JPH07326590A - Vertical cvd device and its boat - Google Patents
Vertical cvd device and its boatInfo
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- JPH07326590A JPH07326590A JP15033595A JP15033595A JPH07326590A JP H07326590 A JPH07326590 A JP H07326590A JP 15033595 A JP15033595 A JP 15033595A JP 15033595 A JP15033595 A JP 15033595A JP H07326590 A JPH07326590 A JP H07326590A
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- Japan
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- boat
- reaction tube
- wafers
- main body
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- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はＬＴＯ（低温酸化膜），
ＨＴＯ（高温酸化膜），Ｐ−Doped Poly Si膜 (リン・
ドープトポリシリコン膜) 等のＣＶＤ膜を生成する縦形
ＣＶＤ装置及びそのボートに関する。The present invention relates to an LTO (low temperature oxide film),
HTO (high temperature oxide film), P-Doped Poly Si film (phosphorus
The present invention relates to a vertical CVD apparatus for producing a CVD film such as a doped polysilicon film) and its boat.
【０００２】[0002]
【従来技術とその課題】図２は横型ＣＶＤ装置において
用いられる従来の２分割型の石英製ボートの一例を示し
たものである。この従来ボートはボート本体部１とボー
トカバー部２に分かれているが、多数枚のウェーハ８を
ボート本体部１のウェーハ保持溝９に脱着する度毎にカ
バー部２を取付け，取外すことが必要である。このため
本体部１とカバー部２の接触によるパーティクルの発生
を抑えることができず、更に、カバー部２の取付け，取
外しの自動化が困難である等の課題があった。なお、こ
のようなカバー付きボートを用いる時は、カバーなしボ
ートを用いる場合に生じる生成膜の不均一を改善できる
ものである。2. Description of the Related Art FIG. 2 shows an example of a conventional two-piece quartz boat used in a horizontal CVD apparatus. Although this conventional boat is divided into a boat body 1 and a boat cover 2, it is necessary to attach and detach the cover 2 every time a large number of wafers 8 are attached to and detached from the wafer holding groove 9 of the boat body 1. Is. For this reason, the generation of particles due to the contact between the main body 1 and the cover 2 cannot be suppressed, and further there is a problem that it is difficult to automate the mounting and removal of the cover 2. In addition, when such a boat with a cover is used, it is possible to improve the nonuniformity of the formed film that occurs when using the boat without a cover.
【０００３】[0003]
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するためになされたもので、ウェーハ８を載置するボ
ート本体３を反応管５内に搬入してウェーハ８にＣＶＤ
膜を生成し、ＣＶＤ膜生成後、前記ボート本体３を搬出
する構造の縦形ＣＶＤ装置において、前記搬入，出され
るボート本体３と接触しない反応管５内の位置で、かつ
反応管５上部にボートカバー部４を支持せしめてなるこ
とを特徴とする縦形ＣＶＤ装置である。また、ウェーハ
８にＣＶＤ膜を生成する縦形ＣＶＤ装置において、反応
室内の反応管５のボート本体３と接触しない位置で、か
つ反応管５上部に支持されるボートカバー部４と、前記
反応管５内に挿入，取出されるボート本体３とを有し、
ボート本体３がボートカバー部４と接触しないことを特
徴とする縦形ＣＶＤボートである。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and the boat body 3 on which the wafer 8 is placed is carried into the reaction tube 5 and the wafer 8 is subjected to CVD.
In a vertical CVD apparatus having a structure in which a film is formed and the boat main body 3 is carried out after the CVD film is formed, the boat is located above the reaction tube 5 at a position where the boat main body 3 is not brought into contact with the boat main body 3. The vertical CVD apparatus is characterized in that the cover portion 4 is supported. Further, in a vertical CVD apparatus for producing a CVD film on a wafer 8, a boat cover portion 4 supported on the reaction tube 5 at a position not contacting the boat body 3 of the reaction tube 5 in the reaction chamber, and the reaction tube 5 It has a boat main body 3 that is inserted into and taken out of,
The vertical CVD boat is characterized in that the boat body 3 does not come into contact with the boat cover portion 4.
【０００４】[0004]
【作用】このような構成とすることによりボート本体３
の多数のウェーハ保持溝９に多数枚のウェーハ８を保持
し（図１参照）、多数枚のウェーハ８にＣＶＤ膜を生成
する際にこのボート本体３を上昇させて反応管５内に挿
入し、従来と同様に多数枚のウェーハ８にＣＶＤ膜を生
成する。生成終了後、反応管５内よりボート本体３を下
降させて取り出し、ＣＶＤ膜の生成された多数枚のウェ
ーハ８が取り出されることになる。ボート本体３の挿
入，取出しに際して、ボート本体３は反応管５に支持さ
れているボートカバー部４と別に接触することなく挿
入，取出されると共にボート本体３からウェーハ８を脱
着する際、ボートカバー部４の取付け，取外しを行うも
のと異なり、そのままウェーハを脱着できるので、パー
ティクルの発生が抑制される。又、ボートカバー部４
は、反応管５に支持されているので、その取付け，取外
しを自動化することができ、また、ボートカバー部４と
ボート本体３の分離や結合作業も必要としない。[Operation] With such a configuration, the boat body 3
Holding a large number of wafers 8 in a large number of wafer holding grooves 9 (see FIG. 1), and when producing a CVD film on the large number of wafers 8, the boat body 3 is raised and inserted into the reaction tube 5. A CVD film is formed on a large number of wafers 8 as in the conventional case. After the production is completed, the boat body 3 is lowered from the reaction tube 5 and taken out, and a large number of wafers 8 on which the CVD film is produced are taken out. When the boat main body 3 is inserted and removed, the boat main body 3 is inserted and taken out without coming into contact with the boat cover part 4 supported by the reaction tube 5, and when the wafer 8 is detached from the boat main body 3, the boat cover 3 is inserted. Unlike the case where the part 4 is attached and detached, the wafer can be attached and detached as it is, so that the generation of particles is suppressed. Also, the boat cover part 4
Since it is supported by the reaction tube 5, its attachment and detachment can be automated, and there is no need to separate or join the boat cover part 4 and the boat body 3.
【０００５】[0005]
【実施例】以下図面によって本発明の実施例を説明す
る。図１は本発明縦形ＣＶＤ装置の一実施例の構成を示
す説明用斜視図で、５は反応室内に下方より挿入されて
固定されるインナーチューブである。このインナーチュ
ーブ５の上端には複数個、例えば２個の位置決めピン６
がこの場合、対向する位置に受けられている。４はボー
トカバー部で、その上端には環状の上方フランジ部４ａ
が設けられ、その下端には弧状の下方フランジ部４ｂが
設けられている。ボートカバー部４の上方フランジ部４
ａにはインナーチューブ５の上端に設けられた２個の位
置決めピン６に対向して位置決めスリット７が設けられ
ている。このボートカバー部４はその位置決めスリット
７をインナーチューブ５の位置決めピン６に嵌装するよ
うにインナーチューブ５の上方より挿入され、位置決め
されて支持される。このボートカバー部４を支持したイ
ンナーチューブ５は反応室内に下方より挿入されて固定
される。３はボートカバー部４とで本発明縦形ＣＶＤボ
ートを構成するボート本体で、その内側には多数枚のウ
ェーハ８を保持するウェーハ保持溝９が設けられ、また
その下端には下板３ｂが設けられている。このボート本
体３はインナーチューブ５内に下方より挿入され、また
これより下方から取り出されるが、挿入時にボート本体
３の上端３ａ，下板３ｂ及び側方端３ｃがそれぞれボー
トカバー部４の上方フランジ４ａ，下方フランジ部４ｂ
及び側方端４ｃに接触しないような構成となっている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory perspective view showing the configuration of an embodiment of the vertical CVD apparatus of the present invention, and 5 is an inner tube which is inserted into the reaction chamber from below and fixed. A plurality of, for example, two positioning pins 6 are provided on the upper end of the inner tube 5.
In this case, they are received at opposite positions. Reference numeral 4 is a boat cover portion, and an annular upper flange portion 4a is provided at the upper end
Is provided, and an arc-shaped lower flange portion 4b is provided at the lower end thereof. Upper flange portion 4 of the boat cover portion 4
Positioning slits 7 are provided at a so as to face the two positioning pins 6 provided at the upper end of the inner tube 5. The boat cover 4 is inserted from above the inner tube 5 so that the positioning slit 7 is fitted to the positioning pin 6 of the inner tube 5, and is positioned and supported. The inner tube 5 supporting the boat cover 4 is inserted into the reaction chamber from below and fixed. Reference numeral 3 denotes a boat main body which constitutes the vertical CVD boat of the present invention together with the boat cover portion 4, inside which a wafer holding groove 9 for holding a large number of wafers 8 is provided, and at the lower end thereof a lower plate 3b is provided. Has been. The boat main body 3 is inserted into the inner tube 5 from below and taken out from below, but the upper end 3a, the lower plate 3b and the side ends 3c of the boat main body 3 are respectively inserted into the upper flange of the boat cover portion 4 at the time of insertion. 4a, lower flange portion 4b
And the side end 4c is not contacted.
【０００６】本実施例はこのように構成されているの
で、ボート本体３の多数のウェーハ保持溝９に多数枚の
ウェーハ８を保持し（図１参照）、多数枚のウェーハ８
にＣＶＤ膜を生成する際にこのボート本体３を上昇させ
てインナーチューブ５内に挿入し、従来と同様に多数枚
のウェーハ８にＣＶＤ膜を生成する。生成終了後、イン
ナーチューブ５内よりボート本体３を下降させて取出
し、ＣＶＤ膜の生成された多数枚のウェーハ８が取り出
されることになる。ボート本体３の挿入，取出しに際し
ては、ボート本体３はインナーチューブ５に支持されて
いるボートカバー部４と別に接触することなく挿入，取
出されると共に、ボート本体３からウェーハ８を脱着す
る際、ボートカバー部４の取付け，取外しを行うものと
異なり、そのまま、ウェーハを脱着できるので、パーテ
ィクルの発生が抑制されることになる。ボートカバー部
４はインナーチューブ５に位置決めスリット７と位置決
めピン６の嵌装により支持されているので、ボートカバ
ー部４を昇降させるだけでインナーチューブ５から取外
し，取付けができ、ボートカバー部４の取付け，取外し
の自動化が容易に実現でき、また、ボートカバー部４と
ボート本体３の分離や結合作業も必要としないことにな
る。Since this embodiment is constructed in this way, a large number of wafers 8 are held in the large number of wafer holding grooves 9 of the boat body 3 (see FIG. 1), and a large number of wafers 8 are held.
When the CVD film is to be formed, the boat body 3 is raised and inserted into the inner tube 5, and the CVD film is formed on a large number of wafers 8 as in the conventional case. After the production is completed, the boat body 3 is lowered from the inner tube 5 and taken out, and a large number of wafers 8 on which the CVD film has been produced are taken out. When the boat main body 3 is inserted and removed, the boat main body 3 is inserted and taken out without coming into contact with the boat cover portion 4 supported by the inner tube 5, and when the wafer 8 is detached from the boat main body 3. Unlike the case where the boat cover 4 is attached and detached, the wafer can be attached and detached as it is, so that the generation of particles is suppressed. Since the boat cover portion 4 is supported by the inner tube 5 by fitting the positioning slits 7 and the positioning pins 6, the boat cover portion 4 can be detached from the inner tube 5 and attached only by moving the boat cover portion 4 up and down. The mounting and removal can be easily automated, and the boat cover part 4 and the boat body 3 need not be separated or joined.
【０００７】[0007]
【発明の効果】上述のように本発明によれば、搬入，出
（挿入，取出）されるボート本体３と接触しない反応管
５内の位置で、かつ反応管５上部にボートカバー部４を
支持する構成としたので、ボート本体３を、反応管５に
支持されているボートカバー部４と別に接触することな
く挿入，取出すことができると共に、ボート本体３にボ
ートカバー部４の取付け，取外しを行うものと異なり、
そのままウェーハを脱着できるので、パーティクルの発
生を抑制することができる。又、反応管５にボートカバ
ー部４を支持しているので、ボートカバー部４の取付
け，取外し作業の自動化も可能となり、また、ボートカ
バー部４とボート本体３の分離や結合作業も必要としな
い。As described above, according to the present invention, the boat cover part 4 is provided at a position in the reaction tube 5 where it does not come into contact with the boat body 3 that is carried in and out (inserted, taken out) and above the reaction tube 5. Since it is configured to be supported, the boat body 3 can be inserted and removed without contacting the boat cover portion 4 supported by the reaction tube 5 separately, and the boat cover portion 4 can be attached to and removed from the boat body 3. Unlike what you do
Since the wafer can be attached and detached as it is, the generation of particles can be suppressed. Further, since the boat cover portion 4 is supported by the reaction tube 5, it is possible to automate the work of attaching and detaching the boat cover portion 4, and the work of separating and joining the boat cover portion 4 and the boat body 3 is required. do not do.
【図１】本発明縦形ＣＶＤ装置の１実施例の構成を示す
説明用斜視図である。FIG. 1 is an explanatory perspective view showing the configuration of an embodiment of a vertical CVD apparatus of the present invention.
【図２】従来ボートの一例の構成を示す説明用斜視図で
ある。FIG. 2 is an explanatory perspective view showing the configuration of an example of a conventional boat.
３ ボート本体 ３ａ 上端 ３ｂ 下板 ３ｃ 側方端 ４ ボートカバー部 ４ａ 上方フランジ部 ４ｂ 下方フランジ部 ４ｃ 側方端 ５ インナーチューブ ６ 位置決めピン ７ 位置決めスリット ８ ウェーハ ９ ウェーハ保持溝 3 Boat body 3a Upper end 3b Lower plate 3c Side end 4 Boat cover part 4a Upper flange part 4b Lower flange part 4c Side end 5 Inner tube 6 Positioning pin 7 Positioning slit 8 Wafer 9 Wafer holding groove
Claims (2)
内に搬入してウェーハにＣＶＤ膜を生成し、ＣＶＤ膜生
成後、前記ボート本体を搬出する構造の縦形ＣＶＤ装置
において、前記搬入，出されるボート本体と接触しない
反応管内の位置で、かつ反応管上部にボートカバー部を
支持せしめてなることを特徴とする縦形ＣＶＤ装置。1. A vertical CVD apparatus having a structure in which a boat main body on which a wafer is placed is carried into a reaction tube to form a CVD film on the wafer, and after the CVD film is formed, the boat main body is unloaded. A vertical CVD apparatus, characterized in that a boat cover is supported at a position in the reaction tube that does not come into contact with the boat body and above the reaction tube.
Ｄ装置において、反応室内の反応管のボート本体と接触
しない位置で、かつ反応管上部に支持されるボートカバ
ー部と、前記反応管内に挿入，取出されるボート本体と
を有し、ボート本体がボートカバー部と接触しないこと
を特徴とする縦形ＣＶＤボート。2. A vertical CV for producing a CVD film on a wafer.
In the apparatus D, the boat main body has a boat cover part supported in the reaction tube upper part and a position not contacting the boat main body of the reaction tube in the reaction chamber, and a boat main body inserted into and taken out from the reaction tube. A vertical CVD boat that does not come into contact with the boat cover.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15033595A JP3060401B2 (en) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Vertical CVD apparatus, boat therefor, and wafer processing method for vertical CVD apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15033595A JP3060401B2 (en) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Vertical CVD apparatus, boat therefor, and wafer processing method for vertical CVD apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07326590A true JPH07326590A (en) | 1995-12-12 |
| JP3060401B2 JP3060401B2 (en) | 2000-07-10 |
Family
ID=15494762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15033595A Expired - Lifetime JP3060401B2 (en) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Vertical CVD apparatus, boat therefor, and wafer processing method for vertical CVD apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3060401B2 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6423525A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Toyoko Kagaku Kk | Vertical-type low-pressure vapor growth equipment |
-
1995
- 1995-06-16 JP JP15033595A patent/JP3060401B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6423525A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Toyoko Kagaku Kk | Vertical-type low-pressure vapor growth equipment |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3060401B2 (en) | 2000-07-10 |
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