JPH08183773A - 置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物およびその製造方法 - Google Patents

置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物およびその製造方法

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JPH08183773A
JPH08183773A JP33957594A JP33957594A JPH08183773A JP H08183773 A JPH08183773 A JP H08183773A JP 33957594 A JP33957594 A JP 33957594A JP 33957594 A JP33957594 A JP 33957594A JP H08183773 A JPH08183773 A JP H08183773A
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sulfonamide
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JP33957594A
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Keiichiro Ito
圭一郎 伊藤
Motohiko Hamaguchi
元彦 浜口
Shinichiro Okamoto
新一郎 岡本
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Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Original Assignee
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は除草剤として有用なN−〔( 4,6−
ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル〕
−3−トリフルオロメチルピリジン−2−スルホンアミ
ド(以下置換ピリジンスルホンアミド系化合物と略す)
を製造するための中間体およびその製造方法を提供す
る。 【構成】 一般式(I); 【化1】 で表わされる化合物と、一般式(II);XCOOR
…(II) (式中、Rはフェニル基またはアルキル基であり、Xは
ハロゲン原子である)で表わされる化合物とを反応させ
て一般式(III); 【化2】 (式中、Rは前述の通りである)で表わされる置換ピリ
ジンスルホニルカーバメート系化合物を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、除草剤の有効成分とし
て有用なN−〔(4,6−ジメトキシピリミジン−2−
イル)アミノカルボニル〕−3−トリフルオロメチルピ
リジン−2−スルホンアミド(以下置換ピリジンスルホ
ンアミド系化合物と略す)を製造するための中間体とし
て有用な、後記一般式(III)で表わされる置換ピリジン
スルホニルカーバメート系化合物およびその製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】前記置換ピリジンスルホンアミド系化合
物については種々の製造方法が知られているが、3−ト
リフルオロメチルピリジン−2−スルホンアミドとハロ
ゲノ炭酸エステルを反応させて置換ピリジンスルホニル
カーバメート系化合物を生成させ、これに2−アミノ−
4,6−ジメトキシピリミジンを反応させて前記置換ピ
リジンスルホンアミド系化合物を製造する方法は知られ
ていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、毒性の強い取扱困難なホスゲンを使用して
製造したイソシアネート化合物を原料として使用せず
に、いずれも安価にかつ大量に入手可能な前述の化合物
を原料として使用し、高い収率で目的化合物を製造する
ことである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式
(I);
【化4】
【0005】で表される化合物と、一般式(II); X
COOR …(II) (式中、Rはフェニル基またはア
ルキル基であり、Xはハロゲン原子である)で表わされ
る化合物とを反応させて一般式(III);
【化5】
【0006】(式中、Rは前述の通りである)で表わさ
れる置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物を製
造する方法並びに前記一般式(III)においてRがフェニ
ル基またはメチル基である置換ピリジンスルホニルカー
バメート系化合物に関する。
【0007】前記一般式(II)〜(III)中Rで表わされ
るアルキル基としては、炭素数1〜6を有するもの、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが
挙げられ、それらは直鎖または枝分れ脂肪鎖の幾何異性
のものを含むが、メチル基、エチル基またはフェニル基
が望ましく、なかでもメチル基またはフェニル基がより
望ましい。
【0008】前記一般式(II)中Xで表わされるハロゲ
ン原子としては、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げ
られ、なかでも塩素原子が望ましい。
【0009】本発明に係る置換ピリジンスルホニルカー
バメート系化合物の製造方法を以下に詳述する。
【0010】
【化6】
【0011】(式中、RおよびXは前述の通りであ
る)。一般式(II)で表わされる化合物の使用量は一概
に規定できないが、一般式(I)で表わされる化合物に
対して通常1〜2倍モル、望ましくは1.1〜1.6倍
モルである。
【0012】上記反応で使用される塩基としては例え
ば、無水炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウムなどが挙げられ、その使用量は一
概に規定できないが、一般式(I)で表わされる化合物
に対して通常2〜4倍当量、望ましくは2.4〜3.0
倍当量である。
【0013】また、上記反応で使用される溶媒としては
例えば、アセトンなどのケトン類、アセトニトリルなど
のニトリル類、水、前記有機溶媒と水との混合物などが
挙げられ、その使用量は一概に規定できないが、一般式
(I)で表わされる化合物1gに対して通常1〜10m
l、望ましくは2〜5mlである。
【0014】上記反応の反応条件は一概に規定できない
が、反応温度は通常0〜100℃、反応時間は通常0.
5〜10時間である。上記製造方法で得られる置換ピリ
ジンスルホニルカーバメート系化合物と2−アミノ−
4,6−ジメトキシピリミジンを反応させて、置換ピリ
ジンスルホンアミド系化合物を製造することができる。
【0015】前記2−アミノ−4,6−ジメトキシピリ
ミジンの使用量は一概に規定できないが、置換ピリジン
スルホニルカーバメート系化合物に対して通常1〜2モ
ルである。
【0016】置換ピリジンスルホニルカーバメート系化
合物と2−アミノ−4,6−ジメトキシピリミジンとの
上記反応で使用される溶媒としては例えば、ベンゼン、
トルエンなどの芳香族炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プ
ロピルなどの脂肪酸エステル類が挙げられ、その使用量
は一概に規定できないが、置換ピリジンスルホンアミド
系化合物 1gに対して通常3〜30ml、望ましくは5
〜15mlである。上記反応の反応条件は一概に規定で
きないが、反応温度は通常、使用する溶媒の還流温度で
あり、反応時間は通常1〜15時間である。
【0017】
【実施例】本発明をより詳しく述べるため、以下に実施
例を記載するが、これらは本発明を限定するものではな
い。
【0018】実施例1.N−メトキシカルボニル−3−
トリフルオロメチルピリジン−2−スルホンアミドの合
成 5リットル容の四つ口フラスコに、アセトン678.0
g、水387.0gおよび無水炭酸カリウム387.0
g(2.8mol)を仕込み、室温で攪拌し完全に無水
炭酸カリウムを溶解させた。その後、3−トリフルオロ
メチルピリジン−2−スルホンアミド226.0g
(1.0mol)を加え、室温で30分間攪拌しスラリ
ー化した。
【0019】その後氷水冷却下室温でクロル炭酸メチル
エステル132.3g(1.4mol)を60分間を要
して攪拌下に滴下した。さらに同温度で2時間反応させ
た。四つ口フラスコに水2500mlを加え反応物を溶
解させ、さらに反応で副生した炭酸ジメチルを除去する
ために、トルエン250mlを入れ攪拌した。静置後水
層とトルエン層を分液し、水層に濃塩酸を加えpH=2
以下に調整して結晶を析出させた。得られた結晶を濾
過、水洗後乾燥し、融点137〜139℃の目的物25
8.4gを得た(収率91.0%)。
【0020】さらに500ml容の四つ口フラスコに前
記製造例で得たN−メトキシカルボニル−3−トリフル
オロメチルピリジン−2−スルホンアミド56.8g
(0.2mol)、2−アミノ−4,6−ジメトキシピ
リミジン32.6g(0.21mol)およびトルエン
200mlを仕込み、100℃で窒素ガスをバブリング
しながら副生してくるメタノールを系外へ留出しつつ同
速度でトルエンを系内へ滴下していった。同温度で5時
間反応した後、室温まで冷却し濾過した。トルエン50
gで濾過物を2回洗浄し乾燥し、N−〔(4,6−ジメ
トキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル〕−3
−トリフルオロメチルピリジン−2−スルホンアミド7
5.7g(収率93.0%)を得た。
【0021】実施例2.N−フェノキシカルボニル−3
−トリフルオロメチルピリジン−2−スルホンアミドの
合成 1リットル容の四つ口フラスコに、アセトン67.8
g、水38.7gおよび無水炭酸カリウム38.7g
(0.28mol)を仕込み、室温で攪拌し完全に無水
炭酸カリウムを溶解させた。その後、3−トリフルオロ
メチルピリジン−2−スルホンアミド22.6g(0.
1mol)を加え、室温で30分間攪拌しスラリー化し
た。
【0022】その後氷水冷却下室温でクロル炭酸フェニ
ルエステル21.9g(0.14mol)を30分間要
して攪拌下に滴下した。さらに同温度で2時間反応させ
た。四つ口フラスコに希釈水475mlを加え副生した
炭酸ジフェニルを除去するために濾過し、濾過物を水2
50mlを入で洗浄した。
【0023】濾液を攪拌下濃塩酸を加えpH=2以下に
調整して結晶を析出させた。得られた結晶を濾過、水洗
後乾燥し、融点130〜133.5℃の目的物32.1
gを得た(収率92.8%)。
【0024】さらに500ml容の四つ口フラスコに前
記製造例で得た純度91%のN−フェノキシカルボニル
−3−トリフルオロメチルピリジン−2−スルホンアミ
ド26.0g(0.075mol)、2−アミノ−4,
6−ジメトキシピリミジン12.1g(0.078mo
l)および酢酸エチル150gを仕込み、還流下1時間
反応させた。その後室温まで冷却し濾過した。濾過物を
酢酸エチル45gで洗浄し40℃で乾燥し、N−
〔(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノ
カルボニル〕−3−トリフルオロメチルピリジン−2−
スルホンアミド28.7g(収率94.0%)を得た。
【0025】実施例3〜5 前記実施例1に準じた反応を行い、第1表の結果を得
た。
【0026】
【表1】
【発明の効果】本発明の方法によれば、置換ピリジンス
ルホニルカーバメート系化合物を高い収率で製造するこ
とができる。また、毒性の強い取扱困難なホスゲンを使
用して製造したイソシアネート化合物を原料として使用
しなくても、安価にかつ大量に入手可能な化合物を原料
として用いることにより、置換ピリジンスルホニルカー
バメート系化合物を製造することができるで、本発明は
除草剤として有用な置換ピリジンスルホンアミド系化合
物を工業的に製造、実施する上で有益である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I); 【化1】 で表わされる化合物と、一般式(II);XCOOR
    …(II) (式中、Rはフェニル基またはアルキル基であり、Xは
    ハロゲン原子である)で表わされる化合物とを反応させ
    ることを特徴とする一般式(III); 【化2】 (式中、Rは前述の通りである)で表わされる置換ピリ
    ジンスルホニルカーバメート系化合物の製造方法。
  2. 【請求項2】 Rがフェニル基、メチル基またはエチル
    基である、請求項1に記載の置換ピリジンスルホニルカ
    ーバメート系化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】 一般式(III'); 【化3】 (式中、R’はフェニル基、メチル基またはエチル基で
    ある)で表わされる置換ピリジンスルホニルカーバメー
    ト系化合物。
  4. 【請求項4】 R’がメチル基である請求項3に記載の
    置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物。
JP33957594A 1994-12-28 1994-12-28 置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物およびその製造方法 Pending JPH08183773A (ja)

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