JPH075539Y2 - 磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスクInfo
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- JPH075539Y2 JPH075539Y2 JP1985119605U JP11960585U JPH075539Y2 JP H075539 Y2 JPH075539 Y2 JP H075539Y2 JP 1985119605 U JP1985119605 U JP 1985119605U JP 11960585 U JP11960585 U JP 11960585U JP H075539 Y2 JPH075539 Y2 JP H075539Y2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0014—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form
- G11B23/0021—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form discs
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は面内方向もしくは垂直方向の磁気記録として用
いる磁気デイスクに関する。
いる磁気デイスクに関する。
従来、磁気デイスクの1つとしてリジツド磁気デイスク
が用いられており、この磁気デイスクの基盤としては柔
軟性の少ないリジツドな材料が使用されている。
が用いられており、この磁気デイスクの基盤としては柔
軟性の少ないリジツドな材料が使用されている。
通常、リジツド磁気デイスクの基盤としては、アルミニ
ウム盤(例えばJIS A5086)が使われている。
ウム盤(例えばJIS A5086)が使われている。
このようなリジツド磁気デイスクは、一般に旋盤により
アルミニウムを施削し、ヘツドとデイスクのスペーシン
グを小さくし、高密度記録が行なえるようにデイスク表
面の研磨を行つた後に、蒸着、スピン塗布等によつて磁
性層を設けることによつて作られている。この場合、高
密度記録再生のためには、デイスクの表面粗さは平滑な
程好ましいが、中心線平均粗さRaが0.1μm以下の表面
を得ることは従来のアルミニウム基盤のデイスクでは困
難であつた。さらに基盤が柔軟性を欠くため、磁性層を
設ける際、ウエブパス等に制約を受けて連続的に塗布す
ることができない等、扱いが著しく面倒であつた。さら
に高密度記録にとつて表面に付着するごみの影響が大き
いためごみが付着せぬようデイスクを作らねばならず、
ただでさえ手間のかかる工程をより面倒で複雑で、巨額
の設備投資を必要とするものにしていた。
アルミニウムを施削し、ヘツドとデイスクのスペーシン
グを小さくし、高密度記録が行なえるようにデイスク表
面の研磨を行つた後に、蒸着、スピン塗布等によつて磁
性層を設けることによつて作られている。この場合、高
密度記録再生のためには、デイスクの表面粗さは平滑な
程好ましいが、中心線平均粗さRaが0.1μm以下の表面
を得ることは従来のアルミニウム基盤のデイスクでは困
難であつた。さらに基盤が柔軟性を欠くため、磁性層を
設ける際、ウエブパス等に制約を受けて連続的に塗布す
ることができない等、扱いが著しく面倒であつた。さら
に高密度記録にとつて表面に付着するごみの影響が大き
いためごみが付着せぬようデイスクを作らねばならず、
ただでさえ手間のかかる工程をより面倒で複雑で、巨額
の設備投資を必要とするものにしていた。
又、アルミニウムに代表されるように従来の基盤はリジ
ツドであるため柔軟性がなく、ヘツドがデイスクの磁性
層上をトレースする際非接触であらねばならず、このス
ペーシングが狭いままで一定に持続することは困難であ
り、信号のエラーを起こすことが多く今後さらに記録密
度を上げるためヘツドとデイスク表面とのスペースを更
に小さくすることは極めて困難であつた。一方、スペー
シングが狭いままトレースして、たまたまヘツドがデイ
スク表面に接触するようなことが起こると基盤がリジツ
ドなため、摺動摩擦力がヘツドと磁性層の接触した表面
に大きな衝撃力が集中しやすく、表面破壊が発生し、デ
イスクの寿命を短いものとしていた。
ツドであるため柔軟性がなく、ヘツドがデイスクの磁性
層上をトレースする際非接触であらねばならず、このス
ペーシングが狭いままで一定に持続することは困難であ
り、信号のエラーを起こすことが多く今後さらに記録密
度を上げるためヘツドとデイスク表面とのスペースを更
に小さくすることは極めて困難であつた。一方、スペー
シングが狭いままトレースして、たまたまヘツドがデイ
スク表面に接触するようなことが起こると基盤がリジツ
ドなため、摺動摩擦力がヘツドと磁性層の接触した表面
に大きな衝撃力が集中しやすく、表面破壊が発生し、デ
イスクの寿命を短いものとしていた。
さらに、上記の如き研磨したアルミニウム基盤自体が高
価であるという欠点があつた。
価であるという欠点があつた。
これに対して最近、第3図に示すように、デイスク基盤
1の両面に凹部を設け、一面に磁性層を有するフロツピ
ーデイスク又はフレキシブルデイスク(以下総称してフ
レキシブルデイスクシートと称する)を磁性層を表面と
して基盤1の両面に貼り合わせ、フレキシブルデイスク
シート2と裏面と基盤1との間に間隙3を持たせた磁気
デイスクが提案されている。
1の両面に凹部を設け、一面に磁性層を有するフロツピ
ーデイスク又はフレキシブルデイスク(以下総称してフ
レキシブルデイスクシートと称する)を磁性層を表面と
して基盤1の両面に貼り合わせ、フレキシブルデイスク
シート2と裏面と基盤1との間に間隙3を持たせた磁気
デイスクが提案されている。
このタイプの磁気デイスクは磁気記録面が柔軟性をもつ
ため、たまたまヘツドが磁気記録面に接しても、更には
ヘツドと磁気記録面と接触させて、より高記録密度で記
録を行うようなときにも、リジツド・デイスクの場合と
異なり、磁性層の破壊がおこりにくい。このため、フレ
キシブルデイスクの技術がそのまま応用でき、表面が平
滑で且つ耐久性のある磁性層を磁気デイスク用の磁性層
として用いられるので従来のリジツド磁気デイスクの欠
点を解消できるものとして注目されている。
ため、たまたまヘツドが磁気記録面に接しても、更には
ヘツドと磁気記録面と接触させて、より高記録密度で記
録を行うようなときにも、リジツド・デイスクの場合と
異なり、磁性層の破壊がおこりにくい。このため、フレ
キシブルデイスクの技術がそのまま応用でき、表面が平
滑で且つ耐久性のある磁性層を磁気デイスク用の磁性層
として用いられるので従来のリジツド磁気デイスクの欠
点を解消できるものとして注目されている。
本考案者らは、このタイプの磁気デイスクについて検討
した結果、なお大きな問題点があることを知つた。すな
わち、フレキシブルデイスクシートを、第3図に示すよ
うに単に基盤1に貼り合わせただけでは、フレキシブル
デイスクシート2が経時あるいは温度,湿度等の影響に
より弛みを生じたりして、該シート2と磁気ヘツドとの
対応不良が発生する問題があつた。
した結果、なお大きな問題点があることを知つた。すな
わち、フレキシブルデイスクシートを、第3図に示すよ
うに単に基盤1に貼り合わせただけでは、フレキシブル
デイスクシート2が経時あるいは温度,湿度等の影響に
より弛みを生じたりして、該シート2と磁気ヘツドとの
対応不良が発生する問題があつた。
従つて、本考案の目的は、上記のような問題を解消すべ
くなされたものであり、フレキシブルデイスクシートの
張設状態を常に安定にし、磁気ヘツドとの対応性を良好
に保ち得る磁気デイスクを提供するものである。
くなされたものであり、フレキシブルデイスクシートの
張設状態を常に安定にし、磁気ヘツドとの対応性を良好
に保ち得る磁気デイスクを提供するものである。
本考案の上記目的は、基盤の上下両面に形成された環状
の凹部に、該凹部の深さよりも大きい厚さを有する環状
の弾性体を挿入、固着させ、しかる後に該弾性体上面に
対しフレキシブルディスクシートの下面を固着すること
なく圧接するように、該シートを前記基盤の内周貼着部
と外周貼着部に固着せしめて成ることを特徴とする磁気
ディスクにより達成される。
の凹部に、該凹部の深さよりも大きい厚さを有する環状
の弾性体を挿入、固着させ、しかる後に該弾性体上面に
対しフレキシブルディスクシートの下面を固着すること
なく圧接するように、該シートを前記基盤の内周貼着部
と外周貼着部に固着せしめて成ることを特徴とする磁気
ディスクにより達成される。
以下、図面に例示する本考案の一実施態様について詳細
に説明する。
に説明する。
第1図に示す磁気デイスクは基盤1の上下両側にフレキ
シブルデイスクシート2を貼りつけることにより成つて
いる。基盤1はその中央にデイスク回転用の回転軸が挿
入される中心孔7を有し、該中心孔7付近の内周貼着部
6aおよび基盤の外周貼着部6bが該両貼着部6a,6b間に凹
部8を形成するように厚く構成されている。また、凹部
8には凹部8の内周および外周とほぼ同等の大きさで、
且つ厚さが凹部8の深さより僅に大きいか同じに構成さ
れたドーナツツ形状とも云える環状の弾性体9が配設さ
れている。
シブルデイスクシート2を貼りつけることにより成つて
いる。基盤1はその中央にデイスク回転用の回転軸が挿
入される中心孔7を有し、該中心孔7付近の内周貼着部
6aおよび基盤の外周貼着部6bが該両貼着部6a,6b間に凹
部8を形成するように厚く構成されている。また、凹部
8には凹部8の内周および外周とほぼ同等の大きさで、
且つ厚さが凹部8の深さより僅に大きいか同じに構成さ
れたドーナツツ形状とも云える環状の弾性体9が配設さ
れている。
フレキシブルデイスクシート2は弾性体9を覆うよう
に、その内周部と外周部分が貼着部6a,6bに貼りつけら
れている(第2図参照)。この貼りつけに際して、フレ
キシブルデイスクシート2は一定の張力で引張られるよ
うに張設されており、その記録再生領域は弾性体9によ
り下方から弾性的に支持されている。
に、その内周部と外周部分が貼着部6a,6bに貼りつけら
れている(第2図参照)。この貼りつけに際して、フレ
キシブルデイスクシート2は一定の張力で引張られるよ
うに張設されており、その記録再生領域は弾性体9によ
り下方から弾性的に支持されている。
弾性体9は発泡プラスチツク樹脂を用いることができ、
例えば、ウレタンを発泡させたもの等でよく特に限定す
るものではない。
例えば、ウレタンを発泡させたもの等でよく特に限定す
るものではない。
基盤1の内径、外径や貼着部6a,6bの大きさは使用目的
に応じて任意に選ぶことができる。
に応じて任意に選ぶことができる。
基盤1の材質に要求される事項として、熱処理工程で熱
変形の生じないことが、まず挙げられる。
変形の生じないことが、まず挙げられる。
そんためには、基盤1の材料としてアルミニウム、アル
ミニウム合金などの金属、ガラスもしくは少くとも該熱
処理工程で熱変形の生じないポリマー、または、これら
の組合せが用いられる。
ミニウム合金などの金属、ガラスもしくは少くとも該熱
処理工程で熱変形の生じないポリマー、または、これら
の組合せが用いられる。
次に要求される事項としては安価なことである。本考案
で、例えば金属の代表であるアルミニウムを基盤1に用
いても、第2図からわかるように磁性層は基盤1の表面
粗さに影響されないので、基盤1の研磨の精度はさほど
要求されず、研磨等に要する費用は大きくなくてすむ。
で、例えば金属の代表であるアルミニウムを基盤1に用
いても、第2図からわかるように磁性層は基盤1の表面
粗さに影響されないので、基盤1の研磨の精度はさほど
要求されず、研磨等に要する費用は大きくなくてすむ。
ポリマー基盤は射出成型で大量に製造できるため一般に
安価である。
安価である。
本考案で用いるフレキシブルデイスクシート2として
は、いわゆるフロツピーデイスクとして用いられている
材料を用いることができる。フレキシブルデイスクシー
ト2の磁性層を設ける支持体としては、ポリエチレンテ
レフタレート等のプラスチツクフイルムが用いられ、例
えば2軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム(PE
T)でよい。
は、いわゆるフロツピーデイスクとして用いられている
材料を用いることができる。フレキシブルデイスクシー
ト2の磁性層を設ける支持体としては、ポリエチレンテ
レフタレート等のプラスチツクフイルムが用いられ、例
えば2軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム(PE
T)でよい。
また、フレキシブルデイスクシート2の支持体として
は、少くとも磁性層を設ける側の面のRa(中心粗さ)が
0.1μm以下であることが好ましく、このような支持体
を用いることによつて最終製品である磁気デイスクの記
録密度を高くすることができる。
は、少くとも磁性層を設ける側の面のRa(中心粗さ)が
0.1μm以下であることが好ましく、このような支持体
を用いることによつて最終製品である磁気デイスクの記
録密度を高くすることができる。
フレキシブルデイスクシート2において、一般に支持体
の両面を平滑にすると摩擦が大きくなり、はりつき易
く、工程での扱いが困難となり、またこのような支持体
は高価になる。しかし、支持体の面が粗であると、磁性
層を設けたとき一般にスペーシングが大きくなり高密度
記録に適さない。従つて、一方が平滑で他方が粗な支持
体の平滑な面に磁性層を設けることが好ましい。
の両面を平滑にすると摩擦が大きくなり、はりつき易
く、工程での扱いが困難となり、またこのような支持体
は高価になる。しかし、支持体の面が粗であると、磁性
層を設けたとき一般にスペーシングが大きくなり高密度
記録に適さない。従つて、一方が平滑で他方が粗な支持
体の平滑な面に磁性層を設けることが好ましい。
支持体に設ける磁性層としては、磁性酸化鉄や強磁性合
金粉末をバインダー等と共に塗布するもののみならず真
空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイング等のベ
ーパーデポジシヨン法、メツキ法等によつて形成したも
のでもよい。
金粉末をバインダー等と共に塗布するもののみならず真
空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイング等のベ
ーパーデポジシヨン法、メツキ法等によつて形成したも
のでもよい。
弾性体9は、ヘツドとフレキシブルデイスクシート2の
表面の磁性層が接触する際、摩擦力を分散して耐久性を
強めること、および磁性層がヘツドに適当に接触できス
ペーシングも極めて狭くなり高密度記録が可能となるこ
との2つの目的で設けている。又、弾性体9の厚さおよ
び凹部8の深さは特に限定するものではないが、磁気デ
イスクの使用状態等を考慮すると、0.15μm以上が望ま
しい。
表面の磁性層が接触する際、摩擦力を分散して耐久性を
強めること、および磁性層がヘツドに適当に接触できス
ペーシングも極めて狭くなり高密度記録が可能となるこ
との2つの目的で設けている。又、弾性体9の厚さおよ
び凹部8の深さは特に限定するものではないが、磁気デ
イスクの使用状態等を考慮すると、0.15μm以上が望ま
しい。
本考案における基盤1の厚さは1〜5mm、貼りつけるフ
レキシブルデイスクシート2の厚さは10〜100μmが一
般的であり、磁気デイスクの寸法安定性は基盤1のそれ
に支配されるので、基盤1としては寸法安定性のよいも
のを選ぶことが好ましい。
レキシブルデイスクシート2の厚さは10〜100μmが一
般的であり、磁気デイスクの寸法安定性は基盤1のそれ
に支配されるので、基盤1としては寸法安定性のよいも
のを選ぶことが好ましい。
フレキシブルデイスクシート2を貼りつける接着剤とし
ては、熱硬化型、電子線、紫外線などの放射線硬化型等
が使用できる。又、接着の際、接着をさせる面の一方も
しくは両方に、接着を容易にするため、ポリエステル、
ポリカーボネートなどのポリマーを用い下引処理をする
か、またはコロナ放電、グロー放電、火焔処理などの物
理的表面処理を行つた方がよい。
ては、熱硬化型、電子線、紫外線などの放射線硬化型等
が使用できる。又、接着の際、接着をさせる面の一方も
しくは両方に、接着を容易にするため、ポリエステル、
ポリカーボネートなどのポリマーを用い下引処理をする
か、またはコロナ放電、グロー放電、火焔処理などの物
理的表面処理を行つた方がよい。
本考案による磁気デイスクは、基盤1とフレキシブルデ
イスクシート2とが、第2図に示したように貼り合わせ
られているので、長期間の使用に伴つて、例えばフレキ
シブルデイスクシート2が樹脂の伸びを生じた場合に弾
性体9が基盤厚さ方向に伸びてフレキシブルデイスクシ
ート2の弛みを防止することができる。すなわち、環状
弾性体9は磁気デイスクの製造初期において、フレキシ
ブルデイスクシート2の張設によつて圧縮されているの
で、フレキシブルデイスクシート2が弛みを生じること
によりその厚み方向に伸びる。又、温度や湿度の変化に
伴い、例えば、基盤1とフレキシブルデイスクシート2
との膨張あるいは収縮の大きさに差があつても、弾性体
9の伸縮作用によつてその差が吸収され、フレキシブル
デイスクシート2はその張設状態が安定に保たれる。
イスクシート2とが、第2図に示したように貼り合わせ
られているので、長期間の使用に伴つて、例えばフレキ
シブルデイスクシート2が樹脂の伸びを生じた場合に弾
性体9が基盤厚さ方向に伸びてフレキシブルデイスクシ
ート2の弛みを防止することができる。すなわち、環状
弾性体9は磁気デイスクの製造初期において、フレキシ
ブルデイスクシート2の張設によつて圧縮されているの
で、フレキシブルデイスクシート2が弛みを生じること
によりその厚み方向に伸びる。又、温度や湿度の変化に
伴い、例えば、基盤1とフレキシブルデイスクシート2
との膨張あるいは収縮の大きさに差があつても、弾性体
9の伸縮作用によつてその差が吸収され、フレキシブル
デイスクシート2はその張設状態が安定に保たれる。
以上詳細に説明したように、本考案は基盤とフレキシブ
ルデイスクシートとの間隙部分に弾性体を設けて、該弾
性体によりフレキシブルデイスクシートを弾性的に支持
すように構成したので、フレキシブルデイスクシートの
経時に伴う張力の弛み、温度や湿度変化に伴う該シート
の張設状態の悪化が防止されると共に磁気ヘツドに対す
るシート面のクツシヨン作用が適宜に保たれ、又、フレ
キシブルデイスクシートの貼りつけ時に貼着部分に生じ
易いシート皺による記録再生領域への悪影響を防止する
ことができる。
ルデイスクシートとの間隙部分に弾性体を設けて、該弾
性体によりフレキシブルデイスクシートを弾性的に支持
すように構成したので、フレキシブルデイスクシートの
経時に伴う張力の弛み、温度や湿度変化に伴う該シート
の張設状態の悪化が防止されると共に磁気ヘツドに対す
るシート面のクツシヨン作用が適宜に保たれ、又、フレ
キシブルデイスクシートの貼りつけ時に貼着部分に生じ
易いシート皺による記録再生領域への悪影響を防止する
ことができる。
従つて、本考案によれば、フレキシブルデイスクシート
の張設状態が常に好ましく保たれ、シート面の磁気ヘツ
ドに対する良好な対応性を保証することのできる磁気デ
イスクを提供することができる。
の張設状態が常に好ましく保たれ、シート面の磁気ヘツ
ドに対する良好な対応性を保証することのできる磁気デ
イスクを提供することができる。
第1図は本考案の一実施態様の分散斜視図、第2図は第
1図のA−A断面の拡大図、第3図は本考案の対象とす
る磁気デイスクの基本的な構造を示す概略断面図であ
る。 1……基盤、2……フレキシブルデイスクシート、6a…
…内周の貼着部、6b……外周の貼着部、7……中心孔、
8……凹部、9……弾性体。
1図のA−A断面の拡大図、第3図は本考案の対象とす
る磁気デイスクの基本的な構造を示す概略断面図であ
る。 1……基盤、2……フレキシブルデイスクシート、6a…
…内周の貼着部、6b……外周の貼着部、7……中心孔、
8……凹部、9……弾性体。
Claims (2)
- 【請求項1】基盤の上下両面に形成された環状の凹部
に、該凹部の深さよりも大きい厚さを有する環状の弾性
体を挿入、固着させ、しかる後に該弾性体上面に対しフ
レキシブルディスクシートの下面を固着することなく圧
接するように、該シートを前記基盤の内周貼着部と外周
貼着部に固着せしめて成ることを特徴とする磁気ディス
ク。 - 【請求項2】前記弾性体が発砲プラスチック樹脂からな
ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項に記
載の磁気ディスク。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985119605U JPH075539Y2 (ja) | 1985-08-03 | 1985-08-03 | 磁気デイスク |
US06/889,715 US4742421A (en) | 1985-08-03 | 1986-07-28 | Magnetic recording disc having tensioned and elastically-supported recording surface |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985119605U JPH075539Y2 (ja) | 1985-08-03 | 1985-08-03 | 磁気デイスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6229622U JPS6229622U (ja) | 1987-02-23 |
JPH075539Y2 true JPH075539Y2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=14765534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985119605U Expired - Lifetime JPH075539Y2 (ja) | 1985-08-03 | 1985-08-03 | 磁気デイスク |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4742421A (ja) |
JP (1) | JPH075539Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016217110A (ja) * | 2015-05-20 | 2016-12-22 | 文化シヤッター株式会社 | シャッター装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4952435A (en) * | 1985-10-03 | 1990-08-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Adhesive for a base-mounted flexible magnetic disc |
US4887178A (en) * | 1988-06-13 | 1989-12-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Aligned stretched surface recording medium |
US5212615A (en) * | 1991-09-13 | 1993-05-18 | Gomez Ramon S | Data storage device having stretched and distended magnetic media surface |
US5374461A (en) * | 1993-08-27 | 1994-12-20 | The Flexi Group, Inc. | Rotatable wheel assembly |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL278158A (ja) * | 1961-05-09 | |||
JPS41686Y1 (ja) * | 1965-03-09 | 1966-01-25 | ||
US4623570A (en) * | 1985-03-14 | 1986-11-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stable stretched surface recording medium |
-
1985
- 1985-08-03 JP JP1985119605U patent/JPH075539Y2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-07-28 US US06/889,715 patent/US4742421A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016217110A (ja) * | 2015-05-20 | 2016-12-22 | 文化シヤッター株式会社 | シャッター装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4742421A (en) | 1988-05-03 |
JPS6229622U (ja) | 1987-02-23 |
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