ−３，５−ジエン−２１−ニト
リル １５ｇの３−メトキシアンドロスタ−３，５−ジエン−
１７−オンを１２０ｃｃのテトラヒドロフラン及び５．
５ｇのｔ−ブタノール中で不活性ガス雰囲気下に−４５
℃に冷却し、次いで９ｇのカリウムｔ−ブチラートを添
加し、次いで４．８ｇのクロルアセトにリットルを３０
ｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を約−４
５℃で４時間にわたり添加する。反応混合物を、２ｇの
塩化アンモニウムを３００ｃｃの水に含有し０℃に冷却
してなる溶液に不活性ガス雰囲気下に導入し、次いで全
体を３０分間撹拌し続ける。これをろ過し、２０％の水
を含むメタノールで洗浄し、残留物を１５ｃｃのイソプ
ロパノール／イソプロピルエーテル混合物（１−２）中
に溶解し、次いで分離し、３０ｃｃの同じ混合物により
再び洗浄する。分離し、減圧乾燥した後、１３．４ｇの
所期化合物を得た。Ｍｐ＝１８０℃。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） 共役Ｃ＝Ｃ：１６５４−１６２９ｃｍ-1 Ｃ＝Ｎ：２２４８ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．９４：１８位のＣＨ3 ０．９８：１９位のＣＨ3 ３．４９：２０位のＣＨ ３．５８：３位のＣＨ3 ５．１４（ｄ）：４位のＣＨ ５．２５（ｄ）：６位のＣＨ
【００２３】工程Ｂ：１７β−カルボキシ−３−オキソ
−４−アンドロステン：オキソエチオコレン酸 （１）３位のエノールエーテルの加水分解 工程Ａに示すように製造した１２．８５ｇの１７，２０
−エポキシ−３−メトキシ−１７α−プレグナ−３，５
−ジエン−２１−ニトリルに不活性ガス雰囲気下に６４
ｃｃの酢酸、１３ｃｃの水及び１３ｃｃの希硫酸（２
Ｎ）を添加する。反応媒体を周囲温度で１時間３０分撹
拌し、６４ｃｃのトルエン及び６４ｃｃの水を１０分間
で添加し、次いでデカンテーションし、トルエン相を水
洗し、次いで２％の重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、
トルエンを１５０／１００ミリバールの圧力下に約２５
ｃｃの容積が得られるまで蒸留させる。 （２）エポキシドの開環 上記の反応媒体に１００ｃｃのジクロルメタン及び６ｃ
ｃのピリジンを周囲温度で添加し、次いで−５℃に冷却
し、ガス状塩酸を約３時間で導入し、全体を−５℃で１
時間撹拌し続け、過剰の塩酸を２１．５ｃｃのピリジン
を添加することにより中和する。 （３）クロルヒドリンのアセチル化 上で調製した懸濁液の温度を約＋１０℃に戻し、次いで
７．８ｃｃの無水酢酸及び６ｃｃのピリジンを３０分間
で添加する。反応媒体を周囲温度で１６時間撹拌し、次
いで水洗し、デカンテーションし、残留物を４００〜１
５０ミリバールで結晶化粗生成物が得られるまで蒸留す
る。 （４）アセテート誘導体の１７−２０脱離 上で得られた生成物に不活性雰囲気下に５０ｃｃのトル
エン及び２５ｃｃのトリエチルアミンを添加し、全体を
３時間３０分加熱還流し、次いで周囲温度に戻す。 （５）エノールアセテートの加水分解 上で調製した反応媒体に不活性雰囲気下に５０ｃｃの水
及び２５ｃｃの苛性ソーダを添加し、２０時間撹拌し、
２５０ｃｃの水を添加し、次いで水性相をデカンテーシ
ョンする。 （６）ナトリウム塩の酸性化／酸の製造 上で得られた水性相を窒素雰囲気下に＋１０〜１５℃に
冷却し、８０ｃｃの希硫酸（４Ｎ）を撹拌しながら添加
する。不活性ガスにより掃気することによりガス状塩酸
を追い出し、生成した沈殿を分離し、水洗し、減圧乾燥
し、９．３３ｇの所期化合物を得た。 Ｍｐ＝２５５〜２５６℃。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） Ｃ＝Ｏ：１７０２ｃｍ-1 Δ4 −３−オン：１６６２−１６１５ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．７９：１８位のＣＨ3 １．１９：１９位のＣＨ3 ５．７４：４位のＣＨ
−４−アンドロステン：オキソエチオコレン酸 （１）３位のエノールエーテルの加水分解 工程Ａに示すように製造した１２．８５ｇの１７，２０
−エポキシ−３−メトキシ−１７α−プレグナ−３，５
−ジエン−２１−ニトリルに不活性ガス雰囲気下に６４
ｃｃの酢酸、１３ｃｃの水及び１３ｃｃの希硫酸（２
Ｎ）を添加する。反応媒体を周囲温度で１時間３０分撹
拌し、６４ｃｃのトルエン及び６４ｃｃの水を１０分間
で添加し、次いでデカンテーションし、トルエン相を水
洗し、次いで２％の重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、
トルエンを１５０／１００ミリバールの圧力下に約２５
ｃｃの容積が得られるまで蒸留させる。 （２）エポキシドの開環 上記の反応媒体に１００ｃｃのジクロルメタン及び６ｃ
ｃのピリジンを周囲温度で添加し、次いで−５℃に冷却
し、ガス状塩酸を約３時間で導入し、全体を−５℃で１
時間撹拌し続け、過剰の塩酸を２１．５ｃｃのピリジン
を添加することにより中和する。 （３）クロルヒドリンのアセチル化 上で調製した懸濁液の温度を約＋１０℃に戻し、次いで
７．８ｃｃの無水酢酸及び６ｃｃのピリジンを３０分間
で添加する。反応媒体を周囲温度で１６時間撹拌し、次
いで水洗し、デカンテーションし、残留物を４００〜１
５０ミリバールで結晶化粗生成物が得られるまで蒸留す
る。 （４）アセテート誘導体の１７−２０脱離 上で得られた生成物に不活性雰囲気下に５０ｃｃのトル
エン及び２５ｃｃのトリエチルアミンを添加し、全体を
３時間３０分加熱還流し、次いで周囲温度に戻す。 （５）エノールアセテートの加水分解 上で調製した反応媒体に不活性雰囲気下に５０ｃｃの水
及び２５ｃｃの苛性ソーダを添加し、２０時間撹拌し、
２５０ｃｃの水を添加し、次いで水性相をデカンテーシ
ョンする。 （６）ナトリウム塩の酸性化／酸の製造 上で得られた水性相を窒素雰囲気下に＋１０〜１５℃に
冷却し、８０ｃｃの希硫酸（４Ｎ）を撹拌しながら添加
する。不活性ガスにより掃気することによりガス状塩酸
を追い出し、生成した沈殿を分離し、水洗し、減圧乾燥
し、９．３３ｇの所期化合物を得た。 Ｍｐ＝２５５〜２５６℃。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） Ｃ＝Ｏ：１７０２ｃｍ-1 Δ4 −３−オン：１６６２−１６１５ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．７９：１８位のＣＨ3 １．１９：１９位のＣＨ3 ５．７４：４位のＣＨ
【００２４】例２：１７β−カルボキシ−３−オキソ−
４−アンドロステン：オキソエチオコレン酸
４−アンドロステン：オキソエチオコレン酸
【００２５】工程Ａ：１７，２０−エポキシ−３−オキ
ソ−１７α−プレグナ−４−エン−２１−ニトリル 例１の工程Ａで得た１．０１７ｇの化合物を不活性ガス
雰囲気下に２０℃で１０ｃｃの酢酸及び５ｃｃの水と３
時間混合し、４ｃｃのテトラヒドロフランを添加し、全
体を２時間撹拌する。溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物
をシリカでクロマトグラフィーし（溶離剤：トルエン−
酢酸エチル８−２）、６９１ｍｇの所期化合物を得た。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） Ｃ＝Ｎ：２２４０ｃｍ-1 Ｃ＝Ｏ：１６２２ｃｍ-1 Ｃ＝Ｃ：１６１７ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．９５：１８位のＣＨ3 １．２０：１９位のＣＨ3 ３．３２−３．４８：２０位のＣＨ ５．７５：４位のＣＨ
ソ−１７α−プレグナ−４−エン−２１−ニトリル 例１の工程Ａで得た１．０１７ｇの化合物を不活性ガス
雰囲気下に２０℃で１０ｃｃの酢酸及び５ｃｃの水と３
時間混合し、４ｃｃのテトラヒドロフランを添加し、全
体を２時間撹拌する。溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物
をシリカでクロマトグラフィーし（溶離剤：トルエン−
酢酸エチル８−２）、６９１ｍｇの所期化合物を得た。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） Ｃ＝Ｎ：２２４０ｃｍ-1 Ｃ＝Ｏ：１６２２ｃｍ-1 Ｃ＝Ｃ：１６１７ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．９５：１８位のＣＨ3 １．２０：１９位のＣＨ3 ３．３２−３．４８：２０位のＣＨ ５．７５：４位のＣＨ
【００２６】工程Ｂ１：１７α−クロル−２０−ヒドロ
キシ−３−オキソプレグナ−４−エン−２１−ニトリル 工程Ａに示したように得た１ｇの化合物を、ガス状塩酸
をジメトキシエタンに溶解してなる４．７Ｎ溶液の２ｃ
ｃに添加し、＋５℃〜１０℃に冷却し、３時間撹拌し、
さらに１ｃｃの試薬を添加し、次いで温度を１０℃に維
持しながら１時間撹拌する。反応媒体はそのまま次の工
程に使用する。
キシ−３−オキソプレグナ−４−エン−２１−ニトリル 工程Ａに示したように得た１ｇの化合物を、ガス状塩酸
をジメトキシエタンに溶解してなる４．７Ｎ溶液の２ｃ
ｃに添加し、＋５℃〜１０℃に冷却し、３時間撹拌し、
さらに１ｃｃの試薬を添加し、次いで温度を１０℃に維
持しながら１時間撹拌する。反応媒体はそのまま次の工
程に使用する。
【００２７】工程Ｂ２：１７α−クロル−２０−アセト
キシ−３−オキソプレグナ−４−エン−２１−ニトリル 工程Ａで製造した０．２５ｇのエポキシドを１０ｃｃの
ジクロルメタン及び０．１ｃｃのピリジンに溶解してな
る溶液を不活性雰囲気下に撹拌する。ガス状塩酸の流れ
を約２０℃で１時間ゆっくりと導入し、次いで不活性ガ
スにより掃気することにより過剰の塩酸を除去する。反
応媒体の半分を次の工程にそのまま使用する。他の部分
を水洗する。これを乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、
残留物を２ｃｃのエタノール−水混合物（１−１）中に
溶解させ、次いですり砕き、分離し、水洗し、減圧乾燥
し、０．１ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝２３０〜２４
０℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．９７−０．９８：１８位のＣＨ3 １．２１：１９位のＣＨ3 ３．０５−３．２２：２０位のＯＨ ４．５６−４．７７：２０位のＣＨ ５．７５：４位のＣＨ
キシ−３−オキソプレグナ−４−エン−２１−ニトリル 工程Ａで製造した０．２５ｇのエポキシドを１０ｃｃの
ジクロルメタン及び０．１ｃｃのピリジンに溶解してな
る溶液を不活性雰囲気下に撹拌する。ガス状塩酸の流れ
を約２０℃で１時間ゆっくりと導入し、次いで不活性ガ
スにより掃気することにより過剰の塩酸を除去する。反
応媒体の半分を次の工程にそのまま使用する。他の部分
を水洗する。これを乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、
残留物を２ｃｃのエタノール−水混合物（１−１）中に
溶解させ、次いですり砕き、分離し、水洗し、減圧乾燥
し、０．１ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝２３０〜２４
０℃（分解）。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．９７−０．９８：１８位のＣＨ3 １．２１：１９位のＣＨ3 ３．０５−３．２２：２０位のＯＨ ４．５６−４．７７：２０位のＣＨ ５．７５：４位のＣＨ
【００２８】工程Ｃ：２０−アセトキシ−１７α−クロ
ル−３−オキソプレグナ−４−エン−２１−ニトリル 工程Ｂ１で得た反応媒体に３ｃｃのジメトキシエタンを
添加し、１０℃に冷却し、次いで１．７ｃｃのピリジン
及び１ｃｃの無水酢酸を数分間で添加する。反応媒体を
１時間で周囲温度に戻し、０．８ｃｃのピリジン及び５
ｃｃの水を添加し、次いで全体を＋４℃に１６時間放置
し、生成した沈殿を分離し、ジメトキシエタンエタンで
洗浄し、減圧乾燥し、０．３６４ｇの所期化合物を得
た。Ｍｐ＝２３８℃。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） ＯＡｃ：１７５７ｃｍ-1 Δ4 −３−オン：１６６５−１６１６ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） １．０４：１８位のＣＨ3 １．２１：１９位のＣＨ3 ２．２２：Ｏ−Ａｃ ５．７４：４位及び２０位のＣＨ
ル−３−オキソプレグナ−４−エン−２１−ニトリル 工程Ｂ１で得た反応媒体に３ｃｃのジメトキシエタンを
添加し、１０℃に冷却し、次いで１．７ｃｃのピリジン
及び１ｃｃの無水酢酸を数分間で添加する。反応媒体を
１時間で周囲温度に戻し、０．８ｃｃのピリジン及び５
ｃｃの水を添加し、次いで全体を＋４℃に１６時間放置
し、生成した沈殿を分離し、ジメトキシエタンエタンで
洗浄し、減圧乾燥し、０．３６４ｇの所期化合物を得
た。Ｍｐ＝２３８℃。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） ＯＡｃ：１７５７ｃｍ-1 Δ4 −３−オン：１６６５−１６１６ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） １．０４：１８位のＣＨ3 １．２１：１９位のＣＨ3 ２．２２：Ｏ−Ａｃ ５．７４：４位及び２０位のＣＨ
【００２９】工程Ｄ：（Ｅ＋Ｚ）２０−アセトキシ−３
−オキソプレグナ−４，１７（２０）−ジエン−２１−
ニトリル 工程Ｃで得た１００ｍｇの化合物に不活性雰囲気下に
０．５ｃｃのトルエン及び０．２ｃｃのトリエチルアミ
ンを添加する。混合物を５時間加熱還流させ、１０℃に
冷却し、沈殿を分離し、トルエン、次いで水で洗浄し、
減圧乾燥し、９１ｍｇの初期化合物を集めた。Ｍｐ＝１
８５〜１９０℃。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） Ｃ≡Ｎ（共役）：２２２３ｃｍ-1 ＯＡｃ：１７７３ｃｍ-1 Δ4 −３−オン：１６６２−１６１６ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．９７：１８位のＣＨ3 １．１９：１９位のＣＨ3 ２．２０：Ｏ−Ａｃ ５．７４：４位のＣＨ3
−オキソプレグナ−４，１７（２０）−ジエン−２１−
ニトリル 工程Ｃで得た１００ｍｇの化合物に不活性雰囲気下に
０．５ｃｃのトルエン及び０．２ｃｃのトリエチルアミ
ンを添加する。混合物を５時間加熱還流させ、１０℃に
冷却し、沈殿を分離し、トルエン、次いで水で洗浄し、
減圧乾燥し、９１ｍｇの初期化合物を集めた。Ｍｐ＝１
８５〜１９０℃。 ＩＲスペクトル（ＣＨＣｌ3 ） Ｃ≡Ｎ（共役）：２２２３ｃｍ-1 ＯＡｃ：１７７３ｃｍ-1 Δ4 −３−オン：１６６２−１６１６ｃｍ-1 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ3 ，ｐｐｍ） ０．９７：１８位のＣＨ3 １．１９：１９位のＣＨ3 ２．２０：Ｏ−Ａｃ ５．７４：４位のＣＨ3
【００３０】工程Ｅ：１７β−カルボキシ−３−オキソ
−４−アンドロステン：オキソエチオコレン酸 上記の工程Ｄで得た化合物から出発して、例１の工程Ｂ
の（５）及び（６）におけるようにして、所期のオキソ
エチオコレン酸を得た。
−４−アンドロステン：オキソエチオコレン酸 上記の工程Ｄで得た化合物から出発して、例１の工程Ｂ
の（５）及び（６）におけるようにして、所期のオキソ
エチオコレン酸を得た。
Claims (13)
- 【請求項１】 次式（Ｉ） 【化１】 のオキソエチオコレン酸を製造するにあたり、次式（I
I） 【化２】 〔ここで、環Ａ及びＢは下記の残基 【化３】 ｛ここで、Ｋは次式 【化４】 （ここで、ｎは２又は３に等しい）のオキソ基の保護基
を表わし、ｎは２又は３に等しく、Ｒ1 はエーテル又は
エステル残基を表わす｝を表わす〕の化合物に塩基の存
在下にハロニトリルを作用させて次式(III) 【化５】 〔ここで、環Ａ及びＢは上で示した意味を有し、波線は
異性体の混合物を表わす〕の化合物を得、この化合物の
３位のケトン官能基を遊離化させて次式（IV） 【化６】 〔ここで、波線は前記の意味を有する〕の化合物を得、
この化合物を無水状態で式ＨＸ（ここで、Ｘはハロゲン
原子を表わす）の水素酸により処理して次式（Ｖ） 【化７】 〔ここで、Ｘ及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物を得、この化合物のヒドロキシ官能基をエステルの
形で保護して次式（VI） 【化８】 〔ここで、Ｚはヒドロキシ基の保護エステル基の残基を
表わし、Ｘ及び波線は上で示した意味を有する〕の化合
物を得、この化合物に脱ハロゲン化水素剤を作用させて
次式(VII) 【化９】 〔ここで、Ｚ及び波線は上で示した意味を有する〕の化
合物を得、この化合物をアルカリ加水分解し、次いで酸
処理して式（Ｉ）の所期化合物を得ることを特徴とす
る、オキソエチオコレン酸の製造法。 - 【請求項２】 式（II）の化合物において、環Ａ及びＢ
が次式 【化１０】 （ここで、Ｒ1 は請求項１に記載の通りである）の残基
を表わすことを特徴とする、請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】 Ｒ1 が１〜６個の炭素原子を含有するア
ルキル基を表わすことを特徴とする、請求項２記載の製
造法。 - 【請求項４】 アルカリ金属アルコラートの存在下にク
ロルアセトニトリルを式（II）の化合物に反応させるこ
とを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の製造
法。 - 【請求項５】 エポキシド官能基を開環させるのに使用
される水素酸が塩酸であり、そして操作を非極性有機溶
媒中で無水状態で行うことを特徴とする、請求項１〜４
のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項６】 操作を第三アミンの存在下に行うことを
特徴とする請求項５記載の製造法。 - 【請求項７】 ２０位のヒドロキシ官能基の保護をアル
カン酸又は芳香族酸のエステルの形で行うことを特徴と
する請求項１〜６のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項８】 脱ハロゲン化水素を第三アミンの作用に
より行うことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記
載の製造法。 - 【請求項９】 アルカリ加水分解を水又は水−アルコー
ル混合物の存在下に強塩基を使用して行うことを特徴と
する請求項１〜８のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項１０】 操作を式（IV）の化合物及びその後の
化合物を中間で単離することなく行うことを特徴とする
請求項１〜９のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項１１】 新規な工業用化合物としての次式（Ｆ
１） 【化１１】 〔ここで、環Ａ１及びＢ２は環Ａ及びＢについて請求項
１に示した意味を有し又は次式の残基 【化１２】 を表わし、波線は請求項１に示した意味を有する〕の化
合物。 - 【請求項１２】 新規な工業用化合物としての次式（Ｆ
２） 【化１３】 〔ここで、Ｘ及び波線は請求項１に示した意味を有し、
Ｚ' は水素原子又はヒドロキシ基の保護エステル基を表
わす〕の化合物。 - 【請求項１３】 新規な工業用化合物としての次式(VI
I) 【化１４】 〔ここで、Ｘ及び波線は請求項１に示した意味を有す
る〕の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9410661A FR2724174B1 (fr) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | Procede de preparation d'un derive steroide 17beta-carboxy et nouveaux intermediaires |
| FR94-10661 | 1994-09-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0881492A true JPH0881492A (ja) | 1996-03-26 |
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ID=9466727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7246994A Abandoned JPH0881492A (ja) | 1994-09-06 | 1995-09-01 | １７β−カルボキシステロイド誘導体の製造法及び新規な中間体 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US5650526A (ja) |
| EP (1) | EP0702025B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0881492A (ja) |
| KR (1) | KR100394203B1 (ja) |
| AT (1) | ATE211145T1 (ja) |
| CA (1) | CA2157550A1 (ja) |
| DE (1) | DE69524696T2 (ja) |
| DK (1) | DK0702025T3 (ja) |
| ES (1) | ES2169747T3 (ja) |
| FR (1) | FR2724174B1 (ja) |
| HU (2) | HU223949B1 (ja) |
| PT (1) | PT702025E (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11279778B2 (en) | 2017-09-12 | 2022-03-22 | Daikin Industries. Ltd. | Polydifluoroacetylene, method for producing polydifluoroacetylene, precursor polymer, molded article and powder |
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|---|---|---|---|---|
| AU780751B2 (en) | 1999-10-13 | 2005-04-14 | Pharmacia & Upjohn Company | Process to prepare androst-4-en-17-carboxylic acid cross-reference to related applications |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE42606C (de) * | O. MILSTER in Remscheid, Cronenstr | Ausrückvorrichtung des Schneckengetriebes von Lastwinden | ||
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| US4179453A (en) * | 1978-04-13 | 1979-12-18 | Merck & Co., Inc. | Process for preparing 17β-carboxy-5-androsten-3-ones |
| DE3024008C2 (de) * | 1980-06-24 | 1982-04-15 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Verfahren zur Herstellung von 17α-Hydroxy-etiocarbonsäuren |
| FR2486947A1 (fr) * | 1980-07-15 | 1982-01-22 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives steroides 20-isonitriles 17(20) insatures, leur procede de preparation et leur application a la preparation des steroides 17a-hydroxy 20-ceto |
| US4389345A (en) * | 1981-10-09 | 1983-06-21 | G.D. Searle & Co. | 3-Oxoestra-17-acetonitrile and unsaturated analogs |
| US4910226A (en) * | 1987-04-29 | 1990-03-20 | Smithkline Beckman Corporation | Steroid 5-alpha-reductase inhibitors |
| IL105050A0 (en) | 1992-03-27 | 1993-07-08 | Lilly Co Eli | Steroid derivatives |
| FR2700339B1 (fr) * | 1993-01-14 | 1995-03-03 | Roussel Uclaf | Nouveaux dérivés 17,20-époxydes du pregnane, leur préparation, leur application à la préparation de dérivés cortisoniques et intermédiaires. |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20040610 |