JPH07326590A - 縦形ｃｖｄ装置及びそのボート - Google Patents
縦形ｃｖｄ装置及びそのボートInfo
- Publication number
- JPH07326590A JPH07326590A JP15033595A JP15033595A JPH07326590A JP H07326590 A JPH07326590 A JP H07326590A JP 15033595 A JP15033595 A JP 15033595A JP 15033595 A JP15033595 A JP 15033595A JP H07326590 A JPH07326590 A JP H07326590A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boat
- reaction tube
- wafers
- main body
- boat body
- Prior art date
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- Granted
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ボートカバー部とボート本体が接触しない縦
形ＣＶＤ装置及びそのボートを提供する。 【構成】 反応室内の反応管５のボート本体３と接触し
ない位置で、かつ反応管５上部に支持されるボートカバ
ー部４と、前記反応管５内に挿入，取出されるボート本
体３とよりなる。
形ＣＶＤ装置及びそのボートを提供する。 【構成】 反応室内の反応管５のボート本体３と接触し
ない位置で、かつ反応管５上部に支持されるボートカバ
ー部４と、前記反応管５内に挿入，取出されるボート本
体３とよりなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＬＴＯ（低温酸化膜），
ＨＴＯ（高温酸化膜），Ｐ−Doped Poly Si膜 (リン・
ドープトポリシリコン膜) 等のＣＶＤ膜を生成する縦形
ＣＶＤ装置及びそのボートに関する。
ＨＴＯ（高温酸化膜），Ｐ−Doped Poly Si膜 (リン・
ドープトポリシリコン膜) 等のＣＶＤ膜を生成する縦形
ＣＶＤ装置及びそのボートに関する。
【０００２】
【従来技術とその課題】図２は横型ＣＶＤ装置において
用いられる従来の２分割型の石英製ボートの一例を示し
たものである。この従来ボートはボート本体部１とボー
トカバー部２に分かれているが、多数枚のウェーハ８を
ボート本体部１のウェーハ保持溝９に脱着する度毎にカ
バー部２を取付け，取外すことが必要である。このため
本体部１とカバー部２の接触によるパーティクルの発生
を抑えることができず、更に、カバー部２の取付け，取
外しの自動化が困難である等の課題があった。なお、こ
のようなカバー付きボートを用いる時は、カバーなしボ
ートを用いる場合に生じる生成膜の不均一を改善できる
ものである。
用いられる従来の２分割型の石英製ボートの一例を示し
たものである。この従来ボートはボート本体部１とボー
トカバー部２に分かれているが、多数枚のウェーハ８を
ボート本体部１のウェーハ保持溝９に脱着する度毎にカ
バー部２を取付け，取外すことが必要である。このため
本体部１とカバー部２の接触によるパーティクルの発生
を抑えることができず、更に、カバー部２の取付け，取
外しの自動化が困難である等の課題があった。なお、こ
のようなカバー付きボートを用いる時は、カバーなしボ
ートを用いる場合に生じる生成膜の不均一を改善できる
ものである。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するためになされたもので、ウェーハ８を載置するボ
ート本体３を反応管５内に搬入してウェーハ８にＣＶＤ
膜を生成し、ＣＶＤ膜生成後、前記ボート本体３を搬出
する構造の縦形ＣＶＤ装置において、前記搬入，出され
るボート本体３と接触しない反応管５内の位置で、かつ
反応管５上部にボートカバー部４を支持せしめてなるこ
とを特徴とする縦形ＣＶＤ装置である。また、ウェーハ
８にＣＶＤ膜を生成する縦形ＣＶＤ装置において、反応
室内の反応管５のボート本体３と接触しない位置で、か
つ反応管５上部に支持されるボートカバー部４と、前記
反応管５内に挿入，取出されるボート本体３とを有し、
ボート本体３がボートカバー部４と接触しないことを特
徴とする縦形ＣＶＤボートである。
決するためになされたもので、ウェーハ８を載置するボ
ート本体３を反応管５内に搬入してウェーハ８にＣＶＤ
膜を生成し、ＣＶＤ膜生成後、前記ボート本体３を搬出
する構造の縦形ＣＶＤ装置において、前記搬入，出され
るボート本体３と接触しない反応管５内の位置で、かつ
反応管５上部にボートカバー部４を支持せしめてなるこ
とを特徴とする縦形ＣＶＤ装置である。また、ウェーハ
８にＣＶＤ膜を生成する縦形ＣＶＤ装置において、反応
室内の反応管５のボート本体３と接触しない位置で、か
つ反応管５上部に支持されるボートカバー部４と、前記
反応管５内に挿入，取出されるボート本体３とを有し、
ボート本体３がボートカバー部４と接触しないことを特
徴とする縦形ＣＶＤボートである。
【０００４】
【作用】このような構成とすることによりボート本体３
の多数のウェーハ保持溝９に多数枚のウェーハ８を保持
し（図１参照）、多数枚のウェーハ８にＣＶＤ膜を生成
する際にこのボート本体３を上昇させて反応管５内に挿
入し、従来と同様に多数枚のウェーハ８にＣＶＤ膜を生
成する。生成終了後、反応管５内よりボート本体３を下
降させて取り出し、ＣＶＤ膜の生成された多数枚のウェ
ーハ８が取り出されることになる。ボート本体３の挿
入，取出しに際して、ボート本体３は反応管５に支持さ
れているボートカバー部４と別に接触することなく挿
入，取出されると共にボート本体３からウェーハ８を脱
着する際、ボートカバー部４の取付け，取外しを行うも
のと異なり、そのままウェーハを脱着できるので、パー
ティクルの発生が抑制される。又、ボートカバー部４
は、反応管５に支持されているので、その取付け，取外
しを自動化することができ、また、ボートカバー部４と
ボート本体３の分離や結合作業も必要としない。
の多数のウェーハ保持溝９に多数枚のウェーハ８を保持
し（図１参照）、多数枚のウェーハ８にＣＶＤ膜を生成
する際にこのボート本体３を上昇させて反応管５内に挿
入し、従来と同様に多数枚のウェーハ８にＣＶＤ膜を生
成する。生成終了後、反応管５内よりボート本体３を下
降させて取り出し、ＣＶＤ膜の生成された多数枚のウェ
ーハ８が取り出されることになる。ボート本体３の挿
入，取出しに際して、ボート本体３は反応管５に支持さ
れているボートカバー部４と別に接触することなく挿
入，取出されると共にボート本体３からウェーハ８を脱
着する際、ボートカバー部４の取付け，取外しを行うも
のと異なり、そのままウェーハを脱着できるので、パー
ティクルの発生が抑制される。又、ボートカバー部４
は、反応管５に支持されているので、その取付け，取外
しを自動化することができ、また、ボートカバー部４と
ボート本体３の分離や結合作業も必要としない。
【０００５】
【実施例】以下図面によって本発明の実施例を説明す
る。図１は本発明縦形ＣＶＤ装置の一実施例の構成を示
す説明用斜視図で、５は反応室内に下方より挿入されて
固定されるインナーチューブである。このインナーチュ
ーブ５の上端には複数個、例えば２個の位置決めピン６
がこの場合、対向する位置に受けられている。４はボー
トカバー部で、その上端には環状の上方フランジ部４ａ
が設けられ、その下端には弧状の下方フランジ部４ｂが
設けられている。ボートカバー部４の上方フランジ部４
ａにはインナーチューブ５の上端に設けられた２個の位
置決めピン６に対向して位置決めスリット７が設けられ
ている。このボートカバー部４はその位置決めスリット
７をインナーチューブ５の位置決めピン６に嵌装するよ
うにインナーチューブ５の上方より挿入され、位置決め
されて支持される。このボートカバー部４を支持したイ
ンナーチューブ５は反応室内に下方より挿入されて固定
される。３はボートカバー部４とで本発明縦形ＣＶＤボ
ートを構成するボート本体で、その内側には多数枚のウ
ェーハ８を保持するウェーハ保持溝９が設けられ、また
その下端には下板３ｂが設けられている。このボート本
体３はインナーチューブ５内に下方より挿入され、また
これより下方から取り出されるが、挿入時にボート本体
３の上端３ａ，下板３ｂ及び側方端３ｃがそれぞれボー
トカバー部４の上方フランジ４ａ，下方フランジ部４ｂ
及び側方端４ｃに接触しないような構成となっている。
る。図１は本発明縦形ＣＶＤ装置の一実施例の構成を示
す説明用斜視図で、５は反応室内に下方より挿入されて
固定されるインナーチューブである。このインナーチュ
ーブ５の上端には複数個、例えば２個の位置決めピン６
がこの場合、対向する位置に受けられている。４はボー
トカバー部で、その上端には環状の上方フランジ部４ａ
が設けられ、その下端には弧状の下方フランジ部４ｂが
設けられている。ボートカバー部４の上方フランジ部４
ａにはインナーチューブ５の上端に設けられた２個の位
置決めピン６に対向して位置決めスリット７が設けられ
ている。このボートカバー部４はその位置決めスリット
７をインナーチューブ５の位置決めピン６に嵌装するよ
うにインナーチューブ５の上方より挿入され、位置決め
されて支持される。このボートカバー部４を支持したイ
ンナーチューブ５は反応室内に下方より挿入されて固定
される。３はボートカバー部４とで本発明縦形ＣＶＤボ
ートを構成するボート本体で、その内側には多数枚のウ
ェーハ８を保持するウェーハ保持溝９が設けられ、また
その下端には下板３ｂが設けられている。このボート本
体３はインナーチューブ５内に下方より挿入され、また
これより下方から取り出されるが、挿入時にボート本体
３の上端３ａ，下板３ｂ及び側方端３ｃがそれぞれボー
トカバー部４の上方フランジ４ａ，下方フランジ部４ｂ
及び側方端４ｃに接触しないような構成となっている。
【０００６】本実施例はこのように構成されているの
で、ボート本体３の多数のウェーハ保持溝９に多数枚の
ウェーハ８を保持し（図１参照）、多数枚のウェーハ８
にＣＶＤ膜を生成する際にこのボート本体３を上昇させ
てインナーチューブ５内に挿入し、従来と同様に多数枚
のウェーハ８にＣＶＤ膜を生成する。生成終了後、イン
ナーチューブ５内よりボート本体３を下降させて取出
し、ＣＶＤ膜の生成された多数枚のウェーハ８が取り出
されることになる。ボート本体３の挿入，取出しに際し
ては、ボート本体３はインナーチューブ５に支持されて
いるボートカバー部４と別に接触することなく挿入，取
出されると共に、ボート本体３からウェーハ８を脱着す
る際、ボートカバー部４の取付け，取外しを行うものと
異なり、そのまま、ウェーハを脱着できるので、パーテ
ィクルの発生が抑制されることになる。ボートカバー部
４はインナーチューブ５に位置決めスリット７と位置決
めピン６の嵌装により支持されているので、ボートカバ
ー部４を昇降させるだけでインナーチューブ５から取外
し，取付けができ、ボートカバー部４の取付け，取外し
の自動化が容易に実現でき、また、ボートカバー部４と
ボート本体３の分離や結合作業も必要としないことにな
る。
で、ボート本体３の多数のウェーハ保持溝９に多数枚の
ウェーハ８を保持し（図１参照）、多数枚のウェーハ８
にＣＶＤ膜を生成する際にこのボート本体３を上昇させ
てインナーチューブ５内に挿入し、従来と同様に多数枚
のウェーハ８にＣＶＤ膜を生成する。生成終了後、イン
ナーチューブ５内よりボート本体３を下降させて取出
し、ＣＶＤ膜の生成された多数枚のウェーハ８が取り出
されることになる。ボート本体３の挿入，取出しに際し
ては、ボート本体３はインナーチューブ５に支持されて
いるボートカバー部４と別に接触することなく挿入，取
出されると共に、ボート本体３からウェーハ８を脱着す
る際、ボートカバー部４の取付け，取外しを行うものと
異なり、そのまま、ウェーハを脱着できるので、パーテ
ィクルの発生が抑制されることになる。ボートカバー部
４はインナーチューブ５に位置決めスリット７と位置決
めピン６の嵌装により支持されているので、ボートカバ
ー部４を昇降させるだけでインナーチューブ５から取外
し，取付けができ、ボートカバー部４の取付け，取外し
の自動化が容易に実現でき、また、ボートカバー部４と
ボート本体３の分離や結合作業も必要としないことにな
る。
【０００７】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、搬入，出
（挿入，取出）されるボート本体３と接触しない反応管
５内の位置で、かつ反応管５上部にボートカバー部４を
支持する構成としたので、ボート本体３を、反応管５に
支持されているボートカバー部４と別に接触することな
く挿入，取出すことができると共に、ボート本体３にボ
ートカバー部４の取付け，取外しを行うものと異なり、
そのままウェーハを脱着できるので、パーティクルの発
生を抑制することができる。又、反応管５にボートカバ
ー部４を支持しているので、ボートカバー部４の取付
け，取外し作業の自動化も可能となり、また、ボートカ
バー部４とボート本体３の分離や結合作業も必要としな
い。
（挿入，取出）されるボート本体３と接触しない反応管
５内の位置で、かつ反応管５上部にボートカバー部４を
支持する構成としたので、ボート本体３を、反応管５に
支持されているボートカバー部４と別に接触することな
く挿入，取出すことができると共に、ボート本体３にボ
ートカバー部４の取付け，取外しを行うものと異なり、
そのままウェーハを脱着できるので、パーティクルの発
生を抑制することができる。又、反応管５にボートカバ
ー部４を支持しているので、ボートカバー部４の取付
け，取外し作業の自動化も可能となり、また、ボートカ
バー部４とボート本体３の分離や結合作業も必要としな
い。
【図１】本発明縦形ＣＶＤ装置の１実施例の構成を示す
説明用斜視図である。
説明用斜視図である。
【図２】従来ボートの一例の構成を示す説明用斜視図で
ある。
ある。
３ ボート本体 ３ａ 上端 ３ｂ 下板 ３ｃ 側方端 ４ ボートカバー部 ４ａ 上方フランジ部 ４ｂ 下方フランジ部 ４ｃ 側方端 ５ インナーチューブ ６ 位置決めピン ７ 位置決めスリット ８ ウェーハ ９ ウェーハ保持溝
Claims (2)
- 【請求項１】 ウェーハを載置するボート本体を反応管
内に搬入してウェーハにＣＶＤ膜を生成し、ＣＶＤ膜生
成後、前記ボート本体を搬出する構造の縦形ＣＶＤ装置
において、前記搬入，出されるボート本体と接触しない
反応管内の位置で、かつ反応管上部にボートカバー部を
支持せしめてなることを特徴とする縦形ＣＶＤ装置。 - 【請求項２】 ウェーハにＣＶＤ膜を生成する縦形ＣＶ
Ｄ装置において、反応室内の反応管のボート本体と接触
しない位置で、かつ反応管上部に支持されるボートカバ
ー部と、前記反応管内に挿入，取出されるボート本体と
を有し、ボート本体がボートカバー部と接触しないこと
を特徴とする縦形ＣＶＤボート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15033595A JP3060401B2 (ja) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | 縦型ｃｖｄ装置及びそのボート、縦型ｃｖｄ装置のウェーハ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15033595A JP3060401B2 (ja) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | 縦型ｃｖｄ装置及びそのボート、縦型ｃｖｄ装置のウェーハ処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07326590A true JPH07326590A (ja) | 1995-12-12 |
| JP3060401B2 JP3060401B2 (ja) | 2000-07-10 |
Family
ID=15494762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15033595A Expired - Lifetime JP3060401B2 (ja) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | 縦型ｃｖｄ装置及びそのボート、縦型ｃｖｄ装置のウェーハ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3060401B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6423525A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Toyoko Kagaku Kk | Vertical-type low-pressure vapor growth equipment |
-
1995
- 1995-06-16 JP JP15033595A patent/JP3060401B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6423525A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Toyoko Kagaku Kk | Vertical-type low-pressure vapor growth equipment |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3060401B2 (ja) | 2000-07-10 |
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